DE3330068C2 - - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur
Herstellung einer hybrid-integrierten Schaltung gemäß dem
Oberbegriff des Hauptanspruchs.
Ein solches Verfahren ist bekannt aus der US-PS 36 07 379.
Herkömmliche, hybrid-integrierte Schaltungen werden
hergestellt durch Ausbildung eines Schaltungsmusters
auf einem Substrat aus Glas oder Keramikmaterial durch
Aufdampfen oder durch Druckverfahren oder dergl. oder
durch Ausbildung einer Schaltung im Wege der Ätzung
eines mit Kupfer laminierten Substrats. Letzteres wird
hergestellt durch Laminierung einer isolierenden Schicht
und einer Kupferfolie auf eine Basisplatte aus Alumi
nium oder Eisen. An die Ausbildung des Schaltungsmu
sters schließt sich die Verbindung der Schaltungs
elemente durch Löten an. Im allgemeinen wird die Schal
tung mit den Körpern von Halbleitern, externen Ver
bindungsanschlüssen, Chipelementen, z. B. Chipkondensa
toren, Chipwiderständen oder dergl., verbunden, und
außerdem wird die Schaltung über Gold- oder Aluminium
drähte mit den Halbleiteranschlüssen verbunden.
In bezug auf die Verbindung des Substrats mit dem Gold-
oder Aluminiumdraht gibt es verschiedene Behandlungs
vorschläge, z. B. die Plattierung mit einem Edelmetall,
wie Gold oder Silber; die Nickelplattierung (US 36 07 379),
Aluminium-Aufdampfung.
Wenn
eine Plattierungsbehandlung durchgeführt wird, so wird
eine Anlage für diese Plattierungsbehandlung benötigt,
und es ist ferner erforderlich, die Güte der Oberflä
che und die Dicke der Plattierungsschicht sorgfältig
zu steuern.
Die US-PS 34 69 148 beschreibt das Bonden mit Al- oder
Au-Draht unter Ultraschallbehandlung.
Im Falle der Durchführung eines Drahtverbindungsver
fahrens unter Ultraschall-Schwingungsbehandlung mit
einem Aluminiumdraht kommt es ebenfalls zu nachteili
gen Erscheinungen. Wenn dabei beispielsweise eine
Schaltung mit freiliegendem Kupfer auf einer Isolier
schicht aus hochpolymerem Harz verwendet wird, so
kommt es zu einem sog. Austritt der Ultraschallwellen,
da die isolierende Schicht einen niedrigen Young-Modul
aufweist. Dies verhindert eine zufriedenstellende Ver
bindung. Andererseits hat auch die Plattierung mit
Edelmetall oder die Plattierung mit Nickel Nachteile,
da eine äußerst hohe Güte der für die Verbindung zu
verwendenden Oberflächenbereiche erforderlich ist und
da ferner die Bedingungen, welche bei der Verbindung
unter Anwendung von Ultraschallschwingungen eingehal
ten werden müssen, sich in engen Grenzen halten.
Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
ein Verfahren zur Herstellung einer
hybrid-integrierten Schaltung zu schaffen, welches die
Verbindung von Halbleiterelementen mit einem Schal
tungsteil über einen Aluminiumdraht oder einen Gold
draht gestattet und außerdem die Verbindung der Schaltungsele
mente durch
Löten.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren
gemäß dem Hauptanspruch gelöst.
Verbundfolien aus Cu und Al sind an sich bereits bekannt,
z. B. aus US-PS 33 77 259. Die Verwendung einer isolie
renden Zwischenschicht ist an sich aus der US-PS 39 67 371
bekannt.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Zeichnungen
näher erläutert; es zeigen
Fig. 1 bis 3 Schnittansichten zur Veranschau
lichung der Stufen der Herstellung der Schaltung gemäß
dem Verfahren;
Fig. 4 einen Schnitt zur Veranschaulichung der
Ausbildung einer Schaltung auf einem Schaltungssub
strat gemäß den Fig. 1 bis 3;
Fig. 5 bis 7 Schnittansichten zur Veranschau
lichung einer weiteren Ausführungsform des
Verfahrens, nämlich der Stufe zur Bildung ei
ner Schaltung;
Fig. 8 eine Schnittansicht zur Veranschauli
chung der Aufbringung von Schaltungselementen auf der
Schaltung gemäß den Fig. 5 bis 7; und
Fig. 9 ein Diagramm der Beziehung der Ausgangs
leistung zum Zeitpunkt der Drahtverlötung unter Ultra
schallbehandlung einerseits und der Zugfestigkeit an
dererseits.
Im folgenden soll eine erste Ausführungsform der Er
findung anhand der Fig. 1 bis 4 erläutert werden. Ein
Schaltungssubstrat wird hergestellt, indem man eine
leitfähige Metallschicht 9, bestehend aus zwei lami
nierten Metallfolien, Metallfilmen oder -schichten,
wie einer Aluminiumschicht 2 als untere Schicht und
einer Kupferschicht 3 als obere Schicht, auf eine
isolierende Schicht 1 aufbringt, welche als Trägerkör
per vorliegen kann. Das so erhaltene Schaltungssub
strat wird einer Ätzbehandlung unterzogen. Dabei wird
ein Ätzmittel verwendet, welches sich dazu eignet, nur
die obere Metallschicht aufzulösen. Es wird ein weite
res Ätzmittel verwendet, welches nur die untere Metall
schicht auflöst. Dabei wird jeweils die Metallschicht
mit einem vorbestimmten Schaltungsmuster freigelegt.
Auf diese Weise erhält man ein Schaltungssubstrat für
eine hybrid-integrierte Schaltung. Sodann werden Halb
leiterelemente mit einer Aluminiumschaltung verbunden,
welche auf einem Aluminiumleitungspfad ausgebildet
ist, und zwar mit Hilfe eines Aluminium- oder eines
Golddrahts durch Anwendung von Ultraschall. Ferner wer
den Schaltungselemente mit der Kupferschaltung verbun
den, welche im Kupferleitungspfad ausgebildet ist, und
zwar ebenfalls durch Löten. Bei einer alternativen
Ausführungsform kann die leitfähige Metallschicht 9
zusammengesetzt sein aus einer oberen Aluminiumschicht
und einer unteren Kupferfolie als unter Schicht.
Die Fig. 5 bis 8 zeigen eine weitere Ausführungsform
der Erfindung. Hier besteht eine leitfähige Metall
schicht 9 aus einer Aluminiumfolie 2 als obere Schicht
und einer Kupferfolie 3 als untere Schicht. Beide sind
über eine Isolierschicht 1 mit einem Metallkörper 8 ver
bunden. Die leitfähige Metallschicht 9 kann aus einer
Kupferfolie 3 als obere Schicht und einer Aluminum
folie 2 als untere Schicht bestehen.
Die isolierende Schicht 1 kann aus einem
organischen Polymeren, wie einem Epoxyharz, einem
Phenolharz, einem Silikonharz, einem Polyimidharz
oder dergl., bestehen. Ferner kann sie auch aus einem
anorganischen Material bestehen oder aus einem zusam
mengesetzten Material, bestehend aus einem anorgani
schen Material und einem organischen Polymeren, wie
Glas-Epoxy. Es ist besonders erwünscht, ein Verbund
material zu verwenden, welches aus einem organischen
Polymeren und einem anorganischen Pulver mit ausge
zeichneter Wärmeleitfähigkeit, wie Berylliumoxid,
Bornitrid, Aluminiumoxid, Magnesiumoxid, Siliciumdi
oxid oder dergl., besteht und welches in einer Menge
einverleibt wird, die größer ist als die Menge des
organischen Polymeren. Dies geschieht deshalb, weil
die Wärmeleitfähigkeit des anorganischen Pulvers hoch
ist und das Phänomen des Austritts einer Ultraschall
welle unterbindet.
Das Schaltungssubstrat zeigt ferner eine ausgezeichne
te Wärmeleitfähigkeit, da es nämlich aus einer Kombi
nation einer metallischen Basisplatte und einer isolie
renden Schicht besteht. Ein solches Substrat ist opti
mal für die Zwecke einer hybrid-integrierten Hoch
leistungsschaltung.
Die Aluminiumfolie und die Kupferfolie haben jeweils
eine Dicke von 0,1 bis 100 µm. Die laminierte Alumi
nium-Kupfer-Verbundfolie kann erhalten werden durch
Aufeinanderlegen von zwei Folien oder durch Ausbil
dung einer Kupferschicht auf der Aluminiumfolie durch
Plattierung oder durch Ausbildung von Zink- und
Kupferschichten auf der Aluminiumfolie durch Plattie
rung in dieser Reihenfolge.
Im folgenden soll die Herstellung der hybrid-integrier
ten Schaltung erläutert werden. Ein Resistmaterial
wird durch Siebdruck auf die laminierte Aluminium-
Kupfer-Verbundfolie aufgebracht und getrocknet. Die
erste metallische Schicht 3 des oberen Teils der Ver
bundfolie 9 wird sodann einer Ätzbehandlung unterzo
gen, indem man ein selektives Ätzmittel einwirken läßt.
Man erhält dabei ein vorbestimmtes Schaltungsmuster
(Fig. 2). Sodann wird der Resist entfernt. Falls er
forderlich, kann der Resist auch für die Durchführung
der nächsten Stufe verbleiben.
Sodann wird erneut ein Resist durch Siebdruck auf das
Schaltungssubstrat aufgebracht und getrocknet. Nun er
folgt wiederum eine Ätzbehandlung mit einem Ätzmittel,
welches nur auf die zweite Metallschicht 2 des unteren
Teils der Verbundfolie 9 einwirkt. Hierdurch erhält
man wiederum ein vorbestimmtes Schaltungsmuster der
zweiten Metallschicht. Auf diese Weise erhält man eine
Schaltung auf dem Substrat gemäß den Fig. 3 und 7.
Auf dem Schaltungssubstrat dient eine Kupferschaltung
3′ dazu, einzelne Schaltungselemente durch Löten zu
verbinden, und der Aluminiumschaltungsteil 2′ dient
zur Verbindung eines Aluminiumdrahts oder eines Gold
drahts 6.
Die Fig. 4 und 8 zeigen Schaltungssubstrate mit einer
Halbleitereinrichtung 5 und einem externen Anschluß 7.
Die Halbleitereinrichtung 5 und der externe Anschluß
7 werden mit dem Kupferschaltungsteil 3′ über eine
Lotschicht 4 verbunden. Andererseits wird die Halblei
tereinrichtung 5 elektrisch mit dem Aluminiumschal
tungsteil 2′ über den Aluminiumdraht oder den Golddraht
6 verbunden. Der externe Anschluß 7 kann mit dem
Kupferschaltungsteil 3′ mittels eines leitfähigen Bin
demittels anstelle der Lotschicht 4 verbunden werden.
Ferner kann der externe Anschluß auch mit dem Kupfer
schaltungsteil 3′ über einen Kühlkörper verbunden wer
den, z. B. eine Kupferplatte, und zwar durch Löten.
Bei den vorerwähnten Ausführungsformen werden die er
sten und zweiten Metallschichten nacheinander geätzt.
Dabei verwendet man ein Ätzmittel, welches nur zum Ätzen
der ersten Metallschicht geeignet ist, und sodann ein
weiteres Ätzmittel, welches nur zum Ätzen der zweiten
Metallschicht geeignet ist. Hierdurch erhält man die
jeweiligen, vorbestimmten Schaltungsmuster. Es ist
auch möglich, die vorbestimmten Schaltungsmuster durch
Ätzen sowohl der ersten Metallschicht als auch der
zweiten Metallschicht mit einem gemeinsamen Ätzmittel,
wie Eisen(III)-chlorid, zu ätzen und dann nur die er
ste Metallschicht mit einem weiteren Ätzmittel zu
ätzen, welches selektiv nur die erste Metallschicht
zu ätzen vermag.
Bei dem Schaltungssubstrat kann ent
weder der Aluminiumschaltungsteil oder der Kupferschal
tungsteil freiliegen, sofern dieser Schaltungsteil
nicht für das Auflöten von Schaltungselementen oder für
die Verbindung mit Draht, nämlich dem Aluminiumdraht
oder dem Golddraht 6, benötigt wird.
Es kommen verschiedene Ätzmittel in Frage, welche
selektiv in bezug auf Kupfer wirken, d. h., welche Kupfer
zu ätzen vermögen, nicht jedoch Aluminium. Man kann
beispielsweise ein Ätzmittel vom Schwefelsäure-Wasser
stoffperoxid-Typ verwenden;
eine wäßrige Lösung von
Persulfat, wie Ammoniumpersulfat, Natriumpersulfat
oder dergl. Diese Ätzmittel sind besonders vorteilhaft,
da es nicht nötig ist, einen Schutzfilm zu verwenden,
mit dem die rückwärtige Fläche des Metallkörpers 8 im
Falle der Fig. 8 geschützt werden muß, wenn man eine
Aluminiumplatte als Metallkörper verwendet.
Als Ätzmittel, welches in bezug auf Aluminium selektiv
wirkt, d. h., welches Aluminium zu ätzen vermag, nicht
jedoch Kupfer, kann man beispielsweise ein Mittel ver
wenden, welches erhalten wird durch Auflösung eines
Nitrats, wie Natriumnitrat, oder eines Nitrits, wie
Natriumnitrit, in der wäßrigen Lösung einer starken,
anorganischen Base, wie Natriumhydroxid, Kalium
hydroxid usw.; ein solches Ätzmittel wird vorzugsweise
verwendet, da es nur minimal zur Entwicklung von Wasser
stoff führt und vorzügliche Ätzeigenschaften hat. Falls
erwünscht, kann man ein Entschlackungsmittel zusetzen
sowie ein Chelatisierungsmittel für Aluminium.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Beispielen
und Vergleichsbeispielen näher erläutert.
Es wird der Aufbau gemäß Fig. 1 gewählt. Als Träger
platte 1 wird eine isolierende Platte aus Glas, Epoxy-
Material mit einer Dicke von 1,6 mm verwendet. Eine
Aluminium-Kupfer-Verbundfolie 9, bestehend aus einer
Aluminumfolie 2 mit einer Dicke von 15 µm und einer
Kupferfolie 3 mit einer Dicke von 35 µm, wird auf die
se isolierende Trägerplatte 1 aus Glas-Epoxy-Material
laminiert, wobei die Kupferfolie nach außen weist. So
dann wird auf die Außenseite der Kupferfolie ein Ätz
resist (alkalisch entfernbarer Lack)
aufgebracht, und zwar
durch Siebdruck, und 10 min bei 80°C getrocknet. So
dann wird die Kupferfolienoberfläche einer Sprüh-
Ätzbehandlung unterzogen, wobei man Perma Etch
als selektives Ätzmittel
für Kupfer während 2 min bei 54°C einwirken läßt. Dann
wird mit einer 2%igen wäßrigen Lösung von Natrium
hydroxid gewaschen, um den Ätzresist zu entfernen. Auf
diese Weise erhält man den Kupferschaltungsteil 3′.
Sodann wird ein Ätzresist, welcher gegen starke Basen
beständig ist, aufgebracht
und zwar durch Siebdruck auf
das Substrat mit dem Kupferschaltungsteil 3′. Danach
erfolgt eine 10minütige Trocknung bei 100°C. Sodann
sprüht man auf dieses Substrat eine wäßrige Lösung
einer starken Base, bestehend aus 100 g/l Natrium
hydroxid und 2 g/l Kaliumhydroxid. Man läßt diese Ätz
lösung 3 min bei 50°C einwirken. Auf diese Weise erhält
man ein Schaltungssubstrat 10 mit dem Kupferschaltungs
teil 3′ und dem Aluminiumschaltungsteil 2′ gemäß Fig. 3.
Es wird eine Aluminium-Kupfer-Verbundfolie gemäß Fig. 1
hergestellt. Die Oberfläche der Verbundfolie wird mit
einem Epoxyharz beschichtet, welches mit einem anorga
nischen Pulver gefüllt ist.
Die Beschichtung hat eine
Dicke von 100 µm. Sodann bringt man auf diese Beschich
tungsschicht eine Aluminiumplatte 8 mit einer Dicke
von 2 mm auf. Das Ganze wird nun bei Zimmertemperatur
unter Druck gehärtet oder konsolidiert, wobei man ein
Trägersubstrat mit einer Isolierschicht 1 erhält.
Auf die rückwärtige Seite des Trägersubstrats bringt
man einen Schutzfilm aus Vinylchloridharz auf. Sodann
wird auf die Aluminiumschicht ein Ätzresist durch Sieb
druck aufbracht, und nun erfolgt die Ätzbehandlung
der Aluminiumschicht gemäß Beispiel 1. Dabei erhält
man die Aluminiumschaltung gemäß Fig. 6.
Ein selektives Ätzmittel für Kupfer wird bereitet, in
dem man eine kleine Menge
Ätzbeschleunigungsmittel einer wäßri
gen Lösung von Ammoniumpersulfat (150 g/l) zusetzt. Die
Kupferschicht wird nun einer Ätzbehandlung während
2 min bei 40°C unterzogen. Man erhält auf diese Weise
eine Schaltung 10 mit einem Aluminiumschaltungsteil 2′
und einem Kupferschaltungsteil 3′ gemäß Fig. 7.
Es werden die folgenden drei Testproben hergestellt:
Ein Schaltungssubstrat 10 nach dem Verfahren des Bei
spiels 2 und
zwei Schaltungssubstrate, bei denen die Laminierung mit einer Kupferfolie mit einer Dicke von 35 µm anstelle der Aluminium-Kupfer-Verbundfolie des Beispiels 2 vor liegt, wobei in einem Falle eine Beschichtung mit ei ner Goldplattierungsschicht mit einer Dicke von1 µm vorliegt und im anderen Falle eine Plattierung mit einer Nickelschicht mit einer Dicke von 5 µm. Ein Aluminiumdraht mit einem Durchmesser von 30 µm wird mit jeder Testprobe verbunden, und zwar durch Ultra schallverbindung, und die Drahtverbindungscharakteri stik wird jeweils untersucht. Die Ergebnisse sind in Fig. 9 zusammengestellt. Das Drahtverbindungsverfah ren erfolgt mit einem handelsüblichen Drahtbondgerät. In Fig. 9 ist auf der Ordinate die Zugfestigkeit des Aluminiumdrahts aufgetragen und auf der Abszisse die Ultraschallaus gangsleistung. Man erkennt aus der Figur, daß das Schaltungssubstrat mit einer Verbindungsoberfläche (Ver bindungsauge) aus einer Aluminiumfolie mit einer Dicke von 15 µm zu einer höheren Zugfestigkeit führt als die anderen Verbindungsflächen und daß auch die Abweichungen in bezug auf die Zugfestigkeitswerte gering sind. Die Tatsache, daß die Zugfestigkeit im Falle der Plat tierungsbehandlung in großem Maße streut, bedeutet, daß der Zustand der Oberfläche der durch Plattierung aufgebrachten Metallschicht in hohem Maße die Draht bindungseigenschaften beeinflußt. Somit hat eine Bin dungsfläche, welche durch Plattierung aufgebracht wur de, einen vermeidbaren Nachteil.
zwei Schaltungssubstrate, bei denen die Laminierung mit einer Kupferfolie mit einer Dicke von 35 µm anstelle der Aluminium-Kupfer-Verbundfolie des Beispiels 2 vor liegt, wobei in einem Falle eine Beschichtung mit ei ner Goldplattierungsschicht mit einer Dicke von1 µm vorliegt und im anderen Falle eine Plattierung mit einer Nickelschicht mit einer Dicke von 5 µm. Ein Aluminiumdraht mit einem Durchmesser von 30 µm wird mit jeder Testprobe verbunden, und zwar durch Ultra schallverbindung, und die Drahtverbindungscharakteri stik wird jeweils untersucht. Die Ergebnisse sind in Fig. 9 zusammengestellt. Das Drahtverbindungsverfah ren erfolgt mit einem handelsüblichen Drahtbondgerät. In Fig. 9 ist auf der Ordinate die Zugfestigkeit des Aluminiumdrahts aufgetragen und auf der Abszisse die Ultraschallaus gangsleistung. Man erkennt aus der Figur, daß das Schaltungssubstrat mit einer Verbindungsoberfläche (Ver bindungsauge) aus einer Aluminiumfolie mit einer Dicke von 15 µm zu einer höheren Zugfestigkeit führt als die anderen Verbindungsflächen und daß auch die Abweichungen in bezug auf die Zugfestigkeitswerte gering sind. Die Tatsache, daß die Zugfestigkeit im Falle der Plat tierungsbehandlung in großem Maße streut, bedeutet, daß der Zustand der Oberfläche der durch Plattierung aufgebrachten Metallschicht in hohem Maße die Draht bindungseigenschaften beeinflußt. Somit hat eine Bin dungsfläche, welche durch Plattierung aufgebracht wur de, einen vermeidbaren Nachteil.
Ein weiterer Test der Drahtbindeeigenschaften wurde
durchgeführt unter Verwendung des Schaltungssubstrats
aus einer Aluminiumschicht mit einer Goldplattierungs
schicht gemäß Vergleichsbeispiel. Zum Vergleich wurde
ein Schaltungssubstrat mit einer Aluminiumschicht gemäß
Beispiel 2 herangezogen. Es wurde jeweils ein Golddraht
mit einem Durchmesser von 25 µm durch Ultraschallbehand
lung verbunden. Es wurde ein handelsübliches Drahtbondgerät
verwendet. Das
Drahtverbindungsverfahren wurde unter Anwendung von
Druck und Ultraschall bei 250°C durchgeführt. Die Zug
festigkeitswerte betrugen bei beiden Testproben etwa
5 g. Die Zugfestigkeitsversuche wurden jeweils bis zu
Ablösung des Drahts durchgeführt. Man erkennt daraus,
daß die Drahtbindecharakteristika ausreichen, selbst
wenn man einen Golddraht mit einem Drahtverbindungs
verfahren mit dem Verbindungsauge aus der Aluminium
folie mit einer Dicke von 15 µm verbindet.
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung einer hybrid-integrierten
Schaltung durch
- - Ausbildung einer Laminatplatte mit einer isolieren den Schicht, einer Kupferschicht und einer weiteren Metallschicht,
- - Ausbildung eines Schaltungsmusters und selektives Freilegen der Metallschichten durch Ätzen,
- - Aufbringen von Schaltungselementen und
- - Verbinden von Schaltungselementen mit dem Schal tungsmuster mittels Drähten,
dadurch gekennzeichnet, daß man zur Ausbildung der
Metallschichten eine Kupfer-Aluminium-Verbundfolie
auf die isolierende Schicht aufbringt, und daß die
Aluminiumbereiche zum Boden mit Aluminiumdraht oder
Golddraht dienen und die Kupferbereiche zur Ausbildung
von Lötverbindungen dienen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Aluminium-Kupfer-Verbundfolie durch Laminieren
einer Aluminiujmfolie und einer Kupferfolie erhalten
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die obere Schicht der Aluminium-Kupfer-Ver
bundfolie zuerst einer Ätzbehandlung mit einem Ätz
mittel unterzogen wird, welches in bezug auf die
obere Schicht selektiv wirkt, worauf man die untere
Schicht der Folie einer Ätzbehandlung unterzieht
mit einem Ätzmittel, welches in bezug auf die untere
Schicht selektiv wirkt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die obere Schicht aus Kupfer und die untere
Schicht aus Aluminium besteht.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die obere Schicht aus Aluminium und die untere
Schicht aus Kupfer besteht.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 - 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die isolierende Schicht mit
einem Metallkörper verbunden wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57142726A JPS5933894A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 混成集積用回路基板の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3330068A1 DE3330068A1 (de) | 1984-02-23 |
DE3330068C2 true DE3330068C2 (de) | 1988-12-01 |
Family
ID=15322152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833330068 Granted DE3330068A1 (de) | 1982-08-19 | 1983-08-19 | Hybrid-integrierte schaltung und verfahren zur herstellung derselben |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4521476A (de) |
JP (1) | JPS5933894A (de) |
DE (1) | DE3330068A1 (de) |
GB (1) | GB2125618B (de) |
IT (1) | IT1163829B (de) |
NL (1) | NL188720C (de) |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |