DE3440241A1 - Metallkaschiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
Metallkaschiertes laminat und verfahren zu seiner herstellungInfo
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Description
V-* ·:- ·' '"''' ; 3UQ241
Metallkaschiertes Laminat und Verfahren zu seiner Herstellung
Die Erfindung bezieht sich auf ein metallkaschiertes Laminat, das insbesondere an die Herstellung hoch-auflösender gedruckter
Schaltungen anpaßbar ist. Sie steht im Zusammenhang mit
der DE-OS 32 00 593 und der US-PS 4 383 003. Letztere
offenbart ein Verfahren zum chemischen Binden eines ultradünnen Kupferfilms an ein harzgebundenes Substrat und die entsprechenden Verfahrensprodukte. Die erstgenannte Anmeldung
ist auf ein Verfahren zum Abscheiden von Kupfer auf einer
Trägeroberfläche unter Steuerung der Haftung dazwischen durch Halten der Trägeroberfläche bei einer Temperatur im Bereich
von etwa 100 bis etwa 25O°C gerichtet. Die Offenbarungsgehalte der vorgenannten Anmeldungen werden durch diese Bezugnahme in die vorliegende Anmeldung mit einbezogen.
der DE-OS 32 00 593 und der US-PS 4 383 003. Letztere
offenbart ein Verfahren zum chemischen Binden eines ultradünnen Kupferfilms an ein harzgebundenes Substrat und die entsprechenden Verfahrensprodukte. Die erstgenannte Anmeldung
ist auf ein Verfahren zum Abscheiden von Kupfer auf einer
Trägeroberfläche unter Steuerung der Haftung dazwischen durch Halten der Trägeroberfläche bei einer Temperatur im Bereich
von etwa 100 bis etwa 25O°C gerichtet. Die Offenbarungsgehalte der vorgenannten Anmeldungen werden durch diese Bezugnahme in die vorliegende Anmeldung mit einbezogen.
Zu den für die Erfindung einschlägigen Offenbarungen gehört die US-PS 3 984 598, wonach eine dünne Schicht aus Kupfer
(oder einem anderen leitfähigen Metall, z.B. Nickel, Zinn, Gold usw.) auf eine Übertragungsträgeroberfläche aufgebracht
wird, behandelt mit einem Trennmittel, einer hohen Stromdichte unterworfen, um die Oberfläche des Kupfers aufzurauhen,
das Kupfer oxidiert und das Kupferoxid dann mit einem Kupplungsmittel überzogen wird. Die behandelte Kupferoberfläche
wird sodann gegen ein harzgebundenes Substrat heißgepreßt und der übertragungsträger von der Kupferschicht abgetrennt, die am harzgebundenen Substrat gebunden bleibt. Darin
findet sich keine Offenbarung der Verwendung einer Metalloxidschicht, wobei das Metall eines Oxids sich vom Metall
der leitfähigen Schicht unterscheidet.
Wie hier und in den Ansprüchen verwendet, umfaßt der Begriff
"Träger" Aluminiumblechmaterial von geeichter Dicke, sodaß es durch eine Verarbeitungsstraße geführt und zur Lagerung
und zum Versand aufgerollt werden kann. In allgemeinerem Sinne kann es Blech aus anderen Metallen, wie Kupfer, sowie aus
Kunststoffen, wie den Handelsprodukten von duPont, bekannt als MYLAR und KAPTON, und anderen organischen Polymermaterialien
ähnlicher Flexibilität umfassen, so lange das Material den Verarbeitungstemperaturen zu widerstehen vermag, die bei
der praktischen Durchführung der Erfindung auftreten, die Festigkeit bei der Temperatur des Aufbringens eines Kupferfilms
darauf und die Eigenschaften der Inertheit und Bindbarkeit an Kupferfilme haben, die nötig sind, die Unversehrtheit
der Kupferfilm-Trägerbahn-Kombination durch die sich anschließende
Verarbeitung sowie die Substratbefestigung zu bewahren und mechanisches Abstreifen der Trägerbahn ohne Beschädigung
des Kupferfilms zu erlauben.
"Ultradünn" bezeichnet eine Dicke von weniger als etwa 16 μπι.
"Film" und "Folie" in diesem Zusammenhang bedeuten jeweils einen ultradünnen Überzug (z.B. aus Kupfer) und die Kombina-
tion eines solchen ultradünnen Überzugs mit einem aufgebrachten,
Oxid eines Nichtkupfermetalls enthaltenden überzug.
"Dampfabscheidung" bedeutet und umfaßt Zerstäuben, physikalisches
Verdampfen (z.B. Elektronenstrahl-, induktives und/ oder Widerstandsverdampfen), chemische Dampfabscheidung und
Ionenplattieren.
"Substrat", wie hier gebraucht, bedeutet und bezieht sich auf den Teil des kupferkaschierten Laminaterzeugnisses oder anderer
erfindungsgemäßer Erzeugnisse, die als physikalische Träger für den Metallfilm oder die Metallfolie dienen. Das
Substratmaterial ist vorzugsweise mit Glasfaser verstärktes Epoxidharz zum Laminieren mit dem Epoxidharz in Form eines
während der Laminierstufe gehärteten Kunststoffimprägnats.
Weitere wärmehärtende Harze, wie phenolisehe Harze, Melamin- '
harze, Silicone, Polyimidharze, Acrylharze, Polyesterharze
usw., können verwendet werden, und ebenso andere Grundmaterialien, wie Papier, Gewebe, Lignin, Asbest, Kunststoffasern,
wie Reyon, Nylon usw. können verwendet werden. Eine Anforderung an die erfindungsgemäß brauchbaren Substrate ist die
Verfügbarkeit von Kupplungsmitteln, die in der Lage sein müssen, sich gut mit der Substratoberfläche zu verbinden.
"In Wechselwirkung stehende Kupplungsmittelschicht" bedeutet
eine Schicht aus Kupplungsmittelmolekülen, von denen wenigstens ein großer Teil in chemischer Wechselwirkung sowohl mit
der Oxidschicht als auch der Substratoberfläche steht.
