DE3422105A1

DE3422105A1 - Beschichten von heissem glas mit metallen oder metallverbindungen, insbesondere oxiden

Info

Publication number: DE3422105A1
Application number: DE19843422105
Authority: DE
Inventors: Albert van Charleroi Cauter; Robert Van Loverval Laethem; Robert Thiméon Terneu
Original assignee: Glaverbel Belgium SA
Current assignee: AGC Glass Europe SA
Priority date: 1983-06-17
Filing date: 1984-06-14
Publication date: 1985-01-03
Anticipated expiration: 2004-06-15
Also published as: ES8505624A1; NL8401646A; SE462968B; DE3422105C2; FR2547576A1; GB8316532D0; IT1178953B; IT8467576A0; US4655810A; IT8467576A1; LU85393A1; GB2142621B; BE899825A; JPS6096547A; FR2547576B1; ES533895A0; ATA194684A; GB2142621A; CA1209805A; SE8403235L

Description

-9-Beschreibung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bildung eines Überzugs aus einem Metall oder einer Metallverbindung auf einer Seite eines frisch gebildeten Bandes aus heißem Glas während seiner Vorwärtsbewegung durch eine Beschichtungsstation, wobei das Verfahren das Besprühen dieser Unterlage in dieser Station mit einem Beschichtungsvorläufermaterial umfaßt, aus welchem dieses Beschichtungsmetall oder die Metallverbindung auf der Unterlagenseite gebildet wird. Die Erfindung umfaßt auch die Vorrichtung, welche zur Durchführung eines solchen Verfahrens angewandt werden kann.

Während der letzten zehn Jahre wurde viel Forschung mit dem Ziel durchgeführt, Verfahren zu entwickeln, mit welchen Beschichtungen mit hoher optischer Qualität unter normalen Fabrikbedingungen und mit wirtschaftlich annehmbaren Kosten gebildet werden können. Es ist seit langer Zeit anerkannt, daß ein Hauptproblem darin besteht, wie man die Bedingungen in der Beschichtungsstation so steuert, daß die Beschichtung vorbestimmte optische Eigenschaften über die gesamte beschichtete Fläche hat. Die optischen Eigenschaften hängen offensichtlich unter anderem von der Dicke der Beschichtung und von ihrer Zusammensetzung und Struktur ab und daher müssen diese Faktoren so gleichmäßig wie möglich über die gesamte Fläche der Beschichtung eingehalten werden.

Es ist aus der verfügbaren Literatur ersichtlich, daß beträchtliche Aufmerksamkeit der Richtung geschenkt wurde, in welcher das Beschichtungsvorläufermaterial gesprüht wird als ein Faktor, welcher die Ergebnisse des Verfahrens beeinflussen kann. In einigen früher vorgeschlagenen Verfahren wird das Beschichtungsvorläufermaterial so gesprüht, daß es einen Tröpfchenstrom bildet, dessen Achse senkrecht zum Weg der Unterlage ist. Bei anderen bekannten Verfahren werden die Tröpfchen gegen die Unterlage als ein Strom abgegeben, dessen Achse nach unten gegen die Unterlage gerichtet ist, entweder in Richtung der Fortbewegung der Unterlage oder in

-ιοί der entgegengesetzten Richtung. Diese verschiedenen Verfahren sind zum Beispiel in der GB-PS 1 523 991 gezeigt.

Bei gewissen früher vorgeschlagenen Sprühverfahren wird das Vorläufermaterial in einer Mehrzahl von Tröpfchenströmen versprüht, welche über die Breite der zu beschichtenden Fläche angeordnet sind. Bei anderen Verfahren wird Vorläufermaterial in einem Strom versprüht (im folgenden als "fächernder Strom " bezeichnet), der wiederholt über die Unterlage versetzt wird.

Um konstante und vorhersehbare BeSchichtungsbedingungen zu erzeugen, ist es anerkannte Praxis, das Versprühen des Vorläufermaterials so zu steuern, daß die dynamischen Zustände in der Auftreffzone der Vorläufertröpfchen auf die Unterlage so weit wie möglich ins Gleichgewicht gebracht werden. Es wurde jedoch schon vor vielen Jahren erkannt, daß zu beanstandende Beschichtungsdefekte auch dann auftreten, wenn die Momenta der Tröpfchen kurz vor dem Kontakt mit der Unterlage sehr gering sind. Dies ist deshalb der Fall, weil die erzielte Beschichtungsqualität abhängig ist vom Einfluß der Bedingungen in der Gasumgebung oberhalb der Unterlage. Es wurden daher verschiedene Wege vorgeschlagen, auf diese Umgebung dahingehend einzuwirken, daß Substanzen, welche die Beschichtung nachteilig beeinflussen können, entfernt werden.

Ein Beispiel für ein Verfahren, welches eine Umgebungssteuerungsmaßnahme umfaßt, wird in der oben angegebenen GB-PS 1 523 991 beschrieben. Bei diesem Verfahren werden Saugkräfte in Absaugleitungen erzeugt, die so angeordnet sind, daß sie einen Abfluß von Gasen vom Tröpfchenstrom und dessen Auftreffzone bewirken. In dieser Druckschrift wird angegeben, daß die Maßnahme die Tendenz, daß sich Zersetzungsprodukte auf der Unterlage oder dem bereits gebildeten überzug ablagern, die aus dem Bereich der Gasabgebung stammen, vermeidet oder vermindert, und daß es diese Steuerungsmaßnahme erleichtert, Schichten mit

homogener Struktur zu bilden und ein gleichförmiges Beschichtungsgemisch auf der Unterlage zu erzielen, vorausgesetzt, daß als eine Vorbedingung des Verfahrens die Saugkräfte so gesteuert werden, daß sie praktisch keinen Einfluß auf die Wege der Vorläufertröpfchen zur Unterlage haben.

Weitere Verfahren, die Umgebungssteuerungsmaßnahmen betreffen, werden in den GB-PSn 2 068 937 A und 2 069 992 A beschrieben. Das in der GB-PS 2 068 937A beschriebene Verfahren erfolgt in der Weise, daß ein senkrecht gerichteter oder geneigter fächerartiger Sprühstrom angewandt und Gas zeitlich versetzt mit dem Tröpfchenstrom oder den Tröpfchenströmen quer über den fächerförmigen Weg des Sprühstroms geblasen wird. Der Zweck dieses Gasausstoßes ist es, die Atmosphäre im fächerartigen Weg des Tröpfchenstroms oder der Tröpfchenströme durch Entfernung dampfförmiger Reaktionsprodukte, die ansonsten durch den oder jeden Tröpfchenstrom mit zur Unterlage geführt würden, zu reinigen. In dieser Druckschrift wird angegeben, daß der Gaskühlstrom kontinuierlich abgegeben werden kann, vorausgesetzt, daß dessen Quelle in Tandemanordnung mit der Quelle des oder jedes Tröpfchenstroms versetzt ist. Wird andererseits das Spülgas aus einer stationären Quelle abgegeben, so erfolgt die Gasabgabe intermittierend phasenverschoben mit der Bewegung des Sprühstroms, so daß der Gasspülstrom nicht auf die Tröpfchen trifft.

