DE2513791A1 - Antistatische, photographisch empfindliche materialien - Google Patents
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Description
A. GRÜNECKER
DIPL.-INQ.
H. KINKELDEY Z 5 I O 7 V I W. STOCKMAIR
K. SCHUMANN
, - . DR. RER. NAT. · O1PL.-PHYS.
P. H. JAKOB
DlPU-INQ.
G. BEZOLD
MÜNCHEN
E. K. WEIL
LINDAU
8 MÜNCHEN 22
27- März 1975 P 9027
Fuji Photo Film Co., Ltd.
No. 210, Nakanuma, Minami Ashigara-Shi, Eanagawa, Japan
Antistatische, photographisch empfindliche Materialien
Die Erfindung betrifft antistatische, photoempfindliche Materialien
und insbesondere antistatische, photo empfindliche
Materialien, bei denen ein Copolymer in einer. Schicht des photo empfindlichem Materials vorhanden ist, das eine sich
wiederholende Einheit eines Maleinsäureesters mit einer Äthylenoxy-Kette in der Hauptkette enthält.
Photoempfindliche Materialien enthalten allgemein einen Träger wie einen Film aus einem Poly-a-olefin wie Polyäthylen
oder Polystyrol, einen Film aus einem Celluloseester wie Cellulosetriacetat, einen Film aus einem Polyester wie PoIyäthylenterephthalat,
Papier, synthetisches Papier oder beschichtetes Papier und photoempfindliche Emulsionsschichten
und gewünsentenfalls Zwischenschichten, eine Schutzschicht,
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eine Unterschicht, eine Antilichthofsbildungsschicht und
eine antistatische Schicht, die sich auf einer oder auf beiden Oberflächen des Trägers befinden und auf einer Unterschicht
aufgebracht sind. Beispiele von photoempfindlichen Materialien, bei denen' photographische Emulsionen auf beide
Oberflächen des Trägers aufgebracht werden, sind beispielsweise Röntgenstrahlenfilme für den Direktdruck. .. Bei den
meisten photographisch empfindlichen Materialien sind die photographischen Emulsionsschichten jedoch nur auf einer
Oberfläche des Trägers aufgebracht. Im letzteren Fall wird die photographische Emulsion somit nicht auf die eine Oberfläche
des Trägers aufgebracht. Im folgenden wird diese Oberfläche als Unter- bzw. Rückseite des photographisch empfindlichen
Materials bezeichnet. Da photographisch empfindliche Materialien einen Träger, der elektrisch isolierend ist,
und photographische Schichten enthalten, werden sich elektrostatische Ladungen oft ansammeln, wenn das photo graphisch
empfindliche Material gegen eine-Oberfläche aus ' · dem
gleichen Material oder unterschiedlichen Materialien reibt,, oder wenn es während der Produktion oder während seiner
Verwendung getrennt wird. Die akkumulierten elektrostatischen Ladungen ergeben viele Schwierigkeiten. Beispielsweise kann
bei einem photographischen Film vor dem Entwickeln die photoempfindliche Emulsionsschicht, bedingt durch die Entladung
der akkumulierten elektrostatischen Ladungen, belichtet werden, und daher treten pünktchenartige Flecken oder verzweigte
oder federartige Linien beim Entwickeln des photographischen Films auf. Diese Flecken sind die sogenannten statischen
Markierungen, die den Handelswert des photographischen Films sehr verschlechtern. Beispielsweise tritt eine ernste Gefahr
auf, wenn sie auf medizinischen oder industriellen Röntgenfilmen erscheinen. Da dieses Phänomen zum ersten Mal nur nach
dem Entwickeln beobachtet wird, ist es eines der schlimmsten Nachteile. Die akkumulierten elektrostatischen Ladungen bewirken
außerdem, daß Staub an den Filmoberflächen haftet und ergeben sekundäre Schwierigkeiten wie ungleichmäßig aufgetragene
Schichten.
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Diese elektrostatischen Ladungen akkumulieren oft bei der Herstellung des photographisch empfindlichen Materials und
bei dessen Verwendung, wie oben beschrieben. Beispielsweise werden sie durch Reibung zwischen dem photographischen Film
und den Rollen bzw, Walzen bei der Produktion oder bei der Trennung der Trägeroberfläche und der Emulsionsschichtober- ■
fläche beim Aufwickeln oder Wiederaufwickeln des photographischen Films gebildet. Bei den fertigen Waren treten sie auf
bei der Trennung der Trägeroberfläche und der Emulsionsschichtoberfläche beim Wiederaufwickeln bei hoher Feuchtigkeit, so
daß eine Adhäsion des photographischen Films auftritt durch Reibung zwischen dem Film und den Metallteilen der Kamera
oder bei der Trennung der Trägeroberfläche und der Emulsionsschichtoberfläche während des Photographierens und Wiederaufwickeln
eines Films in einer Filmkamera oder durch Kontakt und Trennung des Films und der mechanischen Teile einer automatischen
Röntgenphotographiervorrichtung und mit fluoreszierendem, sensibilisiertem Papier. Weiterhin werden sie durch
Berührung mit den Packmaterialien gebildet. Die Bildung von statischen Markierungen auf photoempfindlichen Materialien,
die durch Akkumulierung elektrostatischer Ladungen induziert wird, wird weiterhin erhöht, wenn die Empfindlichkeit der
photographisch empfindlichen Materialien gesteigert wird oder wenn die Verarbeitungsgeschwindigkeit der photographisch
empfindlichen Materialien erhöht wird.
Man nimmt an, daß die Ladung durch Reibung oder durch Trennung und ionisches Zwischenspiel zwischen den Molekülen, die in
den sich berührenden Materialien vorhanden sind, zustande kommt. Es ist jedoch schwierig, chemische Aussagen zu machen,
welche Art von Material für die Bildung positiver Ladungen und welche Art von Material für die Bildung negativer Ladungen
verwendet werden können. Es wird jedoch als leicht angesehen,die elektrostatische Ladung durch Verminderung der
angewandten elektrischen Spannung oder durch Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit der Oberfläche der Materialien
zu verhindern, , so daß die elektrostatischen Ladungen
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innerhalb kurzer Zeit beseitigt werden, bevor eine teilweise Entladung stattfindet, bedingt durch die Akkumulation der
Ladungen. Es wurden somit Verfahren vorgeschlagen, um die Leitfähigkeit der Oberfläche des Trägers oder der aufgetragenen
Schicht aus photoempfindlichen Materialien zu verbessern, und viele Arten hygroskopischer Materialien, anorganischer,
in Wasser löslicher Salze, oberflächenaktiver Mittel und Polymerer wurden untersucht. Beispielsweise werden in den
US-Patentschriften 2 882 157, 2 972 535, 3 062 785, 3 262 807, 3 514 291 und 3 615 531 Polymere, in den US-Patentschriften
2 982 651, 3 428 456, 3 457 076, 3 454 625, 3 552 972 und
3 655 387 oberflächenaktive Mittel und in den US-Patentschriften 3 062 700, 3 245 833 und 3 525 621 Zinkoxid, Halbleiter
und kolloidales Siliciumdioxid beschrieben.
Um den photographischen Filmträger direkt mit antistatischen Eigenschaften auszurüsten, wurde ein Verfahren entwickelt, bei
dem man diese Materialien direkt zu dem Material mit hohem Molekulargewicht für den Träger zugibt oder bei dem diese
Material auf die Oberfläche des Trägers angewendet werden. Im letzteren Fall kann das antistatische Mittel einzeln oder
zusammen mit einem Material mit hohem Molekulargewicht wie Gelatine, Polyvinylalkohol oder Celluloseacetat aufgetragen
werden und eine Stütztschicht bilden. Weiterhin ist ein Verfahren bekannt, um photographisch empfindlichem Material antistatische
Eigenschaften zu verleihen, bei dem der photographischen Emulsionsschicht oder der Oberflächenschutzschicht
ein antistatisches Mittel eingearbeitet wird oder bei dem eine Lösung des antistatischen Mittels auf die Oberflächen
dieser Schichten aufgebracht wird. Die oben beschriebenen Materialien zeigen jedoch besondere Eigenschaften, abhängig von
der Art des Filmträgers oder den photographischen Massen. Beispielsweise kann ein bestimmtes Material, obgleich es bei
einem spezifischen Filmträger und einer spezifischen photographischen Emulsion oder einem anderen photographischen Element
gute Ergebnisse zeigt, manchmal als antistatisches Mit-
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tel für andere Filmträger und andere photographische Elemente
nicht nur nutzlos sein, sondern es kann die photographischen Eigenschaften auch nachteilig beeinflussen.
Im allgemeinen gibt es wenige Materialien, die bei niedriger Feuchtigkeit (ungefähr 30% relative Feuchtigkeit oder niedriger)
für Hochgeschwindigkeitsemulsionen ausreichende Wirkung zeigen,und manchmal verschlechtert sich die antistatische
Wirkung mit dem Verlauf der Zeit bei diesen Materialien
und Adhäsionsschwierigkeiten bei hohen Temperaturen und hoher Feuchtigkeit treten auf. Es ist insbesondere schwierig, ein
Verfahren zu entwickeln, um die antistatischen Mittel in photoempfindlichen Materialien wirksam zu verwenden, bei denen
die photographische Emulsion auf beide Oberflächen des Trägers aufgebracht wird wie bei Röntgenstrahlenfilmen für
den direkten Druck. Obgleich es wünschenswert ist, photoempfindliche Materialien mit niedrigem spezifischem Oberflächenwiderstand
bei niedriger Feuchtigkeit (ungefähr 30%
relative Feuchtigkeit oder weniger) herzustellen, treten bei der Herstellung solcher photoempfindlichen Materialien viele
Schwierigkeiten auf. Insbesondere wird in der Literatur oder in Patentschriften kein Verfahren für die Herstellung
von photographischen EmulsionsSchichtenseiten mit solchen Eigenschaften beschrieben. Bei der Suche nach einem antistatischen
Mittel- für photographisch empfindliche Materialien muß man nicht nur die photographischen Eigenschaften wie
die Empfindlichkeit, die Schleierbildung, die Körnung oder die Schärfe beachten, sondern ebenfalls andere Eigenschaften
wie den geeigneten Reibungskoeffizienten, so daß das Verhalten in der Kamera nicht nachteilig ist, oder man muß die
Klebrigkeit in Betracht ziehen. Wenn eine bestimmte Art von synthetischem oberflächenaktivem Mittel, das als Beschichtungshilfsmittel
verwendet wird, als antistatisches Mittel eingesetzt wird, verschlechtert sich die antistatische Wirkung
oft beachtlich. Man hat eine große Anzahl von unterschiedlichen antistatischen Mitteln geprüft, da Voraussagen,
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ob ein antistatisches Mittel in photo graphisch empfindlichem
Material wirksam ist, sehr schwierig sind.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, antistatische, photographisch empfindliche Materialien zu
schaffen.
Dabei sollen photographisch empfindliche Hochgeschwindigkeitsmaterialien
geschaffen werden, die antistatische Eigenschaften besitzen, die einen niedrigen spezifischen Oberflächenwiderstand
bei niedriger Feuchtigkeit (ungefähr 30%) aufweisen.
Erfindungsgemäß soll ein wirksames Verfahren geschaffen werden, um photographisch empfindliche Materialien mit antistatischen
Eigenschaften herzustellen, ohne daß die photographischen Eigenschaften wie die Körnigkeit oder die Schärfe
usw. oder Oberflächeneigenschaften wie Anti-Adhäsionseigenschaften verschlechtert werden.
Die Erfindung betrifft ein antistatisches, photographisch empfindliches Material, enthaltend einen Träger und darauf
mindestens eine Silberhalogenidemulsionsschicht, wobei ein oberflächenaktives Copolymer, das in der Hauptkette eine sich
wiederholende Einheit der Formel (i)
i fc-CH - CH-H I
Y £CH-CHo0) C C-OM (I) j
£ Il Il !
0 0
enthält, worin
Y eine organische Gruppe mit 4 bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet,
η die durchschnittliche Zahl der Äthylenoxy-Einheiten bedeutet und 1 bis 100 darstellt und
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M ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom, ein Erdalkalimetallatom, eine Ammoniumgruppe oder eine Alkylammoniumgruppe
bedeutet,
in mindestens einer Oberfläche des Trägers und/oder in der photographischen Schicht vorhanden ist.
Die Erfindung betrifft somit ein photographisch empfindliches Material, bei dem in mindestens einer der photographischen
Schichten ein Copolymer enthalten ist und/oder sich ein Copolymer auf mindestens einer Oberfläche des Trägers befindet,
wobei das Copolymer eine sich wiederholende Einheit aus Maleinsäureester mit einer Äthylenoxy-Kette der folgenden
allgemeinen Formel (l) in der Hauptkette
rCH γ—(CH0CH"
0}— C C- OM (D j
2 2 " I! II
0 0 j
enthält, worin
Y eine organische Gruppe mit 4 bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet,
η die durchschnittliche Zahl der Äthylenoxy-Einheiten darstellt und im Bereich von 1 bis 100 liegt und
M ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom, ein
Erdalkalimetallatom, eine Ammoniumgruppe oder eine Alkylammoniumgruppe
bedeutet.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein antistatisches photographisch
empfindliches Material, enthaltend einen Träger und darauf mindestens eine Silberhalogenidemulsionsschicht, wobei
ein oberflächenaktives Copolymer, das in der Hauptkette eine sich wiederholende Einheit der Formel (I)
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rCH - Cffi
γ (-CH9CH9OV;
C C-OM (I)
2 2 n ii ii
0 0
enthält, worin
Y eine organische Gruppe mit 4 bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet,
η die durchschnittliche Zahl der Äthylenoxy-Einheiten darstellt und 1 bis 100 bedeutet und
M ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom, ein
Erdalkalimetallatom, eine Ammoniumgruppe oder eine Alkylammoniumgrupp
e b edeutet,
mindestens in einer Oberfläche des Trägers und/oder der photographischen Schicht vorhanden ist.
Die erfindungsgemäßen antistatischen, photographisch empfindlichen
Materialien zeichnen sich dadurch aus, daß ein Copolymer, das eine sich wiederholende Einheit aus einem Maleinsäureester
mit einer Polyäthylenoxygruppe in der Hauptkette enthält,
in einer Schicht des photographisch empfindlichen Materials vorhanden ist.
Y in der obigen Formel bedeutet irgendwelche organischen
Gruppen einschließlich linearer, verzweigter, cyclischer, gesättigter oder ungesättigter, substituierter oder unsubstituierter
Kohlenwasserstoffgruppen, wobei die Gruppen 4 bis
22 Kohlenstoffatome enthalten. Y bedeutet insbesondere einen Rest irgendeiner organischen Verbindung, die ein aktives
Wasserstoffatom enthält, an das Äthylenoxid durch Addition
gebunden werden kann. Geeignete Gruppen für Y können durch die folgenden Formeln dargestellt werden, worin R und R* gleich
oder unterschiedlich sein können und Je eine Alkylgruppe, die vollständig oder teilweise durch Fluoratome substituiert
sein kann, eine Alkeny!gruppe, eine Aralkylgruppe oder eine
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Arylgruppe bedeuten und worin R1 außerdem ein Wasserstoffatom
darstellen kann.
(1) Gruppe R-O-
Beispiele für die Gruppe R-O- sind Butoxy-, Hexyloxy-, Octyloxy-,
Decyloxy-, Dodecyloxy-, Octadecyloxy-, Oleyloxy-, Perfluoroctyloxy-,
1,1,7-Trihydrododecafluorheptyloxy-, Phenoxy-,
p-Aminophenoxy-, p-Nonylphenoxy-, 2,4-Diamy!phenoxy-,
Benzyloxy-, 2-Naphthyloxy-, 4-0ctyl-2-naphthyloxy- und ähnliche
Gruppen.
R'
(2) Gruppe ^N -
R^
R1
Beispiele für die Gruppe ^N - sind Butylamino-, Octylamino-, Dodecylamino-, Oleylamino-, Naphthylamino-, Perfluoroctylamino- und ähnliche Gruppen,
Beispiele für die Gruppe ^N - sind Butylamino-, Octylamino-, Dodecylamino-, Oleylamino-, Naphthylamino-, Perfluoroctylamino- und ähnliche Gruppen,
R'
(3) Gruppe R-CON- Rl
Beispiele für die Gruppe R-CON- sind Hexanoylamino-, Octadecanoylamino-
und ähnliche Gruppen.
(4) Gruppe RCOO-
Beispiele für die Gruppe RCOO- sind Hexanoyloxy-, Octadecanoyloxy-,
Benzoyloxy- und ähnliche Gruppen.
(5) Gruppe R-S-
Beispiele für die Gruppe R-S- sind Butylthio-, Octylthio-, Dodecylthio-, Phenylthio-, Naphthylthio- und ähnliche Gruppen.
R»
(6) Gruppe R-SO2N- Rt
Beispiele für die Gruppe R-SO2N- sind N-Propyl-N-perfluoroctansulfonylamid-,
N-Perfluordecansulfonylamid- und ähnliche
Gruppen.
509841/0888
Beispiele für Kationen, die durch M dargestellt werden, sind ein ¥asserstoffatom, ein Natriumatom, ein Kaliumatom, ein
Lithiumatom, ein Calciumatom, ein Bariumatom, eine Ammoniumgruppe
und eine Alkylammoniumgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in dem Alkylteil (beispielsweise eine Triäthylammoniumgruppe
und eine Tributylammoniumgruppe) usw.
Beispiele von Comonomeren (polymerisierbaren Monomeren) der Copolymeren, die darin eine sich wiederholende Einheit aus
einem Maleinsäureester mit einer Polyäthylenoxy-Gruppe enthalten und die durch die obige Formel dargestellt werden,
sind Alkylester von Acrylsäure und Methacrylsäure (beispielsweise Methylmethacrylat, Äthylacerylat, Hydroxyäthylacrylat,
Propylacrylat, Cyclohexylacrylat, 2-Äthylhexylacrylat, Decylacrylat,
ß-Cyanoäthylacrylat, ß-Chloräthylacrylat, 2-Äthoxyäthylacrylat
und Sulfopropylmethacrylat usw.), Vinylester (beispielsweise Vinylacetat, Vinylpropionat, Vinylbutyrat
usw.), Vinyläther (beispielsweise Methylvinyläther, Butylvinylather,
Oleylvinylather usw.), Vinylketone (beispielsweise Methylvinylketon, Äthylvinylketon usw»), Styrole (beispielsweise
Styrol, Methylstyrol, Dimethylstyrol, 2,4,6-Trimethylstyrol,
A'thylstyrol, Laurylstyrol, Chlorstyroi, Methoxystyrol,
Cyanostyrol, Chlormethylstyrol, Viny!benzoesäure,
Styrolsulfonsäure, a-Methylstyrol usw.), heterocyclische
Vinylverbindungen (beispielsweise Vinylpyridin, Vinylpyrrolidon, Vinylimidazol usw.), Acrylnitril, Vinyl- und Vinylidenhalogenide
(beispielsweise Vinylchlorid und Vinylidenchlorid), Olefine (beispielsweise Äthylen, Propylen, Butadien, Diisobutylen,
Isopren und Chloropren) usw. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die oben besonders angegebenen copolymerisierbaren
Monomeren beschränkt, und irgendwelche Copolymeren können verwendet werden, wenn sie die Struktureinheit der
oben angegebenen Formel enthaltene Beispiele von typischen Copolymeren, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet
werden können, sind im folgenden angegeben.
509841 /0888
-i CKp-CK h- ( CH-CH)-
^rX j j y
HOOC CCH-
(Molverhältnis von x:y =1:1)
HOOC
(Molverhältnis von x:y =1:1)
* efH-f^7
NaOCC
(Molverhältnis von x:y =1:1)
-fCH-CH):
OH KaOOC
(Molverhältnis von x:y =1:1)
984 1 /0888
Verbindung 5
CH,
CH2 KOOC 00-(-OCH2CH
CH3-C-CH,
x I I y HOOC CO
OCH,
(Molverhältnis von x:y = 1:1)
-(CHp-C)-2
ι χ
(Molverhältnis von x:y = 1:1)
COOCH,
Verbindung 8
COOHN(CH3)3 CO -f- 0CH2CH2^25S"C12H23i
(Molverhältnis von x:y = 2:1)
-4CH2-CH }
COKH,
COOE CO
"cl6H33 ί
(Molverhältnis von x:y =2:1)
509841 /0888
NaOOC
(Molverhältnis von x:y =1:1)
6CH-CE*-
■ I I J
HOOC CO -tr OCH2CH2^2QO-CH2CH2HNo2S-Cj
/■ ι
(Molverhältnis von x:y = 1:1)
-<CHp-CH>
CN NaOOC
(Molverhältnis von x:y =3:1)
-(CH2-C
CH2 NaOOC
I I J
CH,-C-CHZ
3 I 3
CH,
CH,
(Molverhältnis von x:y =1:1)
509841/0888
-(CH2-CH)x-
WaOO
SO3Na
(CH-CH^
HOOC
(Molverhältnis von x:y = 1:1)
(Molverhältnis von x:y = 1:1)
χ I j y
HOOC
COOH
vUvw
(Molverhältnis von x:y = 1:1)
NaOOC
Il
(Molverhältnis von x:y =1:1)
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Diese Verbindungen, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, können sich von im Handel erhältlichen Copolymeren
ableiten. Beispielsweise kann ein Äthylen-Maleinsäureanhydrid-Copolymer, ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymer
oder ein Methylvinyläther-Maleinsäureanhydrid-Copolymer mit einem Äthylerftxidaddukt aus einem aliphatischen
Alkohol oder einem Äthylenoxidaddukt aus einem Alkylphenol vermischt werden. Die Mischung wird in einem Temperaturbereich
von ungefähr 100 bis ungefähr 1500C (die Temperatur ist nicht
kritisch) während einer Zeit von ungefähr 5 bis ungefähr 9 Stunden gerührt, wobei die Maleinsäureeinheit unter Bildung
eines Halbesters durch Ringspaltung reagiert. Die Alkalisalzderivate können gebildet werden, indem man das so erhaltene
Produkt unter Erwärmen in wäßrigem Alkali löst. Andererseits können die Copolymeren leicht nach bekannten Verfahren hergestellt
werden. Obgleich das Molekulargewicht der Copolymeren nicht begrenzt ist und variieren kann, sind Copolymere mit
einem Molekulargewicht von ungefähr 500 bis 50 000 und bevorzugt von 1000 bis 20 000 bevorzugt. Obgleich die Anzahl
der Äthylenoxyeinheiten nicht begrenzt ist und variieren kann, ist ein Bereich von 1 bis 100 und insbesondere von 2 bis 50
bevorzugt.
Diese Verbindungen lösen sich oder dispergieren in einem Lösungsmittel
wie Wasser oder Methanol und besitzen keine nachteiligen Wirkungen auf die photographischen Eigenschaften
wie die Empfindlichkeit, den Kontrastgrad oder die Schleierbildung usw., wenn sie in, dem oben angegebenen Bereich verwendet
werden, selbst wenn sie zu den photographischen Emulsionen zugegeben werden.
Die Verbindung, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet wird, kann entweder allein oder zusammen mit anderen antistatischen
Mitteln oder verschiedenen Zusatzstoffen eingesetzt werdenο Eine bevorzugte Menge der erfindungsgemäßen
Verbindung liegt im Bereich von ungefähr 0,05 bis 20 g und
509841/0888
bevorzugt von 0,01 bis 0,5 g/m photographischem Film. Selbstverständlich
ändern sich die obigen Bereiche, abhängig von der Art des verwendeten photo graphischen Filmträgers, der
verwendeten photographischen Masse, dem Zustand oder der Art
der Anwendung.
Bei der vorliegenden Erfindung enthalten die photographischen Schichten eine Silberhalogenidemulsionsschicht und eine Hilfsschicht
(beispielsweise eine Zwischenschicht, eine Schutzschicht, eine FiIt er schicht, eine Stützschicht, eine Antilichthofbildungsschicht,
eine antistatische Schicht, eine Antikräusel- bzw. Antieinrollschicht und eine Unterschicht usw.). Es
reicht aus, wenn das Copolymer, das durch die obige Formel dargestellt wird, in mindestens eine der Oberflächen des Trägers
eingearbeitet oder darauf angewendet wird und/oder wenn es in mindestens eine photographische Schicht eingearbeitet
wird oder auf eine Oberfläche von mindestens einer photographischen Schicht aufgetragen wird. Wenn zwei oder mehrere
Silberhalogenidemulsionsschichten auf einer einzigen Oberfläche oder auf beiden Oberflächen des Trägers vorhanden sind, wird
das Copolymer in mindestens eine Schicht davon eingearbeitet oder darauf aufgetragen.
Eine bevorzugte erfindungsgemäße Ausführungsform ist ein photographisch
empfindliches Material, welches einen Träger, mindestens eine Silberhalogenidemulsionsschicht, aufgebracht
auf den Träger, und mindestens eine Hilfsschicht enthält, wobei das oben beschriebene Copolymer auf mindestens einer
Oberfläche des Trägers und/oder in mindestens einer der SiI-berhalogenidemulsionsschicht
und/oder der Hilfsschicht vorhanden ist. Besonders bevorzugt ist ein photograph!sch
empfindliches Material, das Silberhalogenidemulsionsschichten auf beiden Oberflächen des Trägers und Schutzschichten auf
den Silberhalogenidemulsionsschichten enthält, wobei das erfindungsgemäße Copolymer in den Schutzschichten vorhanden
ist.
50 98 4 1 /0888
Um die Verbindungen, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, einzusetzen, werden die Verbindungen in einem
organischen Lösungsmittel wie Methanol, Aceton oder einer Mischung davon gelöst. Die Lösung wird dann zu den Beschichtungslösungen
für die Herstellung der photographischen Schichten wie für die photographische Silberhalogenidemulsionsschicht,
die Zwischenschicht und die Schutzschicht gegeben und die entstehenden Überzugslösungen werden durch ein Eintauchbeschichtungsverfahren,
durch Beschichtungsverfahren mit einem Rakelmesser, durch Extrudierbeschichtungsverfahren
unter Verwendung von Speisetrichtern, wie es in der US-PS
2 681 294 beschrieben wird, oder nach einem Verfahren, wie
es in den US-Patentschriften 3 508 947, 2 941 898 und
3 526 528 beschrieben wird, aufgetragen, wobei zwei oder mehrere Schichten gleichzeitig gebildet werden, oder die photographische
Schicht wird in die antistatische Behandlungslösung eingetaucht. Die antistatische Behandlungslösung kann
außerdem auf die Oberfläche des Trägers des photographischen Films aufgetragen werden oder der Träger kann in eine antistatische
Behandlungslösung eingetaucht werden· Gewünschten— falls kann die antistatische Behandlungslösung, die die erfindungsgemäße
Verbindung enthält, außerdem auf eine Schutzschicht aufgetragen werden.
Beispiele von geeigneten Trägermaterialien für die erfindungsgemäßen
photographisch empfindlichen Materialien umfassen beispielsweise einen Cellulosenitratfilm, einen Celluloseacetatfilm,
eien Celluloseacetat-butyratfilm, einen Celluloseacetatpropionatfilm,
einen Polystyrolfilm, einen Polyäthylenterephthalatfilm
und einen Polycarbonatfilm, laminierte Produkte aus diesen Filmen, einen dünnen Glasfilm und Papier. Gute
Ergebnisse werden ebenfalls erhalten, wenn man Barytpapier, ein Papier, das mit a-Olefinpolymeren und insbesonderen mit
Polymeren aus a-01efinen mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen wie
Polyäthylen, Polypropylen oder einem Äthylen-Buten-Copolymer usw. beschichtet oder damit laminiert ist, oder synthetische
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Harzfilmträger verwendet, die eine so mattierte Oberfläche besitzen, daß die Bedruckbarkeit und di^e Adhäsion an andere
Materialien mit hohem Molekulargewicht verbessert sind, wie es in der publizierten japanischen Patentanmeldung 19068/1972
beschrieben wird.
Als Träger kann man durchsichtige und undurchsichtige Träger verwenden, abhängig von der Verwendung des photoempfindlichen
Materials. Wenn der Träger durchsichtig bzw. transparent ist, können nicht nur farblose, transparente Träger, sondern ebenfalls
gefärbte, transparente Träger.verwendet werden, die hergestellt werden, indem man Farbstoffe oder Pigmente zufügt.
Davon hat man bei Röntgenstrahlenfilmen Gebrauch gemacht,
und dies wird in J.SMPTE, Band 67, 296 (1958), beschrieben.
Beispiele von undurchsichtigen Trägern sind nicht nur im wesentlichen
undurchsichtige Träger wie Papier, sondern ebenfalls Träger, die hergestellt werden, indem man Farbstoffe
oder Pigmente wie Titanoxid zu transparenten Filmen gibt, Kunststoffilme, deren Oberfläche gemäß dem in der publizierten
japanischen Patentanmeldung 19068/1972 beschriebenen Verfahren behandelt wurde, und Papiere, die Licht abfangen oder
synthetische Harzfilme, die Ruß oder Farbstoffe enthalten. Wenn die Adhäsion zwischen dem Träger und der photographischen
Emulsionsschicht nicht ausreicht, wird üblicherweise eine Unterschicht verwendet, die gute Klebeigenschaften sowohl
gegenüber der phot ο graphischen Emulsionsschicht als auch dem
Träger zeigt. Um die Klebeigenschaften weiter zu verbessern, kann die Oberfläche des Trägers Vorbehandlungen unterworfen
werden wie eine Koronaentladungsbehandlung, ultraviolettes Licht kann angewendet werden oder es kann eine Flammenbehandlung
durchgeführt werden.
509841 /0888
In den erfindungsgemäßen photo graphisch empfindlichen Materialien
kann jede photographische Schicht die folgenden Bindemittel
oder Trägermaterialien enthalten. Beispiele von hydrophilen Kolloiden sind Gelatine, kolloidales Albumin,
Casein, Cellulosederivate wie Carboxymethylcellulose und Hydroxyäthylcellulose usw., Saccharidderivate wie Agar-Agar,
Natriumalginat und Stärkederivate usw. und synthetische hydrophile Kolloide wie Polyvinylalkohol, Poly-N-vinylpyrrolidon,
Acrylsäure-Copolymere, Polyacrylamid und die teilweise hydrolysierten Derivate davon usw. Gewünschtenfalls
kann eine verträgliche Mischung aus zwei oder mehreren dieser Kolloide verwendet v/erden.
Von den oben beschriebenen Kolloiden wird im allgemeinen Gelatine verwendet. Es kann jedoch ein Teil oder die gesamte
Gelatine ersetzt werden, nicht nur durch synthetische hochmolekulare Materialien, sondern ebenfalls durch Gelatinederivate,
nämlich Gelatinederivate, worin die Gelatine mit einer Verbindung modifiziert wurde, die eine reaktive Gruppe
enthält, die mit den Amino-, Imino-, Hydroxy- oder Carboxylgruppen als funktioneile Gruppe in dem Gelatinemolekül
reagiert, oder durch Gelatinepfropfpolymere, die Gelatine
enthalten, die Ketten anderer Materialien mit hohem Molekulargewicht darauf aufgepfropft enthält. .
Beispiele von Verbindungen für die Herstellung der oben beschriebenen
Gelatinederivate sind Isocyanate, Säurechloride und Säureanhydride, wie in der US-PS 2 614 928 beschrieben,
Säureanhydride, wie in der US-PS 3 118 766 beschrieben, Bromessigsäuren,
wie in der publizierten japanischen Patentanmeldung 5514/1964 beschrieben, Phenylglycidylather, wie in
der publizierten japanischen Patentanmeldung 26845/1967 beschrieben, Vinylsulfonverbindungen, wie in der US-PS 3 132
beschrieben, N-Arylvinylsulfonamide, wie in der GB-PS 861
beschrieben, Maleimidverbindungen, wie in der US-PS 3 186 beschrieben, Acry!nitrile, wie in der US-PS 2 594 293 beschrieben,
Polyalkylenoxide, wie in der US-PS 3 312 553 be-
509841/0888
schrieben, Epoxyverbindungen, wie in der publizierten japanischen
Patentanmeldung 26845/1967 beschrieben, Säureester, wie in der US-PS 2 763 639 beschrieben, und Alkansultone, wie
in der GB-PS 1 033 189 beschrieben.
Geeignete Materialien mit hohem Molekulargewicht zum Aufpfropfen auf die Gelatine werden in den US-Patentschriften
2 763 625, 2 831 767 und 2 956 884, in Polymer Letters, Band 5, 595 (1967), in Photo Sei. Eng., Band 9, 148 (1965)
und in J. Polymer Sei., A-1, Band 9, 3199 (1971),beschrieben
und sind beispielsweise Polymere und Copolymere von Vinylmonomeren
wie Acrylsäure, Methacrylsäure oder Derivate dieser Säuren wie die Ester, Amide oder Nitrile davon oder
Styrol usw. Hydrophile Vinylpolymere, die mit Gelatine verträglich
sind wie die Polymeren und Copolymeren von Acrylsäure, Acrylamid, Hydroxyalkylacrylat oder Hydroxyalkylmethacrylat,
sind besonders bevorzugt.
Die photo graphischen Silberhalogenideinulsionen können im allgemeinen
hergestellt werden, indem man eine Lösung eines in Wasser löslichen Silbersalzes (z.B. Silbernitrat) mit einer
Lösung eines in Wasser löslichen Halogenids (z.B. Kaliumbromid) in Anwesenheit einer Lösung eines in Wasser löslichen
Materials mit hohem Molekulargewicht wie Gelatine vermischt. Als Silberhalogenid können nicht nur Silberchlorid und Silberbromid,
sondern ebenfalls gemischte Silberhalogenide wie Silberbromchlorid, Silberjodbromid, Silberjodchlorid und
Silberjodbromchlorid verwendet werden« Körner dieser Silberhalogenide
können unter Verwendung bekannter Verfahren hergestellt werden. Beispielsweise können sie wirksam nach dem
sogenannten Einfach- oder Doppel-Jetverfahren oder nach einem
regulierten Doppel-Jetverfahren hergestellt werden. Man kann
auch zwei getrennt hergestellte photographische Silberhalogenidemulsionen vermischen. Die Silberhalogenidkörner können
eine homogene Kristallstruktur besitzen oder sie können eine laminare Struktur aufweisen, worin das Innere und das Äußere
50984 1 /0888
der Kristalle aus unterschiedlichen Materialien bestehen,
oder sie können Strukturen des Konversionstyps aufweisen, wie es in der GB-PS 635 841 oder in der US-PS 3 622 318 beschrieben
wird. Die Silberhalogenidteilchen können dem Typ angehören, bei dem ein latentes Bild hauptsächlich auf der
Oberfläche der Körner gebildet wird, oder dem Typ, bei dem ein latentes Bild im Inneren der Körner gebildet wird. Diese
photographischen Emulsionen werden von C.E.K.Mees & T.H.James in The Theory of the Photographic Process, 3. Ed,, MacMillan
Co., New York (1966), von P. Grafikides in Chimie Photographique, Paul Montel Co., Paris (1957) beschrieben,und sie
können unter Verwendung bekannter Verfahren hergestellt werden wie nach dem Ammoniakverfahren, dem Neutralisationsverfahren
oder einem Säureverfahren usw. Nach der Bildung der Silberhalogenidkörner werden diese mit Wasser gewaschen, um
als Nebenprodukte gebildete, wasserlösliche Salze (z.B, Kaliumnitrat, wenn Silberbromid unter Verwendung von Silbernitrat
und Kaliumbromid hergestellt wurde) aus dem System zu entfernen. Sie werden dann in Anwesenheit eines chemischen
Sensibilisierungsmittels, beispielsweise Natriumthiosulfat,
N,N,N'-Trimethy!thioharnstoff, einem Thiocyanatkomplexsalz
oder einem Thiosulfatkomplexsalz aus einwertigem Gold,
Zinn(Il)-chlorid oder Hexamethylentetramin, einem Wärmeverfahren
unterworfen, um die Empfindlichkeit zu erhöhen, ohne die Korngröße zu erhöhen. Diese Verfahren werden in den oben
erwähnten Handbüchern beschrieben. Beispiele von anderen chemischen Sensibilisierungsmitteln sind Goldverbindungen wie
die Chloraureate oder Goldtrichlorid, wie in den US-Patentschriften
2 399 083, 2 540 085 und 2 597 856 beschrieben, die Salze von Edelmetallen wie Platin, Iridium, Palladium,
Rhodium oder Ruthenium, wie in den US-Patentschriften 2 448 060, 2 540 086, 2 566 245, 2 566 263 und 2 598 079
beschrieben, Schwefelverbindungen, die durch Umsetzung mit Silbersalzen Silbersulfid bilden, wie in den US-Patentschriften
1 574 944, 2 410 689, 3 189 458 und 3 501 313 beschrieben, und Reduktionsmittel wie Zinn(II)-salze und Amine, wie
509841/0888
in den" US-Patentschriften 2 487 850, 2 318 698, 2 521 925,
2 521 926, 2 694 637, 2 983 610 und 3 201 254 beschrieben.
Die photographischen .Emulsionen können gewünschtenf alls durch
Spektralsensibilisierung oder Supersensibilisierung sensibilisiert werden, wozu man einen oder mehrere Cyaninfarbstoffe
wie Cyaninblauj- Merocyanin-oder· Carbocyanin-Farbstoffe usw.
oder eine Mischung aus einem Cyaninfarbstoff und einem Styrylfarbstoff
verwendet. Diese FarDsensibilisierungsverfahren sind gut bekannt und werden in den US-Patentschriften
2 493 748, 2 .519 001, 2 977 229, 3 480 434, 3 672 897,
3 703 377, 2 688 545, 2 912 329, 3 397 060, 3 615 635,3 628 964,
den britischen Patentschriften 1 195 302, 1 242 588 und
1 293 862, den deutschen Offenlegungsschriften 2 030 326 und
2 121 780, den publizierten japanischen Patentanmeldungen 4936/1968, 14030/1969 und 10773/1968, den US-Patentschriften
3 511 664, 3 522 052, 3 527 641, 3 615 613, 3 615 632,
3 617 295, 3 635 721 und 3 694 217 und den britischen Patentschriften
1 137 580 und 1 216 203 beschrieben. Die Auswahl des Sensibilisierungsmittels, das verwendet wird, kann im
Hinblick auf die Endverwendung des photo empfindlichen Materials erfolgen, beispielsweise dem Wellenlängenbereich, der
sensibilisiert werden soll, oder der Empfindlichkeit des
photo empfindlichen Materials usw.
Verschiedene Verbindungen können zu den photo graphischen Emulsionen
zugegeben werden, um eine Verminderung in der Empfindlichkeit und die Bildung vpn Schleiern während der Herstellung,
während des Lagerns oder während des Verarbeitens des photoempfindlichen Materials zu verhindern. Eine recht große
Anzahl solcher Verbindungen ist bereits bekannt und Beispiele davon sind heterocyclische Verbindungen wie 4-Hydroxy-6-methyl-1t3,3af7-tetrazaindens
3-Methyl-benzothiazol oder
1-Phenyl-6-mercaptotetrazoi usw., Quecksilber enthaltende
Verbindungen, Mercaptoverbindungen und Metallsalze usw. Spezifische Beispiele von solchen Verbindungen, die verwendet
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werden können, v/erden von C.E.K. Mees & T.H.James in The
Theory of the Photographic Process, wie oben angegeben, und in den folgenden Patentschriften beschrieben: US-Patentschriften
1 758 576, 2 110 178, 2 131 038, 2 173 628, 2 697 040, 2 304 962, 2 324 123, 2 394 198, 2 444 605 - 8,
2 566 245, 2 694 716, 2 697 099, 2 708 162, 2 728 663 - 5,
2 476 536, 2 824 001, 2 843 491, 2 886 437, 3 052 544,
3 137 577, 3 220 839, 3 226 231, 3 236 652, 3 251 691,
3 252 799, 3 287 135, 3 326 681, 3 420 668 und 3 622 339 und in den britischen Patentschriften 893 428, 403 789,
1 173 609 !And 1 200 188.
Wenn die photographischen Silberhalogenidemulsionen für photographisch empfindliche Farbmaterialien verwendet werden,
sind in den photograph!sehen Silberhalogenidemulsionen manchmal
farbstoffbildende Kuppler vorhanden. Beispiele solcher
Kuppler, die verwendet werden können, sind Diketonmethylengelb-Kuppler
des 4-Äquivalenttyps und Dikebomethylengelb-Kuppler
des 2-Äquivalenttyps, beispielsweise die Verbindungen,
die in den US-Patentschriften 3 277 157, 3 415 652, 3 447 928,
3 311 476 und 3 408 194 beschrieben sind, die Verbindungen, die in den US-Patentschriften 2 875 057, 3 265 506, 3 409 439,
3 551 155, 3 551 156 und 3 582 322 beschrieben sind, die Verbindungen, die in den offengelegten japanischen Patentanmeldungen
26133/1972 und 66836/1973 beschrieben sind, Pyrazolonpurpur -Kuppler oder Imidazolonpurpur -Kuppler des
4-Äquivalenttyps oder des 2-Äquivalenttyps, beispielsweise die Verbindungen, die in den US-Patentschriften 2 600 788,
2 983 608, 3 066 759, 3 062 653, 3 214 437, 3 253 924,
3 419 808, 3 476 560 und 3 582 322, der publizierten japanischen Patentanmeldung 20636/1970 und der offengelegten japanischen
Patentanmeldung 26133/1972 beschrieben sind, und a-Naphtholblaugrün-Kuppler und Phenolblaugrün-Kuppler, z.B.
die Verbindungen, die in den US-Patentschriften 2 474 293,
2 698 794, 3 034 892, 3 214 437, 3 253 924, 3 311 476,
3 458 315 und 3 591 383 und in den publizierten japanischen
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Patentanmeldungen 11304/1967 und 32461/1969 besehrieben
sind. Zusätzlich können die DIR-Kuppler, wie sie in den US-Patentschriften
3 227 554, 3 297 445, 3 253 924, 3 311 476, 3 379 529, 3 516 831, 3 617 291 und 3 705 801 und in der
deutschen Offenlegungsschrift 2 163 811 beschrieben werden,
ebenfalls verwendet werden. Die Kuppler können unter Verwendung der in den US-Patentschriften 2 304 939, 2 304 940,
2 322 027, 2 801 170, 2 801 171 und 2 749 360 beschriebenen
Verfahren dispergiert werden, um Dispersionen herzustellen.
Zu den erfindungsgemäßen photographischen Schichten können
ein oder mehrere oberflächenaktive Mittel zugegeben werden. Obgleich diese Mittel im allgemeinen als Beschichtungshilfsmittel
verwendet werden, v/erden sie manchmal für andere Zwecke eingesetzt, beispielsweise um die Dispersionsfähigkeit,
die Sensibilisierung und die photographischen Eigenschaften zu verbesern oder um eine elektrostatische Aufladung oder
eine Adhäsion usw. zu verhindern. Diese oberflächenaktive Mittel werden in natürliche oberflächenaktive Mittel wie
Saponin, nichtionische oberflächenaktive Mittel wie Verbindungen des Alkylenoxidtyps, Verbindungen des Glyeerintyps
oder' Verbindungen des Glycidoltyps, kationische oberflächenaktive
Mittel wie höhere Alkylamine, quaternäre Ammoniumsalze,
heterocyclische Verbindungen wie Pyridinverbindungen, Phosphoniumverbindungen und Sulfoniumverbindungen usw., anionische
oberflächenaktive Mittel, die Säuregruppen enthalten wie Carbonsäuregruppen, Sulfonsäuregruppen oder Phosphorsäuregruppen,
eine Schwefelsäureestergruppe oder eine Phosphorsäureestergruppe usw., und ampholytische oberflächenaktive
Mittel wie Aminosäuren, Aminosulfonsäuren und Schwefelsäureester oder Phosphorsäureester von Aminoalkoholen usi» eingeteilt.
Einige dieser oberflächenaktiven Mittel werden in den US-Patentschriften
2 271 623, 2 240 472? 2 288 226 9 2 739 891,
3 068 101, 3 158 4S4? 3 201 253, 3 210 191, 3 294 540,
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3 415 649, 3 441 413, 3 442 654, 3 475 174 und 3 545 974, in
der deutschen Offenlegungsschrift 1 942 665, den britischen
Patentschriften 1 077 317 und 1 198 450, von Ryohei Oda in Kaimenkasseizai no Gosei to sono Oxo, 1964 Edition, Maki Shoten,
Tokyo (1964), von A.W. Perry in Surface Active Agents, geschrieben von Interscience Publications Inc. (1958),und von
J.P. Sisley in Encyclopedia of Surface Active Agents, Band 2, Chemical Publishing Company (1964), beschrieben. Fluor enthaltende
oberflächenaktive Mittel, wie sie beispielsweise in den US-Patentschriften 3 589 906, 3 666 478, 2 559 751,
2 567 011, 2 732 398, 2 764 602, 2 806 866, 2 809 998,
2 915 376, 2 915 528, 2 934 450, 2 937 098, 2 957 031,
3 472 894 und 3 555 089, in der britischen Patentschrift
1 330 356, in der publizierten japanischen Patentanmeldung 37304/1970, in der offengelegten japanischen Patentanmeldung
96I3/I972, in J. Chem. Soc, S.2789 (1950) und ibid Seite 2574
und Seite 2640 (1957), in J. AmβChem.Soc., Band 79, Seite 2549
(1957) und in J. Japan Oil Chemists Soc, Band 12, Seite 653, beschrieben sind, können ebenfalls verwendet v/erden.
Bei der vorliegenden Erfindung können auf einer Oberfläche des Trägers oder in der photographischen Schicht Schmiermittel
vorhanden sein, um den Oberflächenreibungskoeffizienten des photographischen Elements zu vermindern, beispielsweise die
Silikone, die in den US-Patentschriften 3 079 837, 3 080 317, 3 545 970 und 3 294 537 beschrieben werden, oder modifizierte
Silikone, die durch die folgende Formel dargestellt werden
(CH3)3-J
CH-
_0 Si-O-
-CH-
-Si - 0
OH3 ■Si
- 0
-CH-
(OCH2CH2)
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- 2ο -
worin 1 O Ms 100, m O bis 100, 1 + m + η 15 Ms 1000, ρ
1 bis 100, R eine C^-Cjg-Alkylgruppe und R^ H oder eine
C1~C18~AlkylSruPPe bedeuten.
Die erfindungsgemäßen photographischen Materialien können bekannteantistatische
Mittel enthalten wie hydrophile Polymere, die beispielsweise in den US-Patentschriften 2 725 297,
2 972 535, 2 972 536, 2 972 537, 2 972 538, 3 033 679,
3 072 484, 3 262 807, 3 525 621, 3 615 531, 3 63Ο 743,
3 653 906, 3 655 384 und 3 655 386 und in den britischen Patentschriften 1 222 154 und 1 235 075 beschrieben sind,
hydrophobe Polymere, die beispielsweise in den US-Patentschriften 2 973 263 und 2 976 148 beschrieben sind, Biguanidverbindungen,
die beispielsweise in den US-Patentschriften
2 584 362 und 2 591 590 beschrieben werden, aniohische Verbindungen
vom SuIfonsäuretyp, wie sie beispielsweise in den
US-Patentschriften 2 639 234, 2 649 372, 3 201 251 und
3 457 076 beschrieben sind, Phosphorsäureester und quaternäre
Ammoniumsalze, die beispielsweise in den US-Patentschriften 3 317 344 und 3 514 291 beschrieben sind, kationische Verbindungen,
die beispielsweise in den US-Patentschriften 2 882 157, 2 982 651, 3 399 995, 3 549 369 und 3 564 043 beschrieben
sind, nichtionische Verbindungen, die beispielsweise in der US-PS 3 625 695 beschrieben sind, amphotere Verbindungen,
die beispielsweise in der US-PS 3 736 268 beschrieben sind, komplexe Verbindungen, die beispielsweise in der US-PS
2 647 836 beschrieben sind, und organische Salze, die beispielsweise
in den US-Patentschriften 2 717 834 und 3 655 387
beschrieben sind.
Die erfindungsgemäße photographische Schicht kann Aldehydverbindungen
wie Formaldehyd oder Glutaraldehyd, Ketonverbindungen wie Diacetyl oder Cyclopentadion, Verbindungen, die
reaktives.Halogen enthalten, wie sie in den US-Patentschriften
3 288 775 und 2 732 303 und in den britischen Patentschriften 974 723 und 1 167 207 beschrieben sind, wie auch Bis-(2-
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chloräthylharnstoff) und 2-Hydroxy-4,6-dichlor-1,3,5-triazin,
reaktives Olefin enthaltende Verbindungen, die in den US-Patentschriften 3 635 718 und 3 232 763 und in der britischen
Patentschrift 994 869 beschrieben sind, wie auch Divinylsulfon und 5-Acetyl-1,3-diacryloylhexahydro-i,3,5-triazln, N-Methylolverbindungen,
die in den US-Patentschriften 2 732 316 und 2 586 168 beschrieben sind, wie auch N-Hydroxymethylphthalimid,
Isocyanate, die in der US-PS 3 103 437 beschrieben
sind, Aziridinverbindungen, die in den US-Patentschriften 3 017 280 und 2 983 611 beschrieben werden, Säurederivate,
die in den US-Patentschriften 2 725 294 und 2 725 295 beschrieben werden, Carbodiimidverbindungen, die in der US-PS
3 100 704 beschrieben werden, Epoxidverbindungen, die in der US-PS 3 091 537 beschrieben werden, Isoxazolverbindungen, die
in den US-Patentschriften 3 321 313 und 3 543 292 beschrieben
werden, Halogencarboxyaldehyde wie Mucochlorsäure (CYCHpClpOp)»
Dioxanderivate wie Dihydroxydioxan oder Dichlordioxan und anorganische Härtungsmittel wie Chromalaun oder Zirkonsulfat
usw. als Härtungsmittel enthalten. Außerdem können anstelle der oben beschriebenen Verbindungen Vorstufenverbindungen
wie Alkalimetallbisulfit-Aldehyd-Addukte, Methylolderivate von Hydantoin und primären aliphatischen Nitroalkoholen
verwendet werden. Die Hilfsschichten und insbesondere die benachbarten Schichten können die oben beschriebenen Stabilisatoren
und Antischleiermittel in den erfindungsgemäßen photographisch empfindlichen Materialien enthalten.
Die erfindungsgemäßen photographisch empfindlichen Materialien können die in den US-Patentschriften 2 960 404, 3 520 694,
3 656 956 und 3 640 721 beschriebenen Polyole als Weichmacher in den photographischen Schichten davon enthalten.
Die erfindungsgemäßen photographisch empfindlichen Materialien
können in den Hilfsschichten davon Stilbenverbindungen, Tr!azoverbindungen, Oxazolverbindungen oder Kumarinverbindungen
als Aufhellungsmittel, Benzotriazolverbindungen,
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Thiazolidinverbindungen oder Ziratsäureesterverbindungen als
Absorptionsmittel für ultraviolettes Licht, bekannte Filterfarbstoffe für die Photographic als Mittel, die das Licht
absorbieren, wasserunlösliche Materialien, wie sie in den britischen Patentschriften 955 061, 1 320 564, 1 320 565 und
1 143 118 und in den US-Patentschriften 3 121 060 und
3 489 567 beschrieben sind, und oberflächenaktive Materialien, wie sie in der US-PS 3 617 286 beschrieben sind, als ad-,
häsionsverhindernde Mittel enthalten. Außerdem können sie anorganische Verbindungen mit geeigneter Teilchengröße enthalten
wie Silberhalogenide, Siliciumdioxid bzw. Kieselsäure oder Strontium-, Bariumsulfat bzw. Strontiumbariumsulfat
oder einen Latex wie Polymethylmethacrylatlatex als Mattierungsmittel enthalten.
Die erfindungsgemäßen photographisch empfindlichen Materialien können eine Antilichthofschicht, wie oben beschrieben,
enthalten. In einem solchen Fall werden zu der Antilichthofschicht als Mittel, um die Lichthof bildung zu verhindern,
Ruß bzw, Aktivkohle oder bekannte Antilichthof-Farbstoffe
wie Triphenylmsthanfarbstoffe, Oxono!farbstoffe, Styrylfarbstoffe
wie Benzyliden- oder Cinnamylidenderivate, Cyaninfarbstoffe oder Metall enthaltende (Chelat)-Farbstoffe zugegeben.
Einige dieser Materialien werden beispielsweise in den US-Patentschriften 2 150 695, 2 525 583, 3 282 699,
2 274 782, 2 621 125, 3 647 460, 3 653 905, 2 036 546,
3 615 546, 3 260 601, 3 743 009, 3 364 029 und 3 406 069 und
in der britischen Patentschrift 584 609 beschrieben.