Ein Film aus Kupfer, vorzugsweise von einer Dicke von 1 bis 16 μπι, wird auf einem Träger aus der Gasphase abgeschieden.
Dieser Kupferfilm wird mit einer dünnen, aus der Gasphase abgeschiedenen Schicht eines Metalloxids oder eines Gemischs
von Metalloxiden unter Bedingungen (d.h.Vakuum und Temperatur) überzogen, die die Bildung von Kupferoxid ausschließen. Die
Metalloxidschicht wird dann mit einem Kupplungsmittel über-
zogen. Darauf wird diese Einheit mit einem geeigneten Substrat
(d.h. einem solchen, an dessen Oberfläche das·Kupplungsmittel
sich binden wird) durch Anwendung von Wärme und Druck
laminiert. Der Träger kann z.Z. der Herstellung eines Endprodukts (z.B. einer gedruckten Schaltung) entfernt werden oder
kann zur Entfernung zu einem späteren Zeitpunkt an seinem Platz bleiben.
Wenigstens ein in der Metalloxidschicht verwendetes Oxid enthält
als Metallkomponente ein anderes Metall als Kupfer (d. h. ein zweites Metall) und wird ein Oxid sein, das sich zu
einem geringen Grad unter den während der Gasphasenabscheidung angewandten Verfahrensbedingungen zersetzt. Während des
Laminierens legiert bzw. legieren sich die Metallkomponente(n),
aus dem zersetzten Oxidmaterial freigesetzt, mit dem Kupfer. Dies führt typischerweise zu diskreten "Inseln" von Legierung
an der Grenzfläche zwischen der Oxidschicht und Kupfer. Vermutlich tragen diese Legierungskonzentrationen beträchtlich
zu der hohen Abziehfestigkeit im Endprodukt bei. Gleichzeitig ruft die Zersetzung geringer Mengen des gerade abgeschiedenen
Oxids gewisse Mengen an Suboxid in der Oxidschicht hervor. Das Kupplungsmittel liefert die zwischen der Oxidschicht und
der Substratoberfläche erforderliche Zwischenverbindung. Abziehfestigkeiten von mehr als 15, 8 N/cm (9 lbs/in) sind unter
Verwendung von Zinkoxid als Oxidkomponente erzielt worden, insbesondere, wenn das laminierte Produkt eine nachfolgende
Wärmebehandlung erfährt. Eine weitere Verbesserung der Abziehfestigkeit (bis zu 20 %) wird erreicht als Ergebnis einer
Kurzzeitalterung (etwa 4 Tage).
Die für neu und gegenüber dem Stand der Technik als nicht nahe_liegend
angesehenen Merkmale der Erfindung sind insbesondere in den Ansprüchen ausgeführt. Die Erfindung selbst jedoch
ist hinsichtlich Organisation, Arbeitsweise und Zielen und Vorteilen am besten unter Bezugnahme auf folgende Beschreibung
in Verbindung mit den Figuren zu verstehen, worin
Pig. 1 eine schematische Schnittansicht der Anfangsstufe
der Herstellung des metallkaschierten Laminats der Erfindung ist,
Fig. 2 eine Ansicht ähnlich Fig. 1 ist, die Einheit unmittelbar vor dem Laminieren darstellend, und
Fig. 3 eine schematische Schnittansicht des erfindungsgemäßen
metallkaschierten Laminats mit der teilweise entfernten Trägerbahn ist.
Die in der DE-OS 32 OO 593 beschriebene Erfindung wird angewandt,
um die Trägerbahn 12 temperaturmäßig so zu konditionieren, daß der Kupferfilm 13 durch Abscheidung aus der Gasphase direkt
darauf gebildet werden kann und die Haftung des Kupferfilms 13 an der Trägerbahn 12 so ist, daß diese Komponenten
durch Ausüben einer Kraft zwischen etwa 0,35 und 3,5 N/cm (0,20 und 2,0 lbs/in) getrennt werden können. Vorzugsweise wird die
erforderliche Kraft im Bereich von etwa 0,35 bis 1,75 N/cm (etwa 0,20 bis 1,0 lbs/in) sein. Vor der Durchführung des Verfahrens
muß die Trägeroberfläche sauber sein, d.h. frei von anhaftendem öl oder Schmutz, und sie sollte relativ glatt und
frei von großen physikalischen Unregelmäßigkeiten sein. Während des tatsächlichen Abscheidungsvorgancrs, der unter Vakuum
durchgeführt wird, wird die Oberfläche des Trägers 12 auf einer Temperatur im Bereich von etwa 100 bis etwa 25O°C gehalten.
Wichtig ist, daß die Zersetzungskammer gut verschlossen ist, so daß die Vakuumpumpe zur Steuerung des Sauerstoff- und
Wasserdampfgehalts auf einen vernachlässigbaren Wert während der Kupferabscheidung verwendet werden kann, um die Kupferoxidbildung
minimal zu halten.
Ist der Kupferfilm 13 abgeschieden, vorzugsweise in einer Dikke von 1 bis 16 μΐη (wenngleich dickere Schichten verwendet
werden können), wird der Kupferfilm 13 dann mit einer Schicht 14 (z.B. Zinkoxid) durch Zersetzung aus der Dampf- oder Gas-
phase (gewöhnlich in der selben Abscheidungskaininer) in relativ
gleichförmiger Dicke im Bereich von etwa 1 bis 100 nm
(etwa 10 bis 1000 R) (vorzugsweise im Bereich von 1 bis 10 nm bzw. 10 bis 100 S) unter Vakuum mit gesteuertem Sauerstoff-
und Wasserdampfgehalt, wie durch einen Restgasanalysator überwacht, überzogen. Diese so abgeschiedene Oxidschicht erhält
dann eine Schicht 16 aus einer Lösung eines Kupplungsmittels. Das Kupplungsmittel umfaßt vorzugsweise ein Organosilan,
wie y-Aminopropyltriethoxysilan. Wenn das Kupplungsmittelmaterial
getrocknet ist, wird die Einheit aus Trägerbahn 12, Kupferfilm 13, Oxidschicht 14 und Kupplungsmittelschicht
16 an die Glasfaser-verstärkte Epoxyplatte 17 unter
Anwendung einer Temperatur von etwa 1750C und gleichzeitiger
Anwendung von Druck von etwa 10,3 bar(150 psi) für eine Zeit von etwa 30 bis etwa 40 min bei der Temperatur gebunden. Die
Geschwindigkeit des Temperatüranstiegs wird so gesteuert, daß die Geschwindigkeiten des Härtens und des Epoxidharz-Ausquetschens
optimiert werden.
Etwa 5fjmKupfer wurden durch Aufdampfen auf eine 51 um (2 mil)
dicke Bahn aus Aluminiumfolie abgeschieden. Eine etwa 10 nm (100 S) dicke Schicht aus Zinkoxid wurde über dem Kupferfilm
—4 bei einem Druck von 0,053-0,067 Pa (4-5x10 torr) in einer
Vakuumkammer abgeschieden. Dieser Verbund wurde dann der Vakuumkammer entnommen und die Zinkoxidschicht mit dem Kupplungsmittel N-ß-(N-Vinylbenzyl-amino)ethyl-^-aminopropyltrimethoxysilan-Monohydrochlorid
(Dow Corning Z-6032) überzogen. Die Kupplungsmittellösung wurde durch Zugabe von 0,5 % Kupplungsmittel
zu Wasser bei einem mit Essigsäure auf 4 eingestellten pH hergestellt. Das abgeschiedene Kupplungsmittel
konnte 5 min bei 1OO°C in Luft trocknen. Danach wurde diese Einheit auf eine glasverstärkte Epoxidplatte gebracht, mit
dem Kupplungsmittel in Berührung mit der Oberfläche der Platte. Die Einheit wurde an die Platte unter Anwendung einer
/tv
Maximaltemperatur von 178°C und eines Maximal drucks von 10,34bar
(150 psi) für 35 min bei der Temperatur gebunden. Nach dem Laminieren wurde die Aluminiumfolie entfernt und dann ein
dünner Kupferfilm durch Galvanisieren auf etwa 36 um (etwa
1,4 mil) aufgebaut, um die Durchführung eines Abziehtests zu ermöglichen. Abziehfestigkeiten von 15,42 und 16,82 N/cm
(8,8 und 9,6 lbs/in) wurden mit verschiedenen, nach diesem Verfahren hergestellten Proben gemessen.
Abziehfestigkeitstests wurden an einer Reihe von Proben hergestellt,
die unter Verwendung verschiedener Oxide und verschiedener Kupplungsmittellösungen hergestellt worden waren,
und durch Versuchen verschiedener Kombinationen von Oxid und Kupplungsmitteln konnten, wie gefunden wurde, überlegene
Kombinationen ermittelt werden. Die folgende Tabelle I gibt einige der · Testergebnisse wieder, wobei jedes Ergebnis als
Bereich von Werten aus verschiedenen Tests angegeben ist (minimal und maximal in N/cm bzw. lbs/in).
Tabelle I Kupplungsmittel SnO ZnO NiO FeO
A-187 2,10/7,0 3,64/8,69 2,8/4,91 7,0/15,42
(1,20/4,00) (2,08/4,96) (1,6 /2,8 ) (4,0 /8,8 )
A-1100 9,11/10,6 5,61/8,69 2,8/5,61 7,15/8,13
(5,2 /6,05) (3,20/4,96) (1,6 /3,20) (4,08/4,64)
A-1120 5,89/6,73 5,19/10,1 1,96/4,77 3,5/6,31
(3,36/3,84) (2,96/5,76) (1,12/2,72) (2,00/3,60)
Z-6032 7,43/9,95 12,3/18,9 2,.1/3,5 2,94/4,63 1,82/4,91
(4,24/5,68) (7,O/1O,8)(1,2/2,0 ) (1,68/2,64) (1,04/2,80)
Z-6O4O 6,87/9,25 4,2/6,31 1,54/3,08 7,0/8,13
(3,92/5,28) (2,40/3,60) (0,88/1,76) (4,0/4,64)
keitl 2,8/6,13 4,6/7 4,2/6,13 3,33/4,73 3,92/4,63
(1,6 /3,5 ) (2,6/4) (2,4 /3,5 ) (1,9 /2,7 ) (2,24/2,64)
Die Kupplungsmittel A-187, A-1100 und A-1120 werden von der
Union Carbide Corp. und die mit Z-6032 und Z-6040 bezeichne-
ten von Dow Corning Corp. hergestellt. Die Schicht aus
Kupplungsmittellösung sollte die damit in Berührung gebrachte Oberfläche gleichförmig benetzen und genügend Kupplungsmittel
enthalten, um die meisten der Bindestellen auf den benachbarten Oberflächen zu versorgen. Das Trocknen der Kupplungsmittellösung
sollte unter etwa 1OO°C erfolgen. Die in Tabelle I angegebenen Kupplungsmittel sind alle organofunktionelle
Silane folgender Zusammensetzungen:
Hersteller-Bezeichnung Name
A-187 y-Glycidoxypropyltrimethoxysilan
A-1100 y-Aminopropyltriethoxysilan
A-1120 N-ß-(Aminoethy1)-y-aminopropyl-trimethoxy-
silan
Z-6032 N-ß-(N-Vinylbenzylamino)ethylaminopropyltri-
methoxysilan«Monohydrochlorid (40% Silan in
Methanol)
Z-6O4O y-Glycidoxypropyltrimethoxysilan
Das bevorzugte Lösungsmittelsystem ist Methanol und Wasser; doch können andere herkömmliche Lösungsmittel verwendet werden. Die Konzentration des Kupplungsmittels im Lösungsmittelsystem
kann im Bereich von 0,1 bis 5 Volumen-% liegen, wobei der bevorzugte Bereich von etwa 0,2 bis etwa 1,0 Vol.-% ist.
Die Optimierung wird durch Routinetests erhalten.
Das folgende Beispiel beschreibt die Herstellung der Kupplungsmittellösung,
die erfolgreich mit Zinkoxid und glasverstärktem Epoxidharz eingesetzt wird.
Kupplungsmittel Z-6032 (40 % Silan in Methanol) wird zu destilliertem
Wasser gegeben, dessen pH zuvor mit Essigsäure auf 3,5 bis 5,0 eingestellt worden ist. Das Kupplungsmittel
(5 VoL-I) wird zu dem Wasser mit eingestelltem pH gegeben
und dann mit Methanol gemischt, um eine Endkonzentration von
0,5 Vol.-% Kupplungsmittel zu erhalten.
Kupplungsmittel sind einfach Moleküle, die zwei verschiedene Arten Reaktivität aufweisen. Die meisten der zum Aufbau einer
chemischen Verbindung mit anorganischen Oberflächen verwendeten Kupplungsmittel sind organofunktionelle Silane . Silan-Kuppler
können durch die allgemeine Formel
R'nSiR4-n
dargestellt werden, worin R1 ein gesättigter, ungesättigter
oder aromatischer Kohlenwasserstoffrest ist, funktionalisiert
durch einen Vertreter aus der Gruppe Amino, Carbonyl, Carboxy, Isocyano, Azo, Diazo, Thio, Thia, Dithia, Isothiocyano,
Oxo, Oxa, Halogen, Ester, Nitroso, Sulfhydryl, Halogencarbonyl,
Amido, Sulfoamido und Mehrfache und Kombinationen hiervon, R eine hydrolysierbare Gruppe, kompatibel mit R1,
ausgewählt unter Alkoxy, Phenoxy, Halogen, Amino, Dialkylamino und tert.-Peroxyalkyl, und η eine ganze Zahl mit einem
Wert von 1 bis 3 ist.
Die bevorzugten Kuppler für die praktische Durchführung der Erfindung sind solche mit der Bezeichnung Z-6032 (mit Zinkoxid)
und A-1100 (mit Zinnoxid), angewandt durch Tauchen. Andere
geeignete Methoden der Aufbringung sind Sprühen, Bürsten, Eintauchen usw.
Unerwarteterweise wurde gefunden, daß die Abziehfestigkeit
des nach diesem Verfahren hergestellten Produkts (durch die Laminierstufe) beträchtlich erhöht wird, entweder durch Unterwerfen
des Laminats einer Erwärmungsstufe oder durch Altern
des Laminats bei Raumtemperatür (d.h. z.B. etwa 20°c
bzw. etwa 680F).
Die durch eine dieser Behandlungen erzielte Verbesserung wur-
de recht zufällig gefunden. Stücke eines Probenlaminats (ZnO als Oxidschicht mit Z-6032 als Kupplungsmittel (Abziehfestigkeiten
von 5,26-10,86 N/cm bzw. 3-6,2 lbs/in) und SnO als Oxidschicht mit A-1100 als Kupplungsmittel (Abziehfestigkeiten von 9,11 - 10,6 N/cmbzw. 5,2-6,05 lbs/in)) wurden einer
einfachen Testarbeitsweise unterworfen, angewandt zur Bestimmung, ob im Substrat ein abzulehnender Gasgehalt vorliegt.
Bei dieser Arbeitsweise werden die Proben mit Siliconöl überzogen und in einem Topf mit geschmolzenem Lötmittel (2 65°C,
20 s) gebracht. Wenn der Gasgehalt abzulehnend hoch ist, bilden sich unter der Kupferschicht Blasen, und solch ein Verhalten
bildet die Grundlage für eine Ablehnung des Produkts. Sich anschließende Abziehfestigkeitstests dieser Proben (die
den "Lotschwimmtest" bestanden) zeigten überraschende Zunahmen: die ZnO-Probe lieferte 15, 1 - 18,9 l·J/cm bzw. 8·,6-10,8 lbs/
in, die SnO-Probe lieferte 11,9 - 15,8 N/cm bzw. 6,8-9,0 lbs/ in. Noch eine weitere Testfolge zeigte die Zunahme der Bindungsfestigkeit, wenn das Laminat erhitzt wird. So zeigten
ZnO-Laminatproben beim Abziehtest bei 125°C höhere Abziehfestigkeiten als solche, die bei Raumtemperatur getestet wurden.
Im Handel erhältliche Laminate, die unter den gleichen Bedingungen getestet wurden, zeigten eine Abnahme der Abziehfestigkeit
bei der erhöhten Temperatur.
So wurde durch zusätzliche Untersuchung gefunden, daß, selbst
wenn das Laminierverfahren unter Druck und bei Temperatur durchgeführt wird, diese Temperaturaussetzung während des Laminierens
die Abziehfestigkeit nicht optimiert. Wird jedoch das Laminat einer Wiedererhitzung (Temperatur etwa 125°C bis
etwa 3000C) für eine Zeit im Bereich von etwa 20 s bis mehrere
Minuten unterworfen,wird eine beträchtliche Erhöhung der Abziehfestigkeit erzielt.
Eine geeignete Vorrichtung für ein solches Wiedererhitzen ist eine solche, in der das Erhitzen durch Dampf transport erfolgt,
wie es der Fall ist in einer Lotrückflußvorrichtung.
Abziehfestigkeitstests, die an erfindungsgemäß hergestellten Laminaten (unter Ausschluß der oben beschriebenen Erhitzungsstufe)
und gealtert für wenigstens 3 bis 4 Tage durchgeführt wurden, haben normalerweise Zunahmender Abziehfestigkeitswerte
von bis zu 1,75 N/cm (1 lb/in) gezeigt, und in keinem Falle nahm die Abziehfestigkeit mit dem Alter ab.
Ein über 5 Monate an einem mit Zinkoxid und Z-6032 als Kupplungsmittel hergestellten Laminat durchgeführter Test zeigte
erhebliche Verbesserung der Abziehfestigkeit, die bei weiterer Alterung erhalten blieb.
Tabelle | II | Abziehfestigkeit N/cm (lbs/in) |
8 ,5 ,8 |
4-5 5,4-10 5,6-9 |
7-8, 5.-17 8 -15 |
||||
9, 9, |
Datum
16.2.1982 22.2.1982 27.7.1982
Versuche haben viel-versprechende Ergebnisse unter Verwendung
einer Schicht aus mehrfach gemischten Metalloxiden als zusammengesetzte Bindeschicht in einem kupferkaschierten Laminat
erbracht. Metalle für die Mischmetalloxide sind vorzugsweise unter Zinn, Zink, Mangan, Magnesium, Nickel, Aluminium
und Calcium ausgewählt. Mit Mischoxidschichten, die wenigstens zwei Metalloxide verkörpern, durchgeführte Tests
sind in den folgenden Tabellen III und IV wiedergegeben. Die Herstellung der gemischten Oxide erfolgte durch Mahlen der
Pulver mit ß-Aluminiumoxid-Kugeln und Wasser über Nacht (ca.
10h), um eine Teilchengröße nach Trocknen und Sieben von
weniger als 250 μΐη(60 mesh U.S.-Sieb) zu ergeben. Die Pulver
werden zu Pellets gepreßt und gesintert, um Zylinder von etwa 2,54 cm Durchmesser und 2,54 cm Höhe zu ergeben. Um die
Oxidschicht einer gegebenen Zusammensetzung aufzubringen,
werden die geeigneten Zylinder als Ziele in den Verdampfer
eingebracht, von dem das Oxidmaterial verdampft und Dampf
auf der Kupferschicht abgeschieden wird. Nach dem Aufbringen der Oxidschicht werden verschiedene Kuppler durch Tauchen
und Trocknen aufgebracht. Danach wurden Laminate hergestellt/ wie oben beschrieben. Die Abziehtests für jedes Gemisch
von Oxiden zusammen mit speziellen Kupplern, wie in Tabelle IV angegeben, wurden durchgeführt, indem weiteres
Kupfer auf dem dünnen Film des Laminats bis zu einer Dicke von etwa 36 μπι (etwa 1,4 mil) galvanisiert wurde und dann
ein Streifen von 3,2 mm (1/8") des Kupfers 20,3 cm (8") lang vom Substrat abgezogen wurde. Während des Abziehens eines
jeden Streifens wurden wenigstens 100 Werte aufgenommen. Tabelle IV zeigt den niedrigsten Wert, den höchsten Wert und
den Durchschnittswert für alle Daten bei jedem Abziehtest. Kupplerlösung für diese Tests wurde durch Mischen des Kupplers
in Wasser (pH = 5,5) mit etwa 5 Vol.-% Kuppler und anschließendes Verdünnen dieser Lösung in Alkohol auf 0,5
Vol.-% Kuppler hergestellt.
Gemisch
1 80 g SnO, 20 g CaO
2 80 g SnO, 20 g MnO
3 80 g SnO, 20 g CaO, 20 g MnO
4 100 g SnO, 5 g ZnO
5 100 g SnO, 1 g ZnO
6 100 g ZnO, 1 g SnO
7 100 g ZnO, 3 g SnO
8 100 g SnO, 20 g MgO
Kontrolle
Gemisch N/cm (ib/iru
Gemisch N/cm (ib/iru
4,63/6,172.6«*/3,52
D=5,36 avg=3.O6
D=5,36 avg=3.O6
4,9/7,29 2.8/4.16
P=5,97 avg=3.41
P=5,97 avg=3.41
5,61/8,41 3.2/4.β
D=7,1 avg=4.O5
D=7,1 avg=4.O5
4,77/6,31 2.72/3.6
D=5,68 avg=3.24
D=5,68 avg=3.24
5,05/7,15 2.88/t«.08
D=6,1
avg=3.4fl
3,08/5,19 1.76/2.96
D=4,27 avg=2.44
D=4,27 avg=2.44
2,52/6,03
D=4,29
D=4,29
3,78/6,87 2.16/3.92
D=6,11 avg=3.49
D=6,11 avg=3.49
_T . 6020
Wem ι ib/inl
1,96/3,081.12/1.76 D=2,56 avg=1.46
1,68/2780 .96/1.6 D=2,38 avg=1.36
8,13/11,9 4.64/6.8 D=10,18 avg=5.81
7,29/9,81 4.16/5.6 D=8,85 avg=5.05
9,39/12,6 5.36/^.2 66
6,59/15,84 D=11,32 avg=6.46 d=10,7O
5,47,6,97 D=7,31
72 2,38/6,17 D=3,92
5,61/11,77 D=9,O4
9,53/12.6 - -
D=10,8$ avg=6.18
9,67/11,775.52/6. D=1O,65 av9=6.08
4,06/7,71 2.32/4.4 D=5,5O
N/cm
6032 tIb/inl
7,29/13,74 D=11,12
2.64/7.12 avg=4.54
«♦.16/7.8«!
avg=6.35
3.76/9.OM avg=6.11
3.12/5.12 avg=t|. 17
1.36/3.52 avg=2.24
3.2/6.72 avg=5.16
6040
(tb/in>
(tb/in>
0,14/7,0 .08/4.0 5,33/7,15
D=5,68 avg=3.24 b=4,87
D=5,68 avg=3.24 b=4,87
/53
avg=5.15
6,31/12,89 3.6/7.36 HO,93
D=9,16 avg=523 bi2
D=9,16 avg=523 bi2
5,75/10,5
D=8,23
D=8,23
3-28/6 U,37/16,96
av9=l)-7O|l>12,54
av9=l)-7O|l>12,54
6,31/10,23 3.6/5.84
D=8,58 avg=4.9O
D=8,58 avg=4.9O
8,83/12,75 5.04/7.28 D=11,3
3,78/7,57
D=5,29
D=5,29
8,41/U49 4.8/6.56 6,69/14^9
D=9,76 avg=5.57 JD=11,53
D=9,76 avg=5.57 JD=11,53
1100 ( Ib/in)
3.04/4.08 avg=2.78
2.0/4.0 avg=2.78
6.24/8.56 avg=7.18
5.92/9.68 avg=7.16
01/7-^12,2/14,72
D=13,42
D=13,42
2.16/4.32 8,83/11,9
avg=3.02 D=1Of56
avg=3.02 D=1Of56
6.96/8.4 avg=7.66
5.04/6.8 avg=6.03
4.96/8.16 avg=6.58
N/cm
A-187 LAkLLDA
?.96/5. avg-M.76
4,34/11,77 2.4B/6.72
D=6,94 avg=3.96
0,98/22,43 .56/12.B
D=8,74 avg=U.99
7/11,77 ^6-7?
D=9,44 avtJ=5.39
5,75/12,05 3.26/6.08
D=9,57 av9=^·^
8,41/12,33 4.8/7.on
D=IO,84 av9=6.i9
Abziehfestigkeiten von durchschnittlieh über 7, 9 N/cm
(4,5 lb/in) sind erwartungsgemäß brauchbar bei bestimmten kommerziellen Anwendungen. Zusätzliches Testen unter Anwendung
eines größeren Spektrums von Zusammensetzungen und/oder Kupplern kann weitere Zunahmen der Abziehfestigkeiten ergeben.
Neben der Feststellung, daß Gemischevon Metalloxiden von der
Erfindung umfaßt werden, ist auch gefunden worden, daß ein gewisses Mischen von Kupplern hingenommen werden kann. Weiteres
Experimentieren unter Verwendung verschiedener Anteile bestimmter Bestandteils-Kuppler können verbesserte Ergebnisse
liefern, aber bis jetzt durchgeführte Arbeiten (Tabelle V) haben keinen Vorteil des Mischens von Kupplern erbracht.
In jedem der Kupplergemische wurden die Kupplerbestandteile in gleichen Volumenteilen gemischt, um die anfängliche
5%-Mischung in Wasser herzustellen. Die wässrige Lösung wurde dann in Alkohol verdünnt, um die tatsächlich
verwendete Lösung von 0,5 Vol.-% Kuppler in Alkohol zu ergeben.
Gemisch
N/cm
4,63/6,17
D=5,36
D=5,36
4,91/7,29
D=5,97
5,61/8,41
D=7,1
4,77/6,31
D=5,68
5,05/7,15
D=6,1
D=6,1
3,08/5,19
D=4,27
D=4,27
2,52/6,03
D=4,29
D=4,29
3,78/6,87
D=6,11
D=6,11
Kontrolle (Ib/in)
2.6*4/3.52 avg=3.O6
2.8/Ί.16 avg=3.»»1
3.2/Ί.8 avg=«4.O5
2.72/3.6 avg=3.2«4
2.88/ΐ|.Οβ
avg=3.»iB
1.76/2.96 avg=2.'i«»
avg=2.«i5
2.16/3.92 avg=3.M9
6O32/6OUO
Mb/In)
4,34/12472.U8/7-12
D=7,81 avg=«4.U6
5,61/13,463.2/7.68 D=1O,O2 avg=5.72
4,91/14/14 2.8/8.2U D=11,14 avg=6.36
5,05/12^9 2.88/7.36 D=9,86 avg=5.63
5,47/14,44 3.12/8.2U
D=1O,18 avg=5.8i
5,05/8,69 2.88/(4.96 D=6,75 avg=3.85
7,57/13,17 M.32/7.52 D=10,69 avg=6.10
7,57/15 H.32/8.56 D=11,76 avg=6.7i
N/cm
6,73/10/»
D=R, 16
D=R, 16
5,47/13,88
D=1O,O2
5,61/12,19
D=9
D=1O,O2
5,61/12,19
D=9
D=9,06
7, (/11 35
D=9,27
D=9,27
2^/7,15
D=5,19
D=5,19
3,36/5,61
D=4,47
D=4,47
5,19/10,79
D=9,0
D=9,0
1IOO/6i»2O|
( Ib/int
3.8«l/5.76 avg=i).66
3.12/7.92 avg=5.72
3.2/6.96 avg=5.IM
«4.11/5.8«»
avg=5.17
M.0/6.'iB
avg=5.29
1.6/Ί.08 avg=2.96
1.92/3.2 avg=2.55
2.96/6.16 avg=5.1Ί
1100/6032!
ί Ib/in)
4,49/8,27 2.56/M.72
D=7,25 avg=«4.i«4
D=7,25 avg=«4.i«4
7,71/11,21 U.V6.U
D=9,6 avg=5.«48
D=9,6 avg=5.«48
7,0/9,81 «4.0/5.6
|D=8,67 avg=«4.95
|D=8,67 avg=«4.95
7,29/12,0544.16/6.88
D=9,36 avg=5.3«4
D=9,36 avg=5.3«4
6,73/12,05 3. e«4/6.88
jD=10,49 avg=5.99
jD=10,49 avg=5.99
6,17/11/)7 3.52/6.32
D=7,69 avg=«4.39
D=7,69 avg=«4.39
7,57/11,07 «4.32/6.32
D=9,11 avg=5.20
D=9,11 avg=5.20
7,15/11,35 I1.08/6.«48
D=9,48 avg=5.U1
D=9,48 avg=5.U1
N/cm
1,12/2,52
D=1,75
D=1,75
0,84/4,06
D=2,19
1,54/3,92
D=2,47
2,94/4,2
D=3,56
2,80/5,19
D=4,06
1,82/4,63
D=3,03
D=3,03
3,64/6,17
D=5,13
D=5,13
2,8Q/6,17
D=4,56
D=4,56
1100/60'iü
(Ib/in)
avg=1.0(J
.«»8/2.32 avg=1.25
.88/2.2Ί avg=1 . it I
1.68/2.Ί avg=2.O3
1.6/2.96 avg=2.32
1.0U/2.6H avg=1.73
2.08/3.52 avg=2.93
1.6/3.52 avg=2.6ü
Claims (14)
- AnsprücheI 1.] Metallkaschiertes Laminat mit einem Substrat, einer in Wechselwirkung stehenden Kupplerschicht, die sich über einen Großteil der Substratoberfläche erstreckt und an diese gebunden ist, einer Schicht aus ultradünnem Kupfer benachbart zu der Schicht aus in Wechselwirkung stehendem Kuppler und einer zusammengesetzten Bindeschicht, die die Kupferschicht und die in Wechselwirkung stehende Kupplerschicht miteinander, verbindet, wobei die zusammengesetzte Bindeschicht Bereiche aus Kupfer aufweist, legiert mit einem zweiten Metall und Oxid des zweiten Metalls.
- 2. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat eine Bahn aus glasfaserverstärktem Harz ist.
- 3. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Metall unter Zink und Zinn ausgewählt ist.
- 4. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Oxid eines weiteren Nichtkupfermetalls auch in der zusammengesetzten Bindeschicht vornan-den ist.
- 5. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das weitere Nichtkupfermetall unter Zinn, Zink, Mangan, Magnesium, Nickel, Aluminium und Calcium ausgewählt ist.
- 6. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Kuppler auf Organosilanbasis ist.
- 7. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Metall Zinn und der Kuppler auf K-Aminopropyltriethoxysilanbasis ist.
- 8. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Metall Zink und der Kuppler auf N-ß-(N-Vinylbenzyl-amino)ethyl-y -aminopropyltrimethoxysilan-Monohydrochlorid-Basis ist.
- 9. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kupplerschicht mehrere Kupplerxnaterialien enthält.
- 10. Metallkaschiertes Laminat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerbahn an der Oberfläche der ultradünnen Kupferschicht haftet.
- 11. Verfahren zur Herstellung eines kupferkaschierten Laminats, gekennzeichnet durcha) Halten einer Trägerbahn bei einer Temperatur einer Hauptoberfläche in einem vorgewählten Temperaturbereich während der Bildung eines Kupferf.ilms auf der Hauptoberfläche durch direktes Abscheiden von Kupfer aus der Gasphase .darauf,b) Abscheiden einer Schicht eines Oxidmaterials auf dem Kupferfilm unter Temperatur- und Druckbedingungen,die im wesentlichen die Bildung von Kupferoxid ausschließen, wobei das Oxidmaterial ein Oxid eines Nichtkupfermetalls umfaßt,c) Überziehen der Oxidma.terialschicht mit einer Kuppler enthaltenden Lösung,d) Trocknen des Kupplers unde) Laminieren der anfallenden Einheit auf eine Hauptoberfläche eines Substrats bei erhöhter Temperatur und Druck, wobei die Substrat-Hauptoberfläche für den Kuppler zur Verfügung stehende Bindestellen aufweist.
- 12. Verfahren nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch den zusätzlichen Schritt des Erhitzens des anfallenden Laminats auf eine Temperatur im Bereich von etwa 125 bis etwa 3OO°C für eine Zeit im Bereich von etwa 20 s bis etwa mehrere Minuten.
- 13. Verfahren nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch den zusätzlichen Schritt des Alterns des anfallenden Laminats für eine Zeit von wenigstens 4 Tagen..
- 14. Verfahren nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch den zusätzlichen Schritt des Entfernens der Trägerbahn von dem anfallenden Laminat.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/549,031 US4499152A (en) | 1982-08-09 | 1983-11-07 | Metal-clad laminate construction |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3440241A1 true DE3440241A1 (de) | 1985-05-15 |
Family
ID=24191379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843440241 Ceased DE3440241A1 (de) | 1983-11-07 | 1984-11-03 | Metallkaschiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JPS60137640A (de) |
DE (1) | DE3440241A1 (de) |
FR (1) | FR2554389B1 (de) |
GB (1) | GB2149346B (de) |
IT (1) | IT1177055B (de) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60171277A (ja) * | 1984-02-17 | 1985-09-04 | 株式会社東芝 | 金属−セラミツクス接合体 |
JPS6121983A (ja) * | 1984-07-07 | 1986-01-30 | 工業技術院長 | 非酸化物系セラミックス―金属複合材料の製造方法 |
JPS62127746A (ja) * | 1985-11-28 | 1987-06-10 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体用電極 |
DE3620601A1 (de) * | 1986-06-19 | 1987-12-23 | Akzo Gmbh | Verfahren zur herstellung von polyimid-metall-laminaten |
DE3811686A1 (de) * | 1987-04-09 | 1988-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographischer traeger |
US4997674A (en) * | 1987-06-30 | 1991-03-05 | Akzo America Inc. | Conductive metallization of substrates via developing agents |
CA1298740C (en) * | 1987-06-30 | 1992-04-14 | William John Parr | Conductive metallization of substrates without developing agents |
FR2619984B1 (fr) * | 1987-08-24 | 1996-03-01 | Aerospatiale | Procede de realisation de circuits imprimes presentant des surfaces complexes a priori non developpables |
DE3887054T2 (de) * | 1987-10-01 | 1994-07-21 | Rohco Inc Mcgean | Herstellung einer mehrschichtigen gedruckten Schaltungsplatte. |
US5190795A (en) * | 1989-09-14 | 1993-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for improving adhesion to metal |
US5073456A (en) * | 1989-12-05 | 1991-12-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer printed circuit board formation |
US5153986A (en) * | 1991-07-17 | 1992-10-13 | International Business Machines | Method for fabricating metal core layers for a multi-layer circuit board |
US5210941A (en) * | 1991-07-19 | 1993-05-18 | Poly Circuits, Inc. | Method for making circuit board having a metal support |
DE4233021A1 (de) * | 1992-10-01 | 1994-04-07 | Huels Chemische Werke Ag | Organosilanpolykondensate |
US5385787A (en) * | 1993-02-03 | 1995-01-31 | Amp-Akzo Corporation | Organosilane adhesion promotion in manufacture of additive printed wiring board |
IL111497A (en) | 1993-12-08 | 2001-01-28 | Rohco Inc Mcgean | Seelan preparations are useful as adhesives |
US5928790A (en) * | 1996-04-23 | 1999-07-27 | Mcgean-Rohco, Inc. | Multilayer circuit boards and processes of making the same |
US6086743A (en) * | 1997-08-06 | 2000-07-11 | Gould Electronics, Inc. | Adhesion enhancement for metal foil |
US5885436A (en) * | 1997-08-06 | 1999-03-23 | Gould Electronics Inc. | Adhesion enhancement for metal foil |
ES2367838T3 (es) * | 1998-09-10 | 2011-11-10 | JX Nippon Mining & Metals Corp. | Laminado que comprende una hoja de cobre tratada y procedimiento para su fabricación. |
IT1305116B1 (it) | 1998-09-14 | 2001-04-10 | Zincocelere Spa | Componente per circuito stampato multistrato, metodo per la suafabbricazione e relativo circuito stampato multiuso. |
US6391220B1 (en) | 1999-08-18 | 2002-05-21 | Fujitsu Limited, Inc. | Methods for fabricating flexible circuit structures |
US6569543B2 (en) * | 2001-02-15 | 2003-05-27 | Olin Corporation | Copper foil with low profile bond enahncement |
WO2003031677A1 (de) * | 2001-10-08 | 2003-04-17 | Aixtron Ag | Verfahren und vorrichtung zum abscheiden einer vielzahl von schichten auf einem substrat |
JP4259024B2 (ja) * | 2002-02-07 | 2009-04-30 | 富士通株式会社 | 多層配線基板の製造方法およびこれにより製造される多層配線基板 |
US7132158B2 (en) * | 2003-10-22 | 2006-11-07 | Olin Corporation | Support layer for thin copper foil |
DE102004025767A1 (de) | 2004-05-26 | 2005-12-22 | Degussa Ag | Stabile Lösungen von N-substituierten Aminopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung |
EP2244542B1 (de) | 2009-04-24 | 2013-03-27 | Atotech Deutschland GmbH | Herstellung einer mehrschichtigen Leiterplatte |
CH703032A2 (de) * | 2010-04-25 | 2011-10-31 | Johan Laubscher | Kochgeschirr mit einem deformationsfreien Boden und Verfahren zu seiner Herstellung. |
US20130062099A1 (en) * | 2011-08-10 | 2013-03-14 | Cac, Inc. | Multiple layer z-axis interconnect apparatus and method of use |
EP2603064A1 (de) | 2011-12-08 | 2013-06-12 | Atotech Deutschland GmbH | Herstellung einer mehrschichtigen Leiterplatte |
US8945990B2 (en) * | 2012-04-24 | 2015-02-03 | Infineon Technologies Ag | Chip package and method of forming the same |
KR20180060687A (ko) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 제조방법 |
EP3473633B8 (de) | 2017-10-18 | 2019-12-18 | Evonik Operations GmbH | Eine farblose, 3-(n-vinylbenzyl-2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilanhydrochlorid und methanol enthaltenden zusammensetzung, ein verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
DE102018208691A1 (de) | 2018-01-31 | 2019-08-01 | Evonik Degussa Gmbh | Spezielle Zusammensetzung organofunktioneller Alkoxysilane und deren Verwendung |
EP3611236B1 (de) | 2018-08-17 | 2020-09-30 | Evonik Operations GmbH | Eine wässrige, lagerstabile zusammensetzung, die n-benzyl-substituierte n-(2-aminoethyl)-3-aminopropylsiloxan-hydrochloride enthält, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
EP3708569B1 (de) | 2019-03-11 | 2024-06-12 | Evonik Operations GmbH | Ein voc freies, wässriges und lagerstabiles n-vinylbenzylaminalkyl-funktionelles siloxanol und verfahren zu dessen herstellung |
CN110484877A (zh) * | 2019-10-09 | 2019-11-22 | 安徽鸿海新材料股份有限公司 | 一种陶瓷基覆铜板的制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2636095A1 (de) * | 1976-08-11 | 1978-02-23 | Uop Inc | Metallisiertes laminat und verfahren zu dessen herstellung |
DE2754248A1 (de) * | 1977-12-06 | 1979-06-07 | Califoil Inc | Verbundwerkstoff |
DE3137105A1 (de) * | 1980-09-22 | 1982-04-01 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | "metallplattiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung |
DE3131688A1 (de) * | 1980-08-22 | 1982-05-06 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | "metallkaschierte laminate und verfahren zu ihrer herstellung" |
DE3200593A1 (de) * | 1981-01-22 | 1982-09-02 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | "kupfer-plattiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung |
US4364731A (en) * | 1981-01-29 | 1982-12-21 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Methods for producing adhesive bonds between substrate and polymer employing an intermediate oxide layer |
DE3339715A1 (de) * | 1983-11-03 | 1985-05-15 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Metallkaschiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3984598A (en) * | 1974-02-08 | 1976-10-05 | Universal Oil Products Company | Metal-clad laminates |
JPS5853079B2 (ja) * | 1976-03-15 | 1983-11-26 | 三井アナコンダ銅箔株式会社 | 銅箔の防錆方法 |
JPS5954027B2 (ja) * | 1980-08-14 | 1984-12-27 | 新神戸電機株式会社 | 印刷配線板用積層板 |
FR2554046B1 (fr) * | 1983-10-28 | 1986-05-09 | Gen Electric | Stratifie recouvert de metal et procede de fabrication |
-
1983
- 1983-11-07 US US06/549,031 patent/US4499152A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-09-10 GB GB08422832A patent/GB2149346B/en not_active Expired
- 1984-10-26 IT IT23337/84A patent/IT1177055B/it active
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- 1984-11-03 DE DE19843440241 patent/DE3440241A1/de not_active Ceased
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2636095A1 (de) * | 1976-08-11 | 1978-02-23 | Uop Inc | Metallisiertes laminat und verfahren zu dessen herstellung |
DE2754248A1 (de) * | 1977-12-06 | 1979-06-07 | Califoil Inc | Verbundwerkstoff |
DE3131688A1 (de) * | 1980-08-22 | 1982-05-06 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | "metallkaschierte laminate und verfahren zu ihrer herstellung" |
DE3137105A1 (de) * | 1980-09-22 | 1982-04-01 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | "metallplattiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung |
DE3200593A1 (de) * | 1981-01-22 | 1982-09-02 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | "kupfer-plattiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung |
US4364731A (en) * | 1981-01-29 | 1982-12-21 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Methods for producing adhesive bonds between substrate and polymer employing an intermediate oxide layer |
DE3339715A1 (de) * | 1983-11-03 | 1985-05-15 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Metallkaschiertes laminat und verfahren zu seiner herstellung |
Also Published As
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