DE102004058016B4 - Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite - Google Patents
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Abstract
Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement, umfassend: ein piezoelektrisches Substrat (1) und darauf angeordnete, einen Mehrschichtaufbau aufweisende Elektrodenstrukturen, eine dielektrische Schicht (4), welche die Elektrodenstrukturen bedeckt und eine akustische Impedanz Za,d aufweist, wobei der Mehrschichtaufbau ein erstes Schichtsystem umfasst, das aus mindestens einer ersten Schicht (31, 32, 3) aus einem ersten Material besteht, in dem die akustische Impedanz kleiner als 2Za,d ist, wobei der Mehrschichtaufbau ein zweites Schichtsystem umfasst, das aus mindestens einer zweiten Schicht (21, 22, 23, 2) aus einem zweiten Material besteht, in dem die akustische Impedanz den Wert 2Za,d übersteigt, wobei der relative Anteil der Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus zwischen 40% und 85% beträgt.
Description
- Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite
- Die Erfindung betrifft ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement, insbesondere ein Hochfrequenzfilter.
- Die Bandbreite eines Hochfrequenzfilters soll bezogen auf die Mittenfrequenz des Filters mindestens 5% betragen. Bei in Frontendmodulen der Mobilfunkgeräte einzusetzenden mit akustischen Oberflächenwellen arbeitenden Bauelementen ist auch die Leistungsverträglichkeit von Elektrodenstrukturen des Bauelements von großer Bedeutung.
- Leistungsverträgliche Elektrodenstrukturen mit einer Schichtenfolge von AlMgCu oder AlZrCu und Ti sind aus der Druckschrift R. Takayama et al, „High Power Durable Electrodes for GHz Band SAW Duplexers”, Ultrasonics Symposium, 2000 IEEE, Vol. 1, pp. 9–13 bekannt.
- Aus den Druckschriften
EP 0734120 B1 undUS 2004/0140734 A1 - Ein weiteres mit Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement, bei dem mit SiO2-Schicht bedeckte Elektrodenstrukturen primär Ag enthalten, ist aus der Druckschrift
US 2003/0137367 A1 - Ein weiteres mit akustischen Wellen arbeitendes Bauelement ist aus
DE 102 06 369 A1 bekannt. Dieses weist eine Elektrodenstruktur, eine Zwischenschicht und eine Anpassungsschicht auf. - Ferner ist aus
US 5,774,962 A ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement bekannt, das eine Elektrode mit einer Aluminium-Kupfer-Legierung und einer Kupferschicht aufweist. - Aufgabe der Erfindung ist es, ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit einer hohen Leistungsverträglichkeit und einer hohen Bandbreite anzugeben.
- Die Aufgabe der Erfindung ist durch ein Bauelement mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Varianten und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung gehen aus den weiteren Ansprüchen hervor.
- Ein mit Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement weist streifenförmige, auf einem piezoelektrischen Substrat periodisch angeordnete Elektrodenstrukturen auf, die an Stromsammelschienen angeschlossen sind. Der Abstand zwischen den Mitten von zwei Elektrodenstrukturen, die mit dem gleichen elektrischen Potential verbunden sind, bestimmt die Wellenlänge der Oberflächenwelle in der jeweiligen Bauelementstruktur.
- Die Bandbreite eines mit akustischen Oberflächenwellen arbeitenden Bauelements hängt von der Stärke der akustischen Reflexion an Kanten von Elektrodenstrukturen bzw. vom entsprechenden akustischen Impedanzsprung ab.
- Die akustische Impedanz eines Materials lässt sich anhand der Formel Za = (ρ c)1/2 bestimmen, wobei c die Steifigkeit und ρ die Massedichte des Materials ist. Der akustische Impedanzsprung findet an einer Grenzfläche zwischen zwei Materialien, z. B. an einer Elektrodenkante statt, falls Za in den beiden angrenzenden Materialien unterschiedlich ist.
- Falls die Oberfläche des piezoelektrischen Substrats eines Bauelements mit den darauf angeordneten Elektrodenstrukturen durch eine dielektrische Schicht (z. B. Siliziumdioxid) mit einer ähnlichen akustischen Impedanz wie der des Materials der Elektrodenstrukturen (üblicherweise Aluminium) bedeckt ist, kommt es zu einer unzureichenden akustischen Reflexion an den Elektrodenkanten, d. h. an der Grenzfläche zwischen den Elektrodenstrukturen und der dielektrischen Schicht.
- Die Erfinder haben erkannt, dass die Reflexionsstärke der akustischen Oberflächenwelle durch das Material der Elektrodenstrukturen beeinflusst werden kann. Der akustische Impedanzsprung bzw. die Reflexionsstärke an Elektrodenkanten kann insbesondere dadurch erhöht werden, dass im Schichtaufbau der Elektrodenstrukturen mindestens eine dicke Schicht mit einer – bezogen auf die akustische Impedanz in der dielektrischen Schicht – deutlich unterschiedlichen akustischen Impedanz vorgesehen wird. Durch eine geeignete Auswahl der Dicke dieser Schicht gelingt es, die in der Anwendung benötigte akustische Reflexionsstärke einzustellen.
- Es wird ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit einem piezoelektrischen Substrat und darauf angeordneten mehrschichtigen Elektrodenstrukturen angegeben, die durch eine dielektrische Schicht mit einer akustischen Impedanz Za,d bedeckt sind. Der Schichtaufbau der Elektrodenstrukturen umfasst einerseits ein erstes Schichtsystem, das aus mindestens einer ersten Schicht aus einem ersten Material besteht, in dem die akustische Impedanz Za,1 kleiner als 2Za,d ist, und andererseits ein zweites Schichtsystem, das aus mindestens einer zweiten Schicht aus einem zweiten Material besteht, in dem die akustische Impedanz Za,2 mindestens 2Za,d beträgt. Der relative Anteil der Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus beträgt zwischen 40% und 85%, vorzugsweise maximal 60%.
- Als erstes Material ist z. B. Al, Mg, Ti oder einer Aluminiumlegierung geeignet. Als zweites Material ist z. B. Cu, Ta, Mo, Cr, W, Ag, Pt, Au oder eine Legierung dieser Metalle geeignet.
- Im Bauelement ist vorzugsweise ein Hochfrequenzfilter realisiert, das durch seine Mittenfrequenz und Bandbreite charakterisiert wird.
- Die Elektrodenstrukturen gemäß der Erfindung zeichnen sich neben einer großen Bandbreite durch eine hohe Leistungsverträglichkeit und eine hohe Lebensdauer aus.
- Die Gesamthöhe der Elektrodenstrukturen beträgt vorzugsweise zwischen 5% und 10% der Wellenlänge der akustischen Oberflächenwelle. Diese Wellenlänge ist im Wesentlichen dem Mittenabstand zwischen zwei mit dem gleichen elektrischen Potential verbundenen streifenförmigen Elektrodenstrukturen gleich.
- In einer bevorzugten Variante besteht das zweite Schichtsystem aus einer einzigen zweiten Schicht, vorzugsweise einer Cu-Schicht oder W-Schicht. Diese Schicht ist vorzugsweise die unterste Schicht oder eine der unteren Schichten des Mehrschichtaufbaus. Die zweite Schicht kann aber auch die oberste Schicht des Mehrschichtaufbaus bilden. Die zweite Schicht kann alternativ auch an einer anderen Stelle im Mehrschichtaufbau, vorzugsweise zwischen zwei ersten Schichten angeordnet sein.
- Das erste Schichtsystem kann aus einer einzigen ersten Schicht vorzugsweise aus Al oder einer Al-Legierung bestehen. Das erste Schichtsystem kann alternativ aus mehreren, vorzugsweise voneinander getrennten ersten Schichten bestehen. Verschiedene Schichten des ersten Schichtsystems können aus dem gleichen Material, z. B. aus Al bestehen. Verschiedene Schichten des ersten Schichtsystems können auch aus voneinander unterschiedlichen Materialien bestehen.
- Im zweiten Schichtsystem können mehrere, vorzugsweise gleichartige zweite Schichten z. B. aus Cu vorgesehen sein. In einer Variante können im zweiten Schichtsystem mehrere voneinander unterschiedliche zweite Schichten – beispielsweise eine Cu-Schicht sowie eine Au-Schicht als eine weitere zweite Schicht – vorgesehen sein.
- Bei mehreren ersten und zweiten Schichten sind die ersten Schichten vorzugsweise in abwechselnder Reihenfolge mit den zweiten Schichten angeordnet. Verschiedene Schichten des ersten (oder des zweiten) Schichtsystems können auch aneinander grenzen.
- Die auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus bezogene relative Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems beträgt vorzugsweise zwischen 40% und 50%.
- In einer Ausführungsform ist eine zum piezoelektrischen Substrat gewandte Schicht des Mehrschichtaufbaus eine Haftvermittlerschicht z. B. aus Titan.
- Die dielektrische Schicht – z. B. Siliziumdioxid oder Siliziumnitrid – ist vorzugsweise eine temperaturkompensierende Schicht, deren Temperaturausdehnungskoeffizient ein entgegengesetztes Vorzeichen gegenüber dem piezoelektrischen Substrat und/oder den Elektrodenstrukturen aufweist. Eine temperaturkompensierende Schicht wirkt der Ausdehnung der Bauelementstrukturen entgegen und verhindert dabei, dass aufgrund einer thermischen Ausdehnung der Bauelementkomponenten bei Temperaturänderungen sich die Mittenfrequenz des Bauelements verschiebt.
- Die (ab der Oberfläche des piezoelektrischen Substrats gemessene) Höhe der dielektrischen Schicht beträgt vorzugsweise zwischen 20% und 40% der Wellenlänge der akustischen Oberflächenwelle.
- Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und der dazugehörigen Figuren näher erläutert. Die Figuren zeigen anhand schematischer und nicht maßstabsgetreuer Darstellungen verschiedene Ausführungsbeispiele der Erfindung. Gleiche oder gleich wirkende Teile sind mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet. Es zeigen schematisch
-
1 einen beispielhaften Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit der ersten Schicht als unterste Schicht des Mehrschichtaufbaus; -
2 einen beispielhaften Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit der ersten Schicht als oberste Schicht des Mehrschichtaufbaus; -
3 einen beispielhaften Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit einer zwischen zwei ersten Schichten angeordneten zweiten Schicht; -
4 eine Variante der in3 gezeigten Ausführung mit zwei aneinander grenzenden zweiten Schichten; -
5 den Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit einer zum piezoelektrischen Substrat gewandten Haftvermittlerschicht; -
6 den Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit abwechselnd angeordneten ersten und zweiten Schichten. - In
1 ist ausschnittsweise ein Bauelement mit einer Elektrodenstruktur gezeigt. Die Elektrodenstruktur ist auf einem piezoelektrischen Substrat1 angeordnet und besteht aus einer unten angeordneten ersten Schicht3 (z. B. Al-Schicht), über der eine zweite Schicht2 (z. B. Cu-Schicht) angeordnet ist. Die Schichten2 ,3 bilden einen Schichtstapel. - Die Elektrodenstruktur ist durch eine dielektrische Schicht
4 , vorzugsweise Siliziumdioxid bedeckt. Die dielektrische Schicht4 schließt mit der Oberfläche des Substrats1 ab und verkapselt auf diese Weise die Elektrodenstruktur2 ,3 . - Das Substrat
1 kann aus Lithiumtantalat, Lithiumniobat, Quarz oder einem anderen geeigneten piezoelektrischen Material bestehen. Das Substrat kann auch aus mehreren Schichten bestehen, wobei zumindest die oberste Schicht des Substrats piezoelektrisch ist. - In
2 ist ein Ausführungsbeispiel gezeigt, in dem die zweite Schicht2 unterhalb der ersten Schicht3 angeordnet ist. - In der in
3 gezeigten Variante ist die zweite Schicht2 zwischen zwei ersten Schichten31 ,32 angeordnet. Das erste Schichtsystem umfasst erste Schichten31 ,32 , die jeweils an eine – hier als eine weitere erste Schicht ausgebildete – Haftvermittlerschicht51 ,52 angrenzen. Die Haftvermittlerschicht51 ist zwischen der unteren ersten Schicht31 und der zweiten Schicht2 angeordnet. Die Haftvermittlerschicht52 ist zwischen der oberen ersten Schicht32 und der zweiten Schicht2 angeordnet. - Eine Haftvermittlerschicht dient zu einer besseren Verbindung zwischen zwei Schichten und kann grundsätzlich zwischen einer ersten und einer zweiten Schicht, zwischen der obersten Schicht der Mehrschichtaufbaus und der dielektrischen Schicht oder zwischen einer untersten Schicht (der zweiten Schicht
2 in5 bzw. der ersten Schicht in3 ) und dem piezoelektrischen Substrat1 angeordnet sein. - Die aufgrund ihrer akustischen Geschwindigkeit dem ersten Schichtsystem zugeordneten Haftvermittlerschichten
5 ,51 ,52 sind vorzugsweise aus Ti. Die Haftvermittlerschichten5 ,51 ,52 können grundsätzlich auch als zweite Schichten z. B. aus Pt gewählt und dem zweiten Schichtsystem zugeordnet sein. - In
4 ist eine Variante mit zwei aneinander grenzenden zweiten Schichten21 ,22 aus unterschiedlichen zweiten Materialien gezeigt, die zusammen das zweite Schichtsystem bilden. Der Verbund dieser Schichten ist hier zwischen zwei ersten Schichten31 ,32 angeordnet. Die Anordnung dieses Verbundes anstelle nur einer zweiten Schicht2 gemäß1 oder2 ist auch möglich. - Zwei zweite Schichten
21 ,22 aus unterschiedlichen zweiten Materialien können voneinander auch durch mindestens eine erste Schicht bzw. eine Haftvermittlerschicht getrennt sein. - In
3 ,6 sind zwei erste Schichten31 ,32 voneinander getrennt. Die unterschiedlichen ersten Schichten bestehen vorzugsweise aus dem gleichen ersten Material. Die unterschiedlichen ersten Schichten können alternativ – insbesondere im Falle der aufeinander folgenden ersten Schichten – aus unterschiedlichen ersten Materialien bestehen. Auch zwei voneinander getrennte erste Schichten können aus unterschiedlichen Materialien (z. B. verschiedenen Al-Legierungen) bestehen. - In
1 bis4 beträgt die relative Dicke der zweiten Schicht2 oder die relative Gesamtdicke der Schichten21 ,22 vorzugsweise zwischen 20% und 30% der Gesamthöhe der Elektrodenstruktur, wobei diese Referenzbeispiele nicht Gegenstand des Anspruchs 1 sind. In5 ist eine Variante mit einer zweiten Schicht2 gezeigt, deren Höhenanteil in der Gesamthöhe der Elektrodenstruktur zwischen 40% und 50% beträgt. - In
6 sind im Mehrschichtaufbau der Elektrodenstruktur mehrere zweite Schichten21 ,22 ,23 und mehrere erste Schichten31 ,32 vorgesehen, die abwechselnd übereinander angeordnet sind. - Der auf die Gesamthöhe der Elektrodenstruktur bezogene Anteil der Gesamtdicke der zweiten Schichten
21 ,22 ,23 , die der Summe der einzelnen Schichtdicken dieser Schichten gleich ist, beträgt zwischen 15% und 60%, wobei nur die Ausführungsformen Gegenstand des Anspruchs 1 sind, bei denen der auf die Gesamthöhe der Elektrodenstruktur bezogene Anteil der Gesamtdicke der zweiten Schichten zumindest 40% beträgt. - Die zweiten Schichten
21 ,22 ,23 (oder die ersten Schichten31 ,32 ) können die gleichen Dicken aufweisen. Auch unterschiedliche Dicken der zweiten (oder ersten) Schichten in einem Mehrschichtaufbau sind möglich. In einer Variante ist die unterste zweite Schicht21 dicker als die darüber liegenden weiteren zweiten Schichten22 ,23 . - Die ersten Schichten
3 ,31 ,32 weisen in allen Ausführungen der Erfindung jeweils eine deutlich höhere Dichte und/oder Steifigkeit als die dielektrische Schicht4 auf. - In der in
6 gezeigten Variante ist zwischen dem piezoelektrischen Substrat1 und der untersten zweiten Schicht21 eine Haftvermittlerschicht5 angeordnet. - Vorzugsweise bestehen alle voneinander getrennten zweiten Schichten
21 ,22 ,23 aus demselben zweiten Material. Möglich ist aber auch, dass für die Schichten21 ,22 ,23 jeweils unterschiedliche zweite Materialien gewählt werden. - Bezugszeichenliste
-
- 1
- piezoelektrisches Substrat
- 2, 21, 22, 23
- zweite Schichten
- 3, 31, 32
- erste Schichten
- 4
- dielektrische Schicht
- 5, 51, 52
- Haftvermittlerschichten
Claims (16)
- Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement, umfassend: ein piezoelektrisches Substrat (
1 ) und darauf angeordnete, einen Mehrschichtaufbau aufweisende Elektrodenstrukturen, eine dielektrische Schicht (4 ), welche die Elektrodenstrukturen bedeckt und eine akustische Impedanz Za,d aufweist, wobei der Mehrschichtaufbau ein erstes Schichtsystem umfasst, das aus mindestens einer ersten Schicht (31 ,32 ,3 ) aus einem ersten Material besteht, in dem die akustische Impedanz kleiner als 2Za,d ist, wobei der Mehrschichtaufbau ein zweites Schichtsystem umfasst, das aus mindestens einer zweiten Schicht (21 ,22 ,23 ,2 ) aus einem zweiten Material besteht, in dem die akustische Impedanz den Wert 2Za,d übersteigt, wobei der relative Anteil der Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus zwischen 40% und 85% beträgt. - Bauelement nach Anspruch 1, wobei die Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus zwischen 40% und 60% beträgt.
- Bauelement nach Anspruch 1, wobei die Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus zwischen 40% und 50% beträgt.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die dielektrische Schicht (
4 ) außerhalb der von den Elektrodenstrukturen belegten Flächen mit der Substratoberfläche abschließt. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das erste Material Al, Mg, Ti oder eine Aluminiumlegierung ist.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei das zweite Material Cu, Ta, Ag, Pt, Au oder eine Kupferlegierung ist.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das zweite Schichtsystem aus einer einzigen zweiten Schicht (
2 ) besteht. - Bauelement nach Anspruch 7, wobei die zweite Schicht (
2 ) die unterste Schicht der Elektrodenstrukturen ist. - Bauelement nach Anspruch 7, wobei die zweite Schicht (
2 ) die oberste Schicht der Elektrodenstrukturen ist. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das zweite Schichtsystem mehrere zweite Schichten (
21 ,22 ,23 ) aufweist, wobei zwei zweite Schichten (21 ,22 ) durch eine erste Schicht (31 ) voneinander getrennt sind. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei das erste Schichtsystem aus einer einzigen ersten Schicht (
3 ) besteht. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei das erste Schichtsystem mehrere erste Schichten (
31 ,32 ) aufweist, wobei zwischen zwei ersten Schichten (31 ,32 ) eine zweite Schicht (2 ,22 ) angeordnet ist. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei eine zum piezoelektrischen Substrat (
1 ) gewandte Schicht des Mehrschichtaufbaus eine Haftvermittlerschicht (5 ) ist. - Bauelement nach Anspruch 13, wobei die Haftvermittlerschicht eine Ti-Schicht ist.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei die Gesamthöhe der Elektrodenstrukturen zwischen 5% und 10% der Wellenlänge der akustischen Oberflächenwelle beträgt.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 15, wobei die dielektrische Schicht (
4 ) eine Schicht aus Siliziumdioxid oder Siliziumnitrid ist.
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JP2007543713A JP4940148B2 (ja) | 2004-12-01 | 2005-10-20 | 高い帯域幅を伴う、音響表面波で作動する構成素子 |
KR1020077014210A KR101220241B1 (ko) | 2004-12-01 | 2005-10-20 | 광 대역폭 탄성 표면파 컴포넌트 |
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Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2836687A1 (fr) * | 2002-03-04 | 2003-09-05 | Gene Signal | Genes impliques dans la regulation de l'angiogenese, preparations pharmaceutiques les contenant et leurs applications |
DE102006039515B4 (de) * | 2006-08-23 | 2012-02-16 | Epcos Ag | Drehbewegungssensor mit turmartigen Schwingstrukturen |
CN101517893B (zh) * | 2006-09-25 | 2012-05-30 | 株式会社村田制作所 | 弹性边界波装置 |
ATE551816T1 (de) * | 2006-09-28 | 2012-04-15 | Rayv Inc | System und verfahren zum peer-to-peer-medien- streaming |
DE102006048879B4 (de) * | 2006-10-16 | 2018-02-01 | Snaptrack, Inc. | Elektroakustisches Bauelement |
WO2009016906A1 (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性波装置及びその製造方法 |
WO2009133655A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | 株式会社村田製作所 | 弾性境界波装置 |
DE102008033704B4 (de) * | 2008-07-18 | 2014-04-03 | Epcos Ag | Elektronisches Bauelement |
DE102008034372B4 (de) * | 2008-07-23 | 2013-04-18 | Msg Lithoglas Ag | Verfahren zum Herstellen einer dielektrischen Schicht in einem elektroakustischen Bauelement sowie elektroakustisches Bauelement |
JPWO2010116783A1 (ja) | 2009-03-30 | 2012-10-18 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US8664836B1 (en) * | 2009-09-18 | 2014-03-04 | Sand 9, Inc. | Passivated micromechanical resonators and related methods |
CN102668375B (zh) * | 2009-10-19 | 2014-10-29 | 株式会社村田制作所 | 弹性表面波装置 |
JP2011114692A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Seiko Instruments Inc | 圧電振動片、圧電振動子、圧電振動子の製造方法、発振器、電子機器および電波時計 |
DE102009056663B4 (de) * | 2009-12-02 | 2022-08-11 | Tdk Electronics Ag | Metallisierung mit hoher Leistungsverträglichkeit und hoher elektrischer Leitfähigkeit und Verfahren zur Herstellung |
US8040020B2 (en) * | 2010-02-17 | 2011-10-18 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Encapsulated active transducer and method of fabricating the same |
DE102010034121A1 (de) | 2010-08-12 | 2012-02-16 | Epcos Ag | Mit akustischen Wellen arbeitendes Bauelement mit reduziertem Temperaturgang der Frequenzlage und Verfahren zur Herstellung |
JP5561057B2 (ja) * | 2010-09-15 | 2014-07-30 | 株式会社村田製作所 | 電子部品及びその製造方法 |
WO2012090873A1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 京セラ株式会社 | 弾性波素子およびそれを用いた弾性波装置 |
JP5751887B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-07-22 | 京セラ株式会社 | 弾性波素子およびそれを用いた弾性波装置 |
KR101853740B1 (ko) * | 2011-07-27 | 2018-06-14 | 삼성전자주식회사 | 체적 음향 공진기 및 체적 음향 공진기를 이용한 듀플렉서 |
US20130231042A1 (en) * | 2011-09-01 | 2013-09-05 | Gabe Coscarella | Vent plate with weather barrier for an exterior wall |
WO2015106805A1 (en) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | Epcos Ag | Electroacoustic filter and method of manufacturing an electroacoustic filter |
US9634644B2 (en) | 2014-07-28 | 2017-04-25 | Skyworks Filter Solutions Japan Co., Ltd. | Acoustic wave elements and antenna duplexers, and modules and electronic devices using same |
JP2017522822A (ja) * | 2014-07-28 | 2017-08-10 | スカイワークスフィルターソリューションズジャパン株式会社 | 弾性波素子、アンテナデュプレクサ、モジュール及びこれらを使用する電子機器 |
JP2017157944A (ja) | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置およびそれを用いた送受信フィルタを有するデュプレクサ |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5774962A (en) * | 1993-10-27 | 1998-07-07 | Fujitsu Limited | Process for producing a surface acoustic wave device |
US5844347A (en) * | 1995-09-01 | 1998-12-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Saw device and its manufacturing method |
EP0734120B1 (de) * | 1995-03-23 | 2000-04-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Akustisches Oberflächenwellenresonatorfilter |
US20030137367A1 (en) * | 2002-01-18 | 2003-07-24 | Michio Kadota | Surface acoustic wave device |
DE10206369A1 (de) * | 2002-02-15 | 2003-08-28 | Epcos Ag | Elektrodenstruktur mit verbesserter Leistungsverträglichkeit und Verfahren zur Herstellung |
US20040140734A1 (en) * | 2003-01-20 | 2004-07-22 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | End surface reflection type surface acoustic wave device |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5933894A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-23 | 電気化学工業株式会社 | 混成集積用回路基板の製造法 |
JP3430745B2 (ja) * | 1995-11-08 | 2003-07-28 | 松下電器産業株式会社 | Sawデバイス |
JPH09199976A (ja) * | 1996-01-18 | 1997-07-31 | Hitachi Ltd | 弾性表面波素子電極 |
JPH10247835A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Kokusai Electric Co Ltd | ラブ波型弾性表面波デバイス |
EP0991186A4 (de) | 1998-04-21 | 2003-08-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Akustische oberflächenwellenanordnung, herstellungsverfahren dafür und damit ausgeführte mobile kommunikationsanordnung |
TW465179B (en) * | 1999-05-27 | 2001-11-21 | Murata Manufacturing Co | Surface acoustic wave device and method of producing the same |
US6339276B1 (en) * | 1999-11-01 | 2002-01-15 | Agere Systems Guardian Corp. | Incremental tuning process for electrical resonators based on mechanical motion |
EP2458735A3 (de) | 2000-10-23 | 2012-08-29 | Panasonic Corporation | Oberflächenwellenfilter |
JP4060090B2 (ja) * | 2002-02-15 | 2008-03-12 | 沖電気工業株式会社 | 弾性表面波素子 |
JP2004254291A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-09-09 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置 |
JP2004242182A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波デバイス |
JP4356613B2 (ja) * | 2003-02-10 | 2009-11-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性境界波装置 |
JP3865712B2 (ja) * | 2003-05-26 | 2007-01-10 | 富士通メディアデバイス株式会社 | 弾性表面波デバイス |
-
2004
- 2004-12-01 DE DE102004058016.2A patent/DE102004058016B4/de active Active
-
2005
- 2005-10-20 WO PCT/EP2005/011310 patent/WO2006058579A1/de active Application Filing
- 2005-10-20 US US11/720,576 patent/US7589453B2/en active Active
- 2005-10-20 JP JP2007543713A patent/JP4940148B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-20 KR KR1020077014210A patent/KR101220241B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5774962A (en) * | 1993-10-27 | 1998-07-07 | Fujitsu Limited | Process for producing a surface acoustic wave device |
EP0734120B1 (de) * | 1995-03-23 | 2000-04-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Akustisches Oberflächenwellenresonatorfilter |
US5844347A (en) * | 1995-09-01 | 1998-12-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Saw device and its manufacturing method |
US20030137367A1 (en) * | 2002-01-18 | 2003-07-24 | Michio Kadota | Surface acoustic wave device |
DE10206369A1 (de) * | 2002-02-15 | 2003-08-28 | Epcos Ag | Elektrodenstruktur mit verbesserter Leistungsverträglichkeit und Verfahren zur Herstellung |
US20040140734A1 (en) * | 2003-01-20 | 2004-07-22 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | End surface reflection type surface acoustic wave device |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Takayama, R. u.a: High Power Durable Electrodes for GHz Band SAW Duplexers. In: IEEE Ultrasonics Symposium Proceedings, 2000, Seite 9-13 |
Takayama, R. u.a: High Power Durable Electrodes for GHz Band SAW Duplexers. In: IEEE Ultrasonics Symposium Proceedings, 2000, Seite 9-13 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070073992A (ko) | 2007-07-10 |
US7589453B2 (en) | 2009-09-15 |
WO2006058579A1 (de) | 2006-06-08 |
JP2008522514A (ja) | 2008-06-26 |
JP4940148B2 (ja) | 2012-05-30 |
DE102004058016A1 (de) | 2006-06-08 |
US20080012450A1 (en) | 2008-01-17 |
KR101220241B1 (ko) | 2013-01-09 |
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