DE3341278C2 - - Google Patents
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Description
Aus Tantalpulver hergestellte feste Tantalkondensatoren haben
zu der Miniaturisierung von elektronischen
Schaltkreisen einen großen Beitrag geliefert und die
Anwendung solcher Schaltkreise unter extremen Bedingungen
ermöglicht. Tantalpulverkondensatoren werden vorzugsweise
durch Verpressen von Tantalpulver unter Ausbildung eines Preßkörpers,
Sintern desselben in einem Ofen unter Ausbildung
eines porösen Körpers und anschließendes Durchführen einer
Anodisierung in einem geeigneten Elektrolyten unter Ausbildung
eines kontinuierlichen dielektrischen Oxidfilms auf
dem Sinterkörper hergestellt.
Die Entwicklung von Tantalpulvern, die für feste Kondensatoren
geeignet sind, steht im Zusammenhang mit Anstrengungen
sowohl der Kondensatorhersteller als auch der Tantalverarbeiter
zur Festlegung der charakteristischen Kenndaten, die
bei Tantalpulver benötigt werden, damit sie für die Herstellung
von Qualitätskondensatoren in bester Weise geeignet
sind. Solche charakteristischen Kenndaten umfassen die
Oberfläche, Reinheit, Schrumpfung, die Festigkeit des Metallpulverpreßlings
im grünen Zustand und die Fließfähigkeit.
Vor allem sollte das Pulver eine geeignete Oberflächengröße
aufweisen, da die Kapazität eine Funktion der
Oberfläche ist; je größer die Oberfläche nach dem Sintern
ist, um so größer ist die Kapazität.
Die Reinheit des Pulvers ist ebenfalls ein kritischer Punkt.
Metallische und nichtmetallische Kontamination führt zu
einer Verminderung des Dielektrikums. Hohe Sintertemperaturen
führen zur Entfernung einiger der flüchtigen Inhaltsstoffe;
höhere Temperaturen vermindern jedoch die Nettooberfläche
und damit die Kapazität des Kondensators. Die
Verminderung der Oberfläche unter den Sinterbedingungen
auf ein Minimum zu bringen, ist erforderlich, um die Kapazität
des Tantalpulvers nach Möglichkeit zu erhalten.
Die Fließfähigkeit des Tantalpulvers und die Festigkeit in
grünem Zustand (mechanische Festigkeit des gepreßten, ungesinterten
Pulvers) sind für die Kondensatorhersteller kritische
Parameter, um eine zweckentsprechende Produktion zu
gewährleisten. Die Fließfähigkeit des Pulvers ermöglicht
eine glatte Formbeschickung bei Preßverfahren hoher Geschwindigkeit;
die Festigkeit in grünem Zustand erlaubt
Handhabung und Transport des Produkts ohne übermäßigen Bruch.
Gegenwärtig werden für die Verwendung in Hochleistungskondensatoren
geeignete Tantalpulver nach ein oder zwei verschiedenen
Verfahren hergestellt. Das erste dieser Pulverherstellungsverfahren
umfaßt die Natriumreduktion von
Kaliumfluotantalat, K₂TaF₇; beim zweiten Verfahren wird
das Pulver durch Hydrierung eines geschmolzenen (vorzugsweise
lichtbogen- oder elektronenstrahl-geschmolzenen)
Tantalblocks, Vermahlen der hydrierten Chips und anschließendes
Dehydrieren hergestellt. Im allgemeinen haben natrium-
reduzierte Tantalpulver hohe Kapazitätswerte pro Gramm des
Pulvers gezeigt, wohingegen geschmolzene aus dem Rohblock
erhaltene Tantalpulver extrem sauber sind und Gehalte an
Verunreinigungen aufweisen, die um eine Größenordnung niedriger
sind als bei natriumreduzierten Pulvern. Aus dem Rohblock
erhaltene Pulver weisen vorzugsweise niedrigere
Gleichstromisolationsfehler, längere Lebensdauer und höhere
Spannungsfestigkeit auf. Wegen der hohen
Reinheit und anderer Charakteristiken werden Kondensatoren,
die aus Rohbarrenpulvern hergestellt worden sind, in Systemen
verwendet, in denen an hohe Betriebssicherheit erste Anforderungen
gestellt werden. Jedoch wäre eine ausgedehntere Anwendung
von aus Rohbarren erhaltenen Pulvern wirtschaftlich
durchführbar, wenn eine Pulverzusammensetzung entwickelt werden
könnte, die eine höhere Kapazität pro Gramm Pulver aufweisen
würde.
Die Kapazität eines Tantalpreßkörpers ist eine direkte Funktion
der Oberfläche des gesinterten Pulvers. Größere Oberflächen
können natürlich durch Steigerung der Pulvermenge in Gramm
pro Preßkörper erhalten werden, aus Kostengründen ist man jedoch
gezwungen, die Entwicklung dahingehend voranzutreiben, daß
die Oberfläche pro Gramm des verwendeten Pulvers erhöht wird.
Die die Abnahme der Teilchengröße des Tantalpulvers zu einer
größeren Oberfläche pro Gewichtseinheit führt, wurden die
Anstrengungen darauf gerichtet, die Tantalteilchen kleiner
zu machen, ohne ungünstige Charakteristiken zu übernehmen,
die oft mit einer Teilchengrößenverminderung verbunden sind.
Drei der größten Nachteile von sehr feinen Pulvern sind die
schlechten Fließcharakteristiken, hoher Sauerstoffgehalt und
eine große Oberflächenverkleinerung beim Sintern.
Bekanntlich besitzen Kondensatoren, die aus aus Rohbarren hergestellten
Tantalpulvern mit einer
Teilchengröße von weniger als etwa 10 µm hergestellt sind, sehr hohe
Kapazitäten, wenn die Preßkörper bei relativ niedrigen
Temperaturen, beispielsweise 1400-1600°C, gesintert werden.
Jedoch war der direkte Leckstrom durch den Oxidfilm bei
diesen niedrigen Sintertemperaturen unannehmbar hoch; höhere
Sintertemperaturen verminderten zwar das Leckstromproblem,
führten jedoch zu einer starken Verminderung der Kapazität.
Es wurde nun gefunden, daß durch Einmischen
eines kritischen Anteils eines speziellen geflockten, aus
Rohbarren erhaltenen Tantalpulvers in ein
granulares, aus Rohbarren erhaltenes Tantalpulver
mit einer Teilchengröße von weniger als etwa 10 µm
eine Pulverzusammensetzung erhalten wird, die vorteilhafte
Eigenschaften für die Verwendung in Kondensatoren, insbesondere eine optimale
Oberfläche, aufweist.
Gegenstand der Erfindung ist ein aus einem Rohblock erhaltenes,
agglomeriertes Tantalpulver mit einer
granularen Pulverkomponente, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es im
wesentlichen aus einem agglomerierten Gemisch von (A) 80 bis 60 Gew.-%
eines granularen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße von weniger als
10 µm und (B) 20 bis 40 Gew.-% eines geflockten Tantalpulvers mit einer
BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g besteht, wobei das Gemisch einen
Sauerstoffgehalt von weniger als 1900 ppm und eine Scott-Dichte von
mehr als 1500 kp/m³ aufweist.
Aus dem erfindungsgemäßen Tantalpulver lassen sich Preßkörper
herstellen, die, gepreßt bei 6,0 g/cm³, eine Bruchfestigkeit von
mehr als 67 N, und nach Sintern bei 1600°C eine Kapazität von mehr
als 7500 CV/g aufweisen.
Weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung des
erfindungsgemäßen Tantalpulvers, das durch die Kombination folgender Verfahrensschritte
gekennzeichnet ist:
- 1. Herstellung zweier granularer Tantalpulver-Fraktionen aus einem Rohblock, die (a) eine Teilchengröße von weniger als 10 µm und (b) eine Teilchengröße von 10 bis 44 µm aufweisen,
- 2. Zerkleinern der Fraktion (b) zu einem geflockten Pulver mit einer BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g,
- 3. Vermischen des granularen mit dem geflockten Tantalpulver und
- 4. Agglomerieren des erhaltenen Gemischs bei Temperaturen von insbesondere 1250°C bis 1550°C.
Vorzugsweise enthält das erfindungsgemäße
Tantalpulver etwa 70 Gew.-%
granulares Tantalpulver als Basis und etwa 30 Gew.-% der geflockten Tantalpulverkomponente.
Es ist bevorzugt, daß es
einen Sauerstoffgehalt von weniger als 1800 ppm und eine
Scott-Dichte von mehr als 1800 kp/m³ aufweist. Die
Bruchfestigkeit eins hieraus hergestellten, ungesinterten Preßkörpers, trocken
verpreßt bei 6,0 g/cm³, beträgt mehr als 89 N, während
seine Kapazität den dem Pressen bei 6,0 g/cm³ und Sintern
bei 1600°C mindestens 7900 CV/g
beträgt.
Die Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung umfaßt ein
ausgewähltes geflocktes Tantalpulver mit speziellen Eigenschaften,
das mit einem ausgewählten granularen Tantalpulver einer
speziellen Teilchengröße in bestimmten Mengenverhältnissen vermischt und agglomeriert wurde.
Die agglomerierte Zusammensetzung, die im wesentlichen aus einer Mischung von Tantalpulvern
besteht, die diese verschiedenen Geometrien aufweisen,
hat eine Oberfläche, die zur Formung eines dielektrischen
Oxidfilms nach dem Pressen und Sintern verfügbar ist,
die wesentlich größer ist als diejenige, welche mit granularen
Pulvern erhalten werden kann. Diese Vorteile werden erreicht,
weil die erfindungsgemäße agglomerierte Pulverzusammensetzung
wegen ihrer einzigartigen Geometrie die Bildung eines Preßkörpers
durch Pulvertrockenpressen bei niedrigen mechanischen Belastungen
ermöglicht. Eine theoretische Deutung ist, daß der
ineinandergreifende Effekt der geflockten Pulver eine Anode
mit hoher Festigkeit in grünem Zustand schafft; somit wird
vor dem Sintern eine optimale Oberfläche erhalten. Die Zusammensetzung
ist auch widerstandsfähiger gegen eine Verringerung
der Oberfläche während des Sinterns gegenüber
Pulvern, die allein eine granulare räumliche Anordnung
aufweisen. Die erfindungsgemäß erzielte
maximale Vergrößerung der
Oberfläche des agglomerierten Tantalpulvers erlaubt somit, daß eine höhere Kapazität pro
Gramm der granularen aus Rohbarren erhaltenen Pulverkomponente erreicht
werden kann als es vorher möglich war.
Die aus Rohbarren erhaltenen beiden Pulverkomponenten, die im erfindungsgemäßen
Tantalpulver verwendet werden, können nach bekannten
Verfahren hergestellt werden. Das granulare Pulver kann
durch Hydrieren von Tantalrohbarren, Vermahlen der
Hydridchips zu Pulver und Dehydrieren des Pulvers hergestellt
werden. Die mechanische Verformung der granularen
Pulver zur Flockenform wird durch übliche mechanische Arbeitsverfahren
unter Verwendung einer Kugelmühle, Stabmühle,
Walzenmühle oder dergl. bewirkt. Der Rohbarren kann durch
beliebige Schmelzverfahren hergestellt werden; Lichtbogenschmelzen
und Elektronenstrahlschmelzen sind die üblichsten
Techniken. Das Elektronenstrahlschmelzen ist bevorzugt.
Die geflockte Tantalpulverkomponente kann durch übliche
mechanische Arbeitsverfahren unter Verwendung eines gewöhnlichen
Mischers mit der granularen
Pulverkomponente vermischt werden. Die Agglomeration der
Pulverzusammensetzung wird unter Anwendung der üblichen
Agglomerationsverfahren bewirkt. Bevorzugte
Agglomerationstemperaturen liegen im Bereich
von 1250°C bis 1550°C.
Die Kapazität pro Gramm der betreffenden Zusammensetzung
kann bemerkenswert verbessert werden, indem ein Pulver ein
phosphorhaltiges Material hinzugegeben wird. Es ist bevorzugt,
dieses Material im Bereich von 5 bis 50 ppm,
bezogen auf elementaren Phosphor, hinzuzugeben; 15 bis
30 ppm Phosphor sind besonders bevorzugt. Beliebige der
im Stand der Technik bekannten phosphorhaltigen Materialien
können als Tantalpulveradditive verwendet werden. Diese Behandlung
bewirkt eine Inhibierung der schnellen Verminderung
der Oberfläche, die normalerweise stattfindet, wenn sehr
feine Pulver bei Temperaturen oberhalb der Hälfte ihres
Schmelzpunktes hitzebehandelt werden.
Die Erfindung wird im folgenden durch die Beispiele näher
erläutert.
In den folgenden Tabellen 1 bis 4 sind die Eigenschaften
von agglomerierten, aus Rohbarren erhaltenen Pulverzusammensetzungen
zusammengestellt. Die Untersuchungsverfahren für
die Bestimmung der Daten sind die folgenden:
Das Tantalpulver wurde in einer üblichen Preßform
ohne Zuhilfenahme von Bindern verpreßt. Die
Preßdichte betrug 6,0 g/cm³ bei Verwendung eines Pulvergewichtes
von 1,2 g und eines Durchmessers von 6,4 mm.
Die kompakten Preßkörper wurden im Hochvakuum bei einem Druck
weniger als 0,00133 Pa 30 Minuten lang bei Temperaturen
oberhalb von 1500°C gesintert.
Die gesinterten Preßkörper wurden in einem Formierbad bei
90±2°C bei 100 V Gleichstrom anodisiert. Der Elektrolyt
war 0,1%ige Phosphorsäure.
Die Anodisierungsgeschwindigkeit wurde bei 1 V pro
Minute gehalten. Nach einem Zeitraum von 3 Stunden bei
100 V Gleichstrom wurden die Preßkörper gewaschen und getrocknet.
Elektrolyt - 10% H₃PO₄
Temperatur - 21°C
Ladungstransfer-Kapazitätsbestimmung
Temperatur - 21°C
Ladungstransfer-Kapazitätsbestimmung
Das Tantalpulver wurde in einer handelsüblichen Preßform
ohne Zuhilfenahme von Bindern verpreßt. Die
Preßdichte betrug 6,0 g/cm³ bei Anwendung eines
Pulvergewichtes von 1,6 g, eines Durchmessers von 6,4 mm und
einer Länge von 8,4 mm.
Der zylindrische Preßkörper wurde zwischen zwei flache
Platten gebracht, wobei die Längsachse parallel zu den
Platten verlief; auf eine der Platten wurde eine stetig
ansteigende Kraft ausgeübt, bis der Preßkörper brach. Die
Kraft wurde als Bruchpunkt gemessen.
Die Teilchengrößenbestimmungen wurden durch Laser-Streuungstechnik
unter Verwendung eins Leeds & Northrup Mikrotrak-
Teilchenanalysators Modell Nr. 7991-02 gemessen.
Standardverfahren zur Bestimmung der scheinbaren Dichte
von hochschmelzenden Metallen und Verbindungen mit dem
Scott-Volumeter.
Die Sauerstoffanalyse wurde unter Verwendung des Leco TC-30
O₂- und N₂-Analysators durchgeführt, die die Inertgasfusionstechnik
anwendet.
Die Gesamtoberfläche der Tantalflocke wurde gemessen unter
Verwendung eines Numinco Orr Oberflächen-Porenvolumen-Analysators
(Hersteller Numec Corporation). Die BET-(Brunauer-
Emmet-Teller-)Oberflächen, die auf diese Weise erhalten
wurden, umfassen die äußeren Oberflächen sowie die inneren
Oberflächen, die durch die Gegenwart von Poren bedingt sind.
In den nachfolgend beschriebenen Beispielen erläutern die
Beispiele I bis X erfindungsgemäße Zusammensetzungen, die
aus Tantalpulver bestehen, welche durch Elektronenbestrahlung
aus Rohbarren erhalten wurden und 60 bis 80 Gew.-%
eines granularen Pulvers mit einer Teilchengröße von weniger
als 10 µm sowie 20 bis 40 Gew.-% eines geflockten
Tantalpulvers mit einer BET-Oberfläche von
0,20 bis 0,40 m²/g, hergestellt durch Verformung eines
granularen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße im Bereich
von 10 µm bis 44 µm, enthalten. Ähnliche Zusammensetzungen,
die aus Tantalpulvern hergestellt wurden, die
aus lichtbogengeschmolzenen Rohblöcken hergestellt worden waren,
zeigen vergleichbare Eigenschaften.
Die Beispiele I bis IV umfassen erfindungsgemäße Zusammensetzungen,
die 70 Gew.-% eines granularen Tantalpulvers
mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm enthalten,
die aus elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren erhalten
wurden, sowie 30 Gew.-% eines geflockten Tantalpulvers,
das aus elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren erhalten
wurde, mit einer BET-Oberfläche von 0,24 m²/g, hergestellt
durch Verformung eines granularen Pulvers mit einer
Teilchengröße im Bereich von 10 bis 44 µm. Die Pulverzusammensetzung
wurde 10 Minuten lang in einem Patterson-Kelly
V Standard-Mischer gemischt. Die Pulverzusammensetzung wurde
durch 30 Minuten langes Erhitzen auf etwa 1400°C in einem
Vakuumofen agglomeriert.
Die Vergleichsbeispiele A und C waren Tantalpulver-Zusammensetzungen,
die aus elektronenstrahl-geschmolzenen Rohblöcken
erhalten worden waren, und aus granularem Tantalpulver mit
einer Teilchengröße von weniger als 10 µm bestanden. Die
Zusammensetzungen wurden wie in den Beispielen I bis IV agglomeriert.
Das Vergleichsbeispiel B betrifft eine Tantalpulver-Zusammensetzung,
die aus elektronenstrahl-geschmolzenem Rohblock erhalten
wurde, bestehend aus granularem Tantalpulver mit
einer Teilchengröße von weniger als 20 µm. Diese Zusammensetzung
wurde wie in den Beispielen I bis IV agglomeriert.
Das Beispiel V betrifft eine Tantalpulver-Zusammensetzung
aus einem durch Elektronenstrahlschmelze erhaltenen Rohblock,
die entsprechend den Beispielen I bis IV hergestellt worden war,
und der 30 ppm elementarer Phosphor zugegeben wurden.
Die Beispiele VI-X betreffen weitere Beispiele der erfindungsgemäßen
Tantalpulver-Zusammensetzungen. Jede Pulverzusammensetzung
weist jedoch unterschiedliche Verhältnisse
der granularen und flockigen Komponenten auf.
Diese Zusammensetzungen bestanden aus einer Basis aus einem granularen
Tantalpulver mit einer Teilchengröße von weniger als
10 µm, das aus einem elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren
erhalten worden war, und einem geflockten Tantalpulver
mit einer BET-Oberfläche von etwa 0,24 m³/g, das aus
einem elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren erhalten
worden war, hergestellt durch Verformen eines granularen
Pulvers mit einer Teilchengröße im Bereich von 10 bis 44 µm.
Die Pulverzusammensetzung wurde 10 Minuten in einem
Patterson-Kelly V Standard-Mischer vermischt. Die Zusammensetzungen
wurden jeweils durch etwa 30 Minuten langes Erhitzen auf
Temperaturen von etwa 1400°C in einem Vakuumofen agglomeriert.
Das Vergleichsbeispiel D betrifft eine Zusammensetzung, bestehend
aus 70 Gew.-% eines granularen Tantalpulvers mit
einer Teilchengröße von weniger als 10 µm, das durch
Elektronenstrahlschmelzen eines Rohbarrens erhalten worden
war, und 30 Gew.-% eines granularen, durch Elektronenschmelzen
eines Rohbarrens erhaltenen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße
im Bereich von 10 bis 44 µm.
Tabelle 1 gibt einen Vergleich der erfindungsgemäßen Zusammensetzung
(I) mit Tantalpulver-Zusammensetzungen, die
keine Flockenkomponente enthalten. Die Festigkeit im grünen
Zustand (Bruchbeständigkeit von ungesinterten Preßkörpern)
nach Beispiel I ist beträchtlich höher als die
der Vergleichsbeispiele. Die Kapazitäten von Preßkörpern, die
zu einer Dichte verpreßt wurden, um eine Minimum-Bruchfestigkeit
von mindestens 89 N zu erhalten, wurden
verglichen.
Tabelle 2 enthält einige Beispiele für Zusammensetzungen gemäß der vorliegenden
Erfindung (II, III und IV) und ein Vergleichsbeispiel aus
einer granularen Tantal-Zusammensetzung, die keine Flockenkomponente
enthält. Es sind Kapazitäten von Preßkörpern,
die zu 6,5 g/cm³ verpreßt wurden, angegeben, wohingegen der Preßkörper
des Vergleichsbeispiels C, der zu 6,0 g/cm³
verpreßt worden war, eine ungenügende mechanische Festigkeit
aufwies, um die Handhabung und Sinterung zu überstehen.
Tabelle 3 zeigt die verbesserte Kapazität, die durch Zusatz
von Phosphor zu der Tantal-Zusammensetzung der vorliegenden
Erfindung erhalten wurde. Die phosphorenthaltende Ausführungsform
(Beispiel V) wird im Vergleich zu Beispiel I
gezeigt, wie vorher in Tabelle 1 enthalten.
Tabelle 4 zeigt Beispiele der Zusammensetzungen entsprechend
der vorliegenden Erfindung, in denen die Anteile der Flocken-
Tantalkomponente im Bereich von 20 bis 40 Gew.-% liegen.
Vergleichsbeispiel D ist eine Zusammensetzung mit Tantalpulver-
Komponenten ähnlich der vorliegenden Erfindung; der
kritische Unterschied liegt darin, daß die Komponente mit
größerer Teilchengröße granular ist und nicht zur flockigen
Form deformiert worden war.
Claims (4)
1. Aus einem Rohblock erhaltenes, agglomeriertes
Tantalpulver mit einer granularen
Pulverkomponente, dadurch gekennzeichnet, daß es
im wesentlichen aus einem agglomerierten Gemisch
von (A) 80 bis 60 Gew.-% eines granularen
Tantalpulvers mit einer Teilchengröße von
weniger als 10 µm und (B) 20 bis 40 Gew.-%
eines geflockten Tantalpulvers mit einer
BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g besteht,
wobei das Gemisch einen Sauerstoffgehalt von
weniger als 1900 ppm und eine Scott-Dichte von
mehr als 1500 kp/m³ aufweist.
2. Tantalpulver gemäß Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß es 5 bis 50 ppm Phosphor
enthält.
3. Verfahren zur Herstellung des agglomerierten
Tantalpulvers gemäß Anspruch 1 oder 2,
gekennzeichnet durch die Kombination folgender
Verfahrensschritte:
- 1. Herstellen zweier granularer
Tantalpulver-Fraktionen aus einem Rohblock,
die
- a) eine Teilchengröße von weniger als 10 µm und
- b) eine Teilchengröße von 10 bis 44 µm aufweisen,
- 2. Zerkleinern der Fraktion b) zu einem geflockten Pulver mit einer BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g,
- 3. Vermischen des granularen mit dem geflockten Tantalpulver und
- 4. Agglomerieren des erhaltenen Gemischs bei Temperaturen von insbesondere 1250 bis 1550°C.
4. Verwendung des Tantalpulvers gemäß Anspruch 1
oder 2 zur Herstellung von gesinterten
Kondensatoren.
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---|---|
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Families Citing this family (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4555268A (en) * | 1984-12-18 | 1985-11-26 | Cabot Corporation | Method for improving handling properties of a flaked tantalum powder composition |
JPH0742530B2 (ja) * | 1986-08-15 | 1995-05-10 | 株式会社高純度化学研究所 | 低酸素合金成形体の製造法 |
US4740238A (en) * | 1987-03-26 | 1988-04-26 | Fansteel Inc. | Platelet-containing tantalum powders |
US5580367A (en) * | 1987-11-30 | 1996-12-03 | Cabot Corporation | Flaked tantalum powder and method of using same flaked tantalum powder |
US5211741A (en) * | 1987-11-30 | 1993-05-18 | Cabot Corporation | Flaked tantalum powder |
US4940490A (en) * | 1987-11-30 | 1990-07-10 | Cabot Corporation | Tantalum powder |
JP2665928B2 (ja) * | 1988-03-25 | 1997-10-22 | 昭和キャボットスーパーメタル株式会社 | タンタル粉末及びその製造法 |
US5242481A (en) * | 1989-06-26 | 1993-09-07 | Cabot Corporation | Method of making powders and products of tantalum and niobium |
US5082491A (en) * | 1989-09-28 | 1992-01-21 | V Tech Corporation | Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics |
DE4003253A1 (de) * | 1990-02-03 | 1991-08-08 | Starck Hermann C Fa | Hochkapazitive erdsaeuremetallpulver, verfahren zu ihrer herstellung sowie deren verwendung |
US6165623A (en) * | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Cabot Corporation | Niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
CZ301097B6 (cs) * | 1997-02-19 | 2009-11-04 | H.C. Starck Gmbh | Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody |
US6051044A (en) * | 1998-05-04 | 2000-04-18 | Cabot Corporation | Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
WO2000056486A1 (en) | 1999-03-19 | 2000-09-28 | Cabot Corporation | Making niobium and other metal powders by milling |
US6375704B1 (en) | 1999-05-12 | 2002-04-23 | Cabot Corporation | High capacitance niobium powders and electrolytic capacitor anodes |
US6224990B1 (en) | 1999-09-23 | 2001-05-01 | Kemet Electronics Corporation | Binder systems for powder metallurgy compacts |
JP2002060803A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-28 | Showa Kyabotto Super Metal Kk | 電解コンデンサ用タンタル焼結体の製造方法 |
US6849104B2 (en) * | 2000-10-10 | 2005-02-01 | H. C. Starck Inc. | Metalothermic reduction of refractory metal oxides |
JP4690638B2 (ja) * | 2001-05-04 | 2011-06-01 | ハー ツェー シュタルク インコーポレイテッド | 耐熱金属酸化物のメタロサーミック還元 |
WO2004003949A1 (en) * | 2002-01-24 | 2004-01-08 | H.C. Starck Inc. | Capacitor-grade lead wires with increased tensile strength and hardness |
CN101010160A (zh) * | 2004-06-28 | 2007-08-01 | 卡伯特公司 | 高电容钽片及其制备方法 |
US8257463B2 (en) * | 2006-01-23 | 2012-09-04 | Avx Corporation | Capacitor anode formed from flake powder |
GB0622463D0 (en) * | 2006-11-10 | 2006-12-20 | Avx Ltd | Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes |
US20080233420A1 (en) * | 2007-03-23 | 2008-09-25 | Mccracken Colin G | Production of high-purity tantalum flake powder |
US20080229880A1 (en) * | 2007-03-23 | 2008-09-25 | Reading Alloys, Inc. | Production of high-purity tantalum flake powder |
US20100085685A1 (en) * | 2008-10-06 | 2010-04-08 | Avx Corporation | Capacitor Anode Formed From a Powder Containing Coarse Agglomerates and Fine Agglomerates |
CN101491834B (zh) * | 2009-03-05 | 2012-06-20 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 钽粉的制备方法 |
GB0910364D0 (en) * | 2009-06-17 | 2009-07-29 | Johnson Matthey Plc | Carbon oxides conversion process |
US8619410B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-12-31 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use in high voltage applications |
US8512422B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-08-20 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing an improved manganese oxide electrolyte |
US8687347B2 (en) | 2011-01-12 | 2014-04-01 | Avx Corporation | Planar anode for use in a wet electrolytic capacitor |
US9105401B2 (en) | 2011-12-02 | 2015-08-11 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a gelled working electrolyte |
JP5933397B2 (ja) | 2012-08-30 | 2016-06-08 | エイヴィーエックス コーポレイション | 固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ |
JP6223542B2 (ja) | 2013-03-13 | 2017-11-01 | ケメット エレクトロニクス コーポレーション | 薄片粉末を製造するための低エネルギーの粉砕 |
GB2512481B (en) | 2013-03-15 | 2018-05-30 | Avx Corp | Wet electrolytic capacitor for use at high temperatures |
GB2512486B (en) | 2013-03-15 | 2018-07-18 | Avx Corp | Wet electrolytic capacitor |
GB2517019B (en) | 2013-05-13 | 2018-08-29 | Avx Corp | Solid electrolytic capacitor containing conductive polymer particles |
GB2514486B (en) | 2013-05-13 | 2018-08-29 | Avx Corp | Solid electrolytic capacitor containing a pre-coat layer |
GB2516529B (en) | 2013-05-13 | 2018-08-29 | Avx Corp | Solid electrolytic capacitor containing a multi-layered adhesion coating |
USRE48439E1 (en) | 2013-09-06 | 2021-02-16 | Greatbatch Ltd. | High voltage tantalum anode and method of manufacture |
US9633796B2 (en) | 2013-09-06 | 2017-04-25 | Greatbatch Ltd. | High voltage tantalum anode and method of manufacture |
US9312075B1 (en) * | 2013-09-06 | 2016-04-12 | Greatbatch Ltd. | High voltage tantalum anode and method of manufacture |
US10403444B2 (en) | 2013-09-16 | 2019-09-03 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a composite coating |
US9183991B2 (en) | 2013-09-16 | 2015-11-10 | Avx Corporation | Electro-polymerized coating for a wet electrolytic capacitor |
US9165718B2 (en) | 2013-09-16 | 2015-10-20 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a hydrogen protection layer |
US9236193B2 (en) | 2013-10-02 | 2016-01-12 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use under high temperature and humidity conditions |
DK3089180T3 (da) | 2013-12-25 | 2020-02-10 | Ningxia Orient Tantalum Ind Co Ltd | Kondensatorgrad-tantalpulver med højspecifik volumen til forbedring af elektrisk ydeevne og fremstillingsfremgangsmåde dertil |
WO2016026092A1 (zh) * | 2014-08-20 | 2016-02-25 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种复合钽粉及其制备方法及该钽粉制备的电容器阳极 |
US9928963B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-03-27 | Avx Corporation | Thermally conductive encapsulant material for a capacitor assembly |
US9754730B2 (en) | 2015-03-13 | 2017-09-05 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly in cylindrical housing |
US10014108B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-07-03 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly |
US9870869B1 (en) | 2016-06-28 | 2018-01-16 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor |
US9870868B1 (en) | 2016-06-28 | 2018-01-16 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor for use in a subcutaneous implantable cardioverter-defibrillator |
EP3895832B1 (de) * | 2016-08-12 | 2022-12-28 | COMPOSITE MATERIALS TECHNOLOGY, Inc. | Elektrolytkondensator und verfahren für verbesserte elektrolytkondensatoranoden |
WO2018045339A1 (en) | 2016-09-01 | 2018-03-08 | Composite Materials Technology, Inc. | Nano-scale/nanostructured si coating on valve metal substrate for lib anodes |
CN106392060B (zh) * | 2016-10-12 | 2019-02-12 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种混合钽粉及其制备方法 |
US20180144874A1 (en) | 2016-10-21 | 2018-05-24 | Global Advanced Metals, Usa, Inc. | Tantalum Powder, Anode, And Capacitor Including Same, And Manufacturing Methods Thereof |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA697222A (en) * | 1964-11-03 | H. Gardner James | Tantalum powder | |
US2823116A (en) * | 1950-12-27 | 1958-02-11 | Roswell P Angier | Method of preparing sintered zirconium metal from its hydrides |
GB746061A (en) * | 1953-08-28 | 1956-03-07 | Plessey Co Ltd | Improvements in or relating to the manufacture of tantalum powder |
US3295951A (en) * | 1965-02-02 | 1967-01-03 | Nat Res Corp | Production of metals |
JPS5241465B1 (de) * | 1967-10-25 | 1977-10-18 | ||
US3473915A (en) * | 1968-08-30 | 1969-10-21 | Fansteel Inc | Method of making tantalum metal powder |
US3635693A (en) * | 1969-01-27 | 1972-01-18 | Starck Hermann C Fa | Method of producing tantalum or niobium powder from compact bodies |
US3825802A (en) * | 1973-03-12 | 1974-07-23 | Western Electric Co | Solid capacitor |
US4009007A (en) * | 1975-07-14 | 1977-02-22 | Fansteel Inc. | Tantalum powder and method of making the same |
JPS5242453A (en) * | 1975-07-31 | 1977-04-02 | Mitsui Mining & Smelting Co | Method to manufacture powder grain of porous metal tantalum |
JPS5241465A (en) * | 1975-09-29 | 1977-03-31 | Hitachi Ltd | Arm nozzle for a tableware cleaning apparatus |
US4017302A (en) * | 1976-02-04 | 1977-04-12 | Fansteel Inc. | Tantalum metal powder |
US4084965A (en) * | 1977-01-05 | 1978-04-18 | Fansteel Inc. | Columbium powder and method of making the same |
US4141719A (en) * | 1977-05-31 | 1979-02-27 | Fansteel Inc. | Tantalum metal powder |
US4149876A (en) * | 1978-06-06 | 1979-04-17 | Fansteel Inc. | Process for producing tantalum and columbium powder |
US4231796A (en) * | 1978-11-28 | 1980-11-04 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Internal zone growth method for producing metal oxide metal eutectic composites |
JPS5734321A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Toshiba Corp | Tap switching control device at on-load |
US4356028A (en) * | 1981-08-24 | 1982-10-26 | Fansteel Inc. | In situ phosphorus addition to tantalum |
-
1982
- 1982-11-16 US US06/442,027 patent/US4441927A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
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Publication number | Publication date |
---|---|
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US4441927A (en) | 1984-04-10 |
GB2130246B (en) | 1985-09-25 |
NL8303726A (nl) | 1984-06-18 |
GB2130246A (en) | 1984-05-31 |
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