JPS60222492A - 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 - Google Patents
第3級炭化水素シリル化合物の製造方法Info
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- JPS60222492A JPS60222492A JP59077156A JP7715684A JPS60222492A JP S60222492 A JPS60222492 A JP S60222492A JP 59077156 A JP59077156 A JP 59077156A JP 7715684 A JP7715684 A JP 7715684A JP S60222492 A JPS60222492 A JP S60222492A
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- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 title claims abstract description 16
- -1 hydrocarbon silyl compound Chemical group 0.000 title abstract description 15
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 abstract description 3
- 150000003431 steroids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000003180 prostaglandins Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXSBSBDNZRLRLK-UHFFFAOYSA-N 2-(2h-pyran-2-yloxy)-2h-pyran Chemical group O1C=CC=CC1OC1OC=CC=C1 PXSBSBDNZRLRLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKLZTSWQZPJQCB-UHFFFAOYSA-M [Cl-].CCC([Mg+])(CC)CC Chemical compound [Cl-].CCC([Mg+])(CC)CC ZKLZTSWQZPJQCB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SYKNUAWMBRIEKB-UHFFFAOYSA-N [Cl].[Br] Chemical compound [Cl].[Br] SYKNUAWMBRIEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N [N].[Ar] Chemical compound [N].[Ar] PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- NPYRNNDTSBRCSK-UHFFFAOYSA-N dichloro(chloromethyl)silane Chemical compound ClC[SiH](Cl)Cl NPYRNNDTSBRCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGGVVBJZJDTYBE-UHFFFAOYSA-N dimethyl(2-methylbutan-2-yl)silane Chemical compound CCC(C)(C)[SiH](C)C LGGVVBJZJDTYBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- CHDFNIZLAAFFPX-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;oxolane Chemical compound CCOCC.C1CCOC1 CHDFNIZLAAFFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoramidic acid Chemical compound NP(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWRVYXVQOJCHIF-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-chloro-methylsilane Chemical compound C[SiH](Cl)C(C)(C)C TWRVYXVQOJCHIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
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- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は第3級炭化水素シリル化合物の製造方法、l¥
jKは工業的に有利にかつ容易に第3級炭化水素シリル
化合物を製造する方法に関するものである。
jKは工業的に有利にかつ容易に第3級炭化水素シリル
化合物を製造する方法に関するものである。
従来−第3級炭化水素基をけい素原子と結合させる方法
としては第3級アルキルリチウムを使用する方法が知ら
れている(J、Org、Ohem、4 :13649
(1978)−J、Amer、Ohem、Soc、L旦
+ 1030(1954))が、この方法の実施に際し
ては■第3級アルキルリチウムの製造が高融点(190
℃)の金属リチウムを溶融したのち数μにまで分散させ
る必要があるため、特殊な設備が必要とされるほか高活
性の金1m IJチウムの取扱いには充分な注意が必要
とされるー■第3級アルキルリチウムは空気と接触する
だけで自然発火するので大量の取扱いは危険度が高い、
という不利が伴なわれるために、これは工業的に使用し
得る方法ではない。なお−けい素化合物に炭化水素基を
導入する方法についてはグリニヤール試薬を利用する方
法が一般的方法とされているが一第3Rアルキルグリ五
ヤール試薬と四塩化けい素−エチルオルソシリケート、
トリメチルクロロシランなどのオルガノシランとの反応
/では第3級アルキルシリル化合物は得ることができな
いと報告されている(J、Amer、Ohem、Sac
、1立。
としては第3級アルキルリチウムを使用する方法が知ら
れている(J、Org、Ohem、4 :13649
(1978)−J、Amer、Ohem、Soc、L旦
+ 1030(1954))が、この方法の実施に際し
ては■第3級アルキルリチウムの製造が高融点(190
℃)の金属リチウムを溶融したのち数μにまで分散させ
る必要があるため、特殊な設備が必要とされるほか高活
性の金1m IJチウムの取扱いには充分な注意が必要
とされるー■第3級アルキルリチウムは空気と接触する
だけで自然発火するので大量の取扱いは危険度が高い、
という不利が伴なわれるために、これは工業的に使用し
得る方法ではない。なお−けい素化合物に炭化水素基を
導入する方法についてはグリニヤール試薬を利用する方
法が一般的方法とされているが一第3Rアルキルグリ五
ヤール試薬と四塩化けい素−エチルオルソシリケート、
トリメチルクロロシランなどのオルガノシランとの反応
/では第3級アルキルシリル化合物は得ることができな
いと報告されている(J、Amer、Ohem、Sac
、1立。
2876(1948)参照〕。
本発明は上記した方法における不利を解決した第3級炭
化水素シリル化合物の製造方法に関するものであ薔ン、
これは一般式 R” MgX (R”は第3級フルキル
基−Xはハロゲン原子)で示されるグリニヤール試薬と
、一般式X RSiHmn 4−m−n (R2は同種または異種の一価炭化水素基、又はハロゲ
ン原子−mは1.2または3−nは0−1または2−
m+n≦3)で示されるけい素化合物とを准−機溶媒中
で反応させることを特徴とするものである。
化水素シリル化合物の製造方法に関するものであ薔ン、
これは一般式 R” MgX (R”は第3級フルキル
基−Xはハロゲン原子)で示されるグリニヤール試薬と
、一般式X RSiHmn 4−m−n (R2は同種または異種の一価炭化水素基、又はハロゲ
ン原子−mは1.2または3−nは0−1または2−
m+n≦3)で示されるけい素化合物とを准−機溶媒中
で反応させることを特徴とするものである。
すなわち一本発明者らは第3級炭化水素シリル化合物の
工業的な製造方法について種々検討した結果、第3級炭
化水素基をもつグリニヤール試薬と反応させるけい素化
合物として特にその分子中K E81H結合と=81X
結合を有するものを使用すればグIJ 二ヤール試薬中
の第3級炭化水素基とけい素化合物中のハロゲン原子と
の置換によって第3級炭化水素シリル化合物が容易に得
られることを見出し、このグリニヤール試薬−けい素化
合物の種類、これらの反応方法などについての研究を進
めて本発明を完成させた。
工業的な製造方法について種々検討した結果、第3級炭
化水素基をもつグリニヤール試薬と反応させるけい素化
合物として特にその分子中K E81H結合と=81X
結合を有するものを使用すればグIJ 二ヤール試薬中
の第3級炭化水素基とけい素化合物中のハロゲン原子と
の置換によって第3級炭化水素シリル化合物が容易に得
られることを見出し、このグリニヤール試薬−けい素化
合物の種類、これらの反応方法などについての研究を進
めて本発明を完成させた。
本発明の方法で使用されるグリニヤール試薬は一般式
R” MgX で示され−このRはt−ブチル基−1,
1−ジメチルプロピルi=i、t−ジエチルプロピル基
などの第3級アルキル基−1,1−ジメチルベンジル基
などのアリール基を含んだ第3級アルキル基などで例示
される第3級炭化水素基−Xが塩素−臭素などのハロゲ
ン原子とされるものであり、これにはt−ブチルマグネ
シウムクロライド、l、1−ジメチルグロビルマグネシ
ウムクロライド−1,1−ジエチルプロピルマグネシウ
ムクロ2イド−1,1−ジメチルベンジルマグネシラム
クl122イドなどが例示される。
R” MgX で示され−このRはt−ブチル基−1,
1−ジメチルプロピルi=i、t−ジエチルプロピル基
などの第3級アルキル基−1,1−ジメチルベンジル基
などのアリール基を含んだ第3級アルキル基などで例示
される第3級炭化水素基−Xが塩素−臭素などのハロゲ
ン原子とされるものであり、これにはt−ブチルマグネ
シウムクロライド、l、1−ジメチルグロビルマグネシ
ウムクロライド−1,1−ジエチルプロピルマグネシウ
ムクロ2イド−1,1−ジメチルベンジルマグネシラム
クl122イドなどが例示される。
また、この第3級炭化水素グリニヤール試薬と反応させ
るけい素化合物は一般式 XmRゎ8iX4−m−9で示され、このRはメチル基
、エチル基−プロビル基などのアルキル基。
るけい素化合物は一般式 XmRゎ8iX4−m−9で示され、このRはメチル基
、エチル基−プロビル基などのアルキル基。
ビニル基、アリル基などのアルケニル基−フェニル基な
どのアリール基−またはこれらの基の炭素原子に結合し
た水素原子の一部または全部なシリルエーテル基、ピラ
ニルエーテル基、ハロゲン原子などで置換した基−Xは
塩素−臭素などのハロゲン原子で1mは1〜3の整数−
nは0〜2の整e、m+nが3以下の整数とされるもの
であり。
どのアリール基−またはこれらの基の炭素原子に結合し
た水素原子の一部または全部なシリルエーテル基、ピラ
ニルエーテル基、ハロゲン原子などで置換した基−Xは
塩素−臭素などのハロゲン原子で1mは1〜3の整数−
nは0〜2の整e、m+nが3以下の整数とされるもの
であり。
これ忙はトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジ
メチルクロロシラン、メチルク買ロシ2ン。
メチルクロロシラン、メチルク買ロシ2ン。
エチルジクロロン2ン、フエニルジクロロシラン。
クロロメチルジクロロシランなどが例示される。
本発明の方法は金属マグネシウムと第3級炭化水素基合
物とを不活性有機溶媒系で反応させてグリニヤール試薬
を作り、ついでこれに一般式%式% In 4−m−n で示されるけい素化合物を添加し反
応させるという方法で行えばよいが。
物とを不活性有機溶媒系で反応させてグリニヤール試薬
を作り、ついでこれに一般式%式% In 4−m−n で示されるけい素化合物を添加し反
応させるという方法で行えばよいが。
この反応は次式
%式%
によって進行する。この反応は上記したように不活性有
機溶媒中で行なわれるが、この溶媒としてはジエチルエ
ーテル−テトラハイドロフランなどのエーテル系溶剤、
ヘキサメチルポスホリックア定ドなどのリン酸アミド系
溶剤、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶剤などが
例示されるが。
機溶媒中で行なわれるが、この溶媒としてはジエチルエ
ーテル−テトラハイドロフランなどのエーテル系溶剤、
ヘキサメチルポスホリックア定ドなどのリン酸アミド系
溶剤、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶剤などが
例示されるが。
これらはその2種以上の混合溶剤として使用してもよい
。
。
また、この反応は10〜150℃、好ましくは40〜1
00℃の温度範囲で行なうことがよいが。
00℃の温度範囲で行なうことがよいが。
この反応系に酸素が存在するとこの反応段階でグリニヤ
ール試薬が酸素と反応し収率低下の原因となるので、こ
の反応は窒素−アルゴンなどの不活性ガス雰囲気で行な
うことがよい。
ール試薬が酸素と反応し収率低下の原因となるので、こ
の反応は窒素−アルゴンなどの不活性ガス雰囲気で行な
うことがよい。
本発明の方法によれば特殊な設備を使用しなくても安全
に目的とする第3級炭化水素シリル化合物を高い収率で
容易に得ることができるという有利性が与えられるが−
この方法で得られた第3級炭化水素シリル化合物は容易
に第3級炭化水素シアルΦルハロシランなどとすること
ができ、これが分子内にかさ高い第3級炭化水素基をも
っていることがら■立体選択性が高く、■トリメチルシ
リルエーテル型にくらべて化学的に安定であり。
に目的とする第3級炭化水素シリル化合物を高い収率で
容易に得ることができるという有利性が与えられるが−
この方法で得られた第3級炭化水素シリル化合物は容易
に第3級炭化水素シアルΦルハロシランなどとすること
ができ、これが分子内にかさ高い第3級炭化水素基をも
っていることがら■立体選択性が高く、■トリメチルシ
リルエーテル型にくらべて化学的に安定であり。
ステロイド、プロスタダランジンなどの合成に有効な特
殊シリカ化剤とされるという有用性をもつものである。
殊シリカ化剤とされるという有用性をもつものである。
つぎに本発明方法の実施例、応用例をあげる。
実施例1゜
500dのフラスコ中に金属マグネシウム12g(0,
5モル)、テトラハイドロフラン300r/Llおよび
少量の沃素を仕込み一室累ガス雰囲気下にt−ブチルク
ロライド46.3 g(0,5モル)を内温40〜50
℃で1時間で滴下し−さらに55℃で1時間攪拌したと
ころ一グリニヤール試薬としてのt−ブチルマグネシウ
ムクロライドが得られた。
5モル)、テトラハイドロフラン300r/Llおよび
少量の沃素を仕込み一室累ガス雰囲気下にt−ブチルク
ロライド46.3 g(0,5モル)を内温40〜50
℃で1時間で滴下し−さらに55℃で1時間攪拌したと
ころ一グリニヤール試薬としてのt−ブチルマグネシウ
ムクロライドが得られた。
つぎにこの反応液中に内温66℃でメチルジクロロシラ
ン57.5 g(0,5モル)を1時間で滴下し1滴下
終了後も内温66℃で3時間攪拌を続けて熟成したとこ
ろ、熟成時開の経過と共に白色結晶物が析出したので、
この反応混合物を冷却し。
ン57.5 g(0,5モル)を1時間で滴下し1滴下
終了後も内温66℃で3時間攪拌を続けて熟成したとこ
ろ、熟成時開の経過と共に白色結晶物が析出したので、
この反応混合物を冷却し。
減圧濾過を行なってr液を蒸留し、85〜95℃の留分
をとったところ、47.81!のt−ブチルメチルクロ
ロシランが収率70憾で得られた。
をとったところ、47.81!のt−ブチルメチルクロ
ロシランが収率70憾で得られた。
実施例2
500dのフラスコ中忙金腐マグネシウム121.1−
ジメチルグロビルクロライド53.31!(0,5モル
)を内温40〜50℃で1時間で滴下し、さらに60℃
で1時間攪拌したところ、グリニヤール試薬としての1
.1−ジメチルプロピルマグネシウムクロライドが得ら
れた。
ジメチルグロビルクロライド53.31!(0,5モル
)を内温40〜50℃で1時間で滴下し、さらに60℃
で1時間攪拌したところ、グリニヤール試薬としての1
.1−ジメチルプロピルマグネシウムクロライドが得ら
れた。
つぎにこの反応液中に内温80℃でジメチルクロロシラ
ン47.3g(0,5モル)を1時間で滴下し1滴下終
了後も内温90℃で4時間攪拌を続けて熟成し−その後
反応混合物を冷却して300dの水中に注ぎ、有機層を
蒸留したところ−23,4gの1,1−ジメチルプロピ
ルジメチルシランが収率36%で得られた。
ン47.3g(0,5モル)を1時間で滴下し1滴下終
了後も内温90℃で4時間攪拌を続けて熟成し−その後
反応混合物を冷却して300dの水中に注ぎ、有機層を
蒸留したところ−23,4gの1,1−ジメチルプロピ
ルジメチルシランが収率36%で得られた。
応用例
500m/のフラスコ中忙金属マグネシウム12、li
+(0,5モル)、テトラハイドロフラン1501dお
よび少量の沃素を仕込み一窒素ガス雰囲気下にメチルク
ロライド30.3.9 (0,6モル)を内温40〜5
0℃で2時間で滴下し−さらに55℃でIN間撹拌した
ところ一グリニヤール試薬としてチルメチルクロロシラ
ン47.817を滴下し一滴下終了後40℃で1時間熟
成したのち冷却し。
+(0,5モル)、テトラハイドロフラン1501dお
よび少量の沃素を仕込み一窒素ガス雰囲気下にメチルク
ロライド30.3.9 (0,6モル)を内温40〜5
0℃で2時間で滴下し−さらに55℃でIN間撹拌した
ところ一グリニヤール試薬としてチルメチルクロロシラ
ン47.817を滴下し一滴下終了後40℃で1時間熟
成したのち冷却し。
300m1の水中に注ぎ有機層を分液後蒸留したところ
、40I!のt−ブチルジメチルシランが98.5係の
収率で得られた。
、40I!のt−ブチルジメチルシランが98.5係の
収率で得られた。
また−このt−プチルジメナρララン40 gと四塩化
炭素100gとを300mA!のフラスコに仕込み一内
温20〜30℃で25.79の塩素ガスを3時間吹込み
、その後窒素ガスを2時間吹込んで反応混合物中に残存
する塩酸ガスおよび塩素ガスを追い出したのち一反応混
合物を蒸留し、128〜138℃の留分なとったところ
一特殊シリル化剤として有用とされるt−ブチルジメチ
ルクロロシラン44,1g(収率85%)が得られた。
炭素100gとを300mA!のフラスコに仕込み一内
温20〜30℃で25.79の塩素ガスを3時間吹込み
、その後窒素ガスを2時間吹込んで反応混合物中に残存
する塩酸ガスおよび塩素ガスを追い出したのち一反応混
合物を蒸留し、128〜138℃の留分なとったところ
一特殊シリル化剤として有用とされるt−ブチルジメチ
ルクロロシラン44,1g(収率85%)が得られた。
特許出願人 信越化学工菜株式会社
特開昭GO−222492(4)
Claims (1)
- 18 一般式 R” MgX (R’ は第3級炭化水
素基、又はハロゲン原子)で示されるグリニヤール試薬
と、一般式 Xl11環SIH4−m−n(R2は同種
または異種の1価炭化水素基、Xはハロゲン原子−mは
1.2または3.nは0.1または2.m+n≦3)で
示されるけい素化合物とを有機溶媒中で反応させること
を特徴とする第3級炭化水素シリル化合物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59077156A JPS60222492A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 |
US06/723,669 US4593112A (en) | 1984-04-17 | 1985-04-16 | Method for the preparation of a tert-hydrocarbyl silyl compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59077156A JPS60222492A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60222492A true JPS60222492A (ja) | 1985-11-07 |
JPS6348274B2 JPS6348274B2 (ja) | 1988-09-28 |
Family
ID=13625927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59077156A Granted JPS60222492A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4593112A (ja) |
JP (1) | JPS60222492A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62273986A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | tert−ブチルジメチルクロロシランの製造方法 |
US4814474A (en) * | 1987-07-09 | 1989-03-21 | Toray Silicone Co., Ltd. | Method for the production of tertiary-alkyldimethylhalosilane |
EP0405560A2 (en) * | 1989-06-28 | 1991-01-02 | Dow Corning Toray Silicone Company, Limited | Preparation of tertiary-hydrocarbylsilyl compounds |
JP2004175784A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-06-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機シリル基を有するノルボルネン誘導体の製造方法 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4023288A1 (de) * | 1990-07-21 | 1992-01-23 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von aryl-alkylmethylsilanen |
JP2551901B2 (ja) * | 1991-07-26 | 1996-11-06 | エフ エム シー コーポレーション | 接触アルキル化方法 |
US5211888A (en) * | 1991-07-26 | 1993-05-18 | Fmc Corporation | Catalyzed hydrocarbyllithium process |
US5340507A (en) * | 1991-07-26 | 1994-08-23 | Fmc Corporation | Catalyzed hydrocarbyllithium process |
JP2838342B2 (ja) * | 1991-11-13 | 1998-12-16 | 信越化学工業株式会社 | 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 |
JPH05282345A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Shinko Seisakusho Co Ltd | 自動せり処理システム用買参人カード |
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US6429327B1 (en) | 1999-01-21 | 2002-08-06 | Fmc Corporation | Organometallic catalysts |
CN1837221B (zh) * | 2001-11-08 | 2011-06-08 | 北兴化学工业株式会社 | 生产三有机基-单氯硅烷的方法 |
US6541651B1 (en) * | 2002-04-04 | 2003-04-01 | Dow Corning Corporation | Process for chlorosilane intermediates manufacture |
US6686492B2 (en) * | 2002-06-13 | 2004-02-03 | Dow Corning Corporation | Preparation of organosilicon intermediate and their derivatives in a novel grignard process |
JP2007517881A (ja) * | 2004-01-06 | 2007-07-05 | ダウ・コーニング・コーポレイション | ジフェニルクロロシランの含量の増大を伴うグリニャール法 |
CN100546989C (zh) * | 2004-01-06 | 2009-10-07 | 陶氏康宁公司 | 作为产物的二苯基氯代硅烷的产率得到提高的格氏法 |
CN101817842A (zh) * | 2010-04-20 | 2010-09-01 | 海门贝斯特精细化工有限公司 | 一种叔丁基二甲基氯硅烷的制备方法 |
CN105330683A (zh) * | 2014-08-08 | 2016-02-17 | 上海楚青新材料科技有限公司 | 一种工业化制备叔丁基二甲基硅烷的方法 |
US20190225629A1 (en) * | 2016-09-27 | 2019-07-25 | University Of Delaware | Method for preparing silahydrocarbons |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US2426122A (en) * | 1944-10-17 | 1947-08-19 | Montclair Res Corp | Production of organo-silicon compounds |
US2759959A (en) * | 1953-04-23 | 1956-08-21 | Gen Electric | Allylphenyl organosilanes |
US2894012A (en) * | 1955-02-01 | 1959-07-07 | Metal & Thermit Corp | Grignard reactions in presence of cyclic ethers |
FR1170718A (fr) * | 1955-11-28 | 1959-01-16 | Metal & Thermit Corp | Procédé de préparation de composés organiques du silicium et produits conformes à ceux obtenus |
GB1084345A (ja) * | 1965-07-29 | 1900-01-01 |
-
1984
- 1984-04-17 JP JP59077156A patent/JPS60222492A/ja active Granted
-
1985
- 1985-04-16 US US06/723,669 patent/US4593112A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62273986A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | tert−ブチルジメチルクロロシランの製造方法 |
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JP2004175784A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-06-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機シリル基を有するノルボルネン誘導体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4593112A (en) | 1986-06-03 |
JPS6348274B2 (ja) | 1988-09-28 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |