DE3038818A1 - Fotografische, lichtempfindliche materialien - Google Patents
Fotografische, lichtempfindliche materialienInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft fotografische, lichtempfindliche
Silberhalogenidmaterialien, welche verbesserte antistatische
Eigenschaften aufweisen, und sie betrifft insbesondere fotografische, lichtempfindliche Silberhalogenidmaterialien,
welche verbesserte antistatische Eigenschaften aufweisen, ohne daß die fotografischen Eigenschaften der fotografischen
Materialien nachteilig beeinflußt werden.
Wenn fotografische, lichtempfindliche Materialien miteinander oder mit der Oberfläche eines anderen Materials in Berührung
kommen oder während der Herstellung oder der Verwendung abgestreift
werden, sammeln sich durch die Kontaktreibung oder durchdas Abstreifen oft elektrische Ladungen auf ihnen an, da
sie gewöhnlich einen elektrisch isolierenden Träger und eine oder mehrere fotografische Schichten umfassen.
Diese angesammelten elektrostatischen Ladungen verursachen viele Probleme. Das größte Problem besteht darin, daß eine
lichtempfindliche Emulsionsschicht durch die Entladung der elektrostatischen Ladungen mit Licht belichtet wird; das heißt,
daß punktförmige Flecken oder zweigförmige oder federförmige
Linien auftauchen, wenn ein fotografischer Film entwickelt wird. Man nennt dies "statische Punkte", und diese verringern
den Wert von fotografischen Filmen erheblich. In manchen Fällen ist das Produkt vollständig wertlos. Wenn solche statischen
Punkte beispielsweise in medizinischen oder industriellen Röntgenfilmen auftreten, ist offensichtlich, daß diese zu Fehldiagnosai
und einer darauf basierenden falschen Entscheidung führen können. Das Problem ist dadurch noch größer, daß man das
Auftreten eines derartigen Phänomens erst dann erkennen kann, wenn das fotografische Bild entwickelt wird. Darüber hinaus
können angereicherte elektrostatische Ladungen auch zu Sekundärproblemen führen, wie beispielsweise demjenigen, daß,unter
dem Einfluß der Ladungen Staub auf die Oberfläche des Films gezogen und ein gleichförmiger Überzug nicht erhalten werden
kann.
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Wie bereits oben erwähnt wurde, werden die elektrostatischen Ladungen oft durch Kontaktreibung oder durch Abstreifen während
der Herstellung oder der Verwendung auf den fotografischen, lichtempfindlichen Materialien angesammelt. Bei der Herstellung
können beispielsweise die Kontaktreibung zwischen dem fotografischen Film und einer Rolle oder das Abstreifen oder die Abtrennung
der Emulsionsschicht von der Rückseite des Trägers eine Anreicherung an elektrostatischen Ladungen verursachen.
Bei fertigen Gegenständen können die Abtrennung der Emulsionsschicht von der Rückseite des Trägers, was beim Aufwickeln oder
Austauschen des fotografischen Films auftritt, oder das Abstreifen aufgrund des Kontakts von beispielsweise einem Röntgenfilm
mit mechanischen Teilen in einer automatischen Kamera oder einem Fluorszenzverstärkungsschirm, zu der Ansammlung von elektrostatischen
Ladungen führen. Darüber hinaus können elektrostatische Ladungen auch durch Kontakt des Films mit Umhüllungsmaterialien verursacht bzw. erzeugt werden.
Die durch Ansammlung von elektrostatischen Ladungen auf dem fotografischen, lichtempfindlichen Material induzierten statischen
Punkte werden mit zunehmender Empfindlichkeit des fotografischen, lichtempfindlichen Materials und mit zunehmender
Verarbeitungsgeschwindigkeit immer bedeutsamer. In jüngerer Zeit sind derartige statische Punkte zu einem immer größeren Problem
geworden, da fotografische, lichtempfindliche Materialien mit erhöhter Empfindlichkeit erhältlich geworden und in größerem
Umfange benützt worden sind, und auch wegen der hohen Geschwindigkeiten,
die beim überziehen, beim Fotografieren, beim automatischen
Verarbeiten, etc., angewandt werden.
Das beste Verfahren, das bislang zur Verfügung stand, um diese durch statische Elektrizität verursachten Probleme zu lösen,
bestand darin, die elektrische Leitfähigkeit zu erhöhen, damit
sich die elektrostatischen Ladungen verteilen bzw. abgeleitet werden, bevor sich die angesammelten elektrostatischen Ladungen
entladen.
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Es wurde deshalb ein Verfahren zur Erhöhung der elektrischen
Leitfähigkeit eines Trägers zur Verwendung in fotografischen,
lichtempfindlichen Materialien oder von verschiedenen, beschichteten Oberflächenschichten gesucht, und es sind Versuche
unternommen worden, verschiedene hygroskopische Substanzen und wasserlösliche, anorganische Salze, bestimmte oberflächenaktive
Mittel, Polymere, etc., zu diesem Zweck einzusetzen. Beispielsweise
die Polymeren, die in den üS-PS'en 2 882 157, 2 972 535, 3 062 785, 3 262 807, 3 514 291, 3 615 531, 3 753 716,
3 938 999, etc., beschrieben werden, die oberflächenaktiven
Mittel, die in den US-PS'en 2 982 651, 3 428 456, 3 457 076,
3 454 625, 3 552 972, 3 655 387, etc., beschrieben werden.
Zinkoxid, Halbleiter, kolloidales Siliciumdioxid, etc., welche in den US-PS'en 3 062 700, 3 245 833, 3 525 621 beschrieben
werden.
Viele dieser Substanzen variieren jedoch in ihrer Fähigkeit, und zwar in Abhängigkeit von der Art des verwendeten Trägers
und der fotografischen Zusammensetzung; das heißt, daß man bei ihrer Verwendung in bestimmten speziellen Eilmträgern, fotografischen
Emulsionen, oder anderen fotografischen Materialien gute Resultate erzielen kann, während sie bei ihrer Verwendung
in anderen Filmträgern oder fotografischen Materialien nicht nur keine antistatischen Eigenschaften aufweisen, sondern sogar noch,
einen nachteiligen Einfluß auf die fotografischen Eigenschaften haben.
Es ist insbesondere schwierig, hydrophile kolloidale Schichten daran zu hindern, eine Ladung aufzunehmen; insbesondere ist die
Erniedrigung der Oberflächenbeständigkeit bei niedrigen Feuchtigkeitswerten nicht ausreichend, und das Problem der Haftung
von fotografischen, lichtempfindlichen Materialien untereinander oder zwischen fotografischen, lichtempfindlichen Materialien
einerseits und anderen Substanzen andererseits bei hohen Temperaturen und hohen Feuchtigkeitswerten tritt öfters auf.
Weiterhin können die oben beschriebenen Substanzen oftmals nicht
verwendet werden, da sie einen negativen Einfluß auf die foto-
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grafischen Eigenschaften haben, wie beispielsweise auf die Empfindlichkeit einer fotografischen Emulsion, Schleierbildung,
Granularität, Bildschärfe, etc., oder sie bilden einen Schaum bzw. einen Schlamm mit einem Fixiermittel, selbst wenn sie ausgezeichnete
antistatische Eigenschaften haben können. Während es beispielsweise allgemein bekannt ist, daß auf Polyäthylenoxid
basierende Verbindungen eine antistatische Wirkung haben, üben sie oft einen nachteiligen Einfluß auf die fotografischen
Eigenschaften aus, wie beispielsweise Zunahme der Schleierbildung, Desensibilisierung, Beeinträchtigung bzw. Zerstörung
der Granularität, etc. Es war insbesondere schwierig, solchen lichtempfindlichen Materialien die gewünschten antistatischen
Eigenschaften zu verleihen, die aus einem Träger und auf beiden Seiten des Trägers aufgebrachten fotografischen Emulsionen bestehen,
wie medizinische, lichtempfindliche, direkte Röntgenmaterialien,
ohne daß man dabei die fotografischen Eigenschaften dieser Materialien nachteilig beeinflußte.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, fotografische, lichtempfindliche
Materialien zur Verfügung zu stellen, die verbesserte, antistatische Eigenschaften aufweisen.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Verfügung zu stellen, mit welchem man fotografischen, lichtempfindlichen
Materialien auf wirksame Weise antistatische Eigenschaften verleihen kann, ohne die fotografischen Eigenschaften
dieser Materialien nachteilig zu beeinflussen, wie beispielsweise die Empfindlichkeit, die fotografische Schleierbildung,
die Granularität, die Bildschärfe, etc.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, fotografische, lichtempfindliche Materialien zur Verfügung zu stellen, die
verbesserte antistatische Eigenschaften aufweisen, und die in einem Fixierbad bzw. Fixiermittel keinen Schlamm oder Schaum
erzeugen.
Erfindungsgemäß wurde gefunden, daß die genannten Aufgaben dadurch
gelöst werden können, daß man in eine Oberflächenschutz-
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schicht ein Polymeres oder Copolymeres mit einer sich wiederholenden
Einheit der Betainstruktur der allgemeinen Formel (I)
einarbeitet:
CD
A-B
in welcher R1 Wasserstoff oder den Methylrest, A eine -COO
oder -CONH-Gruppe und B die Reste
fr .-■■"■
I q
R4
f& -, oder
R4
R4
-N i
q-iP
bedeuten, in welchen R3 und R3 einen Alkylrest mit 1 bis 6
Kohlenstoffatomen, beispielsweise den Methylrest und den Äthylrest; R^ Wasserstoff oder den Methylrest; R5 einen Alkyl-
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rest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen; ρ eine Zahl von 2 bis 6;
q eine Zahl von 1 bis 4, wenn R4 Wasserstoff bedeutet, und
die Zahl 1, wenn R4 den Methylrest bedeutet; und D eine -COO
oder -SO3 Gruppe bedeuten.
Unter den sich wiederholenden Einheiten der allgemeinen Formel (I) werden die sich wiederholenden Einheiten der allgemeinen
Formel (II) besonders bevorzugt:
" fl
,-C> R
> I ι L
CU)
in welcher A, R.., R„, R3, R4, p, q und D die gleiche Bedeutung
wie oben haben.
Das erfindungsgemäß in eine Oberflächenschutzschicht eingearbeitete
Polymere kann ein Homopolymeres mit einer sich wiederholenden Einheit der Formel (I) oder ein Copolymeres sein, das aus
einem Monomeren der allgemeinen Formel (I) und Comonomeren erhalten worden ist. Beispiele für Comonomere, die bei der Bildung
von erfindungsgemäß verwendbaren Copolymeren eingesetzt . werden können, umfassen: Acrylsäure, Methacrylsäure und ihre
Alkylester (beispielsweise Methylmethacrylat, Äthylacrylat,
Hydroxyäthylacrylat, Propylacrylat, Cyclohexylacrylat, 2-Äthylhexylacrylat,
Decylacrylat, ß-Cyanoäthylacrylat, ß-Chloroäthylacrylat,
2-Äthoxyäthylacrylat, Sulfopropylmethacrylat, etc.),
Vinylester (beispielsweise Vinylacetat, Vinylpropionat, Vinylbutyrat,
etc.), Vinyläther {beispielsweise Methylvinyläther, Butylvinyläther, Oleylvinyläther, etc.), Vinylketone (beispielsweise Methylvinylketon, Äthylvinylketon, etc.), Styrole
(beispielsweise Styrol, Methylstyrol, Dimethy!styrol, 2,4,6-Trimethylstyrol,
Äthylstyrol, Laurylstyrol, Chlorostyrol,
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Methoxystyrol, Cyanostyrol, Chloromethylstyrol, Vinylbenzoesäure,
Styrolsulfonsäure, e£ -Methyl styrol, etc.), heterocyclische
Vinylverbindungen (beispielsweise Vinylpyridin, Vinylpyrrolidon, Vinylimidazol, etc.)/ Acrylnitril, Vinylchlorid,
Vinylidenchlorid, Äthylen, Propylen, Butadien, Diisobutylen. Isopren, Chloropren, etc. Die Erfindung ist nicht
auf die oben beschriebenen copolymerisierbaren Monomeren beschränkt, sondern es kann jedes Copolymere verwendet werden,
das die oben genannte Struktureinheit aufweist. Bevorzugte Copolymere sind solche, die wenigstens 50 Mol-% der durch die
allgemeine Formel (I) angegebenen Einheiten umfassen.
Beispiele von typischen Homopolymeren odfer Copolymeren, die
im Rahmen der Erfindung eingesetzt werden können, sind unten dargestellt. Die Copolymerisationverhältnisse (x, y) sind
beispielhaft, und die Erfindung ist nicht auf diese beschränkt.
»Ho CH0 CH0 -
CH
CONHCH2CH2CH2 -^i-CH3
CH
CONHCH-CH9CH0 -13^-
LLLi
CH2CH2COOt
CH.
CONHCH-CH0CH0 -®N-CHT
LLLi
ύ
CHCOO0
CH,
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<?2H5
CONHCH2CH2-^-C2H5
CH,
CONHCH2CH2CH2 -1^-
(CH2)4SO.
CH
CH-
COOCH9CH7-^-CH,
CH,
COONa
CH2OXT
x:y = 10:90
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CH-
COOC4Hg CONHCh2CH2CH2-N-CH3
x:y - 40:60
-(CH, -CH^-£CH, -CHh
CH.
CH2COCr
x:y = 20:80
CONHCH2CH2CH2N·(CH3)2
-^CH7-CHh,
x:y = 10:90
CH,
CONH-
CH2 CH7COO^
30017/QS43
Diese Verbindungen können gemäß den in den US-PS'en 2 846 417,
3 411 912 und 3 832 185 und in der japanischen PatentverÖffentlichungsnuitnner
30293/71 beschriebenen Verfahren hergestellt werden.
Nachfolgend wird die Herstellung von typischen Beispielen für Polymere oder Copolymere mit sich wiederholenden Einheiten der
allgemeinen Formel (I) beschrieben.
Herstellung des Ausgangsmaterials für die Verbindung (1) In ein Reaktionsgefäß werden 94,5 g (1 mol) Monochloressigsäure
und 350 ml Methanol.gegeben, und dÜese werden unter Kühlung
mit Eiswasser gerührt. Zu dieser Mischung werden nach und nach 193 g einer 28 %igen Methanollösung von Natriummethylat
zugetropft, so daß die Temperatur der erhaltenen Mischung 300C
nicht übersteigt. Dann werden eine gemischte Lösung von 156,2 g N-(N1,N1-Dimethyl-3-aminopropyl)-acrylamid der Formel
CH
CH2 = CH-CONH(CH9) N' 3
^CH3
und 300 ml Methanol hinzugefügt (zu dieser Zeit werden auch 0,5 g Phenothiazin als Polymerisationsinhibitor zugesetzt).
Anschließend wird das Reaktionssystem auf eine Temperatur von
etwa 600C erwärmt und das Rühren für weitere 10 Stunden fortgesetzt.
Nach Vervollständigung der Reaktion wird das gebildete NaCl entfernt und das Reaktionsprodukt in einer großen Menge Aceton
umkristallisiert. Die Identifizierung des Reaktionsproduktes erfolgte durch NMR-Analyse, Elementaranalyse, IR-Spektroskopie,
und dergleichen. Die Ausbeute beträgt 145 g (etwa 68 %) .
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Herstellungsbeispiel 2 Herstellung der Verbindung (1)
In ein Reaktionsgefäß werden 50 g der in Herstellungsbeispiel 1 hergestellten Verbindung und 150 ml Methanol gegeben, und diese
werden unter Stickstoff und Erhitzen auf 600C gerührt. Zu dieser
Mischung werden 20 ml Methanol, welches 0,2 g AIBN (Azobisisobutyronitril)
der Formel
ff f* /"1IT :
^C-N=N-C ό
3 CN CN 3
enthält, zugetropft, und man rührt weitere 10 Stunden. Nach
Beendigung der Reaktion wird die Reaktionsmischung zur Entfernung von nicht umgesetzten Monomeren · einer Dialyse unterzogen
und dann gefriergetrocknet, um ein hygroskopisches weißes Pulver zu erhalten. Die Ausbeute beträgt 41 g (82 I).
Herstellungsbeispiel 3 Herstellung von Verbindung (6)
In einen Dreihalskolben werden 157,2 g (1 mol) N,N-Dimethyl·-
aminoäthylmethacrylat und 150 ml Methylethylketon gegeben und
unter Stickstoff bei -200C gerührt. Zu dieser Mischung wird
eine gemischte Lösung von 72,1 g ß-Propiolacton und 100 ml Methyläthylketon hinzugetropft. Während dieser Zeit wird die
Temperatur in dem System so kontrolliert, daß sie -100C nicht
überschreitet. Die Reaktionslösung wird dann bei -200C über
Nacht stehengelassen, und man erhält weiße Kristalle. Die Ausbeute beträgt 98 %. ·
Die Identifizierung der Verbindungen erfolgt durch übliche Verfahren.
Bei der Polymerisation des so erhaltenen Betainmonomeren auf die gleiche Weise wie in Herstellungsbeispiel 2 erhält man ein
weißes Pulver, welches ein Polymeres der Formel (6) ist.
130017/0849 .
Die Polymeren oder Copolymeren mit den sich wiederholenden
Einheiten der allgemeinen Formel (T) werden zu der Oberflächenschutzschicht
von lichtempfindlichen, fotografischen Materialien hinzugefügt. Mit dem im Rahmen der vorliegenden Erfindung verwendeten
Ausdruck "Oberflächenschutzschicht" ist eine Oberflächenschicht
gemeint, die auf der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht der fotografischen, lichtempfindlichen
Materialien anwesend ist. Gewöhnlich enthält sie ein hydrophiles Kolloid als Binder, wie Gelatine, und falls notwendig, kann sie
ein oberflächenaktives Mittel, einen Gelatinehärter, ein Mattierungsmittel, ein Schmiermittel, einen Polymerenlatex, etc.,
enthalten.
Die im Rahmen der Erfindung verwendeten Polymeren oder Copolymeren
mit sich wiederholenden Einheiten der Formel (I) werden in Wasser, Methanol oder einer gemischten Lösung von diesen gelöst,
und dann zu einer Überzugslösung, die zur Herstellung der Oberflächenschutzschicht dient, hinzugefügt. Die erhaltene
Mischung wird durch Tauchbeschichtung, Luftrakelbeschichtung
oder eine Extrudierungsbeschichtung unter Verwendung eines Trichters, wie beispielsweise in der US-PS 2 681 294 beschrieben,
beschichtet. Alternativ hierzu können zwei oder mehrere Schichten gleichzeitig aufgetragen werden, beispielsweise durch Verfahren,
die in den US-PS1en 3 508 947, 2 941 898, 3 526 528, etc.,
beschrieben werden, oder es wird ein fotografisches, lichtempfindliches
Material in eine antistatische Lösung getaucht, die die erfindungsgemäßen Polymeren oder Copolymeren mit den sich
wiederholenden Einheiten der allgemeinen Formel (I) enthält. Darüber hinaus kann eine antistatische Lösung, die die erfindungsgemäßen
Verbindungen enthält, auf die Schutzschicht aufgetragen werden.
Die Menge an Polymerem oder Copolymerem mit der sich wiederholenden
Einheit der allgemeinen Formel (I) beträgt vorzugsweise 0,005 bis 5 g/m2 des fotografischen Films, und insbesondere
0,01 bis 1,0 g/m2 des fotografischen Films.
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Natürlich variiert die oben angegebene Menge in Abhängigkeit von der Art der fotografischen Basis, der Fotografie, der Zusammensetzung,
der Form, und dem Auftragungsverfahren.
Als Träger für die erfindungsgemäßen fotografischen, lichtempfindlichen
Materialien können ein Cellulosenitratfilm, ein Celluloseacetatfilm, ein Celluloseacetatbutyratfilm, ein
Celluloseacetatpropionatfilm, ein Polystyrolfilm, ein PoIyäthylenterephthalatfilm,
ein Polycarbonatfilm, von diesen Filmen hergestellte Laminate, etc., verwendet werden. Weiterhin
können ein Barytpapier und ein mit einem ed -Olefin-(enthaltend
2 bis 10 Kohlenstoffatome)-Polymeren (beispielsweise Polyäthylen,
Polypropylen, Äthylen/Buten-Copolymeres,* etc.) beschichtetes
oder laminiertes Papier verwendet werden.
In Abhängigkeit von dem Zweck, für den das fotografische, lichtempfindliche
Material gedacht ist, kann ein transparenter oder ein opaker Träger verwendet werden. Als transparente Träger
können nicht nur ein farbloser, transparenter Träger, sondern auch ein transparenter Träger verwendet werden, der durch Zugabe
eines Farbstoffes oder eines Pigmentes gefärbt worden ist.
Wenn die Haftstärke zwischen dem Träger und der fotografischen
Emulsionsschicht nicht ausreichend ist, wird gewöhnlich eine Schicht, die sowohl in bezug auf den Träger als auch in bezug
auf die fotografische Emulsionsschicht Haftungseigenschaften
aufweist, als eine Unter- bzw. Zwischenschicht vorgesehen. Um die Haftungseigenschaften noch weiter zu verbessern, kann die
Oberfläche des Trägers Vorbehandlungen unterworfen werden, die üblicherweise benutzt werden, beispielsweise Koronaentladung,
Bestrahlung mit UV-Strählen, Flaminbehandlung, etc.
Die Oberflächenschutzschicht und andere fotografische Schichten des erfindungsgemäßen fotografischen, lichtempfindlichen Materials,
können die folgenden Binder enthalten: beispielsweise, als hydrophile Kolloide, Proteine, wie Gelatine, kolloidales
Albumin, Kasein, etc.} Celluloseverbindungen wie Carboxymethylcellulose,
Hydroxyäthylcellulose, etc.; Zuckerderivate, wie
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Agar, Natriumalginat, Stärkederivate, etc.; synthetische
hydrophile Kolloide, wie Polyvinylalkohol, Poly-N-vinylpyrrolidon, Polyacrylsäurecopolymere, Polyacrylamide oder ihre Derivate,
oder teilweise hydrolisierte Produkte von diesen, etc. Diese Kolloide können, falls gewünscht, in Mischung von zwei oder
mehreren verwendet werden.
Von diesen Bindern wird Gelatine am häufigsten verwendet. Der Ausdruck "Gelatine" umfaßt hier die sogenannte kalkbehandelte
Gelatine, und enzymbehandelte Gelatine. Ein Teil der Gelatine oder die gesamte Gelatine kann durch eine synthetische polymere
Substanz ersetzt werden. Darüber hinaus können sogenannte Gelatinederivate verwendet werden, das heißt solche Produkte,
die durch Behandlung oder Modifizierung der in der Gelatine enthaltenen funktioneilen Gruppen (beispielsweise eine Aminogruppe,
eine Iminogruppe, eine Hydroxygruppe oder eine Carboxygruppe) mit einem Reagens erhalten werden, welches eine Gruppe
aufweist, die mit den genannten Gruppen reagieren kann, oder solche Produkte, die durch Ersetzen durch Pfropfpolymere erhalten
werden, an welche die Molekülketten von hochpolymeren Substanzen gebunden sind.
Die zur Herstellung der fotografischen, lichtempfindlichen Materialien
der vorliegenden Erfindung verwendeten Silberhalogenidemulsionen werden gewöhnlich so hergestellt, daß man eine
Lösung von einem wasserlöslichen Silbersalz (beispielsweise Silbernitrat) und eine Lösung von einem wasserlöslichen Halogensalz
(beispielsweise Kaliumbromid) in Gegenwart einer Lösung eines wasserlöslichen Polymeren, wie Gelatine, mischt. Als
Silberhalogenid können gemischte Silberhalogenide, wie Silberchlorobromid,
Silberjodobromid, Silberchlorojodobromid, etc., und auch Silberchlorid und Silberbromid verwendet werden.
Die Silberhalogenidteilchen werden auf bekannte und übliche Weise hergestellt. Beispielsweise durch das Einzelstrahlverfahren,
das Doppelstrahlverfahren, das kontrollierte Doppelstrahlverfahren, etc. Die fotografischen Emulsionen können durch das
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Aminoniakver fahren, das neutrale Verfahren, oder durch das
saure Verfahren, etc., hergestellt werden, welche im allgemeinen verwendet und beschrieben werden in C.E.K. Mees, The Theory of
the Photographic Process, 3. Ausgabe, Macmillan Co., P. Glafikides,
Chimie Photographique , Paul Montel, etc. Die so hergestellten
Silberhalogenidteilchen können, ohne daß man sie größer macht, empfindlicher gemacht werden, indem man sie in Gegenwart
von chemischen Sensibilisierungsmitteln erhitzt (beispielsweise Natriumthiosulfat, N,N,N1-Trimethylthioharnstoff, ein Thiocyanatkomplexsalz
von einwertigem Gold, ein Thioschwefelsäurekomplexsalz von einwertigem Gold, Zinn(II)-Chlorid, Hexamethylentetramin,
etc.) .
Die fotografische Emulsion kann, falls gewünscht, einer Spektralsensibilisierung
oder einer Farbintensivierungssensibilisierung unterzogen werden, und zwar durch Verwendung von Polymethin-Sensibilisierungsfarbstoffen,
wie Cyanin, Merocyanin, Carbocyanin, etc. , entweder allein oder in Kombination untereinander,
oder in Kombination mit Styrylfarbstoffen.
Der fotografischen Emulsion für die erfindungsgemäßen fotografischen,
lichtempfindlichen Materialien können verschiedene Verbindungen zugesetzt werden, um die Verringerung der Empfindlichkeit
und das Auftreten von Schleierbildung während der Herstellung, der Lagerung oder der Behandlung der fotografischen,
lichtempfindlichen Materialien zu verhindern. Als geeignete derartige Verbindungen sind zahlreiche heterocyclische Verbindungen,
beispielsweise 4-Hydroxy-6-methyl-1r3,3a,7-tetrazainden-3-methylbenzothiazol,
i-Phenyl-5-mercaptotetrazol, etc., quecksilberhaltige
Verbindungen, Mercaptoverbindungen, Metallsalze, etc., bekannt. Beispiele von geeigneten Verbindungen werden von
T.H. James und C.E.K. Mess in The Theory of the Photographic
Process, 3. Ausgabe, Macmillan Co. (1966) beschrieben.
Wenn die fotografische Silberhalogenidemulsion zur Herstellung eines farbfotografischen, lichtempfindlichen Materials verwendet
werden soll, kann der Kuppler in die Silberhalogenidemulsions-
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schicht eingearbeitet werden. Als solche Kuppler können 4-äquivalente Gelbkuppler auf Diketomethylenbasis und 2-äquivalente
Gelbkuppler auf Diketomethylenbasis verwendet werden, beispielsweise die Verbindungen, die in den US-PS'en 3 277 157,
3 408 194, 3 551 155 und in den japanischen Patentveröffentlichungen
(OPI) Nummern 26133/72, 66836/73, etc., beschrieben werden (der Ausdruck "OPI" wird für eine veröffentlichte, nicht
geprüfte japanische Patentanmeldung verwendet); weiterhin können verwendet werden die 4-äquivalenten oder 2-äquivalenten Magentakuppler
auf Pyrazolonbasis und auf Indazolonbasis, beispielsweise diejenigen Verbindungen, die in den US-PS'en 2 600 788,
3 214 437, 3 476 560 und in der japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 25133/72, etc., beschrieben wearden; die Cyankuppler
aufoC-Naphtho!basis und Phenolbasis, beispielsweise diejenigen
Verbindungen, die in den US-PS'en 2 474 293, 3 311 476,
3 481 741, ecc, beschrieben werden; und dergleichen. Darüber
hinaus können auch solche Kuppler verwendet werden, die in der Lage sind, Entwicklungskontrollmittel freizusetzen, also solche,
die in den US-PS'en 3 227 554, 3 253 924, 3 379 529, 3 617 291,
3 770 436, etc., beschrieben werden.
Die Silberhalogenidemulsionsschicht und andere hydrophile, kolloidale
Schichten in den erfindungsgemäßen fotografischen, lichtempfindlichen
Materialien können durch verschiedene organische oder anorganische Härter gehärtet werden (entweder allein oder
in Kombination untereinander). Typische Beispiele für derartige Härter umfassen Verbindungen auf Aldehydbasis, wie Mucochlorsäure,
Formaldehyd, Trimethylolmelamin, Glyoxazol, 2,3-Dihydroxy-1,4-dioxan,
2,3-Dihydroxy-5-methyl-1,4-dioxan, Succinaldehyd,
Glutaraldehyd, etc. ; aktive Vinylverbindungen, wie Divinylsulfon,
Methylenbismaleinimid, 1,3,5-Triacryloyl-hexahydro-striazin,
1,3,5-Trivinylsulfonyl-hexahydro-s-triazinbis-(vinylsulfonylmethyl)-äther,
1,3-Bis-(vinylsulfonylmethyl)-propanol-2,
Bis-(oC-vinylsulfonylacetamido)-äthan, etc.; aktive Halogenverbindungen,
wie 2,4-Dichloro-6-hydroxy-s-triazinnatriumsalz,
2,4-Dichloro-6-methoxy-s-triazin, etc.; Äthyleniminverbindungen,
wie 2,4,6-Triäthylenimino-s-triazin, etc., und dergleichen.
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Zu der erfindungsgemäßen, fotografischen Schicht können oberflächenaktive
Mittel, einzeln oder in Kombination untereinander, hinzugegeben werden. Diese oberflächenaktiven Mittel
werden gewöhnlich als Beschichtungshilfsmittel verwendet, sie
dienen manchmal jedoch auch anderen Zwecken, beispielsweise der Emulsionsdispersion, Verbesserungen der fotografischen Eigenschaften
(beispielsweise Sensibilisierung, etc.), Einstellung bzw. Regulierung der Beladung bzw. Auftragung, etc. Beispiele
für solche oberflächenaktive Mittel umfassen natürliche oberflächenaktive Mittel, wie Saponin, etc.; nichtionische oberflächenaktive
Mittel, wie solche oberflächenaktive Mittel auf der Basis von Alkylenoxid, Glycerin und Glycidol; kationische
oberflächenaktive Mittel, wie höhere Alkylamine, quaternäre Ammoniumsalze, heterocyclische Verbindungen, wie beispielsweise
Pyridin, etc., Phosphonium- oder Sulfoniumverbindungen, etc.; anionische oberflächenaktive Mittel, die saure Gruppen
enthalten, beispielsweise Carbonsäure, Sulfonsäure, Phosphorsäure,
Sulfate, Phosphate, etc.; und amphotere oberflächenaktive
Mittel, wie Aminosäuren, Aminosulfonsäuren, Schwefelsäure- oder Phosphorsäureester von Aminoalkoholen, etc.
Beispiele für derartige oberflächenaktive Mittel sind beschrieben in den US-PS'en 2 271 623, 2 240 472, 2 288 226,
2 739 891, 3 068 101, 3 158 484, 3 201 253, 3 210 191,
3 294 540, 3 415 649, 3 441 413, 3 442 654, 3 475 174,
3 545 974, 3 666 478, und 3 507 660, in der GB-PS 1 198 450 und in Ryohei Oda et al., Synthesis and Application of Surface
Active Agents, Maki Shoten, Tokyo (1964), A.W. Perry, Surface Active Agents, Interscience Publication Incorporated (1958)
und J.P. Sisley, Encyclopedia of Active Agents, Band 2,
Chemical Publish Co., (1964).
Die Einarbeitung des Polymeren oder Copolymeren mit der sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) in die
Oberflächenschutzschicht in Kombination mit oberflächenaktiven Mitteln auf Pluorbasis erhöht die antistatischen Eigenschaften
weiter. Als oberflächenaktive Mittel auf Fluorbasis, die eine
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solche Wirkung haben, werden vorzugsweise die Verbindungen der folgenden allgemeinen Formel (III) verwendet:
(Cf)-(Y)n (III)
in welcher (Cf) einen Rest bedeutet, der wenigstens 3 Fluoratome
und wenigstens 3 Kohlenstoffatome enthält und eine Valenz von η aufweist, und (Y) einen Rest bedeutet,- ausgewählt unter:
-COOM, -SO3M, -OSO3M5
-P-(OM)7, Ii l
R1
-R-. XU ,
\
R3
R3
/4
N-D-COOU ,
\ · R6
R5
/7
%-D-SO.
O-6AO3-R, -N L , and -N^ y
J R2 R10
130017/0849
in welchen M Wasserstoff, ein Kation (beispielsweise ein Alkalimetall,
Erdalkalimetall, eine quaternäre Ämmoniumbase, etc.), oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen;
-(AO)- einen Polyalkylenoxidrest, ausgewählt unter Polyoxyäthylen,
Polyoxypropylen und Polyoxyäthylen-Polyoxypropylen-Copolymeren,
wobei alle einen Polymerisationsgrad von 2 bis 100 aufweisen; R Wassertoff, einen Alkylrest mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen
(beispielsweise Methyl, Äthyl, Butyl, Octyl, Dodecyl, etc.),
oder einen Arylrest (beispielsweise Phenyl, Naphthyl, etc.);
R-,"R2, R_, R., R5, Rß, R7 und R„ jeweils einen Alkylrest mit
1 bis 4 Kohlenstoffatomen (beispielsweise Methyl, Äthyl, Butyl, etc.), oder einen Hydroxyalkylrest (beispielsweise Hydroxymethyl,
Jf-Hydroxypropyl, etc.); Rg und .R^q jeweils Wasserstoff
oder einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen (beispielsweise Methyl, Äthyl, sec.-Butyl, etc.); X ein Halogenatom
(beispielsweise Chlor, Brom, Jod, etc.) oder den Rest R-O-SO,,-
Q ^
0 ; Z ein Atom oder eine Gruppe von Atomen, die zur Bildung eines 5- oder 6-gliedrigen Ringes in Kombination mit N erforderlich
ist (beispielsweise zur Bildung eines Pyrrolringes, Imidazolinringes, Oxazolringes, Pyridinringes, Pyrimidinringes,
etc.); und D einen Alkylenrest mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen; und η eine Zahl von 1 oder 2 bedeuten.
Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel (III), die im Rahmen der vorliegenden Erfindung verwendet werden können,
sind nachfolgend dargestellt:
130017/0849
CHi)-I CF3CCF2)6COONH4
CHI)-2 CF3CCF2)9-CCH2)10-COOH
CHI)-5
CF3 CCF2)?SO2-N-CH2CH2OCCH2)3SO3Na
C3H7
(III)-4
C9H1. CF^ CFx-Ci
,2 5 j 3 j
CF,-C CH CF-COONa
3
C2H5
CiiD-5 Ci-CF7CCF-CF9).-COOH
ca
CHD-6 HCCF2CF2)5-COOH
130017/0849
(IID-7
HOOC- (CF2-CF) 4-COOH " " ""'' "
(IID-8 CJICCF0-CF)7CF0-COOk
(IID-9 . ·
CF3(CF2)6-CH=CH-(CH2)3-C00Na
CIII)-IO
CF3(CF2)3-CF-CCH2)1Q-COONa
CF3
CIII)-Il
• CF3(CF0)7-C0-N-(CH7)oC00H'
CH3
(IID-13
-CF2)3-C00Na
130017/08
CF3 (CF2)3-CH2CH2-SO2-N-CH2-COONa
C2H5
(III)-IS
CH
ι ·> (CF2)7SO2NH(CH2)3^k-
CH3
(IID-16 CF3(CF2)?S02NH
C3H7
CF^CCF9)-SO9-N-CH9CH9OH
C3H7
(III)-18 CF,- CCF9)_-SO9-N-CH9-COONa
J
LI
\
C2H5
CF7-CCF9)7-SO2-N-CH2-COOK
C3H7
130017/08A9
(ΙΙΙ)-ΖΟ
CF3CCF2)7-SO3K
SO3K
CF3CCF2)
ClII)-22 CF^CCF9)7-S07-N-CCH9).-COOK
C2H5
CIII)-25 CF7CCF9)T1-CH7-O-SO^Na
CF3CCF2)6-COOCCH2)3-SO3K
CHD-25 HCCF2)6-CH2-O-CCH2)3-SO3Na
CIII)-26
CH2-COOCH2 - CCF2)6-H
NaO3S-CH-COOCH2-CCF2)6-H
130017/08
303881
(IlD-27
CH2COOCH2-(CF2)6-H
,0CH-COOC0H17
NaO7S-CH-COOC53H
C1 .H7^-CH-COOCh" -CF7
SO3Na
CF7-C C-CHF-CF
3Il
C2F5 SO3Na
CHI)-SO
CH0-COO-CH0-CH0-N-SO0-C0F17
NaO7S-CH-COO-CH0-CH0-N-SO0-C0F17
j
LLx
Δ ο JLi
C3H7
(IID-31
NaO3S
C-(CF2)4-H
13 0 017/0849
(IlD-32
Il /OH H-(CF7U-CH7-P.
■ a- c OH
CIID-35
H /ONa H-CCF2)R-P
2
(IID-34 CF3 (CF2)7-SO2-N-CH2CH2OCCH2CH2>O5ygH
C3H7
CIID-35
^2F5 fF3
CF7C C-CHF-CF,
C2F5 CH2-O
CF3-CCF2) Ί-0
CF3- (CF2) ^N-CH2CH2-OfCH2CH2
C2H5
130017/08 A
CF3-(CF2) 7-SO2-N-CCH2)
C2H5 CH3
CF3CCF2)
CHI) -40
CF, CCF-)-.CONHCH9-^
ΟΔΌ
L
CIID-41
C_FC CF7 CF7 C,HC
CF7-C CH CF-CONHCCH-) --^N-C-H1. «CfiP
C2F5 CH2CH2OH
CH7 I CF3CCF2)g-CONHCCH2)3-^k-CH2-COO®
CH3
130017/0849
(III)-45
C7H1
CF3 (CF2) 7-SO2-N-(CH2) 3"^-CH2-COO^
C3H7 C2H5
(Ill)-44 CF3(CF2)7-SO2N
3-N(CH3)
O
(III)-45
-CONH(CH2)3-
•ΙΟ
(III)-46
71S
CH2-COOV
CF3-(CF2)8-
.0COCH, %0C0CH,
130017/0849
(III)-48
C7F15-COO-CH2
H OH
OH H CH20H
(III)-49
CF.
CF,
CF-
F
i
i
■C-O-CCF2)2-CH2-CH-CCH7)g-C00Na
:C-0-CCF2)2-CH2-CH-CCH2)8-C00Na
Diese Verbindungen oder homologen Verbindungen, die im Rahmen
der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, können anhand derjenigen Verfahren hergestellt werden, die beispielsweise
beschrieben sind in den US-PS'en 2 559 751, 2 567 011,
2 732 398, 2 764 602, 2 806 866/ 2 809 998, 2 915 376,
2 915 528, 2 934 450, 2 937 098, 2 957 031, 3 472 894,
3 555 089, 3 589 906, 3 666 478, in den japanischen Patentveröffentlichung
snummern 37304/70, 26687/77, in den japanischen Patentveröffentlxchungs(OPI-)nummern 9613/72, 46733/74, 32322/76,
in Journal of Chemical Society, Seite 2789 (1950), und Seiten 2574 und 2640 (1957), Journal of American Chemical Society,
Band 79, Seite 2549 (1957) und in Journal of Japan Oil Chemists
Soc., Band 12, Seite 653.
Einige von den Verbindungen auf Fluorbasis, die im Rahmen der Erfindung verwendbar sind, sind im Handel unter den folgenden
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Handelsbezeichnungen erhältlich: Magafac F (beispielsweise F-110, F-120, F-144, F-150, etc.), von Dai-Nippon Ink & Chemicals,
Inc., FC (beispielsweise FC-95, FC-128, FC-134, FC-161,
FC-170, FC-176, FC-430, FC-431, etc.) von Minnesota Mining
and Manufacturing Co., Monflor (beispielsweise Monflor-31, -32,
-51, -52, -53, -71, -91, etc.) von Imperial Chemical Industry
Co., Zonyls (beispielsweise Zonyl-S13) von E.I. DuPont de
Nemours Co,, und Licowet VPF von Farbwerke Hoechst AG.
Die Menge an oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis beträgt
im beschichteten Zustand 0,1 bis 100 mg/m2 des fotografischen
Films, wobei ein Bereich von 0r5 bis 50 mg/m2 des fotografischen
Films besonders bevorzugt wird. Das Gewichtsverhältnis von oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis zu dem Betainpolymeren
der allgemeinen Formel (I) beträgt vorzugsweise 1/5000 bis 1/10 und insbesondere 1/2000 bis 1/50.
Die erfindungsgemäße fotografische Schicht kann eine Schmiermittelzusammensetzung
enthalten, beispielsweise modifiziertes Silicon, beschrieben in den US-PS'en 3 079 837, 3 080 317,
3 545 970 und 3 294 537, und in der japanischen Patentveröffentlichung (OPI) Nr. 129520/77. '
Die erfindungsgemäßen fotografischen, lichtempfindlichen Materialien
können in der fotografischen Schicht die in den US-PS'en
3 411 911 und 3 411 912 und in der japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 5331/70, etc., beschriebenen Polymerenlatices, und als Mattierungsmittel Siliciumdioxid, Strontiumsulfat, Bariumsulfat,
Polymethylmethacrylat, etc., enthalten.
Erfindungsgemäß werden auch die Probleme gelöst, die durch die
Bildung von Schaum bzw. Schlamm während der Herstellung oder der Verwendung der fotografischen, lichtempfindlichen Materialien
entstehen. Beispielsweise kann die Bildung von statischen Punkten erheblich verringert werden, die durch Berührung zwischen
der Emulsionsschicht und der rückseitigen Oberfläche des fotografischen, lichtempfindlichen Materials, zwischen den
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Emulsionsschichten und zwischen dem fotografischen, lichtempfindlichen
Material und denjenigen Substanzen, mit denen eine häufigere Berührung stattfindet, wie Gummis, Metall, Kunststoffen
und einem Fluoreszenzverstärkungsschirm, auftreten.
Die. Verwendung der Verbindungen der allgemeinen Formel (I) als Dispergiermittel für Silberhalogenid oder als Schutzkolloid in
Verbindung mit Gelatine und die Einarbeitung dieser Verbindungen in die fotografischen Emulsionen, um die Dimensionsstabilität des beschichteten Emulsionsfilms zu erhöhen, sind
bekannt und werden beispielsweise beschrieben in den US-PS'en
2 846 417, 3 832 185, 3 411 912, 3 549 605, in der GB-PS 786 344, in der DE-PS 15 47 679 und in d,er japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 19951/70, etc.
In dieser Patentliteratur wird jedoch nicht offenbart oder beschrieben,
daß die erfindungsgemäß einsetzbaren Verbindungen
als antistatische Mittel verwendet werden können, und außerdem wird dort nicht offenbart, daß die Zugabe dieser Verbindungen
zur Oberflächenschutzschicht dazu verwendet werden kann, verbesserte antistatische Eigenschaften zu erzielen. Darüber hinaus
führt die Zugabe von Verbindungen der allgemeinen Formel (I) gemäß der Erfindung zu einer erhöhten Deckkraft.
Die nachfolgenden Beispiele dienen der Erläuterung der Erfindung, jedoch ist die Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
Es wurden Proben 1 bis 15 hergestellt, indem man nacheinander eine Emulsionsschicht und eine Schutzschicht auf beide Seiten
eines Trägers durch herkömmliche Weise aufbrachte, wobei der Träger ein etwa 175 μ dicker Polyäthylenterephthalatfilm war.
Die Zusammensetzung der Schichten war wie folgt:
Binder: Gelatine 2,5 g/ma Menge des Silberauftrages: 5 g/m2
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Zusammensetzung des Silberhalogenids: AgJ 1,5 Mol-%
und AgBr 98,5 Mol-% Härter: 2,4-Dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazin-Natriumsalz,
0,4 g/100 g Gelatine
Antischleiermittel: i-Phenyl-5-mercaptotetrazol,
Antischleiermittel: i-Phenyl-5-mercaptotetrazol,
0,5 g/100 g Ag
Binder: Gelatine, 1,7 g/m2 und Kaliumpolystyrol-
sulfonat (durchschnittliches Molekulargewicht etwa 700.000), 0,3 g/m2
Überzugsmittel: N-Oleoyl-N-methyltarin-Natriumsalz,
7 mg/m2. " *
In den Beispielen 2 bis 13 wurden die in Tabelle 1 angegebenen erfindungsgemäßen Verbindungen und oberflächenaktive Mittel
auf Fluorbasis zu der Schutzschicht hinzugefügt, während in Beispiel 1 keine derartige Verbindung zugefügt wurde. Zu Vergleichszwecken
wurden in den Beispielen 14 und 15 die folgenden Vergleichsverbindungen A bzw. B zu der Schutzschicht hinzugefügt:
-6CH2-CHVn
COOXa
COOXa
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Diese Proben ließ man 2 Stunden bei 250C und einer relativen
Feuchtigkeit von 25 % stehen und brachte sie dann in Berührung mit einem Gummiroller und bewegte diesen in einem dunklen Raum
unter den genannten Bedingungen auf den Proben. Anschließend wurden die Prohen mit dem nachfolgend angegebenen Entwickler
entwickelt, und nach dem Fixieren und Waschen mit Wasser wurden sie auf Bildung von statischen Punkten untersucht.
Warmes Wasser 800 ml
Natriumtetrapolyphosphat 2,0 g
Wasserfreies Natriumsulfit 50 g
Hydrochinon · 10g
Natriumcarbonat (Monohydrat) 40 g
1-Phenyl-3-pyrazolidon 0,3 g
Kaliumbromid 2,0g
Wasser auf 1000 ml
(pH: 10,2)
Auf der anderen Seite wurden die nicht belichteten Proben durch
ein Filter belichtet, das heißt einen von Fuji Photo Film Co., Ltd., hergestellten Filter-SP-14, bei einer Bestrahlungsmenge
von 1,6 CHM durch Verwendung einer Wolfram-Lampe, und anschließend wurden sie mit dem gleichen Entwickler, wie oben beschrieben
(35°C, 30 Sekunden) entwickelt, fixiert und in Wasser gewaschen. Bei den so behandelten Proben wurde die Empfindlichkeit
und die Schleierbildung untersucht. Die nicht belichteten Proben wurden 3 Tage bei 500C gelagert, und anschließend wurden sie
belichtet und unter den gleichen Bedingungen, wie oben beschrieben, behandelt. Durch Messen der Empfindlichkeit und der
Schleierbildung wurde der Einfluß der zugeführten Verbindungen auf die fotografischen Eigenschaften untersucht.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 zusammengestellt.
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Probe Nr.
erfindungsgemäße | auftragene | oberflächen | aufgetragene | Bildung von |
Verbindung (allge | Menge | aktives Mittel | Menge | statischen |
meine Formel | (mg/m2) | auf Fluor | (mg/m2) | Punkten |
(I) oder (H)) | basis (allge | |||
meine Formel | ||||
(III) | ||||
keine | 800 | keine | — | D |
(D | 800 | keine | — | A-B |
(4) | 800 | keine | — | A-B |
(6) | 800 | keine | — | A-B |
(7) | 800 | keine | — | A-B |
(9) | 800 | keine | — | A-B |
(10) | 800 | keine | 2 | A-B |
(D | 800 | (110-19 | 2 | A |
(D | 800 | (IID-42 | 2 | A |
(7) | '.— | (III)—39 | 2 | A |
—■, | ■— | (III)—IΘ | 2 | D |
— | — | (IID-42 | 2 | D |
— | 800 | (I M)-39 | — | D |
Vergleichs | keine | B | ||
verbindung A | 800 | |||
Veraleichs- | keine | B | ||
Fotografische Eigenschaften
sofort nach dem Überziehen nach der Lagerung
Schleierbildung Empfindlichkeit Schleierbildung Empfindlichkeit
Ca)
O
O
Verbindung B 0,16 0,16 0,16 0,16 0,16 0,16 0,17 0,16 0,16 0,16 0,16
0,16 0,17 0,22
0,20
0 -0,01
0 +0,05
-0,02
0,18 | -0,01 | I |
0,16 | 0 | |
0,16 | 0 | O |
0,16 | 0 | I |
0,16 | -0,01 | |
0,16 | -0,01 | |
0,17 | -0,02 | |
0,16 | 0 | |
0,16 | 0 | |
0,16 | 0 | |
0,18 | -0,01 | |
0,18 | -0,01 | |
0,18 | -0,02 | |
0,50 | nicht möglich zu | |
zu messen | ||
0,30 | -0,10 | |
O CjO OO OO
Das Ausmaß der Bildung an statischen Punkten wurde in Tabelle
1 wie folgt bewertet:
A: Es wurden keine statischen Punkte beobachtet B: Es wurden einige statische Punkte beobachtet
C: Es wurden viele statische Punkte beobachtet
D: Es wurden fast auf der ganzen Oberfläche statische Punkte beobachtet.
Die Empfindlichkeit ist als Abweichung von der Basisempfindlichkeit
als absoluter Wert von log E angegeben, wobei die Basisempfindlichkeit
diejenige der Kontrollprobe (Probe 1) direkt nach der Herstellung ist. Keine Abweichung von der Basisempfindlichkeit
zeigt an, daß die fotografischen Eigenschaften nicht nachteilig beeinflußt worden sind.
Aus Tabelle 1 ist ersichtlich, daß die erfindungsgemäßen Verbindungen
eine so ausgezeichnete antistatische Wirkung haben, daß praktisch keine statischen Punkte gebildet und gleichzeitig
die fotografischen Eigenschaften, wie Schleierbildung, Empfindlichkeit,
etc., nicht nachteilig beeinflußt werden. Darüber hinaus ist ersichtlich, daß die Verwendung der erfindungsgemäßen
Verbindungen in Kombination mit oberflächenaktiven Mitteln auf Fluorbasis die antistatische Wirkung noch weiter erhöht. Andererseits
haben die Vergleichsverbindungen A und B einen nachteiligen Einfluß auf die fotografischen Eigenschaften, obgleich
sie eine gute antistatische Wirkung haben.
Auf herkömmliche Weise wurden Proben 16 bis 19 hergestellt, deren Aufbau folgende Elemente umfaßt: einen Cellulosetriacetatträger,
eine Antilichthofschicht auf dem Träger, eine rotempfindliche Schicht auf der Antilichthofschicht, eine Zwischenschicht
auf der rotempfindlichen Schicht, eine grünempfindliche
Schicht auf der Zwischenschicht, eine Gelbfilterschicht auf
der grünempfindlichen Schicht, eine blauempfindliche Schicht auf der Gelbfilterschicht und eine Schutzschicht auf der blauempfindlichen
Schicht. Die Zusammensetzung der einzelnen Schichten war wie folgt:
130017/0849
Binder: Gelatine, 4,4 g/m2 Härter: 1,3-Bis-(vinylsulfonyl)-propano1-2,
1,2 g/100 g Binder Überzugshilfsmittel: liatriumdodecylbenzolsulfonat,
4 mg/m2
Antilichthof komponente": Schwarzes, kolloidales Silber,
0,4 g/m2
rotempfindliche Schicht
Binder: Gelatine, 7 g/m2
Härter: 1,3-Bis-(vinylsulfonyl)-propanol-2,
1,2 g/100 g Binder Überzugshilfsmittel: Natriumdodecylbenzolsulfonat,
10 mg/m2 Silberauftragsmenge: 3,1 g/m2
Zusammensetzung des
Silberhalogenids: AgJ 2 Mol, und AgBr 98 Mol Antischleiermittel: 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-
tetrazainden, 0,9 g/100 g Ag Farbmittel: i-Hydroxy-4-(2-acetylphenyl)-azo-N-
/4-(2,4-di-tert.-amy!phenoxy)-butyl/-2-naphthamid,
38 g/100 g Ag
Sensibilisierungsfarbstoff: Anhydro-5,5'-dichloro-9-äthyl-
3,3'-di-(3-sulfopropyl)-thiacarbocyaninhydroxid-pyridiniumsalz,
0,3 g/100 g Ag
Zwi schenschicht
Zwi schenschicht
Binder: Gelatine, 2,6 g/m2 Härter: 1,3-Bis-(vinylsulfonyl)-propanol-2,
1,2 g/100 g Binder Überzugshilfsmittel: Natriumdodecylbenzolsulfonat,
12 mg/m2 grünempfindliche Schicht
Binder: Gelatine, 6,4 g/m2
Härter: 1,3-Bis-(vinylsulfonyl)-propanol-2,
1,2 g/100 g Binder
130017/08A9
-43- 3Q38818
Überzugshilfsinittel: Natriumdodecylbenzolsulfonat,
9 mg/m2 Silberauftragsmenge: 2,2 g/m2
Zusammensetzung des
Silberhalogenids: AgJ 3,3 Mol und AgBr 96,7 Mol Stabilisierungsmittel: 4-Hydroxy-6-methyl-1 , 3,3a,-7-
tetrazainden, 0,6 g/100 g Ag
Farbmittel: 1-(2,4,6-Trichlorophenyl)-3-^3-(2,4-di-tert*-
amylphenoxy) -acetoazidoj- -4- (4-methoxyphenyl) azo-5-pyrazolon,
37 g/ 100 g Ag Sensibilisierungsfarbstoff: Anhydro-5,5'~diphenyl-9-
äthyl-3,3'-di-(2-sulfoäthyl)-oxacarbocyaninhydroxid-Pyridiniumsalz,
0,3 g/100 g Ag Gelbfilterschicht
Binder: Gelatine, 2,3 g/m2
Filterkomponente: gelbes kolloidales Silber, 0,7 g/m2 Härter: 1,3-Bis-(vinylsulfdnyl)-propanol-2,
1,2 g/100 g Binder
oberflächenaktives Mittel: 2-Sulfonatobernsteinsäure-bis-(2-äthylhexyl)-ester-Natriumsalz,
7 mg/m2
Binder: Gelatine, 7 g/m2
Härter: 1,3-Bis-(vinylsulfonyl)-propanol-2,
1,2 g/100 g Binder
Überzugshilfsmittel: Natriumdodecylbenzolsulfonat,
8 mg/m2
Zusammensetzung des
Silberhalogenids: AgJ 3,3 Mol und AgBr 96,7 Mol
Stabilisierungsmittel: 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetrazainden,
0,4 g/100 g Ag
Farbmittel: 2r-Chloro-5'-/2-(2,4-di-tert.-amylphenoxy)-butyramido/-^·-
(5,5' -dimethyl-2,4-dioxo-3-oxazolidinyl)
-dr- (4-methoxybenzoyl) -acetoanilid,
45 g/100 g Ag
130017/0849
Binder: Gelatine, 2 g/m2 und Styrol-Maleinsäure (1:1)-Copolymeres
(durchschnittliches. Molekulargewicht: etwa 100.000), 0,3 g/m2 Härter: 1,3-Bis-(Vinylsulfonyl)-propanol-2,
1,2 g/100 g Binder
Überzugshilfsmittel: Natrxumdxoctylsulfosuccinat,
5 mg/m2
Bei den Proben 17 bis 19 wurden die Verbindungen (2) und (6)
gemäß der Erfindung bzw. die Vergleichsverbindung A zu der Schutzschicht in einer Menge von 900 mg/m2 hinzugefügt, während
bei der Probe 16 keine derartige Verbindung verwendet wurde.
Diese Proben wurden entwickelt und auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hinsichtlich ihrer antistatischen Eigenschaften
untersucht, mit der Ausnahme, daß eine gewöhnliche Farbentwicklung anstelle der Schwarzweißentwicklung angewandt wurde.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 zusammengestellt.
Probe Nr.
antistatisches Mittel
Ausmaß der Bildung von statischen Punkten
keine
Kontrollversuch
Verbindung (2) erfindungsgemäßer
Versuch .
Verbindung (6) erfindungsgemäßer
Versuch
Vergleichsverbindung A
Vergleichsversuch
Aus Tabelle 2 ist ersichtlich, daß bei denjenigen Proben, die die erfindungsgemäßen Verbindungen enthielten, praktisch keine
statischen Punkte beobachtet werden konnten. Bei der Belichtung dieser Proben mit Licht gemäß dem JIS-Verfahren (JIS K-7604
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(1976)) und der Behandlung gemäß einer üblichen Farbentwicklung erhöhte sich die Schleierbildung bei der Probe 19 in der blau-,
grün- und rotempfindlichen Schicht, während bei den Proben und 18, die die erfindungsgemäßen Verbindungen enthielten,
praktisch keine nachteiligen Einflüsse beobachtet werden konnten.
Lichtempfindliche Materialien, wie die Probe 1 von Beispiel 1, wurden 5 Sekunden lang in eine 2 Gew.-%ige wäßrige Lösung der
in Tabelle 3 angegebenen Verbindungen getaucht und dann bei 250C und einer relativen Feuchtigkeit von 65 % trocknen gelassen.
Anschließend wurden die Proben dann 2 Stunden bei 250C und
einer relativen Feuchtigkeit von 25 % aufbewahrt, und dann wurden die antistatischen Eigenschaften wie in Beispiel 1
untersucht.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 zusammengestellt.
Ausmaß der
Probe antistatisches Mittel Nr'
Punkten
20 keines Kontrollversuch D
21 Verbindung (4) erfindungsgemäßer A
Versuch
22 Verbindung (6) erfindungsgemäßer Ά
Versuch
23 Verbindung (10). erfindungsgemäßer A
Versuch
Aus Tabelle 3 ist ersichtlich, daß das Überziehen mit Verbindungen
gemäß der Erfindung durch Eintauchen zur Verbesserung der antistatischen Eigenschaften geeignet ist.
130017/0849
Um die Bildung von Schlamm bzw. Schaum in einem Fixierbad zu untersuchen, wurden die in Beispiel 1 verwendeten Proben 1,
2, 4, 9 und 14 mit etwa 12 Liter eines Fixierbades unter Verwendung
eines einfachen automatischen Entwicklers, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., (Handelsname: Fuji Röntgenbehandlungsvorrichtung
RN; Fassungsvermögen: 12 1, für sowohl den Entwickler als auch das Fixierbad) behandelt, und dann
wurde die Bildung von Schaum bzw. Schlamm in dem Fixierbad mit dem nackten Auge beobachtet. Als Entwickler und Fixierbad wurden
der Entwickler und das Fixierbad für die Behandlung von medizinischen Röntgenfilmen verwendet, hergestellt von Fuji-Photo
Film Co., Ltd. ,
Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 zusammengestellt.
Probe Ausmaß der Bildung von Schaum bzw. Schlamm Nr. im Fixierbad
1 keine Kontrollversuch
2 keine erfindungsgemäßer Versuch
3 keine erfindungsgemäßer Versuch
4 keine erfindungsgemäßer Versuch
5 keine erfindungsgemäßer Versuch
9 keine erfindungsgemäßer Versuch
14 es wurde eine beträcht- Verglexchsversuch liehe Menge an Schaum
bzw. Schlamm gebildet
Aus Tabelle 4 ist ersichtlich, daß die erfindungsgemäßen Verbindungen
nicht zu einer Bildung von Schaum bzw. Schlamm führen.
Während die Erfindung anhand von speziellen Ausführungsformen
näher erläutert worden ist, ist für den Fachmann offensichtlich, daß zahlreiche Änderungen und Modifizierungen gemacht werden
können, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen.
130017/0849
Claims (21)
- PATENTANWALT"A. GRUNECKERDPL-INGH. KlNKELDEYDR-INGW. STOCKMAlRDa-ING. - AeE (CALTECHJK. SCHUMANNDR BER. NAT DIPU-PHYSP. H. JAKOBDlPL-INGG. BEZOLDDA RER NAT · DIPL-CHEM8 MÜNCHENMAXIMILIANSTRASSEFUJI PHOTO FIIH CO., LTD. Ήο. 210 Nakanuma Minami Asnigara-shi Kanagawa, JapanP 15 586 - 60/dg 14-, Oktober 1980Fotografische, lichtempfindliche MaterialienPatentansprücheIj Fotografisches, lichtempfindliches Material, umfassend in einer Oberflächenschutzschicht ein Polymeres oder Copolymeres mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I)A-BCDin welcher R- Wasserstoff oder den Methylrest, A den -COO- oder -CONH-Rest und B die Reste130017/0849oderR.bedeuten, in welchen R~ und R-. einen Alky Ir es t mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, R- Wasserstoff oder den Methylrest, Rj- einen Alkylrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, ρ eine Zahl von 2 bis 6, q eine Zahl von 1 bis 4, wenn R, Wasserstoff bedeutet,.und die Zahl 1, wenn R. den Methylrest bedeutet, und D den -COO oder -SO-. Rest bedeuten.
- 2. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß B den RestCCH) IR4
bedeutet.130017/0849 - 3. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es in der Oberflächenschutzschicht ein Polymeres mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) umfaßt.
- 4. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es in der Oberflächenschutzschicht ein Copolymeres mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) umfaßt.
- 5. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1, 2 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymere mindestens 50 Mol-% umfaßt und der allgemeinen Formel (I) entspricht.
- 6. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist und die Menge an Polymerem oder Copolymerem mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 0,005 bis 5 g/m2 des fotografischen Films beträgt.
- 7. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche, fotografische Material ein fotografischer Film ist und die Menge an Polymerem oder Copolymerem mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 0,01 bis 1,0 g/m2 des fotografischen Films beträgt.
- 8. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist und die Menge an130017/0849Polymerem mit einer sieht wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 0,005 bis 5 g/m2 des fotografischen Films beträgt.
- 9. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, 6 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist, und die Menge an Polymerem mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 0,01 bis 1,0 g/m2 des fotografischen Films beträgt.
- 10.° Fotografisches, lichtempfindliches'Material nach mindestens einem der Ansprüche 1,2 oder 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche fotografische Material ein fotografischer Film ist und die Menge an Copolymerem mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 0,005 bis 5 g/m2 des fotografischen Films beträgt.
- 11. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1, 2, 4 bis 6 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist und die Menge an Copolymerem mit einer sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 0,01 bis 1,0 g/m2 des fotografischen Films beträgt.
- 12. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächenschutzsehieht weiterhin auch ein oberflächenaktives Mittel auf Fluorbasis umfaßt;
- 13. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12; dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel auf Fluorbäsis eine Verbindung der allgemeinen Formel (III) mrifaßt:-13 0017/0649(Cf)-(Y)n (III)in welcher (Cf) einen Rest bedeutet, der wenigstens Fluoratome und wenigstens 3 Kohlenstoffatome enthält und eine Valenz von η aufweist, und (Y) einen Rest bedeutet, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus-COOM, -SO3M, -OSO3M,-P-(OM)7, -COOtAO)-R,Il L
0I 2R3nt4•%-D-COO0 , -C ^p Λ · Κ5 R6 ν _ -D-COO^^J-D-COO^ » R-0-(AO)-R , -N+ 0Rio 130017/08A9ORSGlNAL INSPECTEDin welchen bedeuten:M Wasserstoff, ein Kation oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen; -fAO^· ein Polyalkylenoxxdrest, ausgewählt unter Polyoxyäthylen, Polyoxypropylen und Polyoxyäthylen-PolyoxypropylenrCopolymeren mit einem Polymerisationsgrad von 2 bis 100;R Wasserstoff, einen Alkylrest mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen oder einen Arylrest;R^, R2, R3, R4/ R5/ Rg, R7 und Rg jeweils einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder einen Hydroxyalkylrest;Rq und R1n jeweils Wasserstoff oder* einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen;X ein Halogenatom oder den Rest R-O- SO2 -O ; Z ein Atom oder eine Gruppe von Atomen, die in Kombination mit N zur Bildung eines 5- oder 6-gliedrigen Ringes erforderlich sind; undD einen Alkylenrest mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen; und η eine Zahl von 1 oder 2. - 14. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische,, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist und die Menge an oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis 0,1 bis 100 mg/m2 beträgt.
- 15. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist und die Menge an oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis 0,1 bis 100 mg/m2 beträgt.
- 16. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist und die Menge an ober-130017/0849flächenaktivem Mittel auf Fluorbasis 0,5 bis 50 mg/m2 beträgt.
- 17. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß das fotografische, lichtempfindliche Material ein fotografischer Film ist und die Menge an oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis 0,5 bis 50 mg/m2 beträgt.
- 18. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von, oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis zu dem Gewicht der sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 1/5000 bis 1/10 beträgt.
- 19. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis zu dem Gewicht der sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 1/5000 bis 1/10 beträgt.
- 20. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von oberflächenaktivem Mittel auf Fluorbasis zu dem Gewicht der sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 1/2000 bis 1/50 beträgt.
- 21. Fotografisches, lichtempfindliches Material nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11 öder 13 -, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von oberflächenaktivem Mittel auf Fluörbasis zu dem Gewicht der sich wiederholenden Einheit der allgemeinen Formel (I) 1/2000 bis 1/50 beträgt.130017/0849
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JPS60439A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS60441A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 |
US4552827A (en) * | 1983-07-18 | 1985-11-12 | Polychrome Corp. | Planographic printing plate having cationic compound in interlayer |
US4483913A (en) * | 1983-07-18 | 1984-11-20 | Polychrome Corporation | Planographic printing plate |
US4585730A (en) * | 1985-01-16 | 1986-04-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antistatic backing layer with auxiliary layer for a silver halide element |
US4756991A (en) * | 1985-10-07 | 1988-07-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorescent toners surface coated with polymeric quaternary ammonium compound and slip agent |
FR2620445B1 (fr) * | 1987-09-16 | 1990-07-20 | Centre Nat Rech Scient | Nouveaux derives fluores d'acides amines, utilisables en particulier comme agents tensioactifs ou cotensioactifs et preparations a usage biomedical comprenant ces derives |
AU603019B2 (en) * | 1987-11-30 | 1990-11-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Photographic film antistatic backing layer with auxiliary layer having improved properties |
JPH031131A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-07 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
ATE509965T1 (de) * | 2006-09-27 | 2011-06-15 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer unter verwendung eines polymerlatex mit hohem acrylnitrilanteil |
CN107442037A (zh) * | 2017-08-28 | 2017-12-08 | 江苏理文化工有限公司 | 一种含氟羧酸型甜菜碱两性离子表面活性剂及制备方法 |
Family Cites Families (6)
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---|---|---|---|---|
US2548564A (en) * | 1946-12-31 | 1951-04-10 | Eastman Kodak Co | Photographic silver halide element with mordanted dye layer |
US2972536A (en) * | 1957-09-03 | 1961-02-21 | Eastman Kodak Co | Anti-static quaternary salts of c-vinylpyridine polymers with haloacetone cyanohydrins |
GB1143761A (de) * | 1965-05-06 | |||
US3925083A (en) * | 1973-01-02 | 1975-12-09 | Polaroid Corp | Synthetic silver halide emulsion binder |
US3816129A (en) * | 1973-01-02 | 1974-06-11 | Polaroid Corp | Synthetic silver halide emulsion binder |
US4013696A (en) * | 1973-07-25 | 1977-03-22 | Eastman Kodak Company | Element comprising a coating layer containing a mixture of a cationic perfluorinated alkyl and an alkylphenoxy-poly(propylene oxide) |
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GB2062271A (en) | 1981-05-20 |
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