DE2729286C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE2729286C2 DE2729286C2 DE2729286A DE2729286A DE2729286C2 DE 2729286 C2 DE2729286 C2 DE 2729286C2 DE 2729286 A DE2729286 A DE 2729286A DE 2729286 A DE2729286 A DE 2729286A DE 2729286 C2 DE2729286 C2 DE 2729286C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cathode
- magnets
- tubular
- magnetic
- arrangement according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Kathodenanordnung für eine
Zerstäubungsvorrichtung, mit einer Kathode, die an ihrer
Oberfläche das zu zerstäubende Material in Form eines Tar
gets enthält, und mit einer Magnetvorrichtung zur Erzeugung
eines oder mehrerer Magnetfelder, durch welche mindestens
eine Elektronenfalle für die Oberfläche der Kathode bestimmt
wird.
Eine Elektronenfalle wird durch sich von
der Kathodenoberfläche her erstreckende magnetische
Feldlinien gebildet, die über diese Oberfläche ei
nen Bogen beschreiben und wieder zu dieser Ober
fläche zurückkehren. Diese Feldlinien bilden so
einen magnetischen Spiegel für die von der Katho
denoberfläche herrührenden Elektronen. Auf diese
Weise werden die Elektronen in der Nähe der Kathode
festgehalten.
Eine derartige Vorrichtung und ein der
artiges Verfahren sind aus der offengelegten nie
derländischen Patentanmeldung 72 11 911 bekannt.
Eine derartige Vorrichtung wird beim Anbringen dün
ner Filme auf flachen und gekrümmten Substraten,
beim Anbringen von Schichten für die Herstellung
integrierter Schaltungen, von Schichten mit magne
tischen Eigenschaften, von optischen Schichten,
beim Anbringen von Überzügen auf der Innenseite
von Hohlräumen bei der Herstellung von Widerstän
den und bei allen Zerstäubungsvorgängen verwendet,
bei denen eine niedrige Substrattemperatur ver
langt wird.
Es ist aus der deutschen Offenlegungs
schrift 24 17 288 bekannt, das mittels einer Ma
gnetvorrichtung eine Elektronenfalle gebildet wer
den kann, die die von der Kathode herrührenden
Elektronen solange festhält, bis sie ihre Energie in ionisierenden
Zusammenstößen verbraucht haben, wodurch zusätzliches Plasma ge
bildet wird. Dies hat eine höhere Zerstäubungsgeschwindigkeit zur
Folge. Es ist aber auch aus "Physical Vapour Deposition", S. 114
und 115, Airco Inc., USA 1976 bekannt, daß diese Zerstäubung sehr
ungleichmäßig stattfindet und eine rinnenförmige Aushöhlung der
Kathode herbeiführt. Dies hat eine Anzahl von Nachteilen. Die Ka
thode muß schon nach Zerstäubung nur eines kleinen Teiles der
Kathode ersetzt werden. Außerdem übt die rinnenförmige Aushöhlung
der Kathode einen ungünstigen Einfluß auf die Richtung, in der sich
die Materialteilchen von der Kathode weg bewegen, und auf die Re
produzierbarkeit des Zerstäubungsvorgangs aus.
Aus DE-OS 25 56 607 war eine Kathodenzerstäubungsvorrichtung be
kannt mit einer Magnetanordnung, die ein statisches Magnetfeld
erzeugt und einer an Wechselspannung liegenden Spule, mit welcher
in Abhängigkeit von der Wechselspannung ein wechselndes elektro
magnetisches Feld erzeugt wird. Die Magnetfeld-erzeugenden Teile
der Vorrichtung werden bei dieser bekannten Vorrichtung nicht be
wegt, sondern das statische Magnetfeld wird durch variable Spulen-
Hilfsmagnetfelder derart beeinflußt, daß den parallel verlaufenden
Bereichen der Feldlinien des statischen Magnetfeldes Translations
bewegungen erteilt werden mit einer Frequenz, die der Stromver
sorgung der Spule entspricht, woraus sich ein besonderes Erosions
muster ergibt. Mit dieser bekannten Vorrichtung ist eine gleich
mäßige Abtragung einer gesamten Targetoberfläche nicht möglich.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Kathodenanordnung
anzugeben, bei deren An
wendung ein sehr gleichmäßiger effektiver Verbrauch des Katho
denmaterials stattfinden kann und mit der auf einfache Weise ver
schiedene Materialarten zerstäubt werden können.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Elektronenfalle durch Verschieben der Magnetvorrichtung längs
der Oberfläche der Kathode verschiebbar ist.
Eine derartige Kathode kann flach ausgeführt sein, wobei die
Magnetvorrichtung nahezu parallel zu der Kathodenoberfläche
und vorzugsweise in einer einzigen Richtung verschoben werden
kann. Vorzugsweise ist die Kathode aber rohrförmig gestaltet
und es sind in oder um diese rohrförmige Kathode in axialer Rich
tung eine Anzahl in einiger Entfernung voneinander liegender
Magnete, deren Nord- oder Südpole einander zugewandt sind und
die die Magnetvorrichtung bilden, axial bewegbar angebracht.
Eine derartige rohrförmige Kathode kann einen quadratischen
oder runden Querschnitt aufweisen oder eine andere beliebige
Form haben, durch die die Richtung, in der sich die zerstäubten
Teilchen bewegen, beeinflußt werden kann. Selbstverständlich
ist es auch möglich, die rohrförmige Umhüllung in bezug auf die
Magnetvorrichtung zu bewegen.
Dadurch, daß die Kathode an der Oberfläche aus einer Anzahl
verschiedener zu zerstäubender Materialien hergestellt wird,
kann durch die Verschiebung der Elektronenfalle(n) auf ein
fache Weise jede gewünschte Zusammensetzung von Materialien
erhalten werden.
Die Zerstäubungsvorrichtung ist für Hochfrequenz- und Gleich
stromanwendungen geeignet. Eine solche Kathode aus Titan wird
auch in Titansublimationspumpen verwendet.
Dadurch, daß die Kathode rohrförmig ist, und daß in der rohr
förmigen Kathode oder um die rohrförmige Kathode in axialer
Richtung und in gegenseitigem Abstand mehrere die Magnetvorrich
tung bildende Magnete angeordnet sind, deren Nord- oder Südpole
einander zugewandt sind, wobei die Magnete in axialer Richtung
verschiebbar sind, läßt sich ein sehr gleichmäßiger Überzug in
einem Hohlraum, z. B. ein Metallspiegel in einer Lampe oder Röhre,
besonders gut anbringen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nunmehr anhand der Zeichnung
näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 schematisch eine flache Kathode für eine Kathodenanordnung
mit einer verschiebbaren Elektronenfalle,
Fig. 2 und 3 im Schnitt Teile rohrför
miger Kathoden mit mehreren bewegbaren Elektronen
fallen,
Fig. 4 einen Schnitt durch eine rohrförmi
ge Kathode,
Fig. 5 und 6 mögliche Schnitte durch
eine derartige Kathode,
Fig. 7 schematisch eine Zerstäubungsvor
richtung mit einer Kathodenanordnung
und
Fig. 8 noch einen Schnitt durch eine
rohrförmige Kathode.
Fig. 1 zeigt schematisch eine flache
Kathode 1 für eine Zerstäubungsvorrichtung.
Die Richtung der von der Magnetvorrichtung
erzeugten Feldlinien 2 ist angegeben. Diese Feld
linien bilden eine Elektronenfalle, weil ein ma
gnetischer Spiegel für die Kathodenoberfläche 3
erzeugt wird. In dem ellipsenförmigen Gebiet 4
unter den Feldlinien wird durch das Zerstäuben
des Kathodenmaterials eine rinnenförmige Aus
höhlung gebildet werden. Durch Verschiebung der
Elektronenfalle vorzugsweise in Richtung des
Pfeiles 33 kann diese Erosion über die ganze
Oberfläche 3 verteilt werden. Wenn die Kathoden
oberfläche aus verschiedenen Materialarten zu
sammengesetzt ist, kann durch die Verschiebung der
Elektronenfalle jede gewünschte Zusammensetzung
von Materialien erzielt werden. Die Kathode 1
weist während der Zerstäubung ein negatives Poten
tial in bezug auf die Anode 5 von etwa 800 V auf.
In der Praxis werden Spannungen von einigen 100 V
bis zu einigen kV angewendet. In dem Zerstäubungs
raum herrscht meistens ein Druck von 1,33 · 10-3 bis 1,33 · 10-2
mbar vor. Als Zerstäubungsgas können z. B. Argon,
Neon oder reaktive Gase, wie O2, N2 oder Gemische
derselben verwendet werden.
In Fig. 2 ist ein Teil einer rohrför
migen Kathode 6 für eine Zerstäubungsvorrichtung
dargestellt. In dieser rohrförmigen Kathode
befinden sich eine Anzahl von Magneten 7, die in
einiger Entfernung voneinander liegen und deren
entsprechende Pole einander zugewandt sind. Die
se Magnete 7 sind in diesem Falle Dauermagnete.
Sie können aber auch Elektromagnete sein. Zwischen
den Magneten sind in diesem Falle Weicheisen
zwischenscheiben 8 angeordnet, die die Richtung
des Ein- und Austretens der Feldlinien beein
flussen. Diese Zwischenscheiben können aber auch
fehlen oder aus einem von Weicheisen verschiede
nen Material hergestellt sein. Durch das Vorhan
densein der Magnete werden rings um die Kathode
liegende Elektronenfallen 9 gebildet. Die Magnete
sind in bezug auf die Kathodenoberfläche verschieb
bar angeordnet, so daß die Bildung rinnenförmiger
Nuten rings um die Kathode durch periodische oder
kontinuierliche Verschiebung der Magnetvorrichtung
in Richtung des Pfeiles 33 vermieden werden kann.
Selbstverständlich ist es auch möglich, die Katho
denoberfläche in bezug auf die Magnetvorrichtung
zu verschieben. Die Anode 10 weist die Form eines
Ringes auf.
In Fig. 3 ist ebenfalls eine rohrförmige
Kathode 6 dargestellt. Dabei bestehen die Magnete
aus dauermagnetischen Ringen 11 und es befinden
sich die Elektronenfallen 9 auf der Innenseite
der rohrförmigen Kathode. Die Anode 12 weist in
diesem Falle die Form eines Stabes auf.
In Fig. 4 ist ein Schnitt durch eine
rohrförmige Kathode für eine Zerstäubungsvorrichtung
gezeigt. Die Kathodenoberfläche wird
durch ein auf einer Seite verschlossenes Rohr 13
mit einem Innendurchmesser von 28 mm und einem
Außendurchmesser von 32 mm bestimmt. In diesem
300 mm langen Rohr 13 befinden sich eine Anzahl
6 mm dicker ringförmiger Magnete 14, die um ein
Wasserzufuhrrohr 15 für Kühlwasser liegen. Das
Kühlwasser fließt entlang der Wand des Rohres
13 über die Räume 16 zu dem Wasserauslaß 17. Das
Wasser wird über eine Einströmungsöffnung 18 ein
gelassen. Mit Hilfe einer durch einen O-Ring ge
bildeten Dichtung 19 ist die Magnetvorrichtung 20
bewegbar in dem Halter 21 angeordnet. Dieser Hal
ter 21 ist mit Hilfe einer Glasplatte 22 gegen
das Gehäuse 23 der Vorrichtung isoliert angeord
net. Bei Anwendung einer Vielzahl von Magneten
wird eine Vielzahl von Elektronenfallen erhalten.
In den bekannten zylindrischen Zerstäubungssy
stemen sind sehr starke und große Magnete erfor
derlich, weil das Magnetfeld über die ganze Länge
der zylindrischen Kathode konstant und parallel
zu der Oberfläche der Kathode sein muß.
Die Fig. 5 und 6 zeigen mögliche
Schnitte durch eine derartige Kathode. Zwischen
einem Magneten 14 und der Innenwand des Rohres
13 liegt der Raum 16 zum Durchlassen des Kühl
wassers. Die Magnete 14 sind rings um das Kühl
wasserzufuhrrohr 15 angeordnet. Die von der Elektro
nenfalle eingefahrenen Elektronen werden eine
zykloidale Bahn 32 zurücklegen, wie in Fig. 6
dargestellt ist.
Es ist auch möglich, das Rohr 13 doppel
wandig auszuführen, so daß das Innenrohr konti
nuierlich als Halter für die Magnetvorrichtung
dient und das Außenrohr gegebenenfalls um das Innen
rohr bewegbar ist und als leicht ersetzbare Kathoden
oberfläche wirkt.
In Fig. 7 ist eine Zerstäubungsvorrichtung mit einer
Kathodenanordnung schematisch dargestellt. In dem Gehäuse
23 ist mit Hilfe einer Glasplatte 22 die Kathode
24 befestigt, die mit einer Hochfrequenz- oder
Gleichstromquelle 25 zum Anlegen des gewünschten
Potentials zwischen der Kathode 24 und der hier
ringförmigen Anode 26 verbunden ist. Nachdem das
Gehäuse 23 über die Gasausströmungsöffnung 27
leergepumpt worden ist wird das Gehäuse 23 bis
zu einem Druck von 1,33 · 10-3 mbar mit Argon über die
Gaseinlaßöffnung 28 gefüllt. Die Kathode 24 wird
über die Anschlüsse 29 und 30 durch Kühlwasser ge
kühlt, wie beschrieben ist. Das von der Kathode
zerstäubte Material wird auf dem Substrat 31 als
Schicht oder dünner Film niedergeschlagen. Die
Magnetvorrichtung wird mit Hilfe einer Antriebs
vorrichtung 34 kontinuierlich oder periodisch
hin und her bewegt. Die Zerstäubungsgeschwin
digkeit ist für eine Zerstäubungsvorrichtung mit einer Katho
denanordnung, wie sich erwarten ließ, nahezu gleich groß
wie für die bekannten Vorrichtungen. So wurde für
Kupfer eine Zerstäubungsgeschwindigkeit von 1 µm/
min bei einer Gleichstromentladung mit einer zu
geführten Leistung von 2 kW und bei einem Abstand
zwischen der Kathode und dem Substrat von 5 cm ge
messen.
Bei einer Hochfrequenzentladung war die
Zerstäubungsgeschwindigkeit etwa 0,5 µm/min bei
derselben Leistung und derselben Elektroden-Sub
stratanordnung. Die Kathodenanordnung nach der Erfindung
konnte aber, wie gefunden wurde, drei- bis vier
mal länger gebraucht werden als wenn die Magnet
vorrichtung nicht bewegt wurde. Die Anwendung der
Erfindung bedeutet also, daß der Zerstäubungs
vorgang weniger häufig unterbrochen zu werden
braucht und das zu zerstäubende Kathodenmaterial
effektiver benutzt wird.
In Fig. 8 ist ein Schnitt durch eine
rohrförmige Kathode dargestellt,
wobei die Kathodenoberfläche aus zwei Teilen 35 und
36 besteht, die in diesem Fall aus Chrom und Kupfer
bestehen. Durch die Verschiebung der Magnetvorrich
tung 20 kann so aus Chrom und Kupfer oder einem
Gemisch derselben gewählt werden. In der darge
stellten Lage der Magnetvorrichtung wird aus dem
Teil 36 Kupfer zerstäubt, das sich auf der Innen
seite des Glasrohrs 37 niederschlägt und einen dünnen
Überzug bildet.
Selbstverständlich ist es auch möglich, die Magnet
vorrichtung nicht aus einer einzigen Gruppe von
Magneten, wie in Fig. 8 dargestellt, sondern aus
mehreren Gruppen zusammenzustellen. Auch ist es
möglich, die Kathodenoberfläche aus mehr als zwei
verschiedenen Materialien zusammenzusetzen.
Kathoden dieser Art eignen sich besonders
gut dazu, die Innenseite von Rohren aus Metall
oder Glas oder Umhüllungen von z. B. Lampen zu
überziehen. Die ganze Kathode kann mit der zu
gehörigen, hier ringförmigen Anode 38 während der
Zerstäubung durch ein Rohr geschoben werden, wo
durch dieses Rohr auf der Innenseite überzogen
wird. Mit einer Kathode nach Fig. 3 können Stä
be oder Rohre auf der Außenseite überzogen wer
den.
Claims (5)
1. Kathodenanordnung für eine Zerstäubungsvorrichtung,
mit einer Kathode, die an ihrer Oberfläche das zu zer
stäubende Material in Form eines Targets enthält, und
mit einer Magnetvorrichtung zur Erzeugung eines oder
mehrerer Magnetfelder, durch welche mindestens eine
Elektronenfalle für die Oberfläche der Kathode bestimmt
wird, dadurch gekennzeichnet,
daß die Elektronenfalle durch Verschieben der Magnet
vorrichtung längs der Oberfläche der Kathode verschiebbar
ist.
2. Kathodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kathode mindestens angenähert eben ist, und daß
die Magnetvorrichtung mindestens angenähert zur Oberfläche
der Kathode verschiebbar ist.
3. Kathodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kathode rohrförmig ist, und daß in der rohrförmigen
Kathode oder um die rohrförmige Kathode in axialer Richtung
und in gegenseitigem Abstand mehrere die Magnetvorrichtung
bildende Magnete angeordnet sind, deren Nord- oder Südpole
einander zugewandt sind, wobei die Magnete in axialer Rich
tung verschiebbar sind.
4. Kathodenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberfläche der Kathode mehrere zu zerstäubende Ma
terialien enthält.
5. Kathodenanordnung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch
zwischen den Magneten angeordnete Weicheisenscheiben.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7607473A NL7607473A (nl) | 1976-07-07 | 1976-07-07 | Verstuifinrichting en werkwijze voor het ver- stuiven met een dergelijke inrichting. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2729286A1 DE2729286A1 (de) | 1978-01-12 |
DE2729286C2 true DE2729286C2 (de) | 1988-05-11 |
Family
ID=19826537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19772729286 Granted DE2729286A1 (de) | 1976-07-07 | 1977-06-29 | Zerstaeubungsvorrichtung und verfahren zum zerstaeuben mit hilfe einer derartigen vorrichtung |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS536282A (de) |
AT (1) | AT352493B (de) |
AU (1) | AU506847B2 (de) |
BR (1) | BR7704375A (de) |
CA (1) | CA1081656A (de) |
CH (1) | CH618289A5 (de) |
DE (1) | DE2729286A1 (de) |
ES (1) | ES460405A1 (de) |
FR (1) | FR2358020A1 (de) |
GB (1) | GB1587566A (de) |
IT (1) | IT1076083B (de) |
NL (1) | NL7607473A (de) |
SE (1) | SE7707729L (de) |
ZA (1) | ZA773538B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4107505A1 (de) * | 1991-03-08 | 1992-09-10 | Leybold Ag | Verfahren zum betrieb einer sputteranlage und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE19652634C2 (de) * | 1996-09-13 | 2002-12-19 | Euromat Ges Fuer Werkstofftech | Verfahren zum Innenbeschichten eines metallischer Bauteils, insbesondere eines Bauteils mit einem zylindrischen Hohlraum, eine Vorrichtung zu dessen Durchführung sowie die Verwendung des Verfahrens |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54137642A (en) * | 1978-04-12 | 1979-10-25 | Battelle Memorial Institute | Electrode for reversible fuel cell* and method of and apparatus for producing same |
GB2028377B (en) * | 1978-08-21 | 1982-12-08 | Vac Tec Syst | Magnetically-enhanced sputtering device |
GB2051877B (en) * | 1979-04-09 | 1983-03-02 | Vac Tec Syst | Magnetically enhanced sputtering device and method |
JPS584923Y2 (ja) * | 1979-04-20 | 1983-01-27 | 株式会社 徳田製作所 | 横型スパッタリング装置 |
US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
JPS59116375A (ja) * | 1982-11-26 | 1984-07-05 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | スパッタリング装置 |
DE3316548C2 (de) * | 1983-03-25 | 1985-01-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates |
JPS59179782A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-12 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | スパツタリング装置の電極部構造 |
DE3406953C2 (de) * | 1983-04-19 | 1986-03-13 | Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden | Verfahren zum Erwärmen von Heizgut in einem Vakuumrezipienten |
JPS59169352U (ja) * | 1983-04-25 | 1984-11-13 | 川崎重工業株式会社 | スパツタリング装置の電極部構造 |
CH659346A5 (de) * | 1983-05-10 | 1987-01-15 | Balzers Hochvakuum | Vorrichtung zum behandeln der innenwand eines rohres. |
CH668565A5 (de) * | 1986-06-23 | 1989-01-13 | Balzers Hochvakuum | Verfahren und anordnung zum zerstaeuben eines materials mittels hochfrequenz. |
AT392291B (de) * | 1987-09-01 | 1991-02-25 | Miba Gleitlager Ag | Stabfoermige sowie magnetron- bzw. sputterkathodenanordnung, sputterverfahren, und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE4018914C1 (de) * | 1990-06-13 | 1991-06-06 | Leybold Ag, 6450 Hanau, De | |
DE4022708A1 (de) * | 1990-07-17 | 1992-04-02 | Balzers Hochvakuum | Aetz- oder beschichtungsanlagen |
DE4042417C2 (de) * | 1990-07-17 | 1993-11-25 | Balzers Hochvakuum | Ätz- oder Beschichtungsanlage sowie Verfahren zu ihrem Zünden oder intermittierenden Betreiben |
WO1995032517A1 (fr) * | 1994-05-24 | 1995-11-30 | Rossiisko-Shveitsarskoe Aktsionernoe Obschestvo Zakrytogo Tipa 'nova' | Procede de production d'une decharge electrique et son dispositif de mise en ×uvre |
DE19623359A1 (de) * | 1995-08-17 | 1997-02-20 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
DE19727647A1 (de) * | 1997-06-12 | 1998-12-17 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten eines Substratkörpers mittels Kathodenzerstäubung |
JP5781408B2 (ja) * | 2011-09-07 | 2015-09-24 | 株式会社アルバック | マグネトロンスパッタカソード |
US20150114828A1 (en) * | 2013-10-31 | 2015-04-30 | General Electric Company | Systems and method of coating an interior surface of an object |
US9111734B2 (en) | 2013-10-31 | 2015-08-18 | General Electric Company | Systems and method of coating an interior surface of an object |
JP2022178656A (ja) * | 2021-05-20 | 2022-12-02 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | 非蒸発型ゲッタコーティング装置、非蒸発型ゲッタコーティング容器・配管の製造方法、非蒸発型ゲッタコーティング容器・配管 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3884793A (en) * | 1971-09-07 | 1975-05-20 | Telic Corp | Electrode type glow discharge apparatus |
JPS516017B2 (de) * | 1972-09-08 | 1976-02-24 | ||
US4166018A (en) * | 1974-01-31 | 1979-08-28 | Airco, Inc. | Sputtering process and apparatus |
US3956093A (en) * | 1974-12-16 | 1976-05-11 | Airco, Inc. | Planar magnetron sputtering method and apparatus |
-
1976
- 1976-07-07 NL NL7607473A patent/NL7607473A/xx not_active Application Discontinuation
-
1977
- 1977-06-13 ZA ZA00773538A patent/ZA773538B/xx unknown
- 1977-06-29 DE DE19772729286 patent/DE2729286A1/de active Granted
- 1977-06-29 CA CA281,665A patent/CA1081656A/en not_active Expired
- 1977-07-01 AU AU26688/77A patent/AU506847B2/en not_active Expired
- 1977-07-04 CH CH820677A patent/CH618289A5/de not_active IP Right Cessation
- 1977-07-04 GB GB27861/77A patent/GB1587566A/en not_active Expired
- 1977-07-04 IT IT25372/77A patent/IT1076083B/it active
- 1977-07-04 BR BR7704375A patent/BR7704375A/pt unknown
- 1977-07-04 SE SE7707729A patent/SE7707729L/ unknown
- 1977-07-05 FR FR7720561A patent/FR2358020A1/fr active Granted
- 1977-07-05 JP JP8035277A patent/JPS536282A/ja active Pending
- 1977-07-05 ES ES460405A patent/ES460405A1/es not_active Expired
- 1977-07-06 AT AT482777A patent/AT352493B/de not_active IP Right Cessation
-
1983
- 1983-08-22 JP JP1983128511U patent/JPS6028689Y2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4107505A1 (de) * | 1991-03-08 | 1992-09-10 | Leybold Ag | Verfahren zum betrieb einer sputteranlage und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE19652634C2 (de) * | 1996-09-13 | 2002-12-19 | Euromat Ges Fuer Werkstofftech | Verfahren zum Innenbeschichten eines metallischer Bauteils, insbesondere eines Bauteils mit einem zylindrischen Hohlraum, eine Vorrichtung zu dessen Durchführung sowie die Verwendung des Verfahrens |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2358020B1 (de) | 1982-11-12 |
CA1081656A (en) | 1980-07-15 |
IT1076083B (it) | 1985-04-22 |
JPS6028689Y2 (ja) | 1985-08-30 |
AT352493B (de) | 1979-09-25 |
JPS5947654U (ja) | 1984-03-29 |
CH618289A5 (en) | 1980-07-15 |
ATA482777A (de) | 1979-02-15 |
JPS536282A (en) | 1978-01-20 |
BR7704375A (pt) | 1978-05-16 |
DE2729286A1 (de) | 1978-01-12 |
FR2358020A1 (fr) | 1978-02-03 |
SE7707729L (sv) | 1978-01-08 |
AU2668877A (en) | 1979-01-04 |
AU506847B2 (en) | 1980-01-24 |
ZA773538B (en) | 1979-01-31 |
NL7607473A (nl) | 1978-01-10 |
ES460405A1 (es) | 1978-05-01 |
GB1587566A (en) | 1981-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2729286C2 (de) | ||
DE3004546C2 (de) | Penning-Zerstäubungsquelle | |
EP0205028B1 (de) | Vorrichtung zum Aufbringen dünner Schichten auf ein Substrat | |
DE69206028T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates unter Verwendung der Vakuum-Bogen-Verdampfung. | |
DE1515296A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von duennen Schichten | |
DE3150591C2 (de) | ||
DE2215151A1 (de) | Verfahren zum herstellen von duennen schichten aus tantal | |
EP0394661A1 (de) | Verfahren zur wenigstens teilweisen Beschichtung von Werkstücken mittels eines sputter-CVD-Verfahens | |
DE3012935C2 (de) | Zerstäubungsvorrichtung mit magnetischer Verstärkung | |
DE1515301A1 (de) | Verfahren zur Aufbringung hochwertiger duenner Schichten mittels Kathodenzerstaeubung und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
WO2006000862A1 (de) | Beschichtungsvorrichtung zum beschichten eines substrats, sowie ein verfahren zum beschichten | |
DE1914747B2 (de) | H.f.-kathodenzerstaeubungsvorrichtung | |
DE1765287A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Zerstaeuben | |
DE2433382A1 (de) | Vorrichtung zur aufdampfung von duennen schichten unter vakuum | |
DE19924094C2 (de) | Vakuumbogenverdampfer und Verfahren zu seinem Betrieb | |
EP0966021A2 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer | |
DE3244691A1 (de) | Zerstaeuber- bzw. aufspruehvorrichtung | |
DE4239511A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
EP2746424B1 (de) | Verdampfungsquelle | |
DE19928053C2 (de) | Anordnung zur Erzeugung eines Niedertemperaturplasmas durch eine magnetfeldgestützte Kathodenentladung | |
DE3735162C2 (de) | ||
DE2820301B2 (de) | Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren | |
DE2655942C2 (de) | ||
DE69624896T2 (de) | Dichtung und Kammer mit einer Dichtung | |
DE3408053C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8365 | Fully valid after opposition proceedings | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL |