DE2514801A1 - Trockenverfahren zur herstellung von microformatwiedergaben von schriftstuecken o.dgl. fuer archivzwecke - Google Patents
Trockenverfahren zur herstellung von microformatwiedergaben von schriftstuecken o.dgl. fuer archivzweckeInfo
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Description
Gase 10 379
Dr. E. 3' i-
!»* H.-J. M
Dr. lh. Beremit
8 München 8 ·
Dr. lh. Beremit
8 München 8 ·
BIERGY CONVERSION DEVICES, HC, 1675 West Maple Road, groy, Mioh.48084 (V.St.A.)
Trockenverfahren zur Herstellung von Microformatwiedergaben von Schriftstücken o.dgl. für Archivzwecke
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung von Wiedergaben von lichtreflektierenden
Originalen, wie Schriftstücken, gedruckten Literaturstellen, Dokumenten o.dgl., im Microforraat* Es sind bereits mannigfaltige
Möglichkeiten hierfür vorgeschlagen und verwendet worden, bei denen jedoch Naßentwicklungs- bzw. Naßbearbeijlungs schritte
erforderlich sind und/ oder die Wiedergaben in* Micro format
liefern, deren Auflösungsvermögen, Kontrast oder Eignung für Archivzwecke, d. h. die Fähigkeit, ihren einwandfreien Zustand
über viele Jahre ohne Rücksicht auf die abträglichen Wirkungen von Licht, Temperatur, Feuchtigkeit, Verderb o.dgl. beizubehalten,
nicht ausreichen.
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Die für die Herstellung von Wiedergaben lichtreflektierender Originale im Microformat verwendeten üblichen Silberhalogenidfilme
müssen beispielsweise naß entwickelt bzw. behandelt werden, sind von recht körniger Struktur, haben ein verhältnismäßig
geringes Auflösungsvermögen