DE3341278C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3341278C2
DE3341278C2 DE3341278A DE3341278A DE3341278C2 DE 3341278 C2 DE3341278 C2 DE 3341278C2 DE 3341278 A DE3341278 A DE 3341278A DE 3341278 A DE3341278 A DE 3341278A DE 3341278 C2 DE3341278 C2 DE 3341278C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tantalum powder
powder
granular
tantalum
particle size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE3341278A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3341278A1 (de
Inventor
Marlyn F. Barto Pa. Us Getz
Michael J. Maggio
Billy F. Boyertown Pa. Us Hitch
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Cabot Corp
Original Assignee
Cabot Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cabot Corp filed Critical Cabot Corp
Publication of DE3341278A1 publication Critical patent/DE3341278A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3341278C2 publication Critical patent/DE3341278C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004Details
    • H01G9/04Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/048Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
    • H01G9/052Sintered electrodes
    • H01G9/0525Powder therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/045Alloys based on refractory metals
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S75/00Specialized metallurgical processes, compositions for use therein, consolidated metal powder compositions, and loose metal particulate mixtures
    • Y10S75/954Producing flakes or crystals

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)

Description

Aus Tantalpulver hergestellte feste Tantalkondensatoren haben zu der Miniaturisierung von elektronischen Schaltkreisen einen großen Beitrag geliefert und die Anwendung solcher Schaltkreise unter extremen Bedingungen ermöglicht. Tantalpulverkondensatoren werden vorzugsweise durch Verpressen von Tantalpulver unter Ausbildung eines Preßkörpers, Sintern desselben in einem Ofen unter Ausbildung eines porösen Körpers und anschließendes Durchführen einer Anodisierung in einem geeigneten Elektrolyten unter Ausbildung eines kontinuierlichen dielektrischen Oxidfilms auf dem Sinterkörper hergestellt.
Die Entwicklung von Tantalpulvern, die für feste Kondensatoren geeignet sind, steht im Zusammenhang mit Anstrengungen sowohl der Kondensatorhersteller als auch der Tantalverarbeiter zur Festlegung der charakteristischen Kenndaten, die bei Tantalpulver benötigt werden, damit sie für die Herstellung von Qualitätskondensatoren in bester Weise geeignet sind. Solche charakteristischen Kenndaten umfassen die Oberfläche, Reinheit, Schrumpfung, die Festigkeit des Metallpulverpreßlings im grünen Zustand und die Fließfähigkeit.
Vor allem sollte das Pulver eine geeignete Oberflächengröße aufweisen, da die Kapazität eine Funktion der Oberfläche ist; je größer die Oberfläche nach dem Sintern ist, um so größer ist die Kapazität.
Die Reinheit des Pulvers ist ebenfalls ein kritischer Punkt. Metallische und nichtmetallische Kontamination führt zu einer Verminderung des Dielektrikums. Hohe Sintertemperaturen führen zur Entfernung einiger der flüchtigen Inhaltsstoffe; höhere Temperaturen vermindern jedoch die Nettooberfläche und damit die Kapazität des Kondensators. Die Verminderung der Oberfläche unter den Sinterbedingungen auf ein Minimum zu bringen, ist erforderlich, um die Kapazität des Tantalpulvers nach Möglichkeit zu erhalten.
Die Fließfähigkeit des Tantalpulvers und die Festigkeit in grünem Zustand (mechanische Festigkeit des gepreßten, ungesinterten Pulvers) sind für die Kondensatorhersteller kritische Parameter, um eine zweckentsprechende Produktion zu gewährleisten. Die Fließfähigkeit des Pulvers ermöglicht eine glatte Formbeschickung bei Preßverfahren hoher Geschwindigkeit; die Festigkeit in grünem Zustand erlaubt Handhabung und Transport des Produkts ohne übermäßigen Bruch.
Gegenwärtig werden für die Verwendung in Hochleistungskondensatoren geeignete Tantalpulver nach ein oder zwei verschiedenen Verfahren hergestellt. Das erste dieser Pulverherstellungsverfahren umfaßt die Natriumreduktion von Kaliumfluotantalat, K₂TaF₇; beim zweiten Verfahren wird das Pulver durch Hydrierung eines geschmolzenen (vorzugsweise lichtbogen- oder elektronenstrahl-geschmolzenen) Tantalblocks, Vermahlen der hydrierten Chips und anschließendes Dehydrieren hergestellt. Im allgemeinen haben natrium- reduzierte Tantalpulver hohe Kapazitätswerte pro Gramm des Pulvers gezeigt, wohingegen geschmolzene aus dem Rohblock erhaltene Tantalpulver extrem sauber sind und Gehalte an Verunreinigungen aufweisen, die um eine Größenordnung niedriger sind als bei natriumreduzierten Pulvern. Aus dem Rohblock erhaltene Pulver weisen vorzugsweise niedrigere Gleichstromisolationsfehler, längere Lebensdauer und höhere Spannungsfestigkeit auf. Wegen der hohen Reinheit und anderer Charakteristiken werden Kondensatoren, die aus Rohbarrenpulvern hergestellt worden sind, in Systemen verwendet, in denen an hohe Betriebssicherheit erste Anforderungen gestellt werden. Jedoch wäre eine ausgedehntere Anwendung von aus Rohbarren erhaltenen Pulvern wirtschaftlich durchführbar, wenn eine Pulverzusammensetzung entwickelt werden könnte, die eine höhere Kapazität pro Gramm Pulver aufweisen würde.
Die Kapazität eines Tantalpreßkörpers ist eine direkte Funktion der Oberfläche des gesinterten Pulvers. Größere Oberflächen können natürlich durch Steigerung der Pulvermenge in Gramm pro Preßkörper erhalten werden, aus Kostengründen ist man jedoch gezwungen, die Entwicklung dahingehend voranzutreiben, daß die Oberfläche pro Gramm des verwendeten Pulvers erhöht wird. Die die Abnahme der Teilchengröße des Tantalpulvers zu einer größeren Oberfläche pro Gewichtseinheit führt, wurden die Anstrengungen darauf gerichtet, die Tantalteilchen kleiner zu machen, ohne ungünstige Charakteristiken zu übernehmen, die oft mit einer Teilchengrößenverminderung verbunden sind. Drei der größten Nachteile von sehr feinen Pulvern sind die schlechten Fließcharakteristiken, hoher Sauerstoffgehalt und eine große Oberflächenverkleinerung beim Sintern.
Bekanntlich besitzen Kondensatoren, die aus aus Rohbarren hergestellten Tantalpulvern mit einer Teilchengröße von weniger als etwa 10 µm hergestellt sind, sehr hohe Kapazitäten, wenn die Preßkörper bei relativ niedrigen Temperaturen, beispielsweise 1400-1600°C, gesintert werden.
Jedoch war der direkte Leckstrom durch den Oxidfilm bei diesen niedrigen Sintertemperaturen unannehmbar hoch; höhere Sintertemperaturen verminderten zwar das Leckstromproblem, führten jedoch zu einer starken Verminderung der Kapazität. Es wurde nun gefunden, daß durch Einmischen eines kritischen Anteils eines speziellen geflockten, aus Rohbarren erhaltenen Tantalpulvers in ein granulares, aus Rohbarren erhaltenes Tantalpulver mit einer Teilchengröße von weniger als etwa 10 µm eine Pulverzusammensetzung erhalten wird, die vorteilhafte Eigenschaften für die Verwendung in Kondensatoren, insbesondere eine optimale Oberfläche, aufweist.
Gegenstand der Erfindung ist ein aus einem Rohblock erhaltenes, agglomeriertes Tantalpulver mit einer granularen Pulverkomponente, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es im wesentlichen aus einem agglomerierten Gemisch von (A) 80 bis 60 Gew.-% eines granularen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm und (B) 20 bis 40 Gew.-% eines geflockten Tantalpulvers mit einer BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g besteht, wobei das Gemisch einen Sauerstoffgehalt von weniger als 1900 ppm und eine Scott-Dichte von mehr als 1500 kp/m³ aufweist.
Aus dem erfindungsgemäßen Tantalpulver lassen sich Preßkörper herstellen, die, gepreßt bei 6,0 g/cm³, eine Bruchfestigkeit von mehr als 67 N, und nach Sintern bei 1600°C eine Kapazität von mehr als 7500 CV/g aufweisen.
Weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Tantalpulvers, das durch die Kombination folgender Verfahrensschritte gekennzeichnet ist:
  • 1. Herstellung zweier granularer Tantalpulver-Fraktionen aus einem Rohblock, die (a) eine Teilchengröße von weniger als 10 µm und (b) eine Teilchengröße von 10 bis 44 µm aufweisen,
  • 2. Zerkleinern der Fraktion (b) zu einem geflockten Pulver mit einer BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g,
  • 3. Vermischen des granularen mit dem geflockten Tantalpulver und
  • 4. Agglomerieren des erhaltenen Gemischs bei Temperaturen von insbesondere 1250°C bis 1550°C.
Vorzugsweise enthält das erfindungsgemäße Tantalpulver etwa 70 Gew.-% granulares Tantalpulver als Basis und etwa 30 Gew.-% der geflockten Tantalpulverkomponente. Es ist bevorzugt, daß es einen Sauerstoffgehalt von weniger als 1800 ppm und eine Scott-Dichte von mehr als 1800 kp/m³ aufweist. Die Bruchfestigkeit eins hieraus hergestellten, ungesinterten Preßkörpers, trocken verpreßt bei 6,0 g/cm³, beträgt mehr als 89 N, während seine Kapazität den dem Pressen bei 6,0 g/cm³ und Sintern bei 1600°C mindestens 7900 CV/g beträgt.
Die Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung umfaßt ein ausgewähltes geflocktes Tantalpulver mit speziellen Eigenschaften, das mit einem ausgewählten granularen Tantalpulver einer speziellen Teilchengröße in bestimmten Mengenverhältnissen vermischt und agglomeriert wurde. Die agglomerierte Zusammensetzung, die im wesentlichen aus einer Mischung von Tantalpulvern besteht, die diese verschiedenen Geometrien aufweisen, hat eine Oberfläche, die zur Formung eines dielektrischen Oxidfilms nach dem Pressen und Sintern verfügbar ist, die wesentlich größer ist als diejenige, welche mit granularen Pulvern erhalten werden kann. Diese Vorteile werden erreicht, weil die erfindungsgemäße agglomerierte Pulverzusammensetzung wegen ihrer einzigartigen Geometrie die Bildung eines Preßkörpers durch Pulvertrockenpressen bei niedrigen mechanischen Belastungen ermöglicht. Eine theoretische Deutung ist, daß der ineinandergreifende Effekt der geflockten Pulver eine Anode mit hoher Festigkeit in grünem Zustand schafft; somit wird vor dem Sintern eine optimale Oberfläche erhalten. Die Zusammensetzung ist auch widerstandsfähiger gegen eine Verringerung der Oberfläche während des Sinterns gegenüber Pulvern, die allein eine granulare räumliche Anordnung aufweisen. Die erfindungsgemäß erzielte maximale Vergrößerung der Oberfläche des agglomerierten Tantalpulvers erlaubt somit, daß eine höhere Kapazität pro Gramm der granularen aus Rohbarren erhaltenen Pulverkomponente erreicht werden kann als es vorher möglich war.
Die aus Rohbarren erhaltenen beiden Pulverkomponenten, die im erfindungsgemäßen Tantalpulver verwendet werden, können nach bekannten Verfahren hergestellt werden. Das granulare Pulver kann durch Hydrieren von Tantalrohbarren, Vermahlen der Hydridchips zu Pulver und Dehydrieren des Pulvers hergestellt werden. Die mechanische Verformung der granularen Pulver zur Flockenform wird durch übliche mechanische Arbeitsverfahren unter Verwendung einer Kugelmühle, Stabmühle, Walzenmühle oder dergl. bewirkt. Der Rohbarren kann durch beliebige Schmelzverfahren hergestellt werden; Lichtbogenschmelzen und Elektronenstrahlschmelzen sind die üblichsten Techniken. Das Elektronenstrahlschmelzen ist bevorzugt.
Die geflockte Tantalpulverkomponente kann durch übliche mechanische Arbeitsverfahren unter Verwendung eines gewöhnlichen Mischers mit der granularen Pulverkomponente vermischt werden. Die Agglomeration der Pulverzusammensetzung wird unter Anwendung der üblichen Agglomerationsverfahren bewirkt. Bevorzugte Agglomerationstemperaturen liegen im Bereich von 1250°C bis 1550°C.
Die Kapazität pro Gramm der betreffenden Zusammensetzung kann bemerkenswert verbessert werden, indem ein Pulver ein phosphorhaltiges Material hinzugegeben wird. Es ist bevorzugt, dieses Material im Bereich von 5 bis 50 ppm, bezogen auf elementaren Phosphor, hinzuzugeben; 15 bis 30 ppm Phosphor sind besonders bevorzugt. Beliebige der im Stand der Technik bekannten phosphorhaltigen Materialien können als Tantalpulveradditive verwendet werden. Diese Behandlung bewirkt eine Inhibierung der schnellen Verminderung der Oberfläche, die normalerweise stattfindet, wenn sehr feine Pulver bei Temperaturen oberhalb der Hälfte ihres Schmelzpunktes hitzebehandelt werden.
Die Erfindung wird im folgenden durch die Beispiele näher erläutert.
In den folgenden Tabellen 1 bis 4 sind die Eigenschaften von agglomerierten, aus Rohbarren erhaltenen Pulverzusammensetzungen zusammengestellt. Die Untersuchungsverfahren für die Bestimmung der Daten sind die folgenden:
Verfahren zur Bestimmung der Kapazität, des Gleichstromisolationsfehlers und des Spannungszusammenbruchs a) Herstellung des Preßkörpers
Das Tantalpulver wurde in einer üblichen Preßform ohne Zuhilfenahme von Bindern verpreßt. Die Preßdichte betrug 6,0 g/cm³ bei Verwendung eines Pulvergewichtes von 1,2 g und eines Durchmessers von 6,4 mm.
b) Vakuumsintern
Die kompakten Preßkörper wurden im Hochvakuum bei einem Druck weniger als 0,00133 Pa 30 Minuten lang bei Temperaturen oberhalb von 1500°C gesintert.
c) Anodisierung
Die gesinterten Preßkörper wurden in einem Formierbad bei 90±2°C bei 100 V Gleichstrom anodisiert. Der Elektrolyt war 0,1%ige Phosphorsäure.
Die Anodisierungsgeschwindigkeit wurde bei 1 V pro Minute gehalten. Nach einem Zeitraum von 3 Stunden bei 100 V Gleichstrom wurden die Preßkörper gewaschen und getrocknet.
d) Untersuchungsbedingungen Kapazitätsmessung
Elektrolyt - 10% H₃PO₄
Temperatur - 21°C
Ladungstransfer-Kapazitätsbestimmung
Verfahren für die Bestimmung der Festigkeit der Preßkörper a) Anodenherstellung
Das Tantalpulver wurde in einer handelsüblichen Preßform ohne Zuhilfenahme von Bindern verpreßt. Die Preßdichte betrug 6,0 g/cm³ bei Anwendung eines Pulvergewichtes von 1,6 g, eines Durchmessers von 6,4 mm und einer Länge von 8,4 mm.
b) Untersuchung
Der zylindrische Preßkörper wurde zwischen zwei flache Platten gebracht, wobei die Längsachse parallel zu den Platten verlief; auf eine der Platten wurde eine stetig ansteigende Kraft ausgeübt, bis der Preßkörper brach. Die Kraft wurde als Bruchpunkt gemessen.
Teilchengröße
Die Teilchengrößenbestimmungen wurden durch Laser-Streuungstechnik unter Verwendung eins Leeds & Northrup Mikrotrak- Teilchenanalysators Modell Nr. 7991-02 gemessen.
Scott-Dichte-Bestimmung ASTM Methode B 329
Standardverfahren zur Bestimmung der scheinbaren Dichte von hochschmelzenden Metallen und Verbindungen mit dem Scott-Volumeter.
Sauerstoffanalyse
Die Sauerstoffanalyse wurde unter Verwendung des Leco TC-30 O₂- und N₂-Analysators durchgeführt, die die Inertgasfusionstechnik anwendet.
BET-Oberfläche
Die Gesamtoberfläche der Tantalflocke wurde gemessen unter Verwendung eines Numinco Orr Oberflächen-Porenvolumen-Analysators (Hersteller Numec Corporation). Die BET-(Brunauer- Emmet-Teller-)Oberflächen, die auf diese Weise erhalten wurden, umfassen die äußeren Oberflächen sowie die inneren Oberflächen, die durch die Gegenwart von Poren bedingt sind.
In den nachfolgend beschriebenen Beispielen erläutern die Beispiele I bis X erfindungsgemäße Zusammensetzungen, die aus Tantalpulver bestehen, welche durch Elektronenbestrahlung aus Rohbarren erhalten wurden und 60 bis 80 Gew.-% eines granularen Pulvers mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm sowie 20 bis 40 Gew.-% eines geflockten Tantalpulvers mit einer BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g, hergestellt durch Verformung eines granularen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße im Bereich von 10 µm bis 44 µm, enthalten. Ähnliche Zusammensetzungen, die aus Tantalpulvern hergestellt wurden, die aus lichtbogengeschmolzenen Rohblöcken hergestellt worden waren, zeigen vergleichbare Eigenschaften.
Die Beispiele I bis IV umfassen erfindungsgemäße Zusammensetzungen, die 70 Gew.-% eines granularen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm enthalten, die aus elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren erhalten wurden, sowie 30 Gew.-% eines geflockten Tantalpulvers, das aus elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren erhalten wurde, mit einer BET-Oberfläche von 0,24 m²/g, hergestellt durch Verformung eines granularen Pulvers mit einer Teilchengröße im Bereich von 10 bis 44 µm. Die Pulverzusammensetzung wurde 10 Minuten lang in einem Patterson-Kelly V Standard-Mischer gemischt. Die Pulverzusammensetzung wurde durch 30 Minuten langes Erhitzen auf etwa 1400°C in einem Vakuumofen agglomeriert.
Die Vergleichsbeispiele A und C waren Tantalpulver-Zusammensetzungen, die aus elektronenstrahl-geschmolzenen Rohblöcken erhalten worden waren, und aus granularem Tantalpulver mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm bestanden. Die Zusammensetzungen wurden wie in den Beispielen I bis IV agglomeriert.
Das Vergleichsbeispiel B betrifft eine Tantalpulver-Zusammensetzung, die aus elektronenstrahl-geschmolzenem Rohblock erhalten wurde, bestehend aus granularem Tantalpulver mit einer Teilchengröße von weniger als 20 µm. Diese Zusammensetzung wurde wie in den Beispielen I bis IV agglomeriert.
Das Beispiel V betrifft eine Tantalpulver-Zusammensetzung aus einem durch Elektronenstrahlschmelze erhaltenen Rohblock, die entsprechend den Beispielen I bis IV hergestellt worden war, und der 30 ppm elementarer Phosphor zugegeben wurden.
Die Beispiele VI-X betreffen weitere Beispiele der erfindungsgemäßen Tantalpulver-Zusammensetzungen. Jede Pulverzusammensetzung weist jedoch unterschiedliche Verhältnisse der granularen und flockigen Komponenten auf.
Diese Zusammensetzungen bestanden aus einer Basis aus einem granularen Tantalpulver mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm, das aus einem elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren erhalten worden war, und einem geflockten Tantalpulver mit einer BET-Oberfläche von etwa 0,24 m³/g, das aus einem elektronenstrahl-geschmolzenen Rohbarren erhalten worden war, hergestellt durch Verformen eines granularen Pulvers mit einer Teilchengröße im Bereich von 10 bis 44 µm. Die Pulverzusammensetzung wurde 10 Minuten in einem Patterson-Kelly V Standard-Mischer vermischt. Die Zusammensetzungen wurden jeweils durch etwa 30 Minuten langes Erhitzen auf Temperaturen von etwa 1400°C in einem Vakuumofen agglomeriert.
Das Vergleichsbeispiel D betrifft eine Zusammensetzung, bestehend aus 70 Gew.-% eines granularen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm, das durch Elektronenstrahlschmelzen eines Rohbarrens erhalten worden war, und 30 Gew.-% eines granularen, durch Elektronenschmelzen eines Rohbarrens erhaltenen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße im Bereich von 10 bis 44 µm.
Tabelle 1 gibt einen Vergleich der erfindungsgemäßen Zusammensetzung (I) mit Tantalpulver-Zusammensetzungen, die keine Flockenkomponente enthalten. Die Festigkeit im grünen Zustand (Bruchbeständigkeit von ungesinterten Preßkörpern) nach Beispiel I ist beträchtlich höher als die der Vergleichsbeispiele. Die Kapazitäten von Preßkörpern, die zu einer Dichte verpreßt wurden, um eine Minimum-Bruchfestigkeit von mindestens 89 N zu erhalten, wurden verglichen.
Tabelle 2 enthält einige Beispiele für Zusammensetzungen gemäß der vorliegenden Erfindung (II, III und IV) und ein Vergleichsbeispiel aus einer granularen Tantal-Zusammensetzung, die keine Flockenkomponente enthält. Es sind Kapazitäten von Preßkörpern, die zu 6,5 g/cm³ verpreßt wurden, angegeben, wohingegen der Preßkörper des Vergleichsbeispiels C, der zu 6,0 g/cm³ verpreßt worden war, eine ungenügende mechanische Festigkeit aufwies, um die Handhabung und Sinterung zu überstehen.
Tabelle 3 zeigt die verbesserte Kapazität, die durch Zusatz von Phosphor zu der Tantal-Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung erhalten wurde. Die phosphorenthaltende Ausführungsform (Beispiel V) wird im Vergleich zu Beispiel I gezeigt, wie vorher in Tabelle 1 enthalten.
Tabelle 4 zeigt Beispiele der Zusammensetzungen entsprechend der vorliegenden Erfindung, in denen die Anteile der Flocken- Tantalkomponente im Bereich von 20 bis 40 Gew.-% liegen. Vergleichsbeispiel D ist eine Zusammensetzung mit Tantalpulver- Komponenten ähnlich der vorliegenden Erfindung; der kritische Unterschied liegt darin, daß die Komponente mit größerer Teilchengröße granular ist und nicht zur flockigen Form deformiert worden war.
Tabelle 1
Tabelle 2
Tabelle 3
Tabelle 4

Claims (4)

ZusammenfassungAus einem Rohblock erhaltene, agglomerierte Tantalpulver- Zusammensetzung, die im wesentlichen aus einem ausgewählten granularen Tantalpulver und einem kritischen Anteil eines ausgewählten geflockten Tantalpulvers besteht, und die sich durch optimale Oberflächeneigenschaften auszeichnet.
1. Aus einem Rohblock erhaltenes, agglomeriertes Tantalpulver mit einer granularen Pulverkomponente, dadurch gekennzeichnet, daß es im wesentlichen aus einem agglomerierten Gemisch von (A) 80 bis 60 Gew.-% eines granularen Tantalpulvers mit einer Teilchengröße von weniger als 10 µm und (B) 20 bis 40 Gew.-% eines geflockten Tantalpulvers mit einer BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g besteht, wobei das Gemisch einen Sauerstoffgehalt von weniger als 1900 ppm und eine Scott-Dichte von mehr als 1500 kp/m³ aufweist.
2. Tantalpulver gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 5 bis 50 ppm Phosphor enthält.
3. Verfahren zur Herstellung des agglomerierten Tantalpulvers gemäß Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch die Kombination folgender Verfahrensschritte:
  • 1. Herstellen zweier granularer Tantalpulver-Fraktionen aus einem Rohblock, die
    • a) eine Teilchengröße von weniger als 10 µm und
    • b) eine Teilchengröße von 10 bis 44 µm aufweisen,
  • 2. Zerkleinern der Fraktion b) zu einem geflockten Pulver mit einer BET-Oberfläche von 0,20 bis 0,40 m²/g,
  • 3. Vermischen des granularen mit dem geflockten Tantalpulver und
  • 4. Agglomerieren des erhaltenen Gemischs bei Temperaturen von insbesondere 1250 bis 1550°C.
4. Verwendung des Tantalpulvers gemäß Anspruch 1 oder 2 zur Herstellung von gesinterten Kondensatoren.
DE19833341278 1982-11-16 1983-11-15 Tantalpulver-zusammensetzung Granted DE3341278A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/442,027 US4441927A (en) 1982-11-16 1982-11-16 Tantalum powder composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3341278A1 DE3341278A1 (de) 1984-05-17
DE3341278C2 true DE3341278C2 (de) 1991-11-28

Family

ID=23755234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19833341278 Granted DE3341278A1 (de) 1982-11-16 1983-11-15 Tantalpulver-zusammensetzung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4441927A (de)
JP (1) JPS59100201A (de)
DE (1) DE3341278A1 (de)
GB (1) GB2130246B (de)
NL (1) NL8303726A (de)

Families Citing this family (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4555268A (en) * 1984-12-18 1985-11-26 Cabot Corporation Method for improving handling properties of a flaked tantalum powder composition
JPH0742530B2 (ja) * 1986-08-15 1995-05-10 株式会社高純度化学研究所 低酸素合金成形体の製造法
US4740238A (en) * 1987-03-26 1988-04-26 Fansteel Inc. Platelet-containing tantalum powders
US5580367A (en) * 1987-11-30 1996-12-03 Cabot Corporation Flaked tantalum powder and method of using same flaked tantalum powder
US5211741A (en) * 1987-11-30 1993-05-18 Cabot Corporation Flaked tantalum powder
US4940490A (en) * 1987-11-30 1990-07-10 Cabot Corporation Tantalum powder
JP2665928B2 (ja) * 1988-03-25 1997-10-22 昭和キャボットスーパーメタル株式会社 タンタル粉末及びその製造法
US5242481A (en) * 1989-06-26 1993-09-07 Cabot Corporation Method of making powders and products of tantalum and niobium
US5082491A (en) * 1989-09-28 1992-01-21 V Tech Corporation Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics
DE4003253A1 (de) * 1990-02-03 1991-08-08 Starck Hermann C Fa Hochkapazitive erdsaeuremetallpulver, verfahren zu ihrer herstellung sowie deren verwendung
US6165623A (en) * 1996-11-07 2000-12-26 Cabot Corporation Niobium powders and niobium electrolytic capacitors
CZ301097B6 (cs) * 1997-02-19 2009-11-04 H.C. Starck Gmbh Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody
US6051044A (en) * 1998-05-04 2000-04-18 Cabot Corporation Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors
WO2000056486A1 (en) 1999-03-19 2000-09-28 Cabot Corporation Making niobium and other metal powders by milling
US6375704B1 (en) 1999-05-12 2002-04-23 Cabot Corporation High capacitance niobium powders and electrolytic capacitor anodes
US6224990B1 (en) 1999-09-23 2001-05-01 Kemet Electronics Corporation Binder systems for powder metallurgy compacts
JP2002060803A (ja) * 2000-08-10 2002-02-28 Showa Kyabotto Super Metal Kk 電解コンデンサ用タンタル焼結体の製造方法
US6849104B2 (en) * 2000-10-10 2005-02-01 H. C. Starck Inc. Metalothermic reduction of refractory metal oxides
JP4690638B2 (ja) * 2001-05-04 2011-06-01 ハー ツェー シュタルク インコーポレイテッド 耐熱金属酸化物のメタロサーミック還元
WO2004003949A1 (en) * 2002-01-24 2004-01-08 H.C. Starck Inc. Capacitor-grade lead wires with increased tensile strength and hardness
CN101010160A (zh) * 2004-06-28 2007-08-01 卡伯特公司 高电容钽片及其制备方法
US8257463B2 (en) * 2006-01-23 2012-09-04 Avx Corporation Capacitor anode formed from flake powder
GB0622463D0 (en) * 2006-11-10 2006-12-20 Avx Ltd Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes
US20080233420A1 (en) * 2007-03-23 2008-09-25 Mccracken Colin G Production of high-purity tantalum flake powder
US20080229880A1 (en) * 2007-03-23 2008-09-25 Reading Alloys, Inc. Production of high-purity tantalum flake powder
US20100085685A1 (en) * 2008-10-06 2010-04-08 Avx Corporation Capacitor Anode Formed From a Powder Containing Coarse Agglomerates and Fine Agglomerates
CN101491834B (zh) * 2009-03-05 2012-06-20 宁夏东方钽业股份有限公司 钽粉的制备方法
GB0910364D0 (en) * 2009-06-17 2009-07-29 Johnson Matthey Plc Carbon oxides conversion process
US8619410B2 (en) 2010-06-23 2013-12-31 Avx Corporation Solid electrolytic capacitor for use in high voltage applications
US8512422B2 (en) 2010-06-23 2013-08-20 Avx Corporation Solid electrolytic capacitor containing an improved manganese oxide electrolyte
US8687347B2 (en) 2011-01-12 2014-04-01 Avx Corporation Planar anode for use in a wet electrolytic capacitor
US9105401B2 (en) 2011-12-02 2015-08-11 Avx Corporation Wet electrolytic capacitor containing a gelled working electrolyte
JP5933397B2 (ja) 2012-08-30 2016-06-08 エイヴィーエックス コーポレイション 固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ
JP6223542B2 (ja) 2013-03-13 2017-11-01 ケメット エレクトロニクス コーポレーション 薄片粉末を製造するための低エネルギーの粉砕
GB2512481B (en) 2013-03-15 2018-05-30 Avx Corp Wet electrolytic capacitor for use at high temperatures
GB2512486B (en) 2013-03-15 2018-07-18 Avx Corp Wet electrolytic capacitor
GB2517019B (en) 2013-05-13 2018-08-29 Avx Corp Solid electrolytic capacitor containing conductive polymer particles
GB2514486B (en) 2013-05-13 2018-08-29 Avx Corp Solid electrolytic capacitor containing a pre-coat layer
GB2516529B (en) 2013-05-13 2018-08-29 Avx Corp Solid electrolytic capacitor containing a multi-layered adhesion coating
USRE48439E1 (en) 2013-09-06 2021-02-16 Greatbatch Ltd. High voltage tantalum anode and method of manufacture
US9633796B2 (en) 2013-09-06 2017-04-25 Greatbatch Ltd. High voltage tantalum anode and method of manufacture
US9312075B1 (en) * 2013-09-06 2016-04-12 Greatbatch Ltd. High voltage tantalum anode and method of manufacture
US10403444B2 (en) 2013-09-16 2019-09-03 Avx Corporation Wet electrolytic capacitor containing a composite coating
US9183991B2 (en) 2013-09-16 2015-11-10 Avx Corporation Electro-polymerized coating for a wet electrolytic capacitor
US9165718B2 (en) 2013-09-16 2015-10-20 Avx Corporation Wet electrolytic capacitor containing a hydrogen protection layer
US9236193B2 (en) 2013-10-02 2016-01-12 Avx Corporation Solid electrolytic capacitor for use under high temperature and humidity conditions
DK3089180T3 (da) 2013-12-25 2020-02-10 Ningxia Orient Tantalum Ind Co Ltd Kondensatorgrad-tantalpulver med højspecifik volumen til forbedring af elektrisk ydeevne og fremstillingsfremgangsmåde dertil
WO2016026092A1 (zh) * 2014-08-20 2016-02-25 宁夏东方钽业股份有限公司 一种复合钽粉及其制备方法及该钽粉制备的电容器阳极
US9928963B2 (en) 2015-03-13 2018-03-27 Avx Corporation Thermally conductive encapsulant material for a capacitor assembly
US9754730B2 (en) 2015-03-13 2017-09-05 Avx Corporation Low profile multi-anode assembly in cylindrical housing
US10014108B2 (en) 2015-03-13 2018-07-03 Avx Corporation Low profile multi-anode assembly
US9870869B1 (en) 2016-06-28 2018-01-16 Avx Corporation Wet electrolytic capacitor
US9870868B1 (en) 2016-06-28 2018-01-16 Avx Corporation Wet electrolytic capacitor for use in a subcutaneous implantable cardioverter-defibrillator
EP3895832B1 (de) * 2016-08-12 2022-12-28 COMPOSITE MATERIALS TECHNOLOGY, Inc. Elektrolytkondensator und verfahren für verbesserte elektrolytkondensatoranoden
WO2018045339A1 (en) 2016-09-01 2018-03-08 Composite Materials Technology, Inc. Nano-scale/nanostructured si coating on valve metal substrate for lib anodes
CN106392060B (zh) * 2016-10-12 2019-02-12 宁夏东方钽业股份有限公司 一种混合钽粉及其制备方法
US20180144874A1 (en) 2016-10-21 2018-05-24 Global Advanced Metals, Usa, Inc. Tantalum Powder, Anode, And Capacitor Including Same, And Manufacturing Methods Thereof

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA697222A (en) * 1964-11-03 H. Gardner James Tantalum powder
US2823116A (en) * 1950-12-27 1958-02-11 Roswell P Angier Method of preparing sintered zirconium metal from its hydrides
GB746061A (en) * 1953-08-28 1956-03-07 Plessey Co Ltd Improvements in or relating to the manufacture of tantalum powder
US3295951A (en) * 1965-02-02 1967-01-03 Nat Res Corp Production of metals
JPS5241465B1 (de) * 1967-10-25 1977-10-18
US3473915A (en) * 1968-08-30 1969-10-21 Fansteel Inc Method of making tantalum metal powder
US3635693A (en) * 1969-01-27 1972-01-18 Starck Hermann C Fa Method of producing tantalum or niobium powder from compact bodies
US3825802A (en) * 1973-03-12 1974-07-23 Western Electric Co Solid capacitor
US4009007A (en) * 1975-07-14 1977-02-22 Fansteel Inc. Tantalum powder and method of making the same
JPS5242453A (en) * 1975-07-31 1977-04-02 Mitsui Mining & Smelting Co Method to manufacture powder grain of porous metal tantalum
JPS5241465A (en) * 1975-09-29 1977-03-31 Hitachi Ltd Arm nozzle for a tableware cleaning apparatus
US4017302A (en) * 1976-02-04 1977-04-12 Fansteel Inc. Tantalum metal powder
US4084965A (en) * 1977-01-05 1978-04-18 Fansteel Inc. Columbium powder and method of making the same
US4141719A (en) * 1977-05-31 1979-02-27 Fansteel Inc. Tantalum metal powder
US4149876A (en) * 1978-06-06 1979-04-17 Fansteel Inc. Process for producing tantalum and columbium powder
US4231796A (en) * 1978-11-28 1980-11-04 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Internal zone growth method for producing metal oxide metal eutectic composites
JPS5734321A (en) * 1980-08-08 1982-02-24 Toshiba Corp Tap switching control device at on-load
US4356028A (en) * 1981-08-24 1982-10-26 Fansteel Inc. In situ phosphorus addition to tantalum

Also Published As

Publication number Publication date
GB8329393D0 (en) 1983-12-07
JPH0411601B2 (de) 1992-03-02
JPS59100201A (ja) 1984-06-09
DE3341278A1 (de) 1984-05-17
US4441927A (en) 1984-04-10
GB2130246B (en) 1985-09-25
NL8303726A (nl) 1984-06-18
GB2130246A (en) 1984-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3341278C2 (de)
DE3527553C2 (de)
DE4030469C2 (de) Verfahren zur Kontrolle des Sauerstoffgehalts in Werkstoffen aus Tantal
DE3873951T2 (de) Metallflocken enthaltendes tantalpulver.
DE3130392C2 (de) Verfahren zur Herstellung reiner agglomerierter Ventilmetallpulver für Elektrolytkondensatoren, deren Verwendung und Verfahren zur Herstellung von Sinteranoden
DE3840361C2 (de)
DE60114415T3 (de) Niob- und tantal-pulver und verfahren zu deren herstellung
DE2940290C2 (de)
DE2816342C2 (de) Verfahren zur Herstellung agglomerierter Pulver
DE69223413T2 (de) Flockiges tantalpulver und verfahren zu seiner benutzung
DE3737016C2 (de)
DE2232884C3 (de) Verfahren zum Herstellen von Pulver aus Verbundteilchen
DE2321103C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines phosphorhaltigen Stahlpulvers
DE112005001499T5 (de) Flockenförmiges Tantal mit hoher Kapazität und Verfahren zu dessen Herstellung
DE3501591C2 (de)
DE2815159C2 (de) Verfahren zur Herstellung gesinterter Preßlinge aus Legierungen auf Aluminiumbasis
DE3232245A1 (de) Verbesserung der fliessfaehigkeit und erhoehung der schuettdichte von hochkapazitiven ventilmetallpulvern
DE2749215C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines kupferhaltigen Eisenpulvers
DE3518855C2 (de) Abschmelzelektrode zur Herstellung von Niob-Titan Legierungen
DE3230219C2 (de)
DE3406535C2 (de)
EP1505611B9 (de) Verfahren zur Herstellung von Kondensatoren
DE60122205T2 (de) Kondensatorpulver, sinterkörper und kondensator mit diesem sinterkörper
DE112007002627T5 (de) Pulvermodifikation bei der Herstellung von Anoden für Festkörperkondensatoren
DE2549298A1 (de) Legierung und verbundwerkstoff sowie verfahren zu ihrer herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: GOERTZ, H., DIPL.-ING. FUCHS, J., DR.-ING. DIPL.-I

8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: B22F 1/00

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition