DE3330068C2 - - Google Patents

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DE3330068C2
DE3330068C2 DE19833330068 DE3330068A DE3330068C2 DE 3330068 C2 DE3330068 C2 DE 3330068C2 DE 19833330068 DE19833330068 DE 19833330068 DE 3330068 A DE3330068 A DE 3330068A DE 3330068 C2 DE3330068 C2 DE 3330068C2
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Germany
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aluminum
layer
copper
circuit
wire
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DE19833330068
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DE3330068A1 (de
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Shinichiro Asai
Kazuo Katoh
Tatsuo Machida Tokio/Tokyo Jp Nakano
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Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer hybrid-integrierten Schaltung gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruchs.
Ein solches Verfahren ist bekannt aus der US-PS 36 07 379.
Herkömmliche, hybrid-integrierte Schaltungen werden hergestellt durch Ausbildung eines Schaltungsmusters auf einem Substrat aus Glas oder Keramikmaterial durch Aufdampfen oder durch Druckverfahren oder dergl. oder durch Ausbildung einer Schaltung im Wege der Ätzung eines mit Kupfer laminierten Substrats. Letzteres wird hergestellt durch Laminierung einer isolierenden Schicht und einer Kupferfolie auf eine Basisplatte aus Alumi­ nium oder Eisen. An die Ausbildung des Schaltungsmu­ sters schließt sich die Verbindung der Schaltungs­ elemente durch Löten an. Im allgemeinen wird die Schal­ tung mit den Körpern von Halbleitern, externen Ver­ bindungsanschlüssen, Chipelementen, z. B. Chipkondensa­ toren, Chipwiderständen oder dergl., verbunden, und außerdem wird die Schaltung über Gold- oder Aluminium­ drähte mit den Halbleiteranschlüssen verbunden.
In bezug auf die Verbindung des Substrats mit dem Gold- oder Aluminiumdraht gibt es verschiedene Behandlungs­ vorschläge, z. B. die Plattierung mit einem Edelmetall, wie Gold oder Silber; die Nickelplattierung (US 36 07 379), Aluminium-Aufdampfung. Wenn eine Plattierungsbehandlung durchgeführt wird, so wird eine Anlage für diese Plattierungsbehandlung benötigt, und es ist ferner erforderlich, die Güte der Oberflä­ che und die Dicke der Plattierungsschicht sorgfältig zu steuern.
Die US-PS 34 69 148 beschreibt das Bonden mit Al- oder Au-Draht unter Ultraschallbehandlung.
Im Falle der Durchführung eines Drahtverbindungsver­ fahrens unter Ultraschall-Schwingungsbehandlung mit einem Aluminiumdraht kommt es ebenfalls zu nachteili­ gen Erscheinungen. Wenn dabei beispielsweise eine Schaltung mit freiliegendem Kupfer auf einer Isolier­ schicht aus hochpolymerem Harz verwendet wird, so kommt es zu einem sog. Austritt der Ultraschallwellen, da die isolierende Schicht einen niedrigen Young-Modul aufweist. Dies verhindert eine zufriedenstellende Ver­ bindung. Andererseits hat auch die Plattierung mit Edelmetall oder die Plattierung mit Nickel Nachteile, da eine äußerst hohe Güte der für die Verbindung zu verwendenden Oberflächenbereiche erforderlich ist und da ferner die Bedingungen, welche bei der Verbindung unter Anwendung von Ultraschallschwingungen eingehal­ ten werden müssen, sich in engen Grenzen halten.
Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer hybrid-integrierten Schaltung zu schaffen, welches die Verbindung von Halbleiterelementen mit einem Schal­ tungsteil über einen Aluminiumdraht oder einen Gold­ draht gestattet und außerdem die Verbindung der Schaltungsele­ mente durch Löten.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren gemäß dem Hauptanspruch gelöst.
Verbundfolien aus Cu und Al sind an sich bereits bekannt, z. B. aus US-PS 33 77 259. Die Verwendung einer isolie­ renden Zwischenschicht ist an sich aus der US-PS 39 67 371 bekannt.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Zeichnungen näher erläutert; es zeigen
Fig. 1 bis 3 Schnittansichten zur Veranschau­ lichung der Stufen der Herstellung der Schaltung gemäß dem Verfahren;
Fig. 4 einen Schnitt zur Veranschaulichung der Ausbildung einer Schaltung auf einem Schaltungssub­ strat gemäß den Fig. 1 bis 3;
Fig. 5 bis 7 Schnittansichten zur Veranschau­ lichung einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens, nämlich der Stufe zur Bildung ei­ ner Schaltung;
Fig. 8 eine Schnittansicht zur Veranschauli­ chung der Aufbringung von Schaltungselementen auf der Schaltung gemäß den Fig. 5 bis 7; und
Fig. 9 ein Diagramm der Beziehung der Ausgangs­ leistung zum Zeitpunkt der Drahtverlötung unter Ultra­ schallbehandlung einerseits und der Zugfestigkeit an­ dererseits.
Im folgenden soll eine erste Ausführungsform der Er­ findung anhand der Fig. 1 bis 4 erläutert werden. Ein Schaltungssubstrat wird hergestellt, indem man eine leitfähige Metallschicht 9, bestehend aus zwei lami­ nierten Metallfolien, Metallfilmen oder -schichten, wie einer Aluminiumschicht 2 als untere Schicht und einer Kupferschicht 3 als obere Schicht, auf eine isolierende Schicht 1 aufbringt, welche als Trägerkör­ per vorliegen kann. Das so erhaltene Schaltungssub­ strat wird einer Ätzbehandlung unterzogen. Dabei wird ein Ätzmittel verwendet, welches sich dazu eignet, nur die obere Metallschicht aufzulösen. Es wird ein weite­ res Ätzmittel verwendet, welches nur die untere Metall­ schicht auflöst. Dabei wird jeweils die Metallschicht mit einem vorbestimmten Schaltungsmuster freigelegt. Auf diese Weise erhält man ein Schaltungssubstrat für eine hybrid-integrierte Schaltung. Sodann werden Halb­ leiterelemente mit einer Aluminiumschaltung verbunden, welche auf einem Aluminiumleitungspfad ausgebildet ist, und zwar mit Hilfe eines Aluminium- oder eines Golddrahts durch Anwendung von Ultraschall. Ferner wer­ den Schaltungselemente mit der Kupferschaltung verbun­ den, welche im Kupferleitungspfad ausgebildet ist, und zwar ebenfalls durch Löten. Bei einer alternativen Ausführungsform kann die leitfähige Metallschicht 9 zusammengesetzt sein aus einer oberen Aluminiumschicht und einer unteren Kupferfolie als unter Schicht.
Die Fig. 5 bis 8 zeigen eine weitere Ausführungsform der Erfindung. Hier besteht eine leitfähige Metall­ schicht 9 aus einer Aluminiumfolie 2 als obere Schicht und einer Kupferfolie 3 als untere Schicht. Beide sind über eine Isolierschicht 1 mit einem Metallkörper 8 ver­ bunden. Die leitfähige Metallschicht 9 kann aus einer Kupferfolie 3 als obere Schicht und einer Aluminum­ folie 2 als untere Schicht bestehen.
Die isolierende Schicht 1 kann aus einem organischen Polymeren, wie einem Epoxyharz, einem Phenolharz, einem Silikonharz, einem Polyimidharz oder dergl., bestehen. Ferner kann sie auch aus einem anorganischen Material bestehen oder aus einem zusam­ mengesetzten Material, bestehend aus einem anorgani­ schen Material und einem organischen Polymeren, wie Glas-Epoxy. Es ist besonders erwünscht, ein Verbund­ material zu verwenden, welches aus einem organischen Polymeren und einem anorganischen Pulver mit ausge­ zeichneter Wärmeleitfähigkeit, wie Berylliumoxid, Bornitrid, Aluminiumoxid, Magnesiumoxid, Siliciumdi­ oxid oder dergl., besteht und welches in einer Menge einverleibt wird, die größer ist als die Menge des organischen Polymeren. Dies geschieht deshalb, weil die Wärmeleitfähigkeit des anorganischen Pulvers hoch ist und das Phänomen des Austritts einer Ultraschall­ welle unterbindet.
Das Schaltungssubstrat zeigt ferner eine ausgezeichne­ te Wärmeleitfähigkeit, da es nämlich aus einer Kombi­ nation einer metallischen Basisplatte und einer isolie­ renden Schicht besteht. Ein solches Substrat ist opti­ mal für die Zwecke einer hybrid-integrierten Hoch­ leistungsschaltung.
Die Aluminiumfolie und die Kupferfolie haben jeweils eine Dicke von 0,1 bis 100 µm. Die laminierte Alumi­ nium-Kupfer-Verbundfolie kann erhalten werden durch Aufeinanderlegen von zwei Folien oder durch Ausbil­ dung einer Kupferschicht auf der Aluminiumfolie durch Plattierung oder durch Ausbildung von Zink- und Kupferschichten auf der Aluminiumfolie durch Plattie­ rung in dieser Reihenfolge.
Im folgenden soll die Herstellung der hybrid-integrier­ ten Schaltung erläutert werden. Ein Resistmaterial wird durch Siebdruck auf die laminierte Aluminium- Kupfer-Verbundfolie aufgebracht und getrocknet. Die erste metallische Schicht 3 des oberen Teils der Ver­ bundfolie 9 wird sodann einer Ätzbehandlung unterzo­ gen, indem man ein selektives Ätzmittel einwirken läßt. Man erhält dabei ein vorbestimmtes Schaltungsmuster (Fig. 2). Sodann wird der Resist entfernt. Falls er­ forderlich, kann der Resist auch für die Durchführung der nächsten Stufe verbleiben.
Sodann wird erneut ein Resist durch Siebdruck auf das Schaltungssubstrat aufgebracht und getrocknet. Nun er­ folgt wiederum eine Ätzbehandlung mit einem Ätzmittel, welches nur auf die zweite Metallschicht 2 des unteren Teils der Verbundfolie 9 einwirkt. Hierdurch erhält man wiederum ein vorbestimmtes Schaltungsmuster der zweiten Metallschicht. Auf diese Weise erhält man eine Schaltung auf dem Substrat gemäß den Fig. 3 und 7.
Auf dem Schaltungssubstrat dient eine Kupferschaltung 3′ dazu, einzelne Schaltungselemente durch Löten zu verbinden, und der Aluminiumschaltungsteil 2′ dient zur Verbindung eines Aluminiumdrahts oder eines Gold­ drahts 6.
Die Fig. 4 und 8 zeigen Schaltungssubstrate mit einer Halbleitereinrichtung 5 und einem externen Anschluß 7.
Die Halbleitereinrichtung 5 und der externe Anschluß 7 werden mit dem Kupferschaltungsteil 3′ über eine Lotschicht 4 verbunden. Andererseits wird die Halblei­ tereinrichtung 5 elektrisch mit dem Aluminiumschal­ tungsteil 2′ über den Aluminiumdraht oder den Golddraht 6 verbunden. Der externe Anschluß 7 kann mit dem Kupferschaltungsteil 3′ mittels eines leitfähigen Bin­ demittels anstelle der Lotschicht 4 verbunden werden. Ferner kann der externe Anschluß auch mit dem Kupfer­ schaltungsteil 3′ über einen Kühlkörper verbunden wer­ den, z. B. eine Kupferplatte, und zwar durch Löten.
Bei den vorerwähnten Ausführungsformen werden die er­ sten und zweiten Metallschichten nacheinander geätzt. Dabei verwendet man ein Ätzmittel, welches nur zum Ätzen der ersten Metallschicht geeignet ist, und sodann ein weiteres Ätzmittel, welches nur zum Ätzen der zweiten Metallschicht geeignet ist. Hierdurch erhält man die jeweiligen, vorbestimmten Schaltungsmuster. Es ist auch möglich, die vorbestimmten Schaltungsmuster durch Ätzen sowohl der ersten Metallschicht als auch der zweiten Metallschicht mit einem gemeinsamen Ätzmittel, wie Eisen(III)-chlorid, zu ätzen und dann nur die er­ ste Metallschicht mit einem weiteren Ätzmittel zu ätzen, welches selektiv nur die erste Metallschicht zu ätzen vermag.
Bei dem Schaltungssubstrat kann ent­ weder der Aluminiumschaltungsteil oder der Kupferschal­ tungsteil freiliegen, sofern dieser Schaltungsteil nicht für das Auflöten von Schaltungselementen oder für die Verbindung mit Draht, nämlich dem Aluminiumdraht oder dem Golddraht 6, benötigt wird.
Es kommen verschiedene Ätzmittel in Frage, welche selektiv in bezug auf Kupfer wirken, d. h., welche Kupfer zu ätzen vermögen, nicht jedoch Aluminium. Man kann beispielsweise ein Ätzmittel vom Schwefelsäure-Wasser­ stoffperoxid-Typ verwenden; eine wäßrige Lösung von Persulfat, wie Ammoniumpersulfat, Natriumpersulfat oder dergl. Diese Ätzmittel sind besonders vorteilhaft, da es nicht nötig ist, einen Schutzfilm zu verwenden, mit dem die rückwärtige Fläche des Metallkörpers 8 im Falle der Fig. 8 geschützt werden muß, wenn man eine Aluminiumplatte als Metallkörper verwendet.
Als Ätzmittel, welches in bezug auf Aluminium selektiv wirkt, d. h., welches Aluminium zu ätzen vermag, nicht jedoch Kupfer, kann man beispielsweise ein Mittel ver­ wenden, welches erhalten wird durch Auflösung eines Nitrats, wie Natriumnitrat, oder eines Nitrits, wie Natriumnitrit, in der wäßrigen Lösung einer starken, anorganischen Base, wie Natriumhydroxid, Kalium­ hydroxid usw.; ein solches Ätzmittel wird vorzugsweise verwendet, da es nur minimal zur Entwicklung von Wasser­ stoff führt und vorzügliche Ätzeigenschaften hat. Falls erwünscht, kann man ein Entschlackungsmittel zusetzen sowie ein Chelatisierungsmittel für Aluminium.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Beispielen und Vergleichsbeispielen näher erläutert.
Beispiel 1
Es wird der Aufbau gemäß Fig. 1 gewählt. Als Träger­ platte 1 wird eine isolierende Platte aus Glas, Epoxy- Material mit einer Dicke von 1,6 mm verwendet. Eine Aluminium-Kupfer-Verbundfolie 9, bestehend aus einer Aluminumfolie 2 mit einer Dicke von 15 µm und einer Kupferfolie 3 mit einer Dicke von 35 µm, wird auf die­ se isolierende Trägerplatte 1 aus Glas-Epoxy-Material laminiert, wobei die Kupferfolie nach außen weist. So­ dann wird auf die Außenseite der Kupferfolie ein Ätz­ resist (alkalisch entfernbarer Lack) aufgebracht, und zwar durch Siebdruck, und 10 min bei 80°C getrocknet. So­ dann wird die Kupferfolienoberfläche einer Sprüh- Ätzbehandlung unterzogen, wobei man Perma Etch als selektives Ätzmittel für Kupfer während 2 min bei 54°C einwirken läßt. Dann wird mit einer 2%igen wäßrigen Lösung von Natrium­ hydroxid gewaschen, um den Ätzresist zu entfernen. Auf diese Weise erhält man den Kupferschaltungsteil 3′.
Sodann wird ein Ätzresist, welcher gegen starke Basen beständig ist, aufgebracht und zwar durch Siebdruck auf das Substrat mit dem Kupferschaltungsteil 3′. Danach erfolgt eine 10minütige Trocknung bei 100°C. Sodann sprüht man auf dieses Substrat eine wäßrige Lösung einer starken Base, bestehend aus 100 g/l Natrium­ hydroxid und 2 g/l Kaliumhydroxid. Man läßt diese Ätz­ lösung 3 min bei 50°C einwirken. Auf diese Weise erhält man ein Schaltungssubstrat 10 mit dem Kupferschaltungs­ teil 3′ und dem Aluminiumschaltungsteil 2′ gemäß Fig. 3.
Beispiel 2
Es wird eine Aluminium-Kupfer-Verbundfolie gemäß Fig. 1 hergestellt. Die Oberfläche der Verbundfolie wird mit einem Epoxyharz beschichtet, welches mit einem anorga­ nischen Pulver gefüllt ist. Die Beschichtung hat eine Dicke von 100 µm. Sodann bringt man auf diese Beschich­ tungsschicht eine Aluminiumplatte 8 mit einer Dicke von 2 mm auf. Das Ganze wird nun bei Zimmertemperatur unter Druck gehärtet oder konsolidiert, wobei man ein Trägersubstrat mit einer Isolierschicht 1 erhält.
Auf die rückwärtige Seite des Trägersubstrats bringt man einen Schutzfilm aus Vinylchloridharz auf. Sodann wird auf die Aluminiumschicht ein Ätzresist durch Sieb­ druck aufbracht, und nun erfolgt die Ätzbehandlung der Aluminiumschicht gemäß Beispiel 1. Dabei erhält man die Aluminiumschaltung gemäß Fig. 6.
Ein selektives Ätzmittel für Kupfer wird bereitet, in­ dem man eine kleine Menge Ätzbeschleunigungsmittel einer wäßri­ gen Lösung von Ammoniumpersulfat (150 g/l) zusetzt. Die Kupferschicht wird nun einer Ätzbehandlung während 2 min bei 40°C unterzogen. Man erhält auf diese Weise eine Schaltung 10 mit einem Aluminiumschaltungsteil 2′ und einem Kupferschaltungsteil 3′ gemäß Fig. 7.
Vergleichsbeispiele
Es werden die folgenden drei Testproben hergestellt: Ein Schaltungssubstrat 10 nach dem Verfahren des Bei­ spiels 2 und
zwei Schaltungssubstrate, bei denen die Laminierung mit einer Kupferfolie mit einer Dicke von 35 µm anstelle der Aluminium-Kupfer-Verbundfolie des Beispiels 2 vor­ liegt, wobei in einem Falle eine Beschichtung mit ei­ ner Goldplattierungsschicht mit einer Dicke von1 µm vorliegt und im anderen Falle eine Plattierung mit einer Nickelschicht mit einer Dicke von 5 µm. Ein Aluminiumdraht mit einem Durchmesser von 30 µm wird mit jeder Testprobe verbunden, und zwar durch Ultra­ schallverbindung, und die Drahtverbindungscharakteri­ stik wird jeweils untersucht. Die Ergebnisse sind in Fig. 9 zusammengestellt. Das Drahtverbindungsverfah­ ren erfolgt mit einem handelsüblichen Drahtbondgerät. In Fig. 9 ist auf der Ordinate die Zugfestigkeit des Aluminiumdrahts aufgetragen und auf der Abszisse die Ultraschallaus­ gangsleistung. Man erkennt aus der Figur, daß das Schaltungssubstrat mit einer Verbindungsoberfläche (Ver­ bindungsauge) aus einer Aluminiumfolie mit einer Dicke von 15 µm zu einer höheren Zugfestigkeit führt als die anderen Verbindungsflächen und daß auch die Abweichungen in bezug auf die Zugfestigkeitswerte gering sind. Die Tatsache, daß die Zugfestigkeit im Falle der Plat­ tierungsbehandlung in großem Maße streut, bedeutet, daß der Zustand der Oberfläche der durch Plattierung aufgebrachten Metallschicht in hohem Maße die Draht­ bindungseigenschaften beeinflußt. Somit hat eine Bin­ dungsfläche, welche durch Plattierung aufgebracht wur­ de, einen vermeidbaren Nachteil.
Ein weiterer Test der Drahtbindeeigenschaften wurde durchgeführt unter Verwendung des Schaltungssubstrats aus einer Aluminiumschicht mit einer Goldplattierungs­ schicht gemäß Vergleichsbeispiel. Zum Vergleich wurde ein Schaltungssubstrat mit einer Aluminiumschicht gemäß Beispiel 2 herangezogen. Es wurde jeweils ein Golddraht mit einem Durchmesser von 25 µm durch Ultraschallbehand­ lung verbunden. Es wurde ein handelsübliches Drahtbondgerät verwendet. Das Drahtverbindungsverfahren wurde unter Anwendung von Druck und Ultraschall bei 250°C durchgeführt. Die Zug­ festigkeitswerte betrugen bei beiden Testproben etwa 5 g. Die Zugfestigkeitsversuche wurden jeweils bis zu Ablösung des Drahts durchgeführt. Man erkennt daraus, daß die Drahtbindecharakteristika ausreichen, selbst wenn man einen Golddraht mit einem Drahtverbindungs­ verfahren mit dem Verbindungsauge aus der Aluminium­ folie mit einer Dicke von 15 µm verbindet.

Claims (7)

1. Verfahren zur Herstellung einer hybrid-integrierten Schaltung durch
  • - Ausbildung einer Laminatplatte mit einer isolieren­ den Schicht, einer Kupferschicht und einer weiteren Metallschicht,
  • - Ausbildung eines Schaltungsmusters und selektives Freilegen der Metallschichten durch Ätzen,
  • - Aufbringen von Schaltungselementen und
  • - Verbinden von Schaltungselementen mit dem Schal­ tungsmuster mittels Drähten,
dadurch gekennzeichnet, daß man zur Ausbildung der Metallschichten eine Kupfer-Aluminium-Verbundfolie auf die isolierende Schicht aufbringt, und daß die Aluminiumbereiche zum Boden mit Aluminiumdraht oder Golddraht dienen und die Kupferbereiche zur Ausbildung von Lötverbindungen dienen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminium-Kupfer-Verbundfolie durch Laminieren einer Aluminiujmfolie und einer Kupferfolie erhalten wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Schicht der Aluminium-Kupfer-Ver­ bundfolie zuerst einer Ätzbehandlung mit einem Ätz­ mittel unterzogen wird, welches in bezug auf die obere Schicht selektiv wirkt, worauf man die untere Schicht der Folie einer Ätzbehandlung unterzieht mit einem Ätzmittel, welches in bezug auf die untere Schicht selektiv wirkt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Schicht aus Kupfer und die untere Schicht aus Aluminium besteht.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Schicht aus Aluminium und die untere Schicht aus Kupfer besteht.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 - 5, dadurch gekennzeichnet, daß die isolierende Schicht mit einem Metallkörper verbunden wird.
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