DE2524823A1 - Lichtempfindliches waermeentwickelbares photographisches aufzeichnungsmaterial auf silberbasis - Google Patents
Lichtempfindliches waermeentwickelbares photographisches aufzeichnungsmaterial auf silberbasisInfo
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 32
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 28
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 28
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 48
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 43
- -1 silver ions Chemical class 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 13
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 13
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 239000012216 imaging agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 3
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims 1
- UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N pyridin-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=N1 UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000003511 tertiary amides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKIIEJOIXGHUKX-UHFFFAOYSA-L cadmium iodide Chemical compound [Cd+2].[I-].[I-] OKIIEJOIXGHUKX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethylsuccinimide Chemical compound CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229940075417 cadmium iodide Drugs 0.000 description 2
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L mercury dibromide Chemical compound Br[Hg]Br NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M silver behenate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBQBICYRKOTWRR-UHFFFAOYSA-N 1-(4-acetylpiperazin-1-yl)ethanone Chemical compound CC(=O)N1CCN(C(C)=O)CC1 NBQBICYRKOTWRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVUQCTGSDJLWCE-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1CC1=CC=CC=C1 LVUQCTGSDJLWCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVVGIUUJYPYENY-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyridin-2-one Chemical compound CN1C=CC=CC1=O DVVGIUUJYPYENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYWXRBNOYGGPIZ-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylethanone Chemical compound CC(=O)N1CCOCC1 KYWXRBNOYGGPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexyl]-4,6-dimethylphenol Chemical compound C=1C(C)=CC(C)=C(O)C=1C(CC(C)CC(C)(C)C)C1=CC(C)=CC(C)=C1O RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBPPLECAZBTMMK-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n,n-dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(=O)CCl XBPPLECAZBTMMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLNVISNJTIRAHF-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 BLNVISNJTIRAHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZESWUEBPRPGMTP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 ZESWUEBPRPGMTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIPVTTKYSPOWFO-UHFFFAOYSA-N azepane-1-carbaldehyde Chemical compound O=CN1CCCCCC1 AIPVTTKYSPOWFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002026 chloroform extract Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- VAJCYQHLYBTSHG-UHFFFAOYSA-N ethyl n,n-diethylcarbamate Chemical compound CCOC(=O)N(CC)CC VAJCYQHLYBTSHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVIVRJLWYJGJTJ-UHFFFAOYSA-N gamma-Valerolactam Chemical compound CC1CCC(=O)N1 YVIVRJLWYJGJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ILVUABTVETXVMV-UHFFFAOYSA-N hydron;bromide;iodide Chemical compound Br.I ILVUABTVETXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N metamizole Chemical compound O=C1C(N(CS(O)(=O)=O)C)=C(C)N(C)N1C1=CC=CC=C1 LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- IMNDHOCGZLYMRO-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylbenzamide Chemical compound CN(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 IMNDHOCGZLYMRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKLYDESVXZKCFI-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenylacetamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C(=O)C)C1=CC=CC=C1 DKLYDESVXZKCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJQAMHYHNCADNR-UHFFFAOYSA-N n-methylpropanamide Chemical compound CCC(=O)NC QJQAMHYHNCADNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N phthalazin-1(2H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NN=CC2=C1 IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49836—Additives
- G03C1/49845—Active additives, e.g. toners, stabilisers, sensitisers
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Description
U.Z.: L 324 (Vo/kä) ' 4. Juni 1975
Case: 911 530
MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY Saint Paul, Minnesota, 7.St.A.
" Lichtempfindliches wärmeentwickelbares photographisches
Aufzeichnungsmaterial auf Silberbasis "
Priorität: 5. Juni 1974, V.St.A., Nr. 476 450
30. April 1975, V.St.A., Nr.
Die Erfindung betrifft lichtempfindliches wärmeentwickelbares photographisches Aufzeichnungsmaterial auf Silberbasis, sogenanntes
"dry silver process"-Aufzeichnungsmaterial, sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung.
(DT-OS 1 572 203) .
In der US-PS 3 457 075/ist die Herstellung von "dry silver process"-Aufzeichnungsmaterial beschrieben, das ein lichtstabiles
organisches Silbersalz, ein Reduktionsmittel und ein lichtempfindliches Silberhalogenid enthält. Das Silberhalogenid
wird durch Überführung eines kleineren Anteils des organischen Silbersalzes in das entsprechende Halogenid gebildet.
Es sind verschiedene Modifikationen dieses Verfahrens beschrieben worden; vgl. z.B. die US-PSen 3 589 903 (DT-OS 1 908 761),
3 635 719 und
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3 667 959. Alle diese Modifikationen haben jedoch zu keiner
nennenswerten Verbesserung der photographischen Empfindlichkeit
dieser Aufzeichnungsmaterialien geführt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, "dry sil process"-Aufzeichnungsmaterial zu schaffen, das sich durch
eine signifikant höhere Empfindlichkeit auszeichnet. Die Lösung dieser Aufgabe beruht auf dem überraschenden Befund, daß
die Empfindlichkeit dieses Aufzeichnungsmaterials durch Zusatz von organischen Amiden beträchtlich gesteigert werden kann,
wenn man das Amid dem organischen Silbersalz vor der Überführung in das Halogenid zusetzt.
Dementsprechend betrifft die Erfindung lichtempfliches, wärmeentwickelbares
photographisches Aufzeichnungsmaterial auf Silberbasis ("dry silver process"-Aufzeichnungsmaterial), das aus einem
Träger und einer Beschichtung aus
(a) einem lichtempfindlichen, Silberhalogenid bildenden Katalysator
und
(b) einem wärmeempfindlichen,zum Bildaufbau dienenden Mittel
aus einem organischen Silbersalz als Oxidationsmittel und
einem Reduktionsmittel für Silberionen besteht, und das dadurch gekennzeichnet ist, daß es zusätzlich ein monomeres,
inertes, sensibilisierend wirkendes Amid enthält und eine
Lichtempfindlichkeit von mindestens 5 im Vergleich zu einem
sonst identischen Aufzeichnungsmaterial ohne das Amid besitzt, das die Empfindlichkeit 1 hat, und die Empfindlichkeit durch
sensitometrische Belichtung mit einer Lichtquelle von 6100 K
und thermische Entwicklung während 30 Sekunden bei 127 C bestimmt wird.
Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung des lichtempfindlichen, wärmeentwickelbaren photographischen Aufzeichnungsmaterials,
das
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(a) einen lichtempfindlichen, Silberhalogenid bildenden Katalysator
und
(b) ein wärmeempfindliches, zum Bildaufbau dienendes Mittel
aus einem organischen Silbersalz als Oxidationsmittel und
ion ein Reduktionsmittel für Silber/auf einem Träger enthält,
das dadurch gekennzeichnet ist, daß man das organische Silbersalz vor der Halogenidbildung mit einem monomeren,
spektralinerten, sensibilisierend wirkenden Amid vermischt und sodann einen kleineren Anteil des organischen Silbersalzes
in das Halogenid überführt.
Das Aufzeichnungsmaterial der Erfindung hat eine Empfindlichkeit von mindestens 5 im Vergleich zu einem sonst identischen
Aufzeichnungsmaterial, das kein Amid enthält, und bei dem für die Empfindlichkeit der Wert 1 gesetzt wird und die Empfindlichkeit
durch sensitometrische Belichtung mit einer Lichtquelle von 6 100° K und 30 Sekunden dauernde thermische Entwicklung
bei 127 C bestimmt wird.
Eine nennenswerte Erhöhung der Empfindlichkeit wird bei dem Aufzeichnungsmaterial nur dann erhalten, wenn das Amid dem organischen
Silbersalz vor der Halogenidbildung zugesetzt wird. Vorzugsweise wird das Silbersalz mit dem Amid und einer geringen
Menge eines Bindemittels versetzt und in einem flüchtigen, flüssigen Träger gründlich dispergiert. Sodann wird das Halogenionen
liefernde Mittel zugesetzt. Die letztgenannten und nachfolgenden Stufen v/erden unter Dunkelraumbedingungen durchgeführt.
Nach diesem Verfahren läßt sich ein Aufzeichnungsma-
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terial herstellen, dessen Empfindlichkeit um mindestens den
Faktor 2 erhöht ist. Es wurde Aufzeichnungsmaterial hergestellt, das eine relative Empfindlichkeit von etwa 100 bis
150 aufweist, gegenüber einem Aufzeichnungsmaterial sonst
identischer Zusammensetzung, das jedoch kein Amid enthält und die relative Empfindlichkeit von 1 besitzt.
Die Empfindlichkeit des Aufzeichnungsmaterials wird ausgedrückt durch den Kehrwert der Belichtung, die zur Erzeugung
einer Dichte von 0,6 über der Dichte von Träger und Schleier erforderlich ist. Die Belichtung und die Dichte werden nach
üblichen sensitometrisehen Verfahren bestimmt. Die relative
Empfindlichkeit ist das Verhältnis der Empfindlichkeit der Probe zu der einer Kontrollprobe.
Die Wirksamkeit verschiedener Amide ist sehr unterschiedlich, sie läßt sich jedoch leicht nach einem einfachen Verfahren bestimmen,
das nachstehend im Beispiel 1 erläutert ist. Diejeni-r
gen Amide, die in diesem Versuch eine Empfindlichkeit von mindestens etwa 2 gegenüber einer Kontrollempfindlichkeit von 1
als praktisch sensibilisierende Amide/ zeigen, können/für die Zwecke der Erfindung eingesetzt werden.
Verbindungen sonst ähnlicher Struktur, die jedoch keine Amidfunktion
in ihrem Molekül enthalten, und die bisher zur Verbesserung der maximalen Bilddichte in wärmeentwickelbaren
Aufzeichnungsmaterialien vorgeschlagen wurden, liefern praktisch keine Erhöhung der Empfindlichkeit, wenn sie anstelle
der sensibilisierend wirkenden Amide im erfindungsgemäßen Verl_ fahren eingesetzt werden. _!
509851/0999
- 0-
Die erfindungsgemäß verwendeten sensibilisierend wirkenden
Amide haben die allgemeinen Formeln R1CONR2R3, R1R2NCONR3R^
oder (R1R2N)3PO, in der die Reste R Wasserstoffatome oder Kohlenwasserstoffreste
bedeuten. Der Kohlenwasserstoffrest kann Sauerstoff-, Stickstoff- oder Schwefelatome in geringeren Mengen
enthalten, so daß der Kohlenwasserstoffcharakter dieser Reste nicht nennenswert geändert wird. Zwei der Reste R können
zusammen einen zweiwertigen Kohlenwasserstoffrest bilden. Substituierte Kohlenwasserstoffreste, bei denen die Substituenten
inert gegenüber dem Aufzeichnungsmaterial sind, können ebenfalls vorhanden sein. Als Kohlenwasserstoffreste für die
Reste R1, R2, R3 und R^ kommen unverzweigte oder verzweigte
Alkylreste oder Cycloalkylreste mit höchstens 8 Kohlenstoffatomen in jedem Rest in Frage. Diese Reste enthalten höchstens
ein Stickstoff-, Schwefel- oder Sauerstoffatom pro zwei Kohlenstoff atome. Die Alkylreste können zusammen mit dem Stickstoffatom,
an das sie gebunden sind, einen heterocyclischen Ring bilden, beispielsweise eine Morpholin-, Pyridon-, Caprolactam-,
Piperidon- oder Pyrrolidinongruppe. Die Gesamtzahl der Kohlenstoffatome in sämtlichen substituierten Kohlenwasserstoffresten
soll höchstens 16 betragen. Bevorzugt sind Alkylreste mit höchstens 4 Kohlenstoffatomen, die in der Kette keine Heteroatome
enthalten. Vorzugsweise beträgt die Gesamtzahl der Kohlenstoffatome in der Substituentengruppe höchstens 8.
