DE102004058016A1 - Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite - Google Patents
Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite Download PDFInfo
- Publication number
- DE102004058016A1 DE102004058016A1 DE102004058016A DE102004058016A DE102004058016A1 DE 102004058016 A1 DE102004058016 A1 DE 102004058016A1 DE 102004058016 A DE102004058016 A DE 102004058016A DE 102004058016 A DE102004058016 A DE 102004058016A DE 102004058016 A1 DE102004058016 A1 DE 102004058016A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- component according
- layers
- electrode structures
- acoustic impedance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 146
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14538—Formation
- H03H9/14541—Multilayer finger or busbar electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02929—Means for compensation or elimination of undesirable effects of ageing changes of characteristics, e.g. electro-acousto-migration
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft den Schichtaufbau von Elektrodenstrukturen eines mit akustischen Oberflächenwellen arbeitenden Bauelements. Die Elektrodenstrukturen sind dabei durch eine dielektrische Schicht (4) mit einer akustischen Impedanz Z¶a,d¶ bedeckt. Der Schichtaufbau der Elektrodenstrukturen umfasst ein erstes Schichtsystem, das aus mindestens einer ersten Schicht (31, 32) aus einem ersten Material besteht, in dem die akustische Impedanz kleiner als 2Z¶a,d¶ ist, sowie ein zweites Schichtsystem, das aus mindestens einer zweiten Schicht (21, 22, 23) aus einem zweiten Material besteht, in dem die akustische Impedanz den Wert 2Z¶a,d¶ übersteigt. Der relative Anteil der Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems, bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus, beträgt zwischen 15% und 85%.
Description
- Die Erfindung betrifft ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement, insbesondere ein Hochfrequenzfilter.
- Die Bandbreite eines Hochfrequenzfilters soll bezogen auf die Mittenfrequenz des Filters mindestens 5% betragen. Bei in Frontendmodulen der Mobilfunkgeräte einzusetzenden mit akustischen Oberflächenwellen arbeitenden Bauelementen ist auch die Leistungsverträglichkeit von Elektrodenstrukturen des Bauelements von großer Bedeutung.
- Leistungsverträgliche Elektrodenstrukturen mit einer Schichtenfolge von AlMgCu oder AlZrCu und Ti sind aus der Druckschrift R. Takayama et al, „High Power Durable Electrodes for GHz Band SAW Duplexers", Ultrasonics Symposium, 2000 IEEE, Vol. 1, pp. 9–13 bekannt.
- Aus den Druckschriften
EP 0734120 B1 und US2004/0140734 A1 ist jeweils ein mit Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement bekannt, bei dem die Oberfläche des piezoelektrischen Substrats mit den darauf angeordneten Elektrodenstrukturen mit einer temperaturkompensierenden Schicht aus Siliziumdioxid bedeckt ist. Die Elektrodenstrukturen sind durch eine Schicht aus Al oder einer Al-Legierung gebildet. Ein solches Bauelement weist allerdings eine Bandbreite auf, die für bestimmte Hochfrequenzanwendungen unzureichend sein kann. - Ein weiteres mit Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement, bei dem mit SiO2-Schicht bedeckte Elektrodenstrukturen primär Ag enthalten, ist aus der Druckschrift US2003/0137367 A1 bekannt.
- Aufgabe der Erfindung ist es, ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit einer hohen Leistungsverträglichkeit und einer hohen Bandbreite anzugeben.
- Die Aufgabe der Erfindung ist durch ein Bauelement mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Varianten und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung gehen aus den weiteren Ansprüchen hervor.
- Ein mit Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement weist streifenförmige, auf einem piezoelektrischen Substrat periodisch angeordnete Elektrodenstrukturen auf, die an Stromsammelschienen angeschlossen sind. Der Abstand zwischen den Mitten von zwei Elektrodenstrukturen, die mit dem gleichen elektrischen Potential verbunden sind, bestimmt die Wellenlänge der Oberflächenwelle in der jeweiligen Bauelementstruktur.
- Die Bandbreite eines mit akustischen Oberflächenwellen arbeitenden Bauelements hängt von der Stärke der akustischen Reflexion an Kanten von Elektrodenstrukturen bzw. vom entsprechenden akustischen Impedanzsprung ab.
- Die akustische Impedanz eines Materials lässt sich anhand der Formel Za = (ρ c)1/2 bestimmen, wobei c die Steifigkeit und ρ die Massedichte des Materials ist. Der akustische Impedanzsprung findet an einer Grenzfläche zwischen zwei Materialien, z. B. an einer Elektrodenkante statt, falls Za in den beiden angrenzenden Materialien unterschiedlich ist.
- Falls die Oberfläche des piezoelektrischen Substrats eines Bauelements mit den darauf angeordneten Elektrodenstrukturen durch eine dielektrische Schicht (z. B. Siliziumdioxid) mit einer ähnlichen akustischen Impedanz wie der des Materials der Elektrodenstrukturen (üblicherweise Aluminium) bedeckt ist, kommt es zu einer unzureichenden akustischen Reflexion an den Elektrodenkanten, d. h. an der Grenzfläche zwischen den Elektrodenstrukturen und der dielektrischen Schicht.
- Die Erfinder haben erkannt, dass die Reflexionsstärke der akustischen Oberflächenwelle durch das Material der Elektrodenstrukturen beeinflusst werden kann. Der akustische Impedanzsprung bzw. die Reflexionsstärke an Elektrodenkanten kann insbesondere dadurch erhöht werden, dass im Schichtaufbau der Elektrodenstrukturen mindestens eine dicke Schicht mit einer – bezogen auf die akustische Impedanz in der dielektrischen Schicht – deutlich unterschiedlichen akustischen Impedanz vorgesehen wird. Durch eine geeignete Auswahl der Dicke dieser Schicht gelingt es, die in der Anwendung benötigte akustische Reflexionsstärke einzustellen.
- Es wird ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit einem piezoelektrischen Substrat und darauf angeordneten mehrschichtigen Elektrodenstrukturen angegeben, die durch eine dielektrische Schicht mit einer akustischen Impedanz Za,d bedeckt sind. Der Schichtaufbau der Elektrodenstrukturen umfasst einerseits ein erstes Schichtsystem, das aus mindestens einer ersten Schicht aus einem ersten Material besteht, in dem die akustische Impedanz Za,1 kleiner als 2Za,d ist, und andererseits ein zweites Schichtsystem, das aus mindestens einer zweiten Schicht aus einem zweiten Material besteht, in dem die akustische Impedanz Za,2 mindestens 2Za,d beträgt. Der relative Anteil der Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus beträgt zwischen 15% und 85%, vorzugsweise maximal 60%.
- Als erstes Material ist z. B. Al, Mg, Ti oder einer Aluminiumlegierung geeignet. Als zweites Material ist z. B. Cu, Ta, Mo, Cr, W, Ag, Pt, Au oder eine Legierung dieser Metalle geeignet.
- Im Bauelement ist vorzugsweise ein Hochfrequenzfilter realisiert, das durch seine Mittenfrequenz und Bandbreite charakterisiert wird.
- Die Elektrodenstrukturen gemäß Erfindung zeichnen sich neben einer großen Bandbreite durch eine hohe Leistungsverträglichkeit und eine hohe Lebensdauer aus.
- Die Gesamthöhe der Elektrodenstrukturen beträgt vorzugsweise zwischen 5% und 10% der Wellenlänge der akustischen Oberflächenwelle. Diese Wellenlänge ist im Wesentlichen dem Mittenabstand zwischen zwei mit dem gleichen elektrischen Potential verbundenen streifenförmigen Elektrodenstrukturen gleich.
- In einer bevorzugten Variante besteht das zweite Schichtsystem aus einer einzigen zweiten Schicht, vorzugsweise einer Cu-Schicht oder W-Schicht. Diese Schicht ist vorzugsweise die unterste Schicht oder eine der unteren Schichten des Mehrschichtaufbaus. Die zweite Schicht kann aber auch die oberste Schicht des Mehrschichtaufbaus bilden. Die zweite Schicht kann alternativ auch an einer anderen Stelle im Mehrschichtaufbau, vorzugsweise zwischen zwei ersten Schichten angeordnet sein.
- Das erste Schichtsystem kann aus einer einzigen ersten Schicht vorzugsweise aus Al oder einer Al-Legierung bestehen. Das erste Schichtsystem kann alternativ aus mehreren, vorzugsweise voneinander getrennten ersten Schichten bestehen. Verschiedene Schichten des ersten Schichtsystems können aus dem gleichen Material, z. B. aus Al bestehen. Verschiedene Schichten des ersten Schichtsystems können auch aus voneinander unterschiedlichen Materialien bestehen.
- Im zweiten Schichtsystem können mehrere, vorzugsweise gleichartige zweite Schichten z. B. aus Cu vorgesehen sein. In einer Variante können im zweiten Schichtsystem mehrere voneinander unterschiedliche zweite Schichten – beispielsweise eine Cu-Schicht sowie eine Au-Schicht als eine weitere zweite Schicht – vorgesehen sein.
- Bei mehreren ersten und zweiten Schichten sind die ersten Schichten vorzugsweise in abwechselnder Reihenfolge mit den zweiten Schichten angeordnet. Verschiedene Schichten des ersten (oder des zweiten) Schichtsystems können auch aneinander grenzen.
- Die auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus bezogene relative Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems beträgt vorzugsweise zwischen 25% und 50%.
- In einer Ausführungsform ist eine zum piezoelektrischen Substrat gewandte Schicht des Mehrschichtaufbaus eine Haftvermittlerschicht z. B. aus Titan.
- Die dielektrische Schicht – z. B. Siliziumdioxid oder Siliziumnitrid – ist vorzugsweise eine temperaturkompensierende Schicht, deren Temperaturausdehnungskoeffizient ein entgegen gesetztes Vorzeichen gegenüber dem piezoelektrischen Substrat und/oder den Elektrodenstrukturen aufweist. Eine temperaturkompensierende Schicht wirkt der Ausdehnung der Bauelementstrukturen entgegen und verhindert dabei, dass aufgrund einer thermischen Ausdehnung der Bauelementkomponenten bei Temperaturänderungen sich die Mittenfrequenz des Bauelements verschiebt.
- Die (ab der Oberfläche des piezoelektrischen Substrats gemessene) Höhe der dielektrischen Schicht beträgt vorzugsweise zwischen 20% und 40% der Wellenlänge der akustischen Oberflächenwelle.
- Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und der dazugehörigen Figuren näher erläutert. Die Figuren zeigen anhand schematischer und nicht maßstabsgetreuer Darstellungen verschiedene Ausführungsbeispiele der Erfindung. Gleiche oder gleich wirkende Teile sind mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet. Es zeigen schematisch
-
1 einen beispielhaften Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit der ersten Schicht als unterste Schicht des Mehrschichtaufbaus; -
2 einen beispielhaften Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit der ersten Schicht als oberste Schicht des Mehrschichtaufbaus; -
3 einen beispielhaften Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit einer zwischen zwei ersten Schichten angeordneten zweiten Schicht; -
4 eine Variante der in3 gezeigten Ausführung mit zwei aneinander grenzenden zweiten Schichten; -
5 den Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit einer zum piezoelektrischen Substrat gewandten Haftvermittlerschicht; -
6 den Schichtaufbau einer Elektrodenstruktur mit abwechselnd angeordneten ersten und zweiten Schichten. - In
1 ist ausschnittsweise ein Bauelement mit einer erfindungsgemäßen Elektrodenstruktur gezeigt. Die Elektrodenstruktur ist auf einem piezoelektrischen Substrat1 angeordnet und besteht aus einer unten angeordneten ersten Schicht3 (z. B. Al-Schicht), über der eine zweite Schicht2 (z. B. Cu-Schicht) angeordnet ist. Die Schichten2 ,3 bilden einen Schichtstapel. - Die Elektrodenstruktur ist durch eine dielektrische Schicht
4 , vorzugsweise Siliziumdioxid bedeckt. Die dielektrische Schicht4 schließt mit der Oberfläche des Substrats1 ab und verkapselt auf diese Weise die Elektrodenstruktur2 ,3 . - Das Substrat
1 kann aus Lithiumtantalat, Lithiumniobat, Quarz oder einem anderen geeigneten piezoelektrischen Material bestehen. Das Substrat kann auch aus mehreren Schichten bestehen, wobei zumindest die oberste Schicht des Substrats piezoelektrisch ist. - In
2 ist ein Ausführungsbeispiel gezeigt, in dem die zweite Schicht2 unterhalb der ersten Schicht3 angeordnet ist. - In der in
3 gezeigten Variante ist die zweite Schicht2 zwischen zwei ersten Schichten31 ,32 angeordnet. Das erste Schichtsystem umfasst erste Schichten31 ,32 , die jeweils an eine – hier als eine weitere erste Schicht ausgebildete – Haftvermittlerschicht51 ,52 angrenzen. Die Haftvermittlerschicht51 ist zwischen der unteren ersten Schicht31 und der zweiten Schicht2 angeordnet. Die Haftvermittlerschicht52 ist zwischen der oberen ersten Schicht32 und der zweiten Schicht2 angeordnet. - Eine Haftvermittlerschicht dient zu einer besseren Verbindung zwischen zwei Schichten und kann grundsätzlich zwischen einer ersten und einer zweiten Schicht, zwischen der obersten Schicht der Mehrschichtaufbaus und der dielektrischen Schicht oder zwischen einer untersten Schicht (der zweiten Schicht
2 in5 bzw. der ersten Schicht in3 ) und dem piezoelektrischen Substrat1 angeordnet sein. - Die aufgrund ihrer akustischen Geschwindigkeit dem ersten Schichtsystem zugeordneten Haftvermittlerschichten
5 ,51 ,52 sind vorzugsweise aus Ti. Die Haftvermittlerschichten5 ,51 ,52 können grundsätzlich auch als zweite Schichten z. B. aus Pt gewählt und dem zweiten Schichtsystem zugeordnet sein. - In
4 ist eine Variante mit zwei aneinander grenzenden zweiten Schichten21 ,22 aus unterschiedlichen zweiten Materialien gezeigt, die zusammen das zweite Schichtsystem bilden. Der Verbund dieser Schichten ist hier zwischen zwei ersten Schichten31 ,32 angeordnet. Die Anordnung dieses Verbundes anstelle nur einer zweiten Schicht2 gemäß1 oder2 ist auch möglich. - Zwei zweite Schichten
21 ,22 aus unterschiedlichen zweiten Materialien können voneinander auch durch mindestens eine erste Schicht bzw. eine Haftvermittlerschicht getrennt sein. - In
3 ,6 sind zwei erste Schichten31 ,32 voneinander getrennt. Die unterschiedlichen ersten Schichten bestehen vorzugsweise aus dem gleichen ersten Material. Die unterschiedlichen ersten Schichten können alternativ – insbesondere im Falle der aufeinander folgenden ersten Schichten – aus unterschiedlichen ersten Materialien bestehen. Auch zwei voneinander getrennte erste Schichten können aus unterschiedlichen Materialien (z. B. verschiedenen Al-Legierungen) bestehen. - In
1 bis4 beträgt die relative Dicke der zweiten Schicht2 oder die relative Gesamtdicke der Schichten21 ,22 vorzugsweise zwischen 20% und 30% der Gesamthöhe der Elektrodenstruktur. In5 ist eine Variante mit einer zweiten Schicht2 gezeigt, deren Höhenanteil in der Gesamthöhe der Elektrodenstruktur zwischen 40% und 50% beträgt. - In
6 sind im Mehrschichtaufbau der Elektrodenstruktur mehrere zweite Schichten21 ,22 ,23 und mehrere erste Schichten31 ,32 vorgesehen, die abwechselnd übereinander angeordnet sind. - Der auf die Gesamthöhe der Elektrodenstruktur bezogene Anteil der Gesamtdicke der zweiten Schichten
21 ,22 ,23 , die der Summe der einzelnen Schichtdicken dieser Schichten gleich ist, beträgt zwischen 15% und 60%. - Die zweiten Schichten
21 ,22 ,23 (oder die ersten Schichten31 ,32 ) können die gleichen Dicken aufweisen. Auch unter schiedliche Dicken der zweiten (oder ersten) Schichten in einem Mehrschichtaufbau sind möglich. In einer Variante ist die unterste zweite Schicht21 dicker als die darüber liegenden weiteren zweiten Schichten22 ,23 . - Die ersten Schichten
2 ,21 ,22 ,23 weisen in allen Ausführungen der Erfindung jeweils eine deutlich höhere Dichte und/oder Steifigkeit als die dielektrische Schicht4 auf. - In der in
6 gezeigten Variante ist zwischen dem piezoelektrischen Substrat1 und der untersten zweiten Schicht21 eine Haftvermittlerschicht5 angeordnet. - Vorzugsweise bestehen alle voneinander getrennten zweiten Schichten
21 ,22 ,23 aus demselben zweiten Material. Möglich ist aber auch, dass für die Schichten21 ,22 ,23 jeweils unterschiedliche zweite Materialien gewählt werden. - Die Merkmale der in den Figuren vorgestellten Varianten können miteinander kombiniert werden. Die Erfindung ist nicht auf die Anzahl der dargestellten Elemente oder der aufgezählten Materialien beschränkt. Die Erfindung ist nicht auf bestimmte Anwendungen von mit Oberflächenwellen arbeitenden Bauelementen beschränkt.
-
- 1
- piezoelektrisches Substrat
- 2, 21, 22, 23
- zweite Schichten
- 3, 31, 32
- erste Schichten
- 4
- dielektrische Schicht
- 5, 51, 52
- Haftvermittlerschichten
Claims (16)
- Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement, umfassend: ein piezoelektrisches Substrat (
1 ) und darauf angeordnete, einen Mehrschichtaufbau aufweisende Elektrodenstrukturen, eine dielektrische Schicht (4 ), welche die Elektrodenstrukturen bedeckt und eine akustische Impedanz Za,d aufweist, wobei der Mehrschichtaufbau ein erstes Schichtsystem umfasst, das aus mindestens einer ersten Schicht (31 ,32 ,3 ) aus einem ersten Material besteht, in dem die akustische Impedanz kleiner als 2Za,d ist, wobei der Mehrschichtaufbau ein zweites Schichtsystem umfasst, das aus mindestens einer zweiten Schicht (21 ,22 ,23 ,2 ) aus einem zweiten Material besteht, in dem die akustische Impedanz den Wert 2Za,d übersteigt, wobei der relative Anteil der Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus zwischen 15% und 85% beträgt. - Bauelement nach Anspruch 1, wobei die Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus zwischen 20% und 60% beträgt.
- Bauelement nach Anspruch 1, wobei die Gesamtdicke des zweiten Schichtsystems bezogen auf die Gesamthöhe des Mehrschichtaufbaus zwischen 25% und 50% beträgt.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die dielektrische Schicht (
4 ) außerhalb der von den Elektrodenstrukturen belegten Flächen mit der Substratoberfläche abschließt. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das erste Material Al, Mg, Ti oder eine Aluminiumlegierung ist.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei das zweite Material Cu, Ta, Ag, Pt, Au oder eine Kupferlegierung ist.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das zweite Schichtsystem aus einer einzigen zweiten Schicht (
21 ) besteht. - Bauelement nach Anspruch 7, wobei die zweite Schicht (
21 ) die unterste Schicht der Elektrodenstrukturen ist. - Bauelement nach Anspruch 7, wobei die zweite Schicht (
23 ) die oberste Schicht der Elektrodenstrukturen ist. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das zweite Schichtsystem mehrere zweite Schichten (
21 ,22 ,23 ) aufweist, wobei zwei zweite Schichten (21 ,22 ) durch eine erste Schicht (31 ) voneinander getrennt sind. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei das erste Schichtsystem (
31 ,32 ) aus einer einzigen ersten Schicht (31 ) besteht. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei das erste Schichtsystem mehrere erste Schichten (
31 ,32 ) aufweist, wobei zwischen zwei ersten Schichten (31 ,32 ) eine zweite Schicht (23 ) angeordnet ist. - Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei eine zum piezoelektrischen Substrat (
1 ) gewandte Schicht des Mehrschichtaufbaus eine Haftvermittlerschicht (5 ) ist. - Bauelement nach Anspruch 13, wobei die Haftvermittlerschicht eine Ti-Schicht ist.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei die Gesamthöhe der Elektrodenstrukturen zwischen 5% und 10% der Wellenlänge der akustischen Oberflächenwelle beträgt.
- Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 15, wobei die dielektrische Schicht (
4 ) eine Schicht aus Siliziumdioxid oder Siliziumnitrid ist.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004058016.2A DE102004058016B4 (de) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite |
JP2007543713A JP4940148B2 (ja) | 2004-12-01 | 2005-10-20 | 高い帯域幅を伴う、音響表面波で作動する構成素子 |
US11/720,576 US7589453B2 (en) | 2004-12-01 | 2005-10-20 | Wide bandwidth acoustic surface wave component |
PCT/EP2005/011310 WO2006058579A1 (de) | 2004-12-01 | 2005-10-20 | Mit akustischen oberflächenwellen arbeitendes bauelement mit hoher bandbreite |
KR1020077014210A KR101220241B1 (ko) | 2004-12-01 | 2005-10-20 | 광 대역폭 탄성 표면파 컴포넌트 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004058016.2A DE102004058016B4 (de) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102004058016A1 true DE102004058016A1 (de) | 2006-06-08 |
DE102004058016B4 DE102004058016B4 (de) | 2014-10-09 |
Family
ID=35511007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102004058016.2A Active DE102004058016B4 (de) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7589453B2 (de) |
JP (1) | JP4940148B2 (de) |
KR (1) | KR101220241B1 (de) |
DE (1) | DE102004058016B4 (de) |
WO (1) | WO2006058579A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2068442A1 (de) * | 2006-09-25 | 2009-06-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Grenzschallwellenvorrichtung |
US8436510B2 (en) | 2008-04-30 | 2013-05-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Boundary acoustic wave device |
DE102008033704B4 (de) * | 2008-07-18 | 2014-04-03 | Epcos Ag | Elektronisches Bauelement |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2836687A1 (fr) * | 2002-03-04 | 2003-09-05 | Gene Signal | Genes impliques dans la regulation de l'angiogenese, preparations pharmaceutiques les contenant et leurs applications |
DE102006039515B4 (de) * | 2006-08-23 | 2012-02-16 | Epcos Ag | Drehbewegungssensor mit turmartigen Schwingstrukturen |
US20100011103A1 (en) * | 2006-09-28 | 2010-01-14 | Rayv Inc. | System and methods for peer-to-peer media streaming |
DE102006048879B4 (de) * | 2006-10-16 | 2018-02-01 | Snaptrack, Inc. | Elektroakustisches Bauelement |
EP2175556B1 (de) * | 2007-07-30 | 2014-09-03 | Murata Manufacturing Co. Ltd. | Elastische Wellenvorrichtung und Herstellungsverfahren dafür |
DE102008034372B4 (de) * | 2008-07-23 | 2013-04-18 | Msg Lithoglas Ag | Verfahren zum Herstellen einer dielektrischen Schicht in einem elektroakustischen Bauelement sowie elektroakustisches Bauelement |
JPWO2010116783A1 (ja) | 2009-03-30 | 2012-10-18 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US8664836B1 (en) * | 2009-09-18 | 2014-03-04 | Sand 9, Inc. | Passivated micromechanical resonators and related methods |
JP5392353B2 (ja) * | 2009-10-19 | 2014-01-22 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
JP2011114692A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Seiko Instruments Inc | 圧電振動片、圧電振動子、圧電振動子の製造方法、発振器、電子機器および電波時計 |
DE102009056663B4 (de) * | 2009-12-02 | 2022-08-11 | Tdk Electronics Ag | Metallisierung mit hoher Leistungsverträglichkeit und hoher elektrischer Leitfähigkeit und Verfahren zur Herstellung |
US8040020B2 (en) * | 2010-02-17 | 2011-10-18 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Encapsulated active transducer and method of fabricating the same |
DE102010034121A1 (de) * | 2010-08-12 | 2012-02-16 | Epcos Ag | Mit akustischen Wellen arbeitendes Bauelement mit reduziertem Temperaturgang der Frequenzlage und Verfahren zur Herstellung |
JP5561057B2 (ja) * | 2010-09-15 | 2014-07-30 | 株式会社村田製作所 | 電子部品及びその製造方法 |
JP5562441B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2014-07-30 | 京セラ株式会社 | 弾性波素子およびそれを用いた弾性波装置 |
JP5751887B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-07-22 | 京セラ株式会社 | 弾性波素子およびそれを用いた弾性波装置 |
KR101853740B1 (ko) * | 2011-07-27 | 2018-06-14 | 삼성전자주식회사 | 체적 음향 공진기 및 체적 음향 공진기를 이용한 듀플렉서 |
US20130231042A1 (en) * | 2011-09-01 | 2013-09-05 | Gabe Coscarella | Vent plate with weather barrier for an exterior wall |
JP2017503432A (ja) * | 2014-01-15 | 2017-01-26 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | 電子音響フィルタおよび電子音響フィルタを製造する方法。 |
WO2016017129A1 (en) * | 2014-07-28 | 2016-02-04 | Skyworks Panasonic Filter Solutions Japan Co., Ltd. | Acoustic wave elements, antenna duplexers, modules and electronic devices using the same |
US9634644B2 (en) | 2014-07-28 | 2017-04-25 | Skyworks Filter Solutions Japan Co., Ltd. | Acoustic wave elements and antenna duplexers, and modules and electronic devices using same |
JP2017157944A (ja) | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置およびそれを用いた送受信フィルタを有するデュプレクサ |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5933894A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-23 | 電気化学工業株式会社 | 混成集積用回路基板の製造法 |
JP3379049B2 (ja) * | 1993-10-27 | 2003-02-17 | 富士通株式会社 | 表面弾性波素子とその製造方法 |
JP3407459B2 (ja) | 1995-03-23 | 2003-05-19 | 株式会社村田製作所 | 表面波共振子フィルタ |
JPH0969748A (ja) * | 1995-09-01 | 1997-03-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Sawデバイスおよびその製造方法 |
JP3430745B2 (ja) * | 1995-11-08 | 2003-07-28 | 松下電器産業株式会社 | Sawデバイス |
JPH09199976A (ja) * | 1996-01-18 | 1997-07-31 | Hitachi Ltd | 弾性表面波素子電極 |
JPH10247835A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Kokusai Electric Co Ltd | ラブ波型弾性表面波デバイス |
US6297580B1 (en) * | 1998-04-21 | 2001-10-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and production method thereof and mobile communication equipment using it |
TW465179B (en) * | 1999-05-27 | 2001-11-21 | Murata Manufacturing Co | Surface acoustic wave device and method of producing the same |
US6339276B1 (en) * | 1999-11-01 | 2002-01-15 | Agere Systems Guardian Corp. | Incremental tuning process for electrical resonators based on mechanical motion |
US6909341B2 (en) * | 2000-10-23 | 2005-06-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Surface acoustic wave filter utilizing a layer for preventing grain boundary diffusion |
JP3780947B2 (ja) * | 2002-01-18 | 2006-05-31 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
DE10206369B4 (de) * | 2002-02-15 | 2012-12-27 | Epcos Ag | Elektrodenstruktur mit verbesserter Leistungsverträglichkeit und Verfahren zur Herstellung |
JP4060090B2 (ja) * | 2002-02-15 | 2008-03-12 | 沖電気工業株式会社 | 弾性表面波素子 |
JP3969311B2 (ja) * | 2003-01-20 | 2007-09-05 | 株式会社村田製作所 | 端面反射型弾性表面波装置 |
JP2004254291A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-09-09 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置 |
JP2004242182A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波デバイス |
EP1947763A3 (de) | 2003-02-10 | 2009-01-14 | Murata Manufacturing Co. Ltd. | Randschallwelleneinrichtung |
JP3865712B2 (ja) * | 2003-05-26 | 2007-01-10 | 富士通メディアデバイス株式会社 | 弾性表面波デバイス |
-
2004
- 2004-12-01 DE DE102004058016.2A patent/DE102004058016B4/de active Active
-
2005
- 2005-10-20 US US11/720,576 patent/US7589453B2/en active Active
- 2005-10-20 KR KR1020077014210A patent/KR101220241B1/ko active IP Right Grant
- 2005-10-20 WO PCT/EP2005/011310 patent/WO2006058579A1/de active Application Filing
- 2005-10-20 JP JP2007543713A patent/JP4940148B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2068442A1 (de) * | 2006-09-25 | 2009-06-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Grenzschallwellenvorrichtung |
EP2068442A4 (de) * | 2006-09-25 | 2013-11-20 | Murata Manufacturing Co | Grenzschallwellenvorrichtung |
US8436510B2 (en) | 2008-04-30 | 2013-05-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Boundary acoustic wave device |
DE112009000963B4 (de) * | 2008-04-30 | 2015-11-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Grenzschallwellenvorrichtung |
DE102008033704B4 (de) * | 2008-07-18 | 2014-04-03 | Epcos Ag | Elektronisches Bauelement |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7589453B2 (en) | 2009-09-15 |
KR20070073992A (ko) | 2007-07-10 |
DE102004058016B4 (de) | 2014-10-09 |
US20080012450A1 (en) | 2008-01-17 |
JP4940148B2 (ja) | 2012-05-30 |
JP2008522514A (ja) | 2008-06-26 |
WO2006058579A1 (de) | 2006-06-08 |
KR101220241B1 (ko) | 2013-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102004058016B4 (de) | Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement mit hoher Bandbreite | |
DE112015001771B4 (de) | Filtervorrichtung für elastische Wellen | |
DE112011104653B4 (de) | Oberflächenschallwellen-Bauelement | |
DE102006035874B3 (de) | Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Filter | |
DE10302633B4 (de) | SAW-Bauelement mit verbessertem Temperaturgang | |
DE102004037819A1 (de) | Elektroakustisches Bauelement mit geringen Verlusten | |
DE102015116223B4 (de) | SAW-Filter mit unterdrückter Scher-Mode | |
DE102009011639A1 (de) | Reaktanzfilter mit steiler Flanke | |
WO2015135717A1 (de) | Baw-resonator mit temperaturkompensation | |
DE112009001922T5 (de) | Vorrichtung für elastische Wellen | |
WO2000076065A1 (de) | Akustisches oberflächenwellenfilter | |
DE10246791A1 (de) | Mit akustischen Volumenwellen arbeitender Resonator und Schaltung mit dem Resonator | |
WO2006094569A1 (de) | Duplexer mit verbesserter leistungsverträglichkeit | |
DE112014003731B4 (de) | Bauelement für elastische Oberflächenwellen und elektronische Komponente | |
WO2007073722A1 (de) | Mit akustischen wellen arbeitender wandler und filter mit dem wandler | |
DE102015116224B4 (de) | SAW-Filter mit zusätzlichem Pol | |
DE102005009358B4 (de) | Lötfähiger Kontakt und ein Verfahren zur Herstellung | |
DE102011011377B4 (de) | Mit akustischen Wellen arbeitendes Bauelement | |
DE112007000373T5 (de) | Grenzwellenbauelement und Verfahren zum Herstellen desselben | |
WO2002067423A1 (de) | Akustisches oberflächenwellenbauelement | |
DE102004048688B4 (de) | Leistungs-Halbleitervorrichtung | |
DE102005009359A1 (de) | Bandpassfilter | |
EP0358040B1 (de) | Leitfähige Oberflächenschicht | |
DE10358347B4 (de) | Oberflächenwellenfilter | |
DE102009018879A1 (de) | Bodenelektrode für Bulk Acoustic Wave (BAW) Resonator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed |
Effective date: 20111027 |
|
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R083 | Amendment of/additions to inventor(s) | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: SNAPTRACK, INC., SAN DIEGO, US Free format text: FORMER OWNER: EPCOS AG, 81669 MUENCHEN, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: BARDEHLE PAGENBERG PARTNERSCHAFT MBB PATENTANW, DE |