Die Silberhalogenidemulsionen können ortho-Eaiulsionsn5 pan-
O^OBB^zsuh-s! Smlsicnenj Eaulsicnen für Infrarotstr
Saulsion?n für Rontgensxrahlsn oder für andere unsi
Strslilsr.:., Lithcsaulsicnen vmn pliotögpaphisclis Parbemulsionen
5sin wie Emulsionen, die' sinsn Farbfoildmigskupplsr enthalten,
■sdse Emulsion die ein Fsirlsstofxentwleklmigsialttel enthält^
3der eine Emulsion* die sine;,! felelciibaren Farbstoff enthält.
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Erfindungsgemäß werden Schwierigkeiten, die während der Herstellung oder der Verwendung photographisch empfindlicher
Materialien auftreten, beseitigt bzw. verkleinert. Beispielsweise wird die Bildung statischer Markierungen, die durch
Berührung der Emulsionsoberflächenschicht des photographisch empfindlichen Materials mit der Unterseite oder Rückseite
davon oder die durch Berührung des photoempfindlichen Materials mit anderen Materialien wie Kautschuk, Metallen, Kunststoffen
oder fluoreszierendem, sensibilisiertem Papier (das für Röntgenfilme verwendet wird) hervorgerufen werden, stark
vermindert. Insbesondere wird der spezifische Oberflächenwiderstand, wie es in den folgenden Beispielen beschrieben
wird, stark vermindert, wenn die Verbindung, die erfindungsgemäß verwendet wird, auf die Oberflächenschicht der Emulsionsseite
des photographischen Films aufgetragen wird. Andererseits nimmt der spezifische Oberflächenwiderstand kaum
ab, wenn viele bekannte oberflächenaktive Mittel und bekannte antistatische Mittel für die Photographie wie Saponin, aliphatische
Säureester der Saccharose oder die Verbindungen, die in den US-Patentschriften 2 982 631, 3 253 922 und 3 220 847
beschrieben werden, auf die Oberflächenschicht der Emulsionsseite aufgetragen werden.
Die Bildung elektrostatischer Ladungen, die durch Einsetzen des Films in eine Patrone, Einlegen des Films in eine Kamera
oder kontinuierliches Photographieren bei hoher Geschwindigkeit unter Verwendung automatischer Kameras wie mit Röntgenstrahlenfilmen
verursacht werden, kann wirksam verhindert werden, selbst bei niedriger Feuchtigkeit. Die antistatische
Wirkung verschlechtert sich auch nicht im Verlauf der Zeit. Weiterhin treten andere Schwierigkeiten wie ein Abrutschen
bzw. Schlüpfen übereinandergelegter Filme beim Schneiden oder ein Gleiten des aufgewickelten Films in einer Kamera
überhaupt nicht auf.
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Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Sofern nicht anders angegeben, sind alle Teile, Prozentgehalte, Verhältnisse
usw. durch das Gewicht ausgedrückt.
In den Beispielen erfolgt die Bewertung der antistatischen Eigenschaften durch Bestimmung des Wertes für die elektrostatische
Ladung, den spezifischen Oberflächenwiderstand und die Bildung statischer Markierungen bzw. Zeichen.
Eine photographische Emulsionsbeschichtungslösung, die hergestellt
wird, indem man Zusatzstoffe wie einen Stabilisator und ein Härtungsmittel, wie im folgenden beschrieben, zu einer
Hochgeschwindigkeitsemulsion für Röntgenstrahlen zugibt,
die 6% Gelatine und 6% Silberjodbromid (Silberjodid: 1,5 Mol-#)
enthält, wird auf einen Polyäthylenterephthalat-Film mit
einer Unterschicht darauf aufgetragen, und dann wird eine wäßrige Lösung, die Gelatine als Hauptkomponente enthält und
die kein antistatisches Mittel enthält, auf die Silberhalogenidemulsion aufgebracht, um eine Oberflächenschutzschicht zu
bilden. Die Zusammensetzungen der einzelnen Schichten sind in der folgenden Tabelle I angegeben.
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Bestandteil Beschichtungslösung für Beschichtungslösung für die Emulsionsschicht die Schutzschicht
Bindemittel Gelatine Gelatine 50 g
Silber Silberjodbromid
Härter 2?6ige wäßrige Lösung des 2%ige wäßrige Lösung
Natriumsalzes von 2-Hydroxv- des Natriumsalzes von 4,6-dichlor-s-triazin(5 ml) 2-Hydroxy-4,6-dichlor-
s-triazin (10 ml)
Stabilisa- 2%ige wäßrige Lösung von
tor 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol (10 ml)
Wasser 880 ml 500 ml
(Filmdicke: Emulsionsschicht 5/U, Schutzschicht 1 /u)
Die entstehende Probe \vird in Testproben eingeteilt und jede
Probe wird in eine 3/6ige wäßrige Lösung der erfindungsgemäßen
Verbindung (Verbindung 1 oder 3) während 30 Sekunden eingetaucht und dann getrocknet. Zum Vergleich werden Proben
auf gleiche Weise mit einer 3%igen wäßrigen Lösung von Saponin, Saccharose-monolaurat oder Polyoxyäthylen-nonylphenyläther
behandelt. Nach dem Konditionieren bei 25°C und 30^iger relativer Feuchtigkeit während 10 Stunden wird der
spezifische Oberflächenwiderstand dieser Proben der photographischen Filme auf folgende Weise bestimmt.
Die Bestimmung des spezifischen Oberflächenwiderstands wird durchgeführt, indem man einen Testfilm zwischen Messingelektroden
(rostfreier Stahl wurde in dem Teil verwendet, der den Testfilm berührte) mit einer Länge von 10 cm bei einer
Trennung von 0,14 cm legte und einen 1 Minuten-Wert bestimmte, wobei man ein Isolationstestgerät (Typ MM-V-M), hergestellt
von Takeda Riken Co., verwendete.
Die Bildung von statischen Markierungen -wurde bewertet, indem
man eine weiße Kautschukplatte auf eine: Oberfläche der
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Probe legte, die weiße Kautschukplatte mit einer Kautschukwalze bei 250C und hO% relativer Feuchtigkeit anpreßte,
um Reibung zu erzeugen, die weiße Kautschukplatte entfernte, die Probe mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung
entwickelte und die Probe fixierte.
warmes Wasser (5O0C) 700 ml Natrium-N-methyl-p-aminophenol-sulfat 4 g
Natriumsulfit (wasserfrei) 60 g
Hydrochinon 10 g
Natriumcarbonat (Monohydrat) 53 g
Kaliumbromid 25 g
Wasser bis zu 11
Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle II angegeben.
Tabelle II Antistatische Bewertung
Probe Antistatisches Mittel spez.Oberflä- Anzahl der
^r· chenwiderstand statischen
(0hm)
i
Markierungen
1 Verbindung 1 3 x 1010 A
2 Verbindung 5 2 χ 1011 A
3 Verbindung 16 8 χ 1010 A
4 Verbindung 10 4x1O10 A
5 Saponin 1O1Z|" D
6 Saccharose-monolaurat 5 x 10 C
7 Polyäthylen-nonylphenylather Λ ,
(10 Oxyäthyleneinheiten) 3 χ 10u C
8 keins (Vergleich) 10 E
Die Anzahl bzw. die Menge der statischen Markierungen wurde entsprechend den folgenden fünf Stufen bewertet:
Bewertung Bildung von statischen Markierungen A keine
B gering
C bemerkenswert
D beachtlich
E über der gesamten Oberfläche
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Aus den Ergebnissen der Tabelle II ist erkennbar, daß bei
den photographischen Filmen, die mit einer wäßrigen Lösung. der eriindungsgemäßen Verbindung (Proben Nr. 1, 2, 3 und 4)
behandelt wurden, die Bildung von statischen Markierungen nicht beobachtet wurde oder kaum beobachtet wurde, und daß
der Oberflächenwiderstand beachtlich abnahm. Andererseits traten bei den Proben, die mit Saponin, Saccharose-monolaurat
und Polyoxyäthylen-nonylphenyläther (Proben Nr. 5, 6 lund 7)
behandelt wurden, beachtliche statische Markierungen auf und der spezifische Oberflächenwiderstand nahm kaum ab. Bei
der Vergleichsprobe (Probe Nr. 8) war die gesamte Oberfläche mit statischen Markierungen bedeckt.
Zu einer Hochgeschwindigkeitsemülsion für Hochgeschwindigkeits-Röntgenstrahlenphotographie,
die 7% Gelatine und 8$! Silberjodbromid (Silberjodid 1,5 Mol-%) enthielt, wurden
die gleichen Zusatzstoffe, d.h. der gleiche Stabilisator, das gleiche Härtungsmittel und der Sensibilisator wie in
Beispiel 1 zugegeben und eine k%±ge wäßrige Lösung von
Saponin in einer Menge von 5 ml/kg Emulsion wurde zugegeben. Diese photographische Emulsion wurde auf beide Oberflächen
eines Polyäthylenterephthalatträgers mit Unterschichten daran aufgetragen. Nach dem Abkühlen des mit Unterschichten versehenen
Trägers wurde eine Beschichtungslösung auf beide
Emulsionsschichten aufgetragen, die hergestellt wurde, indem man 20 ml einer 1Obigen wäßrigen Lösung einer erfindungsgemäßen
Verbindung (Verbindung 1) als antistatisches Mittel zu 1 kg einer 2%igen wäßrigen Gelatinelösung, die das Natriumsalz
von 2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazin als Härter enthielt,
zugab. Nach dem Abkühlen wurde die Probe getrocknet. Die entstehenden Emulsionsschichten und die Schutzschichten hatten
je eine Dicke von 5/u bzw. 1/u. Die beschichteten Oberflächen
waren einheitlich und gleichmäßig und zeigten eine gute Qualität.
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Andererseits wurden ein photographischer Film, bei dem die
gleiche Menge eines bekannten Mittels, Natrium-dioctylsulfosuccinat,
als Vergleichsverbindung zu der Schutzschicht zugegeben wurde, und ein p'hotographischer Film, der kein antistatisches
Mittel enthielt (Vergleich), nach den gleichen Verfahren hergestellt. Nach dem Konditionieren dieser Filme
bei 25°C und 30&Lger relativer Luftfeuchtigkeit während 10 Stunden
wurde der spezifische Oberflächenwiderstand und die Bildung von statischen Markierungen auf gleiche Weise wie in
Beispiel 1 beschrieben bestimmt. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle III angegeben.
Antistatisches Mittel spez.Oberflächen- Bildung stati-
wider stand (Ohm) scher Markierungen
Verbindung 1 2 χ 1011 A
Natrium-dioctylsulfo- ,.,
succinat (Vergleichsverb.) 3 x 10 D
keins (Vergleich) 1014 E
Aus den Ergebnissen der Tabelle III ist erkennbar, daß bei dein photographischen Film, bei dem das erfindungsgemäße antistatische
Mittel zu der Schutzschicht zugegeben wurde, der spezifische Oberflächenwiderstand stark abnahm. Im Gegensatz
dazu nahm der spezifische Oberflächenwiderstand bei dem
photographischen Film kaum abs bei dem man Natrium-dioctylsulfosuccinat
zu der Schutzschicht zugefügt hatte.
B e i s ρ i e 1 3
20 ml einer 1Obigen wäßrigen Lösung der erfindungsgemäßen
Verbindung 2 wurden zu einer Hochgescliwindigkeitsemulsion
zugefügt, die 6% Gelatine und 'i2% Silberjodbromid (Silberjodid:
6,0 Mol-55) enthielt, Eine Beschichtuagslösung für die Herstellung
einer Oberfläohenschutzschicht wurde hergestellt,
Indem man 50 ml einer feigen wäßrigen Lösung von Polyoxyäthylensürbitan-monolaurat
(15 Oxyäthyleneinheiten) als Be-
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Schichtungshilfsmittel zu 1 kg einer 7?6igen wäßrigen Lösung
aus Gelatine, die einen Härter enthielt, zufügte. Die oben beschriebene photographische Emulsion und die Beschichtungslösung
für die Herstellung der Oberflächenschutzschicht wurden nacheinander auf einen Cellulosetriacetatträger mit einer
Unterschicht daran aufgetragen. Nach dem Abkühlen wurde die Probe getrocknet. Der spezifische Oberflächenwiderstand und
die Bildung statischer Markierungen wurden auf gleiche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben geprüft. Der spezifische Oberflächenwiderstand
bei 20°C und 40%iger relativer Feuchtigkeit betrug 7,5 χ 10 Ohm bei dem photographischen Film, bei dem
man die erfindungsgemäße Verbindung zu der Emulsionsschicht zugefügt hatte. Im Gegensatz dazu betrug sie 8,5 x 10 ^ Ohm
bei dem photographischen Film, der keine erfindungsgemäße Verbindung enthielt.
5 ml einer 4?£igen wäßrigen Lösung aus Saponin als Beschichtungshilfsmittel
wurden zu 1 kg einer Hochgeschwindigkeitsemulsion zugegeben, die 6% Gelatine und 12?ό Silberjodbromid
(Silberjodid: 8,6 Mol-%) enthielt. Die Emulsion wurde auf
einen Cellulosetriacetatträger mit einer Unterschicht aufgetragen. Dann wurde eine Beschichtungslösung für die Herstellung
einer Oberflächenschutzschicht auf die entstehende Emulsionsschicht aufgetragen, wobei die Beschichtungslösung
hergestellt wird, indem man 60 ml einer 10bigen wäßrigen Lösung
der erfindungsgemäßen Verbindung 5 zu 1 kg einer 5%±gen
wäßrigen Lösung von Gelatine zufügt, die das Natriumsalz von 2-Hydroxy-4,6-dichlor-S-triazin (15 ml einer 2%igen wäßrigen
Lösung pro kg der Emulsion) als Härter enthielt. Die Probe wird nach dem Abkühlen getrocknet, um eine photographische
Filmprobe herzustellen. Man arbeitet wie oben beschrieben und stellt eine photographische Filmprobe her, wobei eine
Beschichtungslösung verwendet wird, die hergestellt wird, indem man 60 ml einer 10bigen wäßrigen Lösung der erfindungsge-
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- 3ο -
mäßen Verbindung 5 und 30 ml einer 1?oigen wäßrigen Lösung
eines Fluor enthaltenden, oberflächenaktiven Mittels als antistatisches Mittel der Formel
O :
Il I
CpF1 ,.SC0K-CH3CH5O-P-OKa |
O 1 ( c-1 c- <- 1 !
C2H5 ONa
zu der oben beschriebenen wäßrigen Gelatinelösung zugibt.
Zum Vergleich wurde eine photographische Filmprobe mit einer Oberflächenschutzschicht, zu der 50 ml einer 10bigen wäßrigen
Saponinlösung zugegeben wurden, auf gleiche Weise hergestellt, Der spezifische Oberflächenwiderstand dieser Filmproben wurde
auf gleiche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben bestimmt und die Oberflächenadhäsionseigenschaften wurden nach dem folgenden
Verfahren bestimmt«, Zwei quadratische Versuchsteststücke (4 cm Seitenlänge) wurden jeweils aus den entstehenden photographischen
Filmproben ausgeschnitten und bei 350C und 90%
relativer Feuchtigkeit 2 Tage konditioniert, wobei sie einander nicht berührten. Die Schutzschichten der Testpaarstücke,
die aus der gleichen Filmprobe ausgeschnitten wurden, wurden dann miteinander in Kontakt gebracht und dann vmrden
.die Proben 1 Tag unter einer Belastung von 800 g bei 35°C und 90% relativer Feuchtigkeit gelagert. Jedes Versuchs stückpaar
wurde dann auseinandergenommen und die aneinanderhaftenden Flächen bei jedem der Versuchsstücke wurden bestimmt.
Die Antiklebeeigenschaft wurde gemäß den folgenden 4 Stufen
bewertet.
Bewertung Haftende Fläche
(%)
A weniger als 40
B 41 bis 60
C 61 bis 80
D mehr als 81
Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle IV angegeben.
509841/08 8.8
| - 37 - | 2513791 | * | Klebeeigen schaft |
|
| Tabelle IV | A | |||
| Antistatisches Mittel |
spez.Oberflächen widerstand (Ohm) |
B | ||
| Verbindung 10 | 8 χ 1011 | A | ||
| Verbindung 5 | 2 χ 10Μ | D | ||
| Verbindung 5 und Fluor enthaltendes oberflä chenaktives Mittel |
7 x 1011 | |||
| Saponin | 1 χ 1014 |
Aus den Ergebnissen der Tabelle IV ist erkennbar, daß der spezifische Oberflächenwiderstand bei photographischen Filmproben
abnimmt, bei denen die erfindungsgemäße Verbindung zu der Oberflächenschutzschicht zugefügt wurde.
Auf eine Seite eines Cellulosetriacetatträgers wurde eine antistatische Lösung (A) der folgenden Zusammensetzung, die
die erfindungsgemäße Verbindung enthielt, aufgebracht. Zum Vergleich wurde eine Vergleichslösung (B) der gleichen Zusammensetzung,
die jedoch keine erfindungsgemäße Verbindung enthielt, auf gleiche Weise aufgebracht. Diese Filmträger
wurden bei 800C während 10 Minuten getrocknet (Beschichtungsfilmdicke
0,3/u).
Antistatische Antistatische Lösung (A) Vergleichslösung
(B)
| Cellulosediacetat | 0,2 | g | o, | 2 g |
| Wasser | 10 | g | 10 | g |
| Methanol | 50 | g | 50 | g |
| Aceton | 40 | g | 40 | g |
| erfindungsgemäße Verbindung | 0,1 | g | - |
Nach dem Konditionieren dieser photographischen Filmträger bei 230C und 60# relativer Feuchtigkeit während.5 Stunden
wurde der spezifische Oberflächenwiderstand bestimmt. Der spezifzische Oberflächenwiderstand betrug 2 χ 10 Ohm bei
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dem Filmträger, auf den man die Vergleichslösung (B) angewendet hatte, während er 4,5 x 1Cr Ohm bei dem Filmträger
betrug, der mit der antistatischen Lösung (A) behandelt wurde,
B ei spiel 6
Auf einen Cellulosetriacetatfilmträger wurde eine Antilichthofbildungsschicht,
eine rotempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht, eine Zwischenschicht," eine grünempfindliche
Silberhalogenidemulsionsschicht, eine Gelbfilterschicht, eine
blauempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht und eine Schutzschicht nacheinander aufgetragen, um einen photographischen
Farbfilm herzustellen.
Die Antilichthofbildungsschicht war eine Gelatineschicht, die
eine schwarze kolloidale Silberdispersion (0,36 g/m ) enthielt,
das Härtungsmittel (1) und das Beschichtungshilfsmittel (1),die im folgenden beschrieben werden, enthielt.
Die rotempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht enthielt den Sensibilisierungsfarbstoff (2), den Stabilisator (1), das
Härtungsmittel (2), das Beschichtungshilfsmittel (1), die Farbkuppler (4) und (5) und die Kupplerlösungsmittel (1)
und (2) in einer Gelatine-Silberjodbromidemulsion (Jodidgehalt:
2,0 ^)
Die Zwischenschicht war eine Gelatineschicht, die das Härtungsmittel (1), das Beschichtungshilfsmittel (1) und das
Kupplerlösungsmittel (3) enthielt.
Die grünempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht enthielt
den Sensibilisierungsfarbstoff (1), den Stabilisator (1), das Härtungsmittel (2), das Beschichtungshilfsmittel (1), die
Farbkuppler (2) und (3) und die Kupplerlösungsmittel (1) und (2) in einer Gelatine-Silberjoabromideraulsion (Jodidgehalt:
3,3 Mol-50.
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Die Gelbfilterschicht war eine Gelatineschicht, die eine
gelbe kolloidale Silberdispersion enthielt, die Härtungsmittel (1) land Beschichtungshilfsmittel (2) enthielt.
Die blauempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht enthielt den Stabilisator (1), das Härtungsmittel (2), den Farbkuppler
(1) und die Kupplerlösungsmittel (1) und (2) in einer Gelatine-Silberjodbromidsüberemulsion (Jodidgehalt:
3,3 tf)
Als Oberflächenschutzschicht wurden zwei Proben verwendet,
d.h. eine Probe enthält 1,0 g Gelatine und 0,5 g einer Styrol-Maleinsäure-Copolymeren
(Grenzviskosität,bestimmt in einer 1?oigen wäßrigen Lösung aus Natriumchlorid: 0,40) als Bindemittel
pro m der Oberflächenschutzschicht, 0,5 g/100 g Bindemittel des Härtungsmittels (1), 5,0 g /100 g Bindemittel
der erfindungsgemäßen Verbindung (Verbindung 1) als antistatisches
Mittel und 0,8 g/100 g Polymethylmethacrylatteilchen
(durchschnittliche Teilchengröße 2 Mikron) als Mattierungsmittel, und eine Probe, die Vergleichsprobe, die die gleiche
Zusammensetzung wie oben beschrieben besaß, aber 3,0 g/100 g
Bindemittel des Natriumdodecylbenzolsulfonats anstelle der erfindungsgemäßen Verbindung (Verbindung 1) enthielt.
Die in den jeweiligen Schichten verwendeten Zusatzstoffe sind die folgenden: Sensibilisierungsfarbstoff (1): Anhydro-5,5*-diphenyl-9-äthyl-3,3'-di-(2-sulfoäthyl)-oxycarbocyanin-
hydroxid-pyridiniumsalz,
Sensibilisierungsfarbstoff (2): Anhydro-5,5'-dichlor-9-äthyl-3,3'-di-(3-sulfopropyl)-thiacarbocyaninhydroxid-pyridinium-
Stabilisator (1): 4-Hydroxy-6-methy1-1,3,3a,7-tetrazainden,
Härtungsmittel (1): 2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazinnatriumsalz,
Härtungsmittel (2): Hexahydro-1,3,5-triacryloyl-s-triazin,
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Oberflächenaktives Mittel (1): Natriumdodecylbenzolsulfonat, Oberflächenaktives Mittel (2): 2-Sulfonat-bernsteinsäure-bis-(2-äthylhexyl)-ester-natriumsalz,
Kupplerlösungsmittel (1): Di-n-butylphthalat,
Kupplerlösungsmittel (2): Tri[N-(2-hydroxyäthyl) ]-cyanursäure, Kupplerlösungsmittel (3): Tricresylphosphat,
Farbkuppler (1)ϊ 2«-Chlor-5!-[2-(2,4-di-tert.-amylphenoxy)-butyramido]-a-(5,5-dimethyl-2,4-dioxo-3-imidazolidinyl)-a-
(4-methoxybenzoyl)-acetonitril,
Farbkuppler (2): 1-(2,4,6-Trichlo:rphenyl)-3-/3-[(2,4-di-tert. amylphenoxy)-acetamido
j-benzamidoj- -4-(4-methoxyphenyl)-azo-5-pyrazolon,
Farbkuppler (3): 1-(2,4,6-Trichlorphenyl)-3-^3-[(2,4-di-tert.-
amylphenoxy)-acetamido]-benzamidoJ-5-pyrazolon,
Farbkuppler (4): 1-Hydroxy-4-(2-acetylphenyl)-azo-N-[4-(2,4-di-tert.-amylphenoxy)-butyl]-2-naphthamid,
Farbkuppler (5): i-Hydroxy-N-dodecyl-2-naphthamid.
Die entstehenden Proben wurden bei 25°C und 30?o relativer
Feuchtigkeit während 20 Stunden konditioniert, dann wurde der spezifische Oberflächenwiderstand und die Bildung von statischen
Markierungen auf gleiche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben geprüft.
Bei dem photographischen Film, bei dem man die erfindungsgemäße
Verbindung zu der Oberflächenschutzschicht zugegeben hatte, betrug der spezifische Oberflächenwiderstand
5 x 10 Ohm und es wurde keine Bildung statischer Markierungen beobachtet. Im Gegensatz dazu hatte der Vergleichsfilm,
der keine erfindungsgemäße Verbindung enthielt, einen spezifischen Oberflächenwiderstand von 6 χ 1013 0hm;und es wurden
viele statische Markierungen gebildet.
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Claims (12)
- PatentansprücheAntistatisches, photographisch empfindliches Material, enthaltend einen Träger und darauf mindestens eine
Silberhalogenidemulsionsschicht, wobei ein oberflächenaktives Copolymer, das in der Hauptkette eine sich wiederholende Einheit der Formel (I)-(CH - CH-)-Y—^CH5CH0O)-—C C —OM (I) iIl Il !0 0 :enthält, worinY eine organische Gruppe mit 4 bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet,η die durchschnittliche Zahl der Äthylenoxy-Einheiten darstellt und 1 bis 100 bedeutet undM ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom, ein Erdalkalimetallatom, eine Ammoniumgruppe oder eine Alkylammoniumgruppe bedeutet,mindestens in einer Oberfläche des Trägers und/oder der photographischen Schicht vorhanden ist. - 2. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß Y eine lineare, verzweigtkettige oder cyclische, gesättigte oder ungesättigte, unsubstituierte oder substituierte Kohlenwasserstoffgruppe bedeutet.
- 3. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet ,daß Y die Gruppe R-O-, die Gruppe ^rN- , die Gruppe RCON-,509841/0888die Gruppe RCOO-, die Gruppe R-S- oder die Gruppe R-SO2N-bedeutet, worin R und R' gleich oder unterschiedlich sein können und je eine Alkylgruppe', die vollständig oder teilweise durch Fluoratome substituiert sein kann, eine Aralkylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten und R' außerdem ein Wasserstoffatom bedeutet, M ein Wasserstoffatom, ein Natriumatom, ein Kaliumatom, ein Lithiumatom, ein Calciumatom, ein Bariumatom, eine Ammoniumgruppe oder eine Alkylaramoniumgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in den Alkylteilen bedeutet·
- 4. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß das Copolymer, das die sich wiederholende Einheit der Formel (I) enthält, ein Copolymer ist, welches als Comonomer ein Alkylacrylat, ern^MUrtiacrylatä einen Vinylester, einen Vinyläther, ein Vinylketon, ein Styrol, eine heterocyclische Vinylverbindung, ein Acrylnitril, ein- Vinyl- oder Vinylidenhalogenid oder/und ein Olefin enthält.5« Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß das oberflächenaktive Copolymer, das eine sich wiederholende Einheit der Formel (I) ent hält, eine Verbindung ist, die durch die folgende Formel dargestellt wird-4-CHp-CH ±- (r CH-CH-*-HOOC CO-C-OCH2CH2worin das Molverhältnis von χ zu y 1?1 beträgt.
- 5 0 9841/0888
- 6. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Copolymer, das eine sich wiederholende Einheit der Formel (I) enthält, eine Verbindung ist, die durch die FormelCH2-CH"fe°"Cl8H37dargestellt wird, worin das Molverhältnis von χ zu y 1:1 beträgt.
- 7. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß das oberflächenaktive Copolymer, das eine sich wiederholende Einheit der Formel (i) enthält, eine Verbindung ist, die durch die FormelC9H19dargestellt wird, worin das Molverhältnis von χ zu y 1:1 beträgt.
- 8. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß das oberflächenaktive Copolymer, das eine sich wiederholende Einheit enthält, die durch die Formel (I) dargestellt wird, ein Molekulargewicht von ungefähr 500 bis 50 000 besitzt.509841 /0888
- 9. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß das oberflächenaktive Copolymer, das eine sich wiederholende Einheit, die durch die Formel (I) dargestellt wird, enthält, ein Molekulargewicht von 1000 bis 20 000 besitzt und η 2 bis 50 bedeutet.
- 10. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Copolymer, das eine sich -wiederholende Einheit enthält, die durch die Formel (I) dargestellt wird, in dem photo graphisch empfindlichen Material und in einer Menge von ungefähr 0,05 bis 20 g/m , bezogen auf das photographisch empfindliche Material, vorhanden ist.
- 11. Antistatisches, photographisch empfindliches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß die photographische Schicht eine Silberhalogenidemulsionsschicht, eine Zwischenschicht, eine Schutzschicht, eine Filterschicht, eine Stützschicht, eine Antilichthofbildungsschicht, eine antistatische Schicht, eine Antikräuselschicht oder eine Unterschicht ist. ' -
- 12. Verfahren zur Verbesserung der antistatischen Eigenschaften eines photographisch empfindlichen Materials, das einen Träger und darauf mindestens eine Silberhalogenidemulsions schicht enthält, dadurch gekennzeichnet , daß ein oberflächenaktives Copolymer, das in der Hauptkette eine sich wiederholende Einheit der folgenden Formel (I)(I)509841 /0888enthält, worinY eine organische Gruppe mit 4- bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet,η die durchschnittliche Zahl der Äthylenoxyeinheiten darstellt und 1 bis 100 bedeutet undM ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom, ein Erdalkalimetallatom, eine Ammoniumgruppe oder eine Alkylammoniumgruppe bedeutet,auf mindestens eine Oberfläche des Trägers oder auf die photοgraphische Schicht auf dem Träger aufgebracht oder der photographischen Schicht auf dem Träger einverleibt wird.509841 /0888
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0329607A2 (de) * | 1988-02-12 | 1989-08-23 | ILFORD Limited | Photographische Beschichtungslösungen |
| EP0745896A1 (de) * | 1995-05-24 | 1996-12-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatische Filmträger und photographische Elemente, die diese antistatischen Filmträger enthalten |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5753587B2 (de) * | 1974-08-05 | 1982-11-13 | ||
| GB1528616A (en) * | 1975-06-04 | 1978-10-18 | Ciba Geigy Ag | Alkali-release mordants |
| JPS5459926A (en) * | 1977-10-21 | 1979-05-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photographic material having antistatic layer |
| US4275147A (en) * | 1977-09-08 | 1981-06-23 | Gaf Corporation | Antistatic photographic element |
| US4201840A (en) * | 1977-10-06 | 1980-05-06 | Eastman Kodak Company | Photographic film units containing a polymeric mordant which covalently bonds with certain dyes |
| JPH0943890A (ja) * | 1995-07-27 | 1997-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真用被転写フィルム |
| JP3673028B2 (ja) * | 1996-09-06 | 2005-07-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真要素およびこれを用いた拡散転写写真感光材料 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3597208A (en) * | 1966-03-09 | 1971-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Process for producing photographic light-sensitive elements |
| FR2008192A1 (de) * | 1968-05-10 | 1970-01-16 | Gaf Corp | |
| US3856530A (en) * | 1969-10-29 | 1974-12-24 | Agfa Gevaert | Photographic polyester film material comprising antistatic layer |
| CA923359A (en) * | 1970-03-12 | 1973-03-27 | Meyer Karl-Otto | Photographic materials |
| US3769020A (en) * | 1971-02-11 | 1973-10-30 | Agfa Gevaert Ag | Photographic material with improved properties |
| GB1366092A (en) * | 1971-07-23 | 1974-09-11 | Borax Cons Ltd | Inhibiting grain-growth in refractory materials |
| US3753716A (en) * | 1972-02-04 | 1973-08-21 | Konishiroku Photo Ind | Method for antistatic treatment of plastic films |
| JPS5321646B2 (de) * | 1973-04-27 | 1978-07-04 |
-
1974
- 1974-03-30 JP JP3641074A patent/JPS5715373B2/ja not_active Expired
-
1975
- 1975-03-27 GB GB1310075A patent/GB1463245A/en not_active Expired
- 1975-03-27 DE DE19752513791 patent/DE2513791A1/de not_active Ceased
- 1975-03-31 US US05/563,904 patent/US3938999A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0329607A2 (de) * | 1988-02-12 | 1989-08-23 | ILFORD Limited | Photographische Beschichtungslösungen |
| EP0329607A3 (de) * | 1988-02-12 | 1991-01-02 | ILFORD Limited | Photographische Beschichtungslösungen |
| EP0745896A1 (de) * | 1995-05-24 | 1996-12-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatische Filmträger und photographische Elemente, die diese antistatischen Filmträger enthalten |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS50129216A (de) | 1975-10-13 |
| JPS5715373B2 (de) | 1982-03-30 |
| GB1463245A (en) | 1977-02-02 |
| US3938999A (en) | 1976-02-17 |
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