Gemäß dem in der GB-PS 2 069 992 A beschriebenen Verfahren werden die Vorläufertröpfchen in einer Richtung versprüht, die nach unten und vorwärts oder nach unten und rückwärts zur Unterlage geneigt ist (wobei mit "vorwärts" die Bewegungsrichtung der Unterlage gemeint ist), und ein Gasstrom wird gegen die Rückseite des oder jedes nach unten geneigten Tröpfchenstroms abgegeben. Dieser Gasausstoß bewirkt eine Verminderung des Auftretens von Beschichtungsfehlern und führt zu einer leichten Diffusion, insbesondere an der Beschichtungsoberflache oder an der Grenzzone zwischen dem Überzug und der Unterlage. Der Grund für diesen

Effekt wird darin vermutet, daß das Gas Substanzen abfängt, die anderweitig von der unmittelbar an der Rückseite des oder jedes Tröpfchenstroms gelegenen Umgebung mit zur Unterlage geführt werden. In der Druckschrift wird angegeben, daß die Vorläufertröpfchen in einer Vielzahl von Strömen aus stationären, quer über der Bewegungsbahn der Unterlage verteilten Quellen abgegeben werden können, wobei das Gas von einer oder mehreren stationär angeordneten Öffnungen, die sich quer über die Bewegungsbahn der Unterlage erstrecken oder in Querrichtung dazu verteilt sind, ausgeblasen werden kann. Wahlweise kann von einem oder mehreren fächerförmigen Tröpfchenströmen Gebrauch gemacht werden und das Gas kann von einer oder mehreren Öffnungen abgegeben werden, die in Querrichtung über die Bewegungsbahn der Unterlage versetzt sind, zusammen mit dem oder jedem Tröpfchenstrom. In der Druckschrift wird angezeigt, daß die Stärke des oder jedes Gasstroms nicht derart sein sollte, daß der oder jeder Tropfchenstrom unbeständig und veränderlich wird.

Unter Heranziehung eines oder mehrerer der oben angegebenen Umgebungssteuerungsmaßnahmen ist es möglich, Beschichtungen mit sehr guter optischer Qualität oder den Bedingungen der Massenproduktion zu bilden. Die bekannten Verfahren sind jedoch in bezug auf die erzielbaren Schichtbildungsraten (ausgedrückt als Beschichtungsvolumen pro Zeiteinheit) beschränkt. Dies ist deshalb der Fall, weil die bekannten Verfahren auf dem Prinzip beruhen, die dynamischen Bedingungen an der Sprühzone so beständig wie möglich zu halten. Um diesen Bedingungen zu genügen, wird das Sprühen in soleher Weise gesteuert, daß eine ziemlich sanfte Ablagerung der Tröpfchen auf der Unterlage erfolgt, und die Umgebungsbedingungen werden in solcher Weise gesteuert, daß die Tröpfchenflugbahnen so wenig wie möglich gestört werden. Die maximal zulässige Schichtbildungsrate, die erzielt werden kann, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann von einem Verfahren zum anderen variieren, doch ist sie in allen Fällen zu niedrig, um die Schichtbildungsraten zu erzielen, die bisweilen wünschenswert sind. Die

Schichtbildungsrate bestimmt offensichtlich die Dicke der Schicht auf einem Glasband, das sich mit einer gegebenen Geschwindigkeit durch die Beschichtungsstation bewegt.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren anzugeben, das zur Erzielung höherer Schichtbildungsraten geeignet und deshalb zur Erzeugung dickerer Schichten und/oder zur Beschichtung von Glasbändern, die sich mit höheren Geschwindigkeiten bewegen, verwendbar ist.

Die Lösung dieser Aufgabe gelingt mit der im Haupt-Verfahrensanspruch angegebenen Verfahrensweise.

Der Erfindungsgegenstand weicht insofern merklich von der anerkannten Praxis ab, daß, statt den Sprühstrom zur Erzielung eines ziemlich sanften Aufschlags der Tröpfchen auf der Auftreffzone zu steuern, den Tröpfchen ein ausreichendes Momentum, also mechanisches Moment, verliehen wird, um ein wesentliches Verspritzen von Material von der zu beschichteiiden Bandoberfläche zu bewirken. In Kombination mit einem derartigen, relativ energiereichen Sprühstrom wird von einem Gasspülstrom oder von Gasspülströmen ausreichender Stärke Gebrauch gemacht, um die Spritzer von der Nachbarschaft des Sprühstroms weg und hin zu einem Bereich zu führen, von dem sie von der Umgebung des Bandes entfernt werden. Die Wirksamkeit dieser kombinierten Maßnahmen hängt von der Auswahl einer bestimmten Orientierung des oder jedes gesprühten Tröpfchenstroms und von einer bestimmten Richtung des oder jedes Gasspülstroms in bezug auf die Bewegungsrichtung des Bandes ab. Der oder jeder Tröpfchenstrom muß nach unten und vorwärts gegen das Band geneigt sein (wobei die Vorwärtsrichtung die Bewegungsrichtung der Unterlage ist) , und der oder jeder Gasspülstrom muß ebenfalls in der Vorwärtsrichtung strömen.

Erfindungsgemäß ist es möglich, optische Beschichtungen guter Qualität mit wesentlich höheren Geschwindigkeiten zu erzeugen als diejenigen, die mit den angegebenen bekannten

Verfahren erzielbar sind. Die Kombination der die Erfindung kennzeichnenden Verfahrensmerkmale führt zu den höheren Beschichtungsgeschwindigkeiten und gleichzeitig zur Bildung von Überzügen mit gar keinen oder nur einer sehr geringen Anzahl von inneren oder Oberflächendefekten, die eine Lichtdiffusion bewirken.

Dem Fachmann ist wohlbekannt, daß qualitativ hochwertige optische Überzüge nicht nur relativ frei von derartigen Defekten sein müssen, sondern auch von praktisch gleichförmiger Dicke sein müssen, und daß die Norm der Dicken — gleichförmigkeit durch Temperaturbedingungen, die einen Einfluß auf die Schichtbildung haben, beeinflußt wird. Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens können bekannte TemperaturSteuerungsmaßnahmen ergriffen werden, um die Bildung eines Überzugs, dessen Dickengleichförmigkeit von hohem Niveau ist, zu fördern.

Eine besonders empfehlenswerte Temperatursteuerungsmaßnahme ist die in der GB-PS 2 078 710A beschriebene, wonach ein frisch gebildetes Glasband vor dessen Beschichtung thermisch konditioniert wird, um Temperaturgradienten, die über die Breite des zu beschichtenden Bandes verlaufen, zu vermeiden oder zu vermindern. Die thermische Konditionierungsstufe kann zum Beispiel das Erhitzen der Ränder des Glasbandes umfassen, um das raschere Abkühlen dieser Ränder, das in der Regel auftritt, wenn das Band von der Flachglasproduktionsanlage abtransportiert wird, zu kompensieren.

Gemäß bestimmten, sehr vorteilhaften Ausführungsformen der Erfindung bestehen die Sprühtröpfchen aus Beschichtungsvorläufermaterial in wäßriger Lösung. Im Vergleich zu Verfahren, bei denen ein flüchtiges organisches Lösungsmittel, das von den Tröpfchen auf ihrem Weg zur Unterlage weitestgehend verdampfen kann, zur Anwendung gelangt, erreicht bei Verfahren, die von einer wäßrigen Lösung des Vorläufermaterials Gebrauch machen, ein größerer Anteil des gesprühten Lösungsmittels /und in den bisher bekannten Beschichtungsverfahren

erwiesen sich die maximal erzielbaren Schichtbildungsraten unter derartigen Umständen als besonders stark begrenzt. Derartige Beschichtungsverfahren können durch Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens weit übertroffen werden. 5

Die Erfindung erweist sich als besonders wertvoll zur Erzeugung von Überzügen aus Vorläufermaterial, das eine nur geringe Ausbeute an Beschichtungsmaterial bringt, das heißt, aus einem Vorläufermaterial mit niedrigem Umwandlungsfaktor.

Ein niedriger Umwandlungsfaktor neigt dazu, die Schichtbildungsgeschwindigkeit zu beschränken. Dadurch, daß es ermöglicht wird, die Geschwindigkeit, mit der Schichten aus diesen Vorläufermaterialien gebildet werden können, beträchtlich zu erhöhen, leistet die Erfindung einen sehr wichtigen Beitrag zu dem hier in Frage stehenden Spezialgebiet der Technik. In den wichtigsten Anwendungsformen der Erfindung dient zur Schichtbildung ein Vorläufermaterial, das, zumindest so, wie es in den versprühten Tröpfchen vorliegt, anorganisch ist. Derartige Materialien haben niedrige Umwandlungsfaktoren im Vergleich zu organischen Materialien. So erweist es sich zum Beispiel als vorteilhaft, als Sprühmaterial eine wäßrige Lösung einer Zinnverbindung, zum Beispiel als hydratisiertes Zinn(II)-chlorid (SnCl₂-H₂O), zur Bildung eines Zinnoxidüberzugs auf dem Glas zu verwenden.

In der Praxis reagiert nur ein kleiner Teil der als das Vorläufermaterial verwendeten Zinnverbindung unter Bildung des Überzugs. Eine wäßrige Lösung einer Zinnverbindung dient gemäß bestimmten Ausführungsformen der Erfindung als das Sprühmaterial.

Die potentiellen Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens werden selbstverständlich am besten bei hohen Abgabevolumengeschwindigkeiten des Vorlaufermaterials erzielt. In der Praxis setzt dies wiederum voraus, daß das den oder jeden Tröpfchenstrom bildende Material unter einem relativ hohen Druck versprüht wird. Vorzugsweise wird das Vorläufermaterial unter einem Überdruck von wenigstens 10 bar versprüht .

Die Geschwindigkeit der Sprühtröpfchen hängt bei jeder gegebenen Verfahrensweise nicht nur vom Druck ab, unter dem die Tröpfchen versprüht werden, sondern auch von anderen Faktoren, einschließlich der Form der Sprühdüse oder anderer Sprühköpfe und der Größe der Sprühöffnungen. In allen bevorzugten Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens haben jedoch die Tröpfchen eine mittlere Geschwindigkeit, die wenigstens Schallgeschwindigkeit ist.

Das Gas, das von rückwärts hinter dem oder jedem Tröpfchenstrom abgegeben wird, muß eine ausreichende Fließenergie haben, um die Spritzer aus Material nach vorn von der Nachbarschaft des oder jedes Tröpfchenstroms wegzutragen. Die erforderliche minimale Volumengeschwindigkeit der Strömung dieses Gases in die Atmosphäre hinter dem oder jedem Tröpfchenstrom hängt unter anderem von der Größe oder Gesamtgröße der Gasabgabeöffnung oder -Öffnungen ab.

Vorzugsweise beträgt jedoch die gesamte Volumengeschwindigkeit der Strömung des Gases wenigstens 130 Nm³/h.

In vorteilhafter Weise ist das gesamte (NTP)-Volumen von Gas, das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegeben wird, wenigstens gleich 40 % des gesamten (NTP)-Volumens von Trägergas, das mit den Tröpfchen abgegeben wird.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird die Beschichtung auf der Unterlage mit einer Volumengeschwindigkeit von wenigstens 6 cm³/min gebildet. Durch geeignete Wahl der Volumengeschwindigkeit der Strömung des Beschichtungs-Vorläufermaterials können so hohe Raten der Schichtmaterialbildung auf dem Glasband leicht erreicht werden unter gleichzeitiger Erzielung sehr guter optischer Qualitäten.

Die Erfindung ist hauptsächlich dafür vorgesehen, Beschichtungen von wenigstens 7 00 nm Dicke zu erzeugen und die Menge an pro Zeiteinheit versprühtem Vorläufermaterial wird vorzugsweise entsprechend gesteuert. Gemäß bevorzugten

Ausführungsformen der Erfindung wird eine Beschichtung von wenigstens 700 nm Dicke und von mindestens 2 m Breitenausdehnung auf einem frisch erzeugten Band aus heißem Glas, das sich mit einer Geschwindigkeit von wenigstens 4,5 m/min durch die Beschichtungsstation bewegt, gebildet. Dies sind recht harte Bedingungen und ganz allgemein kann gesagt werden, daß die bekannten Verfahren nicht imstande sind, derartigen Bedingungen nachzukommen, es sei denn, daß ein sehr reaktives Vorläufermaterial versprüht wird. Das erfindungsgemäße Verfahren vermag diese Bedingungen zu erfüllen unter Bildung qualitativ guter Beschichtungen, selbst aus relativ wenig reaktiven Vorläufermaterialien, zum Beispiel wäßrigen Lösungen anorganischer Substanzen.

Die bei einer bestimmten Verfahrensweise erhaltene Schichtbildungsrate wird durch die Temperaturbedingungen, welche einen Einfluß auf die Schichtbildungsreaktion ausüben, beeinflußt. Innerhalb bestimmter Grenzen kann die Schichtbildungsrate und in einigen Fällen die BeSchichtungsqualität gesteigert werden durch Erhöhung der Temperatur, die das Glas in der Beschichtungsstation hat. Gemäß bestimmter vorteilhafter Ausführungsformen der Erfindung wird die Temperatur des Glases vor der Beschichtung erhöht durch Erhitzen des Glases in einer thermischen Konditionierungsstation zwischen der Beschichtungsstation und der Einrichtung, in welcher das Glasband gebildet wird. In dieser thermischen Konditionierungsstation kann das Glasband über seine gesamte Breite erhitzt werden, jedoch in unterschiedlicher Weise, um Temperaturgradienten in Querrichtung zum Band zu vermindern oder auszuschalten, wie dies in der angegebenen GB-PS 2 078 710A beschrieben ist.

Es bringt bestimmte Vorteile mit sich, eine Oberflächenschicht des Glasbandes auf der zu beschichtenden Seite entweder ausschließlich oder in einem höheren Maße als den Rest der Glasdicke zu erhitzen in einer der Beschichtungsstation vorgeschalteten thermischen Konditionierungsstation längs des Weges, den das Band zurücklegt. Das Erhitzen der

1 Oberflächenschicht reicht aus, um die Dicke oder die Dicke und die Qualität der Beschichtung zu beeinflussen. Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens erweist es sich daher als besonders vorteilhaft, die angegebene Oberflächenschicht auf eine höhere Temperatur zu erhitzen als den Rest der Glasdicke, bevor das Band in die Beschichtungsstation eintritt. Zum Zwecke des Erhitzens dieser Oberflächenschicht wird diese Seite des Glasbandes einem oder mehreren Strahlheizern ausgesetzt, die eine Schwarzkörpertemperatur unterhalb 1100 ⁰C haben. Die von einem Heizstrahler mit einer Schwarzkörpertemperatur unterhalb 1100 ⁰C emittierte Strahlungshitze wird von dem Glas stark absorbiert so daß praktisch die gesamte einfallende Strahlungsenergie durch eine dünne Oberflächenschicht absorbiert wird.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann aufeinanderfolgende thermische Konditionierungsbehandlungen vor der Beschichtungsoperation umfassen. Gemäß dem Gegenstand der GB-Patentanmeldung 83 13 283 kann eine thermische Konditionierzone vorliegen, in der Temperaturgradienten quer zum Band vermindert und wenn möglich ausgeschaltet werden, sowie eine nachfolgende thermische Konditionierzone, in der Hitze ausschließlich oder praktisch ausschließlich auf eine Oberflächenschicht des Glases auf der zu beschichtenden Seite aufgebracht wird, indem diese Seite einem oder mehreren Strahlheizern in der oben angegebenen Weise ausgesetzt wird. Bei Anwendung dieser Verfahrensweise kann das Temperaturprofil durch die Dicke des Glases nach der Beschichtungsstufe hochgradig so sein, wie es wäre, wenn die Oberflächenerhitzung und die Beschichtungsstufe weggelassen werden. Dies ist von Vorteil, weil dann, wenn die Zusammensetzung oder die Dicke der Beschichtung modifiziert werden soll oder auch, wenn das Beschichten des Glasbandes beendet werden soll, dies dadurch erfolgen kann, daß die Zulieferung des Beschichtungsmaterials gestoppt und der oder die Oberflächenerhitzer abgeschaltet werden, und unter solchen Umständen bedarf eine nachfolgende Temperungseinrichtung keiner oder nur einer geringfügigen Einstellung. Wie leicht einzusehen, übt das

Sprühen des Beschichtungsvorlaufermaterials einen Kühleffekt auf die beschichtete Seite des Bandes aus, der bei Wegfall der Oberflächenerhitzungsstufe durch die Dicke des Glases einen Temperaturgradienten erzeugen würde, dessen Steilheit dazu neigt, mit der Volumengeschwindigkeit der Strömung des versprühten Materials und des Trägergases sich zu erhöhen. Die Anwendung der Oberflächenerhitzungsstufe bedingt daher einen besonderen Vorteil, wenn bei hohen Schichtbildungsraten gearbeitet wird.

Die Temperaturbedingungen, welche die Schichtbildungsreaktionen beeinflussen, umfassen auch die Temperatur der versprühten Tröpfchen. Das Ausmaß, bis zu welchem das Vorläufermaterial vor dessen Versprühen (wenn überhaupt) erhitzt wird, kann daher als ein Steuerungsfaktor eingesetzt werden, der es ermöglicht, die Dicke und in einigen Fällen möglicherweise auch die Qualität der gebildeten Schicht innerhalb bestimmter Grenzen zu variieren.

Gemäß bestimmten vorteilhaften Ausführungsformen der Erfindung weist das Gas, das in die Atmosphäre hinter dem oder die Tröpfchenströme abgegeben wird, um den vorwärts gerichteten Fluß des Gases zur Umhüllung der rückwärtigen Hälfte des oder jedes Tröpfchenstromes aufrecht zu erhalten, eine solche Temperatur auf, daß der Gasfluß die Temperatur der • Tröpfchen des oder der Ströme auf ihrem Weg zur Unterlage beeinflußt. Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens in dieser Weise macht vom Gegenstand der GB-PS 2 068 934A Gebrauch.

Das Glas kann bis zu einem solchen Ausmaß vorerhitzt werden, daß der Gasfluß heizend wirkt oder das Abkühlen der versprühten Tröpfchen vermindert mit dem Ergebnis, daß die gebildete Schicht dicker ist als sie anderweitig wäre. Wahlweise kann das Gas bei einer solchen Temperatur abgegeben werden, daß der Gasfluß einen Kühleffekt auf die Tröpfchen ausübt. Ganz allgemein kann gesagt werden, daß ein solcher Kühleffekt zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens nicht

erforderlich ist, doch können sich Umstände ergeben, in denen er mit Vorteil genützt werden kann, zum Beispiel zum Zwecke einer gesteuerten Verminderung der Schichtdicke, wenn sich herausstellt, daß diese zu Beginn größer als erforderlieh ist, oder beim übergang von einer Beschichtungsspezifikation zur anderen. Um eine gleichförmige Beschichtung der Unterlage zu fördern, erweist es sich als zweckmäßig, daß die Auftreffzone des oder jedes Tröpfchenstroms auf der Unterlage eine beträchtliche Länge, gemessen längs des Weges des Glasbandes, aufweist. Diesbezüglich wird es bevorzugt, daß der oder jeder Tröpfchenstrom auf dem Band in einem ziemlich flachen spitzen Winkel auftrifft. Aus diesem Grunde und unter Berücksichtigung praktischer Erwägungen der Vorrichtungskonstruktion wird es bevorzugt, daß die Achse des oder jedes Tröpfchenstroms einen Winkel von zwischen 20° und 40° mit dem Glasband bildet.

Vorzugsweise bildet wenigstens etwas des hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebenen Gases einen Strahl, der gegen das Band derart gerichtet ist, daß die Achse des Strahls mit dem Band einen Winkel bildet, der nicht geringer ist als ein Wert gleich 10° weniger als der Winkel zwischen dem Band und der Achse eines solchen Tröpfchenstroms. Diese Bedingung erwies sich als vorteilhaft zur Erzielung guter Resultate bei einer sehr kompakten räumlichen Anordnung der Gasabgabe- und Sprühdüsen. So ist es zum Beispiel zweckmäßig, daß die Achse eines derartigen Gasstrahls mit dem gleichen Winkel auf das Band auftrifft wie die Achse des Tröpfchenstroms oder bei einem steileren Winkel (zum Beispiel steiler um bis zu 20°) als die Achse dieses Tröpfchenstroms.

Vorzugsweise trifft das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebene Gas auf das Band in einer Zone oder in Zonen auf, die nahe der Rückseite der Auftreffzone dieses oder dieser Tröpfchenströme auf dem Band liegen oder diese überlappen. Es erfolgt dann keine unnötige Vernichtung der kinetischen Energie des abgegebenen Gases, bevor es seine entscheidend

wichtige Spülwirkung rund um den Tröpfchenstrom ausgeübt hat.

Das Gas kann aus einer oder mehreren schlitzähnlichen öffnungen abgegeben werden unter Bildung eines Vorhangs, der sich über die gesamte Breite des Bandweges oder fast in solcher Weise erstreckt, doch hätte dies aufgrund der erforderlichen Gasgeschwindigkeit die Abgabe einer sehr großen Menge Gas zur Folge. Um die Menge an ausgestoßenem Gas zu vermindern, erweist es sich als vorteilhaft, das Gas aus einer oder mehreren Düsen abzugeben, die so versetzt werden, daß sie den Bandweg synchron mit dem oder jedem Tröpfchenstrom wiederholt überqueren. So kann zum Beispiel das Gas praktisch symmetrisch unterhalb dieses oder eines entsprechenden Tröpfchenstroms abgegeben werden und vorzugsweise wird so verfahren.

Gemäß vorteilhaften Ausführungsformen der Erfindung wird das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebenen Gas aus einer einzigen querlaufenden Düse, zum Beispiel einer Düse mit einer schlitzähnlichen Abgabeöffnung, und vorzugsweise einer Düse zur Erzeugung eines fächerartigen Strahls, ausgestoßen. Ein wirksamerer Gasabgabeverlauf wird jedoch erzielt, wenn nach einer bevorzugten Ausführungsform das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebene Gas aus einer Mehrzahl von querlaufenden Düsen ausgestoßen wird, die praktisch symmetrisch bezüglich einer Ebene verteilt sind, welche die Achse eines solchen Tröpfchenstroms umfaßt. Durch Abgabe des Gases aus einer Mehrzahl von Düsen ist es leichter, Gasströme zu erzeugen, die in einer sehr wirksamen Art und Weise eine bestimmte Richtung in bezug auf den Tröpfchenstrom haben. Demzufolge kann ein bestimmter Effekt unter Verwendung eines geringeren Gasvolumens erzielt werden, als wenn ein einziger großer Strahl zum Einsatz gelangt.

Außerdem sind die Gasströme relativ einstellbar. Die am meisten bevorzugte Verfahrensweise, die sich als diejenige erwiesen hat, die zu den besten Ergebnissen führt, ist die Abgabe des Gases von einer Gruppe von drei Dür.en, wobei <üc:;e

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Gruppe eine mittlere Düse umfaßt, deren Achse in oder nahe der angegebenen Ebene liegt, und einem Paar von äußeren Düsen, die auf jeder Seite einer solchen mittleren Düse angeordnet sind.
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Bei Verwendung eines derartigen Dreifach-Gasstrahls bildet die Achse des mittleren Gasstrahls, das heißt des aus der mittleren Düse austretenden Strahls mit dem Band vorzugsweise einen Winkel, der zwischen 10° geringer und 20° größer ist als der Winkel zwischen dem Band und der Achse des zugehörigen Tröpfchenstroms. Dieser Bereich ist aus empirischen Daten abgeleitet, die erkennen lassen, daß diese Beziehung zwischen den Neigungswinkeln des mittleren Gasstrahls und des Tröpfchenstroms dazu beitragen, daß der maximale Nutzen aus der Erfindung gezogen werden kann. Dieses anzustrebende Ergebnis kann weiter dadurch gefördert werden,daß die äußeren Strahle so gerichtet werden, daß deren Achsen mit dem Band einen Winkel bilden, der gleich dem oder flacher als der Neigungswinkel des mittleren Strahls ist. Dieses Merkmal findet in einigen erfindungsgemäßen Ausführungsformen Anwendung. Gemäß den bevorzugteren Ausführungsformen sind die äußeren Gasstrahlen, zu dem Glasband in einem flacheren Winkel geneigt als der mittlere Strahl. Der flachere Winkel gibt den äußeren Gasstrahlen ein größeres Vorwärts-Momentum, das deren Effektivität vergrößert.

Ein weiterer Faktor, der die Wirkung der Gasströme in einer Dreifach-Strahlanordnung beeinflußt, ist die räumliche Beziehung zwischen den Zonen, in denen die ausgestoßenen Bahnen der Gasströme auf das Band auftreffen. Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, wenn die aus den äußeren Düsen austretenden Gasströme auf das Band in Zonen auftreffen, die sich nach vorwärts über die Auftreffzone des Gasstroms erstrecken, welcher von der mittleren Düse austritt.

Um das Säubern der Atmosphäre und der Unterlage auf beiden Seiten des Tröpfchenstroms zu fördern, erweist es sich als zweckmäßig, daß die Gasströme, die aus den äußeren Düsen

austreten, nach vorwärts um zwischen 5 und 15° von einer Ebene divergieren, welche die Achse des zugehörigen Tröpfchenstroms und die Achse des mittleren Gasstrahls umfaßt. In einigen Ausführungsformen der Erfindung wird von einer divergierenden Richtung der äußeren Gasströme Gebrauch gemacht. Gemäß bevorzugten Ausführungsformen gehen jedoch die äußeren Gasströme nach vorwärts gegen diese Ebene zusammen. Eine derartige konvergierende Anordnung erfordert einen größeren Platzbedarf zur Unterbringung der Gasabgabedüsen, sie führt jedoch zu einer effizienteren Wirkung der Gasströme beim Mitreißen von Spritzern des Beschichtungsmaterials.

Wenn das hinter dem oder jedem Tröpfchenstrom abgegebene Gas von einer Mehrzahl von Gasabgabedüsen des oben angegebenen Typs ausgestoßen wird, können diese Düsen so angeordnet sein, daß deren Achsen in einer gemeinsamen Ebene liegen.

Es erweist sich als besonders vorteilhaft, daß dann, wenn eine Mehrzahl von Gasströmen hinter den oder jeden Tropfchenstrom abgegeben wird, derartige Ströme diese Ströme vor deren Auftreffen auf das Band unter Bildung eines kontinuierlichen Gasvorhangs zusammenlaufen.

Vorzugsweise haben die hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebenen Gasströme sich gegenseitig überlappende Auftreffzonen auf dem Band, die sich hinter der Auftreffzone des Tröpfchenstroms befinden oder sich mit dieser überlappen.

Die Erfindung betrifft ferner die im Vorrichtungs-Hauptan- QQ spruch angegebene Vorrichtung. Diese Vorrichtung umfaßt vorzugsweise eines oder mehrere der folgenden wahlweisen Merkmale:
(i) Die Achse der oder jeder Sprühabgabedüse bildet einen

Winkel zwischen 20° und 40° mit dem Weg des Bandes, gg (ii) Wenigstens eine der Gasabgabedüsen ist mit ihrer Achse in einem Winkel zum Weg des Bandes angeordnet, der gleich oder größer ist als ein Wert gleich 10° weniger als der Winkel zwischen diesem Weg und der Achse der zugeordneten Sprühabgabedüse.

(iii) Die Gasabgabedüsen sind praktisch symmetrisch bezüglich einer Ebene angeordnet, welche die Achse dieser Sprühabgabedüse umfaßt.

(iv) Es ist eine Gruppe von drei Gasabgabedüsen vorgesehen, wobei diese Gruppe eine mittlere) Düse umfaßt, deren Achse in oder nahe zu einer Ebene liegt, welche die Achse der Sprühabgabedüse umfaßt, und ein Paar äußerer Düsen, die an jeder Seite dieser mittleren Düse angeordnet sind.

(v) Bei Vorliegen einer Gruppe von Gasabgabedüsen des in (iv) angegebenen Typs nimmt die Achse der mittleren Düse mit dem Weg des Bandes einen Winkel ein, der zwischen 10° weniger und 20° mehr als der Winkel zwischen dem Weg des Bandes und der Achse der Sprühabgabedüse beträgt, und vorzugsweise nehmen die Achsen der

äußeren Düsen mit dem Weg des Bandes einen Winkel ein, der gleich oder geringer ist als der Winkel zwischen diesem Weg des Bandes und der Achse der mittleren Düse, (vi) Bei Vorliegen einer Gruppe von Gasabgabedüsen des in (iv) oder (v) angegebenen Typs gehen die Achsen der äußeren Düsen nach vorwärts, um zwischen 5° und 15° von dieser Ebene, welche die Achse der Sprühabgabedüse umfaßt, auseinander.

(vii) Bei Vorliegen einer Gruppe von Gasabgabedüsen des in (iv) oder (v) angegebenen Typs gehen die Achsen der äußeren Düse gegen diese Ebene, welche die Achse der Sprühabgabedüse umfaßt, zusammen, (viii) Die Gasabgabedüsen sind in solcher Weise angeordnet, daß deren Achsen praktisch in einer gemeinsamen Ebene liegen.

(ix) Es sind Einrichtungen zur Erhitzung des Gases vor dessen Abgabe durch die Gasabgabedüsen vorgesehen.

Eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung wird durch die beigefügte Zeichnung näher veranschaulicht, in der darstellen:

Fig. 1 und 2 schematische Wiedergaben der Abgabe von Beschichtungs Vorläufermaterial und Gas, und Fig. 3 ein Vertikalschnitt einer Ausführungsform der

erfindungsgemäßen Beschichtungsvorrichtung. 5

In den Fig. 1 und 2 wird ein Strom 1 von Tröpfchen aus Beschichtungsvorläufermaterial aus einer eine öffnung 2 aufweisenden Düse gegen den Weg 3 eines Bandes aus heißem Glas gesprüht. Das Glas bewegt sich längs des Weges 3 in der Vorwärtsrichtung, die durch den Pfeil 4 in Fig. 1 bezeichnet ist. Der Tröpfchenstrom 1 trifft den Weg 3 des Bandes über einer elliptischen Auftreffzone 5, die wiederholt die Breite des Bandweges überquert. Der Tröpfchenstrom 1 wird mit ausreichender Geschwindigkeit versprüht, um ein Verspritzen zu verursachen. Um die in Vorwärtsrichtung 4 verspritzten Tröpfchen wegzureißen und abzuführen, wird Gas von rückwärts hinter dem Tröpfchenstrom abgegeben. Wie aus Fig. 2 ersichtlich, werden drei Gasströme, deren Achsen mit 6, 7 bzw. 8 bezeichnet sind, von den Gasabgabedüsenöffnungen 9, 10, 11 abgegeben unter Bildung eines vorwärts gerichteten Stroms von Gas, das auf dem Bandweg 3 an den Auftreffzonen 12, 13 und 14 auftrifft, wobei mindestens ein Teil desselben direkt hinter der Tröpfchenstrom-Auftreffzone 5 liegt, so daß die hintere Hälfte 15 dieser Zone wenigstens am Bodenteil seiner Flugbahnvom Gas umhüllt wird, das vom Glasband abgelenkt wird.

Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführungsform der Praxis befindet sich die Sprühdüsenöffnung 2 60 cm oberhalb des Bandweges, wobei die Achse 16 in der Vorwärtsrichtung 4 in einem Winkel von 30° auf den Transportweg 3 eingestellt ist. Die Gasabgabedüsenöffnungen 9, 10, 11 sind 7 cm vor und 23,5 cm unterhalb der Sprühdüsenöffnung 2 vorgesehen. Die Achsen 6, 7, 8 der Gasdüsenöffnungen sind koplanar in einer Ebene von 45° zur Horizontalen. Die Achse 7 der mittleren Gasdüsenöffnung 10 ist in Vorwärtsrichtung 4 eingestellt und so angeordnet, daß ein flacher fächerförmiger Strahl mit einer Breitenstreuung von 53° in der Ebene

der Gasdüsenachse abgegeben wird. Der horizontale Abstand zwischen jeder der seitlichen Düsenöffnungen 9 und 11 und eine vertikale Ebene, welche die Achse 7 der mittleren Gasabgabeöffnung 10 umfaßt, beträgt 9 cm und jede der seitliehen Düsenachsen 6, 8 divergiert um 9° von der Achse 7 der mittleren öffnung in der Ebene dieser Achsen. Jede der beiden seitlichen Düsen ist so angeordnet, daß sie einen runden Gasstrom von 20° abgeben. Die gesamte Zone der Gasauftreff-Flächen 12, 13, 14 auf dem Bandweg ist somit wenigstens zweimal so breit wie die Auftreffzone 5 des Tröpfchenstroms 1 .

Gemäß Figur 3 wird ein kontinuierliches Band von Flachglas 17 längs eines Weges 3 in einer Vorwärtsrichtung 4 mit Hilfe von Transportrollen 18 durch eine Beschichtungsstation 19 in einen Tunnel mit einer Decke 20 und einem Boden 21 bewegt. Die Tunneldecke 2 0 weist einen in Querrichtung verlaufenden Schlitz 22 auf und auf jeder Seite desselben läuft eine Schiene 23, die einen Schlitten 24 trägt, auf dem ein Sprühkopf 25 zum Versprühen von Tröpfchen aus Beschichtungsvorläufermaterial und eine Gasabgabeeinrichtung 2 6 zur Abgabe von Gas, wie dies im Zusammenhang mit den Figuren 1 und 2 beschrieben ist, montiert ist. Abgase werden durch einen Schacht abgesaugt.

Beispiel 1

Es sollte ein frisch gebildetes Band aus Floatglas mit einer mit Dopingmittel versehenen Zinnoxidschicht hergestellt werden, um dann aus diesem Band Glasscheiben mit Infrarotabschirmenden Eigenschaften gewinnen zu können.

Um dies zu bewerkstelligen, wurde eine Beschichtungsstation des in Fig. 3 veranschaulichten Typs zwischen dem Ausgang aus dem Schwimmtank und dem Eingang zum Kühlkanal vorgesehen, so daß das Band durch Pyrolyse beschichtet werden konnte, während es noch heiß war. Die Sprüheinrichtung und die Gasabgabeeinrichtung in dieser Beschichtungsstation

waren so ausgestaltet, daß ein Tropfchenstrom und ein dreistrahliger Gasstrom des in Fig. 2 dargestellten Typs gebildet wurden, wobei die relative Lage zueinander und die Winkel der Sprüh- und Gasabgabedüsen sowie die Formen und Beziehungen der Gasstrahl-Auftreffzonen der oben im Zusammenhang mit Fig. 2 beschriebenen praktischen Ausführungsform entsprachen.

Das Band war 2,5 m breit, 6 mm dick und bewegte sich durch die Beschichtungsstation mit einer Geschwindigkeit von etwa 8,5 m/min, wobei seine mittlere Temperatur etwa 600 ⁰C betrug.

Eine Lösung aus SnCIp^ELO, NH.HF„ und Wasser wurde hergestellt.

Zur Bildung einer 750 nm dicken Beschichtung wurde diese Beschichtungsvorläuferlösung mit einer Beschichtungsrate von 165 l/h durch eine Zerstäuberdüse versprüht unter Verwendung von Luft als Trägergas, die mit 250 Nm³/h unter einem Überdruck von 14 bar eingespeist wurde, während die Düse in Querrichtung zur Laufrichtung des Bandes mit einer Frequenz von 25 Zyklen pro Minute hin- und herbewegt wurde. Diese Sprühgeschwindigkeit reichte aus, um ein beträchtliches Verspritzen beim Auftreffen des Tröpfchenstroms auf dem Glasband zu bewirken.

Um diese Tröpfchen in der Stromabwärtsrichtung gegen den Absaugschicht mitzureißen, so daß ein Teil der Oberfläche des Bandes zumindest zu dem Zeitpunkt, bevor es das erste Mal vom Tröpfchenstrom als solchem bestrichen wird, mit ihnen nicht in Kontakt gelangt, wurde Luft aus der mittleren Düse 10 mit einer Volumengeschwindigkeit von 90 Nm³/h und von jeder der äußeren Düsen 9, 11 mit einer Vqlumengeschwindigkeit von 45 Nm³/h, was einer Gesamtvolumengeschwindigkeit der Strömung von 180 Nm³/h entsprach, abgegeben. Die Luft wurde unter einem Überdruck von 4,4 bar abgegeben. Diese Abgabe von Gas aus den drei Düsen verhinderte praktisch,

-2 δ-daß beim Verspritzen gebildete Streutröpfchen mit dem Band in Kontakt gelangten. Die gebildete Beschichtung wurde geprüft und es zeigte sich, daß sie von guter optischer Qualität war. Bei der Durchführung dieses Beispiels wurde Luft den Gasabgabedüsen bei einer Temperatur von 20-25 ⁰C zugeführt. Die Luft könnte allerdings auch vorerhitzt werden unter Erzielung gleichguter Ergebnisse.