Die Verwendung bestimmter Amide als Sensibilisatoren ist in der US-PS 3 819 382 beschrieben. Hier werden Polymerisate aus
Polyäthylenoxiden und aliphatischen Amiden verwendet. Die PoIy-
L -I
509851/0999
merisate haben.ein Molekulargewicht von mindestens 1700. Diese
Verbindungen sind jedoch in den Beispielen dieser Patentschrift nicht erläutert, und es ist nicht beschrieben, sie vor
der Halogenidbildung zu verwenden.
Die erfindungsgemäß verwendeten Amide sind spektral inerte,
sensibilisierend wirkende Amide. Wenn sie in üblicher Weise nach der Halogenidbildung zugesetzt werden, nimmt die relative
Empfindlichkeit um einen Wert von 1,6 bis 2,2 zu. Es war jedoch nicht möglich, durch Zusatz von monomeren Amiden eine Erhöhung
der relativen Empfindlichkeit um 5,0 zu erhalten, es sei denn, man arbeitet nach dem erfindungsgemäßen Verfahren.
Vorzugsweise werden durchsichtige, lichtempfindliche Beschichtungen
auf durchsichtige Träger aufgebracht, um die sensitometrischen Versuche durchzuführen. Es können jedoch auch
durchscheinende oder undurchsichtige Träger, wie Papier, sowie undurchsichtige Untergüsse und lichtempfindliche Beschichtungen
verwendet werden. Die lichtempfindliche Silberhalogenidkomponente kann Silberbromid, Silberchlorid, Silberjodid
oder ein Gemisch von zwei oder mehr dieser Halogenide sein. Ferner können der Beschichtungsmasse spektrale Sensibilisierungsfarbstoff
e, Antischleiermittel, Toner und andere Zusätze und Modifiziermittel einverleibt werden.
Die Beispiele erläutern die Erfindung. Teile beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben ist.
L -J
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Beispiel 1
Ein Gemisch von 12,5 g Silberbehenat, 6,6 g Methylisobutylketon,
21,0 g Toluol und 60 g Methylethylketon wird in einem mit einem Rührwerk ausgerüsteten Reaktionsgefäß vorgelegt. Das
Gemisch wird unter Rühren mit einem Amid in der zur Silbermenge äquimolaren Menge versetzt. Sodann werden innerhalb etwa
5 Minuten 1,0 Gewichtsprozent, bezogen auf das gesamte Gemisch, eines Polyvinylbutyralharζes eingetragen. Nach weiterem
5minütigem Rühren werden innerhalb etwa 1 Minute 5,6 ml einer Lösung eingetropft, die durch Vermischen von 10 ml 48prozentiger
Bromwasserstoffsäure mit 78,2 ml Methanol hergestellt
wurde. Nach 30 Minuten werden 0,6 ml einer Lösung unter Rühren
zugegeben, die durch Zusatz von Methanol bis zu einem Volumen von 100 ml zu 18 g Quecksilber(II)-bromid hergestellt wurde.
Sodann werden innerhalb 5 Minuten 7,3 g Polyvinylbutyralharz eingetragen. Nach weiterem 5-minütigem Rühren wird das Gemisch
auf eine Polyesterfolie aufgetragen und 4 bis 7 Minuten bei 70 bis 900C getrocknet. Der trockene Flächenauftrag beträgt
13,9 bis 15,1 g/m . Sodann wird der getrocknete Film mit einer
beschichtet, die/
Lösung / 5,8 g Methylethylketon, 1,1 g Methanol, 0,4 g eines
Lösung / 5,8 g Methylethylketon, 1,1 g Methanol, 0,4 g eines
Vinylacetat-Vinylchlorid-Copolymerisats, 0,6 g 1,1-Bis-(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexan
als Entwick-
/Anschließcnd wird wiederum getrocknet./
ler und 0,12 g Phthalazinon als Toner enthält.|/Das trockene Beschichtungsgewicht
dieser Beschichtung beträgt 3,76 g/m . Der Film wird sensitometrisch mit einer Lichtquelle von 6100° K
belichtet und 30 Sekunden auf 1270C erhitzt. Nachstehend ist
die relative Empfindlichkeit von auf diese Weise hergestellten Filmen mit den verschiedensten Amiden zusammengestellt.
L -!
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| - 9 - | Amid | "I | rel. Empfindlich |
| Tabelle I | keit | ||
| kein Zusatz (Vergleich)) | 1 | ||
| N,N'-Diacetyl-2-aminophenyldisulfid | 0,6 | ||
| Succinimid | 0,7 | ||
| N,N-Dimethylchloracetamid | 0,8 | ||
| Polyvinylpyrrolidon | 0,8 | ||
| N-Methylmaleinimid | 0,8 | ||
| Cyclohexanon | 1,0 | ||
| N-Äthylsuccinimid | 1,0 | ||
| Butyrolacton | 1,0 | ||
| N,N-Diäthylurethan | 1,0 | ||
| p-Nitrobenzamid | 1,3 | ||
| Formamid | 1,3 | ||
| N,N-Diphenylacetamid | 2,0 | ||
| N,N,N1,N'-Tetramethylphthalamid | 2,0 | ||
| 5-Methyl-2-pyrrolidinon | 2,1 | ||
| 1-Vinyl-2-pyrrolidinon | 2,1 | ||
| Benzamid | 2,6 | ||
| Acetamid | 2,9 | ||
| PoIy-N,N'-dimethylacrylamid | 3,0 | ||
| ρ-Methoxybenzamid | 5,6 | ||
| p-Chlorbenzamid | 6,5 | ||
| N,N-Dimethylacrylamid | 6,5 | ||
| N,N-Dimethyllactamid | 6,8 | ||
| N,N-Dimethylformamid | 6,8 | ||
| Hexamethylpho sphonamid | 7,1 | ||
| N,N'-Diacetylpiperazin | 7,4 | ||
| N-Methylacetamid | 9,1 | ||
| N,N'-Dimethyläthylenharnstoff | 12 | ||
| N-Methylpropionamid | 12 | ||
| 2-Pyrrolidinon | 13 | ||
| N,N-Dimethylbenzamid | 17 | ||
| Hexamethylenformamid | 26 | ||
| Caprolactam | 26 |
L _!
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Tabelle I - Fortsetzung
rel. Empfindlichkeit
Ν,Ν-Dimethylacetamid 40
N,N,N«fNf-Tetramethylharnstoff 49
N-Acetylmorpholin ■ 55
1-Methyl-2-pyrrolidinon 59*
Ν,Ν-Dimethylnicotinamid 60
i-Methyl-2-piperidon 66
1-Methyl-2-pyridon 90
1-Benzyl-2-pyrrolidinon 132
*) Der für 1-Methyl-2-pyrrolidinon angegebene Wert ist der
Durchschnittswert verschiedener Versuche, bei denen die relative Empfindlichkeit im Bereich von 44 bis 72 lag.
Aus der Tabelle geht hervor, daß die ersten neun Verbindungen keine Verbesserung der relativen Empfindlichkeit im Vergleich
zur Kontrollprobe ergaben. Die Succinimide verursachen eine erhebliche Schleierbildung. Derartige Aufzeichnungsmaterialien
sind daher unerwünscht. Empfindlichkeiten von etwa 1,3 bis 1,5, relativ zur Kontrollempfindlichkeit 1, sind leicht zu erhalten.
Bei relativen Empfindlichkeiten von 5 bis 10 ist die Wirkung signifikant. Bei relativen Empfindlichkeiten von oberhalb 10,
insbesondere oberhalb 50, sind die Aufzeichnungsmaterialien für Zwecke brauchbar, für die bisher "dry silver process'·-
Aufzeichnungsmaterial nicht brauchbar war.
Dieses Beispiel erläutert die Wirkung eines sensibilisierenden Amids auf die Empfindlichkeit, wenn man die Verbindung zu
verschiedenen Zeiten bei der Herstellung des Aufzeichnungsma- _j
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Γ ~ 10 -
terials zusetzt. Die Bestandteile und die Mengen sind die gleichen wie in Beispiel 1, der einzige Unterschied ist die
Stufe des Zusatzes des Amids. Als Amid wird 1-Methyl-2-pyrrolidinon verwendet.
A) Das Amid wird der Dispersion des organischen Silbersalzes
kurz vor der Halogenidbildung zugesetzt. Die relative Empfindlichkeit beträgt 72.
B) Das Amid wird in einer letzten Stufe nach dem Zusatz der Halogenidionen liefernden Verbindungen und weiterem Bindemittel
und kurz vor dem Beschichten zugesetzt. Die relative Empfindlichkeit beträgt 1,6.
C) Das Amid wird der Dispersion des organischen Silbersalzes vor dem Zusatz von 1 % Polyvinylbutyral zugesetzt. Die relative
tEmpfindlichkeit beträgt 50.
D) Das Amid und 1 % Polyvinylbutyral werden gleichzeitig zugesetzt.
Die relative Empfindlichkeit (bei einem einzigen Versuch) beträgt 69. Es wird also ein ähnliches Ergebnis erhalten,
(wie· bei A); die Empfindlichkeit ist etwas höher als bei (C)).
In den vorstehend beschriebenen Versuchen wird das Amid in äquimolarer
Menge, bezogen auf das organische Silbersalz, eingesetzt. Brauchbare Ergebnisse hinsichtlich einer erhöhten relativen
Empfindlichkeit werden bei einem Molverhältnis von 0,01 :1 bis 2 : 1 von Amid zu organischem Silbersalz erhalten. ,
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Γ ■ ' - ιι - π
Beispiel 3 erläutert die Wirkung der Amidkonzentration auf
die Empfindlichkeit. Als Amid wird 1-Methyl-2-pyrrolidinon
eingesetzt.
Ähnlich wie in Beispiel 1 wird eine Jodid-Bromid-Emulsion folgendermaßen
hergestellt:
Zu 178 g Anteilen eines Gemisches von Silberbehenat in dem vorstehend
beschriebenen Lösungsmittelsystem werden Gemische zugesetzt, die jeweils unterschiedliche Mengen des Amids und
Methyläthylketon bis zu einem Gesamtgewicht von 10 g enthalten.
Nach 5-minütigem Mischen wird 1 g Polyvinylbutyral zugesetzt und das Mischen fortgesetzt. Unter Sicherheitslichtbedingungen
wird das Gemisch mit einem unmittelbar vor der Verwendung hergestellten Gemisch von Bromwasserstoffsäure und Cadmiumjodid
hergestellt. Zu diesem Zweck werden 5 ml einer Lösung, die 5 ml 48prozentige Bromwasserstoff säure in 8.7 ml Methanol enthält,
mit 1,5 ml einer Lösung vermischt, die 1,83 g Cadmiumjodid
in 100 ml Methanol enthält. Das Gemisch wird 30 Minuten gerührt. Danach werden 0,5 ml der vorstehend beschriebenen
Quecksilber(II)-bromidlösung und hierauf 12,5 g Polyvinylbutyral
zugegeben. Die Beschichtungen werden gemäß Beispiel 1 hergestellt und auf die vorstehend beschriebene Weise mit einer
Deckschicht versehen. In Tabelle II sind die Wirkungen der Änderung der verwendeten Menge an Amid auf die Empfindlichkeit
der Filme gegenüber einem Kontrollfilm ohne Amid zusammengefaßt.
L _!
509851/0999
Amid, g
0,015 0,036 0,053 0,107 0,30
0,51
1,0
3,0
5,0
0,51
1,0
3,0
5,0
- 12 -
MolVerhältnis
Amid ; Ag
Amid ; Ag
| 0,003 |
| 0,007 |
| 0,01 ! |
| 0,02 |
| 0,06 : |
| 0,10 |
| 0,2 ! |
| 0,6 |
| 1,0 ! |
| ί 1 |
| ι 1 |
| f 1 |
| ; 1 |
| ί 1 |
| ! 1 |
| ί 1 |
| ; 1 |
| ί 1 |
relative Empfindlichkeit
1,0 1,8 2,3 1,5 1,5 5,2 4,8
3,9
9,8
14,1
Zahlreiche der sensiMlisierend wirkenden Amide sind flüchtige
Verbindungen. Man sollte daher erwarten, daß sie aus der Schicht beim Abdampfen des Lösungsmittels ebenfalls verdampfen.
Anscheinend geht ein beträchtlicher Anteil,, zumindest der stärker flüchtigen Verbindungen, tatsächlich verloren. Es können
jedoch zumindest Spuren an 1-Methyl-2-pyrrolidinon in Filmen festgestellt werden, selbst wenn diese längere Zeit
erwärmt werden. Zu diesem Zweck wurde die Beschichtung mit Chloroform extrahiert und der Chloroformextrakt gaschromatographisch
analysiert.
Vergleichbare SensiMlisierungseffekte konnten auch mit Dimethylsulfoxid
erhalten werden. Der Zusatz dieser Verbindung im Anschluß an die Halogenidbildung, wie in Beispiel 2 B, liefert
einen Film mit einer relativen Empfindlichkeit von nur 2,2. Beim Zusatz von Dimethylsulfoxid vor der Halogenidbildung
wie in Beispiel 1 wird ein Aufzeichnungsmaterial mit einer re-L lativen Empfindlichkeit von 52 erhalten. Diese Verbindung -1
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zersetzt sich jedoch beim Erhitzen, sie ist etwas gefährlich und wird daher nicht verwendet.
Die spektrale Sensibilisierung der Aufzeichnungsmaterialien
kann in an sich bekannter- Weise durchgeführt werden, nämlich durch Zusatz von spektralen Sensibilisierungsfarbstoffen, von
denen eine Anzahl in der US-PS 3 457 075 beschrieben ist. Die
erfindungsgemäß verwendeten Amide der Erfindung sind farblos
und beeinflussen nicht die spektrale Empfindlichkeit des Silberhalogenids,
ausgenommen seine Lichtempfindlichkeit.
Die Halogenidbildung mit anderen Quellen von Halogenidionen
zur Herstellung von lichtempfindlichen Silberhalogeniden oder deren Gemischen für spezielle Zwecke ist ebenfalls bekannt
und kann auch im erfindungsgemäßen Verfahren verwendet
werden. Die höchste Empfindlichkeit wird gewöhnlich mit"drysilver process"-Aufzeichnungsmaterialien erhalten, bei denen
das lichtempfindliche, Silberhalogenid bildende Katalysatorsystem ein Gemisch von Silberbromid mit einem geringeren Anteil
von Silberjodid ist.
Gemäß einer anderen Ausführungsform können z.B. sämtliche Bestandteile
einer einzigen Schicht einverleibt werden, oder das phenolische Reduktionsmittel wird nicht im zweiten Guß sondern
im ersten Guß zugesetzt. In sämtlichen Fällen ist es entscheidend, daß das sensibilisierend wirkende Amid dem organischen
Silbersalz vor der Umwandlung eines Teils der Silberionen in lichtempfindliches Silberhalogenid zugesetzt wird.
L J
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Claims (8)
- PatentansprücheLy. Lichtempfindliches, wärmeentwickelbares photographisches Aufzeichnungsmaterial auf Silberbasis ("dry silver process"-Aufzeichnungsmaterial), bestehend aus einem Träger und einer Beschichtung aus■a) einem lichtempfindlichen, Silberhalogenid bildenden Katalysator und(b) einem wärmeempfindlichen, zum Bildaufbau dienenden Mittel aus einem organischen Silbersalz als Oxidationsmittel und einem Reduktionsmittel für Silberionen,dad'urch gekennzeichnet, daß es zusätzlich ein monomeres organisches sensibilisierend wirkendes Amid enthält und eine Lichtempfindlichkeit von mindestens 5 im Vergleich zu einem sonst identischen Aufzeichnungsmaterial ohne das Amid besitzt, das die Empfindlichkeit 1 hat, und die Empfindlichkeit durch sensitometrische Belichtung mit einer Lichtquelle von 6100° K und thermische Entwicklung während *30 Sekunden bei 1270C bestimmt wird.
- 2. Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichem, wärmeentwickelbar em photographischem Aufzeichnungsmaterial ("dry silver process"-Aufzeichnungsmaterial), das(a) einen lichtempfindlichen, Silberhalogenid bildenden Katalysator und(b) ein wärmeempfindliches, zum Bildaufbau dienendes Mittel aus einem organischen Silbersalz als Oxidationsmittel und ein Reduktionsmittel für Silberionen auf einem Träger ent-L -l509851/0999hält, dadurch gekennzeichnet, daß man das organische Silbersalz vor der Halogenidbildung mit einem monomeren, spektralinerten, sensibilisierend wirkenden Amid vermischt und sodann einen kleineren Anteil des organischen Silbersalzes in das Halogenid überführt".
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man als Amid eine Verbindung der allgemeinen Formel R1CONR2R3, R1R2NCONR3R4 oder (R1R2N)3POverwendet, in der einer der Reste R ein Wasserstoffatom oder einen Kohlenwasserstoffrest bedeutet und die übrigen Reste R gegebenenfalls substituierte Kohlenwasserstoffreste darstellen oder zwei der Reste einen zweiwertigen Kohlenwasserstoff- oder Oxykohlenwasserstoffrest bedeuten.
- 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man als Amid 2-Pyrrolidinon-, 2-Pyridon- oder 2-Piperidon verwendet.
- 5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man als Amid einen substituierten Harnstoff der allgemeinen FormelR1R2NCONR3R4verwendet, in der R1 bis R4 die in Anspruch 3 angegebene Bedeutung haben.509851/0999
- 6. Verfahren.nach Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, daß man als Amid ein tertiäres Amid verwendet.
- 7. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man das Amid und das organische Silbersalz im Molverhältnis 0,01 : 1 bis 2 :1 verwendet.
- 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß man das Amid und das organische Silbersalz im Molverhältnis von etwa 1:1 verwendet.509851/0999
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/476,450 US3980482A (en) | 1974-06-05 | 1974-06-05 | Sensitizing a thermographic silver halide photographic material with monomeric amide |
| US57359075A | 1975-04-30 | 1975-04-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2524823A1 true DE2524823A1 (de) | 1975-12-18 |
| DE2524823C2 DE2524823C2 (de) | 1984-03-15 |
Family
ID=27045180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19752524823 Expired DE2524823C2 (de) | 1974-06-05 | 1975-06-04 | Thermophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS517914A (de) |
| CA (1) | CA1075065A (de) |
| DE (1) | DE2524823C2 (de) |
| FR (1) | FR2274068A1 (de) |
| GB (1) | GB1499596A (de) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS607775B2 (ja) * | 1977-07-26 | 1985-02-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱現像感光材料用組成物の調製法 |
| US5275932A (en) * | 1992-03-16 | 1994-01-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal development accelerators for thermographic materials |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2141063A1 (de) * | 1971-08-17 | 1973-03-01 | Agfa Gevaert Ag | Verbessertes photographisches material |
-
1975
- 1975-05-15 CA CA227,042A patent/CA1075065A/en not_active Expired
- 1975-05-16 GB GB2094975A patent/GB1499596A/en not_active Expired
- 1975-06-04 JP JP6744475A patent/JPS517914A/ja active Granted
- 1975-06-04 FR FR7517379A patent/FR2274068A1/fr active Granted
- 1975-06-04 DE DE19752524823 patent/DE2524823C2/de not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2141063A1 (de) * | 1971-08-17 | 1973-03-01 | Agfa Gevaert Ag | Verbessertes photographisches material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2524823C2 (de) | 1984-03-15 |
| FR2274068A1 (fr) | 1976-01-02 |
| CA1075065A (en) | 1980-04-08 |
| JPS517914A (en) | 1976-01-22 |
| GB1499596A (en) | 1978-02-01 |
| JPS5433847B2 (de) | 1979-10-23 |
| FR2274068B1 (de) | 1982-02-19 |
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|---|---|---|---|
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03C 1/42 |
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| D2 | Grant after examination | ||
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