DE2914774A1 - Verfahren und vorrichtung zum entwickeln von zweikomponenten-diazokopiermaterial - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum entwickeln von zweikomponenten-diazokopiermaterial

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DE2914774A1
DE2914774A1 DE19792914774 DE2914774A DE2914774A1 DE 2914774 A1 DE2914774 A1 DE 2914774A1 DE 19792914774 DE19792914774 DE 19792914774 DE 2914774 A DE2914774 A DE 2914774A DE 2914774 A1 DE2914774 A1 DE 2914774A1
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Goetz Von Dem Dipl Ing Bussche
Jochen Koblo
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • GPHYSICS
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Description

HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
KALLE Niederlassung der Hoechst AG Wiesbaden-Biebrich Hoe 79/K 014
Verfahren und Vorrichtung zum Entwickeln von Zweikomponenten-Di azokopiermateri al
0300A4/0081
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT KALLE Niederlassung der Hoechst AG
Hoe 79/K 014 10. April 1979
WL-DI.Z.-is
Verfahren und Vorrichtung zum Entwickeln von Zweikomponenten-Diazokopiermaterial
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entwickeln von Zweikomponenten-Diazokopiermaterial mit aus einer Entwicklerflüssigkeit, insbesondere aus wässriger Ammoniaklösung durch Verdampfen freiwerdendem Gas, insbesondere mit einem Gemisch aus Ammoniak und Wasserdampf, bei dem die Temperatur im Entwicklungsraum höher als die Eintrittstemperatur aus dem Verdampfungsraum ist, und eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Bei der Entwicklung von Kopiermaterial mit einem Gemisch aus Ammoniak und Wasserdampf wird im allgemeinen so vorgegangen, daß das Kopiermaterial durch einen Entwicklungsraum geführt wird, an dessen Boden ein Verdampfer angebracht ist, in welchen eine Entwicklerflüssigkeit getropft wird, aus der durch Wärmeeinwirkung das Entwicklergas freigesetzt wird. Nachteilig ist dabei, daß ein Teil des im Entwicklergas befindlichen Wasserdampfes sich an dem Transportband bzw. den Transportwalzen und an dem Kopiermaterial niederschlägt. Das kondensierte Wasser kann das Kopiermaterial anfeuchten und das Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht ab-, lösen, wodurch das Kopiermaterial an den Bauteilen des Entwicklungsraumes klebenbleiben kann und dadurch Störungen auftreten können. Diesen Nachteil soll das eingangs beschriebene Verfahren, das aus der DE-OS 2 417 979 bekannt ist, überwinden, mit dem die Konzentration des Entwickler-
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-sT-
gases auf einem konstanten Wert gehalten werden kann, das Entwicklergas im Entwicklungsraum nicht kondensiert und das zweckmäßigerweise so ausgeführt wird, daß sowohl die Eintrittstemperatur des eingeleiteten Entwicklergases als auch die des Entwicklungsraums auf einem konstanten Wert gehalten oder beide Temperaturen gemäß der gleichen Punktion geändert werden. Die bekannte Vorrichtung zur Ausübung dieses Verfahrens umfaßt einen Behälter, der die Entwicklerflüssigkeit enthält, einen
^O mit Heizkörper ausgerüsteten verschließbaren Entwicklungsraum, der über Rohrleitungen mit dem Behälter verbunden ist und in welchen eine Pumpe und eine mit einem Heizkörper versehene Gasaustreibkammer geschaltet ist. Der Heizkörper des Entwicklungsraumes ist an einen ersten Temperaturregler, der Heizkörper der Gasaustreibkammer an einen zweiten Temperaturregler angeschlossen und der Sollwert des ersten Temperaturreglers ist höher als der des zweiten eingestellt.
Bei dem bekannten Verfahren nach der DE-PS 27 26 240 zur Trockenentwicklung von Zweikomponenten-Diazokopiermaterial, insbesondere Mikrofilm-Duplizierfilm auf Polyesterbases, durchläuft das Diazokopiermaterial ein 3 bis 25 Gew.-% Ammoniak enthaltendes Ammoniak-Wasserdampf-Gemisch bei einer Temperatur zwischen etwa 105 bis 120 C bei atmosphärischem Druck. Das Diazokopiermaterial wird vor der Entwicklungsatmosphäre einer Vorentwicklungsatmosphäre bei einer Temperatur zwischen 100 bis 110 C ausgesetzt, die 20 bis 80 % der Ammonia konzentration der Entwicklergasatmosphäre beträgt. Die
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Vorrichtung zur Ausübung dieses Verfahrens umfaßt eine Entwicklungskammer, die mit mindestens einer Heizeinrichtung ausgestattet ist, die über einen Temperaturregler mit einem in der Entwicklungskammer angeordneten Temperaturfühler in Verbindung steht. Der Temperaturregler ist auf einen Sollwert zwischen 105 bis 120 C eingestellt. In die Entwicklungskammer mündet mindestens eine Leitung zum Einspeisen des Entwicklers. Unmittelbar vor der Entwicklungskammer ist eine Vorentwicklungskammer angeordnet und zwischen diesen beiden Kammern befindet sich eine Drosselstelle. Die Vorentwicklungskammer ist mit einer Saugeinrichtung verbunden, die eine Saugleistung besitzt, mittels der das durch die Drosselstelle einströmende Entwicklergas die Ammoniakgaskonzentration in der Vorentwicklungskamaer zwischen 20 und 80 % der Ammoniakgaskonzentration in der Entwicklungskammer hält. Dosiermittel für den Entwickler sind so bemessen, daß eine Ammoniakkonzentration in der Entwicklungskammer von 3 bis 25 Gew.-% aufrechterhalten wird. Die Vorentwicklungskammer ist mit einer Heizeinrichtung ausgerüstet, durch die die Vorentwicklungsatmosphäre auf eine Temperatur zwischen lOO und 110 C erwärmt wird. Bei dieser Entwicklungsvorrichtung leisten die Vorkammern einen nennenswerten Beitrag zur Entwicklung des hindurchtransportierten Diazokopiermaterials, wodurch die erzielbare optische Dichte des entwickelten Diazokopiermaterials erhöht wird.
Bei den bekannten Verfahren und Vorrichtungen ist der bauliche Aufwand zum Erzielen einer großen optischen
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Dichte, zur Vermeidung eines Kondensatniederschlags auf den im Inneren der Entwicklungskammer befindlichen Bauteilen, zur Verringerung des Ammoniakanteils in der Abluft und zur Senkung des AmmoniakVerbrauchs groß und daher dementsprechend kostspielig.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Entwicklungsverfahren der eingangs beschriebenen Art so zu verbessern, daß die Arbeitsbedingungen mit möglichst geringem baulichen Aufwand günstiger als bei den bekannten Verfahren sind, daß der Kondensatniederschlag im Entwicklungsraum, der Ammoniakverbrauch und der Ammoniakanteil in der- Abluft ver- ringert, das im Abwasser befindliche Restammoniak ausgetrieben und der Entwicklungsatmosphäre zugeführt wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Temperatur in einer Sumpfzone unterhalb des Verdampfungsraums hoher als die Temperatur im Verdampfungsraum und kleiner oder gleich der Temperatur im Entwicklungsraum gehalten wird. Dabei wird darauf geachtet, daß die Temperatur in der Sumpfzone auf einem konstanten Wert gehalten wird, ohne die Temperaturen im Entwicklungsraum und im Verdampfungsraum zu beeinflussen.
in zweckmäßiger Ausgestaltung des Verfahrens beträgt die Raumtemperatur im Entwicklungsraum 8 7 bis 90 C, im Verdampfungsraum 83 bis 85 C und in der Sumpfzone 86° bis 90 °C.
Die weiteren Verfahrensschritte ergeben sich aus den
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Maßnahmen der Ansprüche 4 bis 6.
Zur Ausübung des Verfahrens wird von der bekannten Vorrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 7 ausgegangen. Diese Vorrichtung ist erfindungsgemäß derart ausgestaltet, daß die Sumpfzone des Verdampfers unterhalb des Verdampfungsraumes angeordnet ist und von einer Zusatzheizeinrichtung an der Unterseite des Verdampfers auf eine Temperatur kleiner oder gleich der Temperatur im
■^ Entwicklungsraum aufheizbar ist und daß der Verdampfer mit der Entwicklungskammer über ein Verdampferrohr in Verbindung steht und so an die Wandung der Entwicklungskammer angrenzt, daß ein Wärmeübergang über die Wandung von der Entwicklungskammer zu dem Verdampfer mit einer
--* Temperaturabsenkung bis zu 5 C von dem Entwicklungsraum zu dem Verdampfungsraum stattfindet. Somit wird die Temperatur im Verdampfungsraum durch die Wärmeleitung durch die Wandung der Entwicklungskammer hindurch eingestellt und es erübrigt sich somit, den Verdampfungsraum
2^ mit einer eigenen Heizeinrichtung und einen hierfür erforderlichen Temperaturfühler und Temperaturregler mit Sollwerteinstellung auszurüsten. Die Zusatzheizeinrichtung für die Sumpfzone ist so ausgelegt, daß sie nur das Abwasser in der Sumpfzone aufheizt, jedoch die Tempera-
tür im Verdampfungsraum und im Entwicklungsraum nicht beeinflußt.
In Ausgestaltung der Erfindung führt das Verdampferrohr des Verdampfers von dem Verdampfungsraum horizontal in die Entwicklungskammer und weist auf seiner Unterseite
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einen durchgehenden Schlitz auf. Dadurch ist sichergestellt, daß das aufgeheizte Ammoniak-Wasserdampf-Gemisch auf den Boden der Entwicklungskammer und nicht direkt auf das Diazokopiermaterial geleitet wird und dieses mit einem Nebel überzieht.
Die weitere Ausbildung der Erfindung ergibt sich aus den Merkmalen der Ansprüche 9 bis 15.
-^Q Da die Temperatur der Sumpf zone höher als diejenige des Verdampfungsraumes ist, erfolgt eine Ausgasung des restlichen Ammoniaks aus dem Abwasser, wobei dieses Ammoniak aus der Sumpfzone über den Verdampfungsraum in den Entwicklungsraum gelangt. Da darüberhinaus noch der Einga-
-*--* be- und Ausgabeschlitz der Entwicklungskammer mit je einer Absaugkammer verbunden ist, über die überschüssiges Ammoniak abgesaugt wird, gelangt kein Ammoniak in den Außenraum der Entwicklungskammer. Dabei wird auch das an der Kopiermaterialschicht haftende Ammoniak abgesaugt und in einen Absorptionsbehälter eingeleitet.
Durch die besonderen Dichtungen an den Stirnseiten und Oberflächen der Transportwalzen im Inneren der Entwicklungskammer und durch die unterschiedlichen Temperaturen im Verdampfungsraum, der Sumpfzone und im Entwicklungsraum wird der Ammoniakverbrauch im Vergleich zu bekannten Vorrichtungen erheblich abgesenkt. Die Verwendung von sehr feinmaschigen Gewebebändern aus Polyamid-Gewebe als Leitelemente für das Kopiermaterial trägt zur Verringerung des Ammoniakgehalts außerhalb der Entwicklungs-
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kammer bei, da diese Maschen eventuelle Verunreinigungen des Kopiermaterials aufnehmen, die normalerweise zu Verkratzungen der Oberflächen der Walzen führen und dadurch die Dichtigkeit der Entwicklungskammer nach außenhin herabsetzen, so daß Ammoniakgas aus der Kammer austreten kann. Es wird daher zugleich auch der Verbrauch an Ammoniak verringert, da bei einer undichten Entwicklungskammer für die Entwicklung mehr Ammoniak eingespeist werden muß als im Falle einer dichten Entwicklungskammer. IO
Die Erfindung wird im folgenden anhand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
-*-5 es zeigen:
Fig. 1 ira Längsschnitt die Entwicklungsvorrichtung aus Entwicklungskammer und Verdampfer,
Fig. 2 im Querschnitt die Entwicklungsvorrichtung nach Fig. 1, und
Fig. 3 einen Längsschnitt der Entwicklungsvorrichtung nach Fig. 1, bei der die Entwicklungskammer eine Schrägstellung und der Verdampfer eine
Senkrechtstellung einnimmt. 25
In den Figuren 1 und 2 ist eine Vorrichtung zur Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt, die im wesentlichen aus einer Entwicklungskammer 1 und einem seitlich an dieser angebrachten Verdampfer 11, wie er in Fig. 2 im Schnitt gezeigt ist, besteht. Das Kopiermate-
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rial tritt durch einen Eingabeschlitz 8 in die Entwicklungskammer 1 ein und verläßt diese durch einen Ausgabeschlitz 9. Die Entwicklungskammer 1 ist durch ein angetriebenes Paar von Einlaufwalzen 21 und durch eine ebenfalls angetriebenes Paar von Auslaufwalzen 3 gegen die äußere Atmosphäre weitgehend abgeschlossen. Mit den Einlaufwalzen 21 wirken Dichtlamellen 4' zur äußeren Atmosphäre zusammen. Ebenso liegen Dichtlamellen 4 an den Auslaufwalzen 3 an und dichten diese weitgehend gegenüber der äußeren'Atmosphäre ab. Die Walzen 21 und 3 bestehen jeweils aus einem Metallkern 22, der einen Belag 23 aus ammoniak- und hitzebeständigem Silikonkautschuk trägt. Dieser Silikonkautschuk ist bis zu 170 C weitgehend ammoniak- und wärmefest und besitzt gegenüber den üblichen Gvunmimischungen für derartige Beläge, die sich nach einiger Zeit zersetzen und verhärten, eine erheblich erhöhte Lebensdauer. Die Dichtlamellen 4,4' bestehen beispielsweise aus 0f05 mm starken Federstahl-Lamellen, die mit Teflon oder einem Silikon-Glasfasergewebe beschichtet bzw. ummantelt sind. Diese derart aufgebauten Dichtlamellen 4,4' verhindern eine Beschädigung der Walzenoberflächen, die zu einer optimalen Abdichtung der Entwicklungskammer 1 gegen die äußere Atmosphäre kratzerfrei bleiben müssen. Die nicht dargestellten stirnseitigen Walzenabdichtungen bestehen beispielsweise aus einem kaschierten Neopren-Material mit Silikcm-Glasfasergewebe. Eine gute Abdichtung der Entwicklungskammer 1 ist eine Voraussetzung für einen geringen Verbrauch an Ammoniak bei der Entwicklung des Diazokopiermaterials in der erfindungsgemäßen Vorrichtung.
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In den Absaugkammern 10,10' wird das überschüssige Ammoniak -Wasserdampf -Gemisch abgesaugt und in einen nicht dargestellten Absorptionsbehälter eingeleitet. Das in dem Verdampfer 11 anfallende Restwasser wird gleichfalls in diesen Absorptionsbehälter eingeleitet. Als Absorptionsmittel kann beispielsweise Zitronensäure verwendet werden.
Das Gehäuse 2O der Entwicklungskammer 1 ist von einer Heizeinrichtung aus Plattenheizkörpern 2 umgeben. In der Entwicklungskammer 1 ist ein Temperaturfühler 6 angeordnet, der an einen Temperaturregler 17 außerhalb der Entwicklungskammer 1 angeschlossen ist. Der Temperaturregler 17 ist mit den Plattenheizkörpern 2 auf den Wandun-
X5 gen des Gehäuses 2O der Entwicklungskammer verbunden. Im Inneren der Entwicklungskammer 1 verläuft zwischen den Einlaufwalzen 21 und den Auslaufwalzen 3 eine Leiteinrichtung aus Gewebebändern 5, die das von den Einlaufwalzen 21 kommende Diazokopiermaterial in den Spalt zwischen den Auslaufwalzen 3 einführen. Jedes dieser Gewebebänder 5 ist gegenüber der horizontalen Durchlaufrichtung des Diazokopiermaterials geneigt und als geschlossene Schleife ausgebildet, die um zwei Achsen 24,24 ■ herumgeführt ist und deren Enden durch eine Feder 25 miteinander verbunden sind. Die Feder 25 übt eine Zugwirkung auf das Gewebeband 5 aus und strafft dieses dadurch. Als Material für das Gewebeband wird ein Polyamid-Gewebe mit einer Maschenzahl von bis zu 80 Maschen pro cm verwendet. Dieses Polyamid-Gewebe transportiert das Diazokopiermaterial in sehr schonender Weise, ohne es zu
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zerkratzen und lagert den auf dem Kopiermaterial eventuell befindlichen Schmutz in seinen Maschen ab, wodurch verhindert wird, daß derartige Schmutzteilchen die Walzenoberfläche der Auslaufwalzen 3 zerkratzen können.
In Fig. 2 sind Einzelheiten des Verdampfers 11 im Schnitt dargestellt, der Bestandteil der Entwicklungsvorrichtung ist. Der Verdampfer 11 hat bevorzugt Zylinderform und nimmt in seinem zylindrischen Innenraum einen Verdrängerkörper 12 auf, der in bezug auf den zylindrischen Innenraum koaxial angeordnet ist. Der Verdrängerkörper 12 weist einen Abstand d von der Wandung des Innenraums des Verdampfers 11 auf. Dieser Abstand d beträgt O,5 bis 5 mm, insbesondere 1 bis 3 mm, und stellt sicher, daß das durch eine Zufuhrleitung 13 einströmende Aiumoniak-Wasserdampf-Gemisch bzw. eine wässrige Ammoniaklösung einen Film auf der Zylinderoberfläche des Verdrängerkörpers 12 bilden. Dieser Film strömt gleichförmig nach unten in einen Verdampfungsraum b und erwärmt sich hierbei gleichmäßig. Der Verdrängerkörper 12 ist nahe seinem Griffstück mit einer Einkerbung versehen, die eine O-Ring Dichtung 16 aufnimmt, welche dichtend gegen die Wandung des Innenraums des Verdampfers 11 anliegt. Die Unterkante des Verdrängerkörpers 12 begrenzt den Verdampfungsraum b. Der zylindrische Innenraum des Verdampfers 11 setzt sich nach unten mit einer Sumpfzone c fort, die an den Verdampfungsraum b anschließt und das Abwasser bzw. Restwasser, in dem noch Ammoniak gelöst ist, sammelt. Von
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der Sumpfzone c führt ein Wasserauslauf 15 zu dem nicht dargestellten Absorptionsbehälter, der, wie schon voranstehend erwähnt wurde, mit den Absaugkammern 10,10' verbunden ist. In Höhe des Verdampfungsraums b führt horizontal ein Verdampferrohr 7 in die Entwicklungskammer. Das Verdampferrohr 7 weist auf seiner Unterseite einen durchgehenden Schlitz 19 auf, der nach unten auf den beheizten Boden der Entwicklungskammer zeigt. Das aufgeheizte Aaunoniak-Wasserdampf-Gemisch, das aus dem Verdampferrohr 7 austritt, trifft auf den Boden der Entwicklungskammer 1 auf, auf dem sich nach längerer Betriebsdauer ein Belag aus Kalk und sonstigen Bestandteilen des Wassers niederschlagen kann. Die Austrittsrichtung des Ammoniak-Wasserdampf-Gemisches bringt den Vorteil mit sich, daß das Gemisch nicht direkt unmittelbar auf das Diazokopiermaterial auftrifft und dessen Filmschicht beschädigt und das Diazokopiermaterial mit einem Kondensat in Gestalt eines Nebels überzieht.
Auf der Unterseite des Verdampfers 11 ist eine Zusatzheizung 14 angeordnet, die die Temperatur der Sumpfzone c kleiner oder gleich der Temperatur im Entwicklungsraum a, jedoch höher als die Temperatur im Verdampfungsraum b hält. So wird bevorzugt, durch eine Dauerheizung mittels der Zusatzheizung 14 die Temperatur in der Sumpfzone c konstant gehalten, ohne daß die Temperaturen im Entwicklungsraum a und im Verdampfungsraum b durch diese Zusatzheizung 14 beeinflußt werden. Die bevorzugten Temperaturen sind dabei in der Sumpfzone c im Bereich von 86 bis 90 C, im Entwicklungsraum a von
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87 C bis 9O C und im Verdampfungsraum von 83 C bis 85 C. Die Temperatur im Entwicklungsraum a wird mit Hilfe des Temperaturfühlers 6 und des Temperaturreglers 17, der auf den gewählten Sollwert eingestellt wird, geregelt. Der Verdampfer 11 liegt an der Wandung 18 der Entwicklungskammer 1 art und bezieht die Wärme zur Einstellung der Temperatur im Verdampfungsraum b durch Wärmeleitung durch diese Wandung 18 hindurch. Dabei sind die Wandung 18 und der Zylinderkörper des Verdampfers 11 der- -^0 art dimensioniert, daß durch den Wärmeübergang durch die Wandung 18 die Temperatur im Verdampfungsraum b bis zu 5 C niedriger als im Entwicklungsraum a der Entwicklungskammer 1 liegt. Da die Temperatur im Verdampfungsraum b niedriger als die Temperatur im Entwicklungsraum a ist, bildet sich im letzteren auch kein Kondensat auf dem Diazokopiermaterial. Von Vorteil ist, daß bei dieser Art der Teinperatureinstellung nur an einer einzigen Stelle geregelt werden muß, nämlich die Heizung der Entwicklungskammer 1 durch den Temperaturfühler 6 in Verbindung mit dem Temperaturregler 17. Für die Zusatzheizung 14 ist keine Regelung erforderlich, da diese im Dauerbetrieb mit konstanter Leistung, die zu Beginn des Entwicklungsvorgangs ermittelt und eingestellt wird, läuft. Die höhere Temperatur in der Sumpfzone c im Vergleich zu der 2^ Temperatur im Verdampfungsraum b treibt das im Abwasser befindliche Restammoniak aus und führt dieses dem Entwicklungsraum a zu, wodurch der Ausnutzungsgrad des Ammoniaks für die Entwicklung erhöht wird. Durch die Zusatzheizung sinkt der Restammoniakgehalt im Abwasser unter 3 % und dieses wird dann über den Wasserauslauf 15, wie
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schon erwähnt wurde, in den nicht dargestellten Absorptionsbehälter eingeleitet.
In Fig. 3 ist schematisch dargestellt, daß die Entwicklungskanraier 1 nicht horizontal angeordnet sein muß, sondern genauso gut schräg gestellt sein kann, falls dies aus konstruktiven Gründen zur Anpassung an den Bahnverlauf des Diazokopiermaterials durch das Entwicklungsgerät erforderlich sein sollte. Bei einer Schrägstellung
3-0 der Entwicklungskammer 1 bleibt der Verdampfer 11 davon unberührt, da er weiterhin eine senkrechte Lage einnimmt und nnr der Austritt des Ammoniakwasserdampfgemisches aus dem Schlitz 19 des Verdampferrohres 7 dann schräg zum Boden der Entwicklungskammer 1 erfolgt. Der Verdampfer 11 kann in nicht dargestellter, zweckmäßiger Weise an der Wartdung 18 befestigt werden, wobei sichergestellt ist, daß der Verdampfer 11 auch bei unterschiedlichen Positionen der Entwicklungskammer 1 stets
die Senkrechtstellung einnimmt.
20
Bei der praktischen Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit der voranstehend beschriebenen Vorrichtung wurde bei einer Stundenkopxerlexstung von mehr als 12OO Mikrofiche eine Menge von nur 70 ml/h 25%iges Ammoniak benötigt. Diese Menge kann noch durch eine entsprechende "Standby"-Einrichtung auf 30 ml/h abgesenkt werden, da diese Einrichtung nach dem Ausbleiben eines Kopierimpulses innerhalb von 3 Min. die Pumpe abstellt, die das Ammoniak bzw. eine entsprechende wässrige Ammoniaklösung dem Verdampfer 11 über die Zufuhrleitung 13
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zuleitet. Bei einer Einschaltdauer von 8 Stunden pro Tag kann bei der angegebenen Kopierleistung mit 6 1 Ammoniak 1 Monat lang gearbeitet werden. Es liegt auf der Hand, daß dementsprechend gering auch die zu absorbierende Gasmenge im Außenraum der Entwicklungskammer 1 ist.
Ein Versuchsaufbau der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung weist folgende technische Daten auf: Die Heizeinrichtung der Entwicklungskammer 1 umfaßt zwei Plattenheizkörper, von denen jeder eine geregelte Leistungsaufnahme von 300 Watt besitzt bei 220 Volt Wechselspannung. Die Zusatzheizung 14 arbeitet mit 50 Watt bei 22O Volt Wechselspannung. Als Temperaturfühler 6 findet ein NTC-WiderStandsregler Einsatz, der über den Regler 17 einen Strom mit einer Stärke bis zu 6 Amp.
regeln kann. Die Temperaturabweichung .At vom eingestellten Sollwert beträgt bis zu 2 C. Es wird ein Ammoniakwasserdampfgeraisch mit 15 bis 25 Gew.-% Ammoniak verwendet. Hierzu wird dem Verdampfer 11 eine Ammoniakmenge von 120 ml/h bei 15 Gew.-% Ammoniak im Ammoniakwasserdampf gemisch und von 7O ml/h bei 25 Gew.-% Ammoniak im Ämmoniakwasserdampfgemisch zugeführt. Die Aufheizzeit von Raumtemperatur bis auf 88 C beträgt 10 Min. und nach insgesamt 15 Min. ist die Entwicklungsvorrichtung betriebsbereit. Die Durchlaufgeschwindigkeit des Diazokopiermaterials beträgt bis zu 3,4 m/Min. Der Absorber besteht aus 1 kg Zitronensäure auf 10 1 Wasser.
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-ZA τ.
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Claims (15)

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    KALLE Niederlassung der Hoechst AG
    Hoe 79/K 014 --l""- 10. April 19 79
    WL-DI.Z.-is
    Patentansprüche
    Verfahren zum Entwickeln von Zweikomponenten-Diazokopiermaterial mit aus einer Entwicklerflüssigkeit,
    r- 5 insbesondere aus wässriger Ammoniaklösung durch Verdampfen freiwerdendem Gas, insbesondere mit einem Gemisch aus
    <J.$ Ammoniak und Wasserdampf, bei dem die Temperatur im Entwicklungsraum höher als die Eintrittstemperatur aus dem
    Verdampfungsraum ist, dadurch gekennzeichnet, daß die
    Temperatur in einer Sumpfzone (c) unterhalb des Verdampfungsraums (b) höher als die Temperatur im Verdampfungsraum (b) und kleiner oder gleich der Temperatur im Entwicklungsraum (a) gehalten wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, ' daß die Temperatur in der Sumpfzone (c) auf einem konstanten Wert gehalten wird, ohne die Temperaturen im
    sj* Entwicklungsraum (a) und im Verdampfungsraum (b) zu beeinflussen.
    20
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Raumtemperatur im Entwicklungsraum (a) 87 bis
    90 C, im Verdampfungsraum 83 bis 85 C und in der
    Sumpfzone (c) 86° bis 90 C beträgt.
    25
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur im Verdampfungsraum (b) durch Wärmeleitung aus dem Entwicklungsraum (a) eingestellt wird.
  5. 5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, bei dem das
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    ORlGiNAL INSPECTED
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    Diazokopiermaterial eine nach außen abgedichtete Entwicklergasatmosphäre aus einem 15 bis 25 Gewichtsprozente Ammoniak enthaltenden Ammoniakwasserdampfgemisch bei atmosphärischem Druck durchläuft, dadurch gekennzeichnet, daß dem Verdampfungsraum (b) eine Ammoniakmenge von 120 ml/h bis 7O ml/h zugeführt wird, und daß das Ammoniakwasserdampfgemisch in eine vom Diazokopiermaterial wegführende Richtung in den Entwicklungsraum (a) einströmt.
    IO
  6. 6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Ammoniakwasserdampfgemisch in Gestalt eines Films in den Verdampfungsraum (b) gleichmäßig eingeleitet wird, und daß vor und hinter dem Entwicklungsraum (a) Ammoniak und Wasserdampf abgesaugt werden.
  7. 7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem oder mehreren der voranstehenden Ansprüche, mit einer Entwicklungskammer und einem über eine Leitung mit dieser verbundenen Verdampfer, mit zumindest einer Heizeinrichtung zum gleichmäßigen Beheizen der Entwicklungskammer, wobei die Heizeinrichtung über einen Temperaturregler an einen in der Entwicklungskammer angeordneten Temperaturfühler angeschlossen ist und der Temperaturregler auf einen Sollwert eingestellt ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Sumpfzone (c) des Verdampfers (11) unterhalb des Verdampfungsraumes (b) angeordnet ist und von einer Zusatzheizeinrichtung (14) an der Unterseite des Verdampfers (11) auf eine Temperatur kleiner oder
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    gleich der Temperatur im Entwicklungsraum (a) aufheizbar ist und daß der Verdampfer (11) mit der Entwicklungskammer (1) über ein Verdampferrohr (7) in Verbindung steht und so an die Wandung (18) der Entwicklungskammer (1) angrenzt, daß ein Wärmeübergang durch die Wandung (18) von der Entwicklungskammer (1) zu dem Verdampfer {11} mit einer Temperaturabsenkung bis zu 5 C von dem Entwicklungsraum (a) zu dem Verdampfungsraum (b) stattfindet.
    10
  8. 8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Verdampferrohr (7) des Verdampfers (11) von dem Verdampfungsraum (b) horizontal in die Entwicklungskammer il) führt und auf seiner Unterseite einen durchgehenden Schlitz (19) aufweist.
  9. 9. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß im zylindrischen Innenraum des Verdampfers (11) ein Verdrängerkörper (12) koaxial angeordnet ist, dessen Zylinderoberfläche einen so ausreichenden Abstand (d) von der Wandung des Innenraums besitzt, daß das durch eine Zufuhrleitung (13) eingeleitete Ammoniakwasserdampfgemisch einen Film auf der Zylinderoberfläche bildet, der gleichmäßig nach unten in den Verdampfungsraum (b) strömt.
  10. 10. Vorrichtung nach Anspruch 9,,dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand (d) zwischen der Wandung des Innenraums des Verdampfers (11) und der Zylinderoberfläche des Verdrängerkörpers (12) 0,5 bis 5 mm, insbesondere ι bis 3 mm beträgt.
    0300 44/0081
    HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT KALLE Niederlassung der Hoechst AG
  11. 11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdrangerkörper (12) eine Einkerbung zur Aufnahme einer O-Ring Dichtung (16) aufweist, die dichtend gegen die Wandung des Innenraums des Verdampfers
    (11) anliegt.
  12. 12. Vorrichtung nach den Ansprüchen 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß mit einem Eingabe- und Ausgabeschlitz (8 bzw. 9) je eine Absaugkammer (10 bzw. 10') verbunden ist.
  13. 13. Vorrichtung nach den Ansprüchen 7 bis 10, mit Dichtungen an den Stirnseiten und Oberflächen von im Inneren der Entwicklungskammer angeordneten Walzen, dadurch gekennzeichnet, daß die Aus- und Einlaufwalzen (3,21) aus einem Metallkern {22} mit einem Belag (23) aus Silikonkautschuk bestehen und daß mit Teflon beschichtete Dichtlamellen (4,4') an den Walzen (3,21) anliegen, die den Entwicklungsraum (a) gegen den Außenraum abdichten.
  14. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß von den Einlaufwalzen (21) zu den Auslaufwalzen (3) Gewebebänder (5) für das Hindurchleiten des Diazokopiermaterials durch den Entwicklungsraum (a) keilförmig aufeinander zulaufen, von denen jedes als geschlossene Schleife um zwei Achsen (24,24*) herumgeführt ist und deren Enden durch eine Feder (25) miteinander verbunden sind.
    030044/0081
    ORIGINAL INSPECTED
    HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT KALLE Niederlassung der Hoechst AG
  15. 15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Gewebebander (5) aus Polyamid-Gewebe mit einer Maschenzahl bis zu 80 Maschen pro cm bestehen.
    030044/0081
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