Beispiel 2

Ein frisch gebildetes Band aus Glas von 2,5 m Breite, das mit 7 m/min vorwärts bewegt wurde, wurde in einer Beschichtungsstation, die mit Sprüh- und Gasabgabeeinrichtungen, wie sie in Beispiel 1 zur Anwendung gelangten, ausgestattet war, beschichtet. Bei der Durchführung dieses Beispiels war, ebenso wie in Beispiel 1, die Sprühdüsenöffnung 60 cm oberhalb des Bandweges angebracht und deren Achse umschloß mit dem Bandweg einen Winkel von 30°, und die Öffnungen 9, 10, 11 der Gasabgabedüsen waren 7 cm vor und 23,5 cm unterhalb der Sprühdüsenöffnung 2 vorgesehen. Die Achse 7 des mittleren Gasstrahls hatte jedoch die gleiche Neigung (30°) auf das Glasband wie die Achse 16 des Tröpfchenstroms, der horizontale Abstand zwischen jeder der äußeren Gasabgabeöffnungen 9 und 11 und einer vertikalen, die Achse der mittleren Gasabgabeöffnung 10 umfassenden Ebene betrug 44 cm, und jede der äußeren Gasabgabedüsen war so eingestellt, daß deren Achse eine Neigung von 10° auf das Glasband hatte und nach vorwärts zusammenlief gegen die vertikale Ebene, welche die Achse der mittleren Düse umfaßte, die mit dieser Ebene einen Winkel von 15° einschloß.

Eine Lösung von Beschichtungsvorläufermaterial, wie es in Beispiel 1 zur Anwendung gelangte, wurde mit einer Rate von 165 l/h versprüht, unter Verwendung von Luft als Trägergas, die mit 270 Nm³/h unter einem Überdruck von 14,5 bar eingespeist wurde, während die Düse quer zur Laufrichtung des Bandes mit einer Frequenz von 25 Zyklen pro Minute hin- und herversetzt wurde. Unter diesen Bedingungen erfolgte

ein Verspritzen des versprühten Materials von der Bandoberfläche.

Luft wurde unter einem überdruck von 3 bar von der mittleren Düse 10 mit einer Volumengeschwindigkeit von 61 Nm³/h und von jeder der äußeren Düsen 9 und 11 mit einer Volumengeschwindigkeit von 45 Nm³/h abgegeben.

Die gebildete Beschichtung wurde geprüft und es zeigte sich, daß sie von guter optischer Qualität war.

Beispiel 3

Die in Beispiel 2 beschriebene Verfahrensweise wurde wiederholt, jedoch unter Anwendung folgender Modifikationen. Die äußeren Gasabgabedüsen wurden in einem horizontalen Abstand von 63 cm von der die mittlere Gasabgabedüse umfassenden vertikalen Ebene versetzt und so geneigt, daß die Achse jeder dieser äußeren Düsen gegen diese mittlere vertikale Ebene mit einem eingeschlossenen Winkel von 2 0° zusammenlief und eine Neigung von 20° gegen das Glasband hatte; außerdem wurde Luft von jeder dieser äußeren Düsen mit einer Volumengeschwindigkeit von 35 Nm³/h unter einem überdruck von 2 barabgegeben und zu diesem Zweck wurden die äußeren Düsen unabhängig von der mittleren Gasabgabedüse mit Luft beschickt. Wie im Beispiel 2 wurde Luft aus der mittleren Düse mit 61 Nm³Vh unter einem Überdruck von 3 bar abgegeben. Es wurde ein Überzug mit guter optischer Qualität gebildet.

Claims

Patentansprüche

1. verfahren zur Bildung eines Überzuges aus einem Metall oder

ner Metallverbindung auf einer Seite eines frisch gebildeten Bandes von heißem Glas bei dessen Vorwärtsbewegung in einer gegebenen Richtung (im folgenden mit "vorwärts" bezeichnet) durch eine Beschichtungsstation, wobei man diese Seite in der Station mit einem Überzugsvorläufermaterial besprüht, aus welchem dieser Überzug aus Metall oder Metallverbindungen auf dieser Seite gebildet wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Beschichtungsvorläufermaterial in Form von zumindest einem Strom von Tröpfchen gesprüht wird, der nach unten und vorwärts gegen das Glasband gerichtet ist und

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Isartorplatz 6 D-8000 München 26 Muefaopat 089/2214 83-7 GII+ III (089)22 96 43 5-24285

wiederholt in Querrichtung zur Laufrichtung des Bandes versetzt wird, so daß diese Bandseite fächerartig vom Strom oder den Strömen der Tröpfchen bestrichen wird, die Geschwindigkeiten der Tröpfchen in diesem Strom oder Strömen so sind, daß ein beträchtliches Verspritzen von Material von dieser Bandseite erfolgt, Gas kontinuierlich in die Atmosphäre hinter dem Strom oder den Strömen von Tröpfchen abgegeben wird und so ein nach vorwärts gerichteter Strom von Gas aufrechterhalten wird, der die hintere Hälfte des oder jedes Stroms von Tröpfchen wenigstens am Bodenteil der Flugbahn des Stroms umhüllt und an den Seiten des Stroms oder der Ströme mit ausreichender Geschwindigkeit vorbeispült, um praktisch alle Spritzer vom Strom wegzureißen und dieses weggerissene Material dann von der Umgebung des Bandes entfernt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Sprühtröpfchen aus dem Beschichtungsvorläufermaterial in wäßriger Lösung bestehen.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,

daß das Beschichtungsvorläufermaterial, wenigstens so wie es in den Tröpfchen vorliegt, anorganisches Material ist.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Tröpfchen eine wäßrige Lösung einer Zinnverbindung umfassen.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da-QQ durch gekennzeichnet, daß das Material, welches den oder jeden Tröpfchenstrom bildet, unter einem Überdruck von wenigstens 10 bar versprüht wird.

6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Tröpfchen des oder jedes Tröpfchenstroms eine mittlere Geschwindigkeit aufweisen, welche wenigstens Schallgeschwindigkeit ist.

7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die gesamte Volumengeschwindigkeit der Strömung des Gases in die Atmosphäre hinter dem oder den Tröpfchenströmen wenigstens 130 Nm³/h beträgt.

8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das gesamte (NTP)-Volumen
von Gas, das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegeben wird, wenigstens gleich 40 % des gesamten (NTP)-Volumens von Trägergas ist, das mit den Tröpfchen abgegeben wird.

9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung auf der Unterlage mit einer Volumengeschwindigkeit von wenigstens
6 cm³/min gebildet wird.

10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge an Vorläufermaterial, die pro Zeiteinheit versprüht wird, derart ist, daß der gebildete Überzug eine Dicke von wenigstens 700 nm hat.

11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Geschwindigkeit des Glasbandes durch die Beschichtungsstation wenigstens 4,5 Meter pro Minute und die

Breitenausdehnung der Beschichtung über das Band wenigstens 2 Meter betragen.

12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da-Q₀ durch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Glases vor der Beschichtung erhöht wird, indem das Glas in einer thermischen Konditionierungsstation zwischen der Beschichtungsstation und der Einrichtung, in welcher das Glasband gebildet wird, erhitzt wird.

13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine Oberflächenschicht des Glasbandes auf der zu beschichtenden Seite auf eine

höhere Temperatur erhitzt wird als der Rest der Glasdicke, bevor das Band in die Beschichtungsstation eintritt.

14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß diese Oberflächenschicht erhitzt wird, indem man diese Seite des Glasbandes einem oder mehreren Strahlheizern aussetzt, die eine Schwarzkörpertemperatur unterhalb 1100 ⁰C hat bzw. haben.

15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des in die Atmosphäre hinter dem oder die Tröpfchenströme abgegebenen Gases so ist, daß das nach vorwärts strömende Gas die Temperatur der Tröpfchen des oder der Ströme auf ihrem Weg zur Unterlage beeinflußt.

16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Achse des oder jedes Tröpfchenstroms einen Winkel von zwischen 20 und 40° mit dem Glasband bildet.

17. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens etwas des hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebenen Gases einen Strahl bildet, der gegen das Band derart gerichtet ist, daß die Achse des Strahls mit dem Band einen Winkel bildet, der nicht geringer ist als ein Wert gleich 10° weniger als der Winkel zwischen dem Band und der Achse eines solchen Tröpfchenstroms.

18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß

das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebene Gas auf das Band in einer Zone oder Zonen auftrifft, die nahe der Rückseite der Auftreffzone dieses oder dieser Tröpfchenströme auf dem Band liegen oder diese überlappen.

19. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das hinter dem oder jedem Tröpfchenstrom abgegebene Gas von einer Gasauslaßdüse oder Gasauslaßdüsen abgegeben wird, die so versetzt werden, daß sie den Bandweg synchron mit einem solchen Tropfchenstrom überqueren.

20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebene Gas aus einer Mehrzahl von querlaufenden Düsen abgegeben wird, die praktisch symmetrisch bezüglich einer Ebene verteilt sind, welche die Achse eines solchen Tröpfchenstroms umfaßt.

21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß das hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebene Gas von einer Gruppe von drei Düsen abgegeben wird, wobei diese Gruppe eine mittlere Düse umfaßt, deren Achse in oder nahe dieser Ebene liegt und ein Paar von äußeren Düsen, die auf jeder Seite einer solchen mittleren Düse angeordnet sind.

22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Achse des Gasstrahls, der aus dieser mittleren Düse austritt, mit dem Band einen Winkel bildet, der zwischen 10° geringer und 20° größer ist als der Winkel zwischen dem Band und der Achse des Tröpfchenstroms.

23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Achsen der Gasströme, die aus den äußeren Düsen austreten, mit dem Band einen Winkel bilden, der gleich dem oder geringer als der Winkel zwischen diesem Band und der Achse des Gasstroms aus der mittleren Düse ist.

24. Verfahren nach einem der Anprüche 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die aus den äußeren Düsen austretenden Gasströme auf das Band in Zonen auftreffen, die sich nach vorwärts über die Auftreffzone des Gasstromes

-6-erstrecken, welcher von der mittleren Düse austritt.

25. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß die Achsen der Gasströme, die aus den äußeren Düsen austreten, nach vorwärts um zwischen 5° und 15° von dieser Ebene divergieren, welche die Achse des Tröpfchenstroms umfaßt.

26. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß die Achsen der Gasströme, die aus den äußeren Düsen austreten, nach vorwärts gegen diese Ebene zusammengehen, welche die Achse des Tröpfchenstroms umfaßt.

27. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß die Mehrzahl von Gasströmen, die hinter dem oder jedem Tröpfchenstrom austreten, vor ihrem Auftreffen auf das Band unter Bildung eines kontinuierlichen Gasvorhangs zusammenlaufen.

28. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 27, dadurch

gekennzeichnet, daß die Mehrzahl der hinter den oder jeden Tröpfchenstrom abgegebenen Gasströme sich gegenseitig überlappende Auftreffzonen auf dem Band haben, die hinter der Auftreffzone des Tröpfchenstroms liegen oder diese überlappen.

29. Vorrichtung zur Bildung eines Überzugs aus Metall oder Metallverbindungen auf einer Seite eines erhitzten Glas-

QQ bandes während es in einer gegebenen Richtung (im folgenden mit "vorwärts" bezeichnet) entlang eines gewissen Weges wandert, wobei diese Vorrichtung Einrichtungen zur Bewegung eines Bandes längs dieses Weges und wenigstens eine Sprühdüse, die in einer Beschichtungs-Station auf diesem Weg zum Sprühen von Beschichtungsvorläufermaterial auf dieses Band hat, dadurch gekennzeichnet, daß eine solche Sprühabgabedüse vorliegt, die zur Abgabe eines Stroms von Tröpfchen nach unten und

vorwärts gegen das Band angeordnet ist, eine Gasabgabevorrichtung vorliegt, welche eine Mehrzahl von Gasabgabedüsen umfaßt, die in Verbindung mit dieser Sprühabgabedüse angeordnet sind und Gasströme in die Atmo-Sphäre hinter diese Tröpfchenströme abgeben, wobei diese Gasabgabedüsen so gerichtet und relativ angeordnet sind, daß Gasstrahlen daraus miteinander einen Gasstrom bilden können, welcher die hintere Hälfte dieses Tröpfchenstroms wenigstens am Bodenteil der Flugbahn des Stroms umhüllt und um die Seiten eines solchen Stroms nach vorwärts spült und ein Mechanismus vorhanden ist, der dieses Sprühabgabedüse versetzt und bewirkt, daß der Tröpfchenstrom wiederholt den Bandweg überquert und diese Gasabgabedüsen synchron mit den Sprühabgabedüsen versetzt.

30. Vorrichtung nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß die Achse dieser Sprühabgabedüse sich in einem Winkel von zwischen 20° und 40° zu diesem Weg des Bandes befindet.

31. Vorrichtung nach Anspruch 29 oder 30, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine der Gasabgabedüsen mit ihrer Achse in einem Winkel zum Weg des Bandes angeordnet ist, der gleich oder größer ist als ein Wert gleich 10° weniger als der Winkel zwischen diesem Weg und der Achse der zugeordneten Sprühabgabedüse.

32. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 29 bis 31, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasabgabedüsen praktisch symmetrisch bezüglich einer Ebene angeordnet sind, welche die Achse dieser Sprühabgabedüse umfaßt.

33. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 29 bis 32, dadurch gekennzeichnet, daß eine Gruppe von drei dieser Gasabgabedüsen vorliegen, wobei diese Gruppe eine mittlere Düse umfaßt, deren Achse in oder nahe zu einer Ebene liegt, welche die Achse der Sprühabgabedüse umfaßt und

_Q _
O

ein Paar äußerer Düsen, die an jeder Seite dieser mittleren Düse angeordnet sind.

34. Vorrichtung nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß die Achse dieser mittleren Düse mit dem Weg des Bandes einen Winkel einnimmt, der zwischen 10° weniger als und 20° mehr als der Winkel zwischen dem Weg des Bandes und der Achse der Sprühabgabedüse beträgt.

35. Vorrichtung nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, daß die Achsen der äußeren Düsen mit dem Weg des Bandes einen Winkel einnehmen, der gleich oder geringer ist als der Winkel zwischen diesem Weg des Bandes und der Achse der mittleren Düse.

36. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 33 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Achsen der äußeren Düsen nach vorwärts um zwischen 5° und 15° von dieser Ebene auseinander gehen, welche die Achse der Sprühabgabedüse umfaßt.

37. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 33 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Achsen der äußeren Düsen gegen diese Ebene zusammengehen, welche die Achse der Sprühabgabedüse umfaßt.

38. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 29 bis 37, dadurch gekennzeichnet, daß die Achsen der Gasabgabedüsen, die der Sprühabgabedüse zugeordnet sind, praktisch in einer gemeinsamen Ebene liegen.

39. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 29 bis 38, dadurch gekennzeichnet, daß Einrichtungen zur Erhitzung des Gases vor dessen Abgabe durch die Gasabgabedüsen vorgesehen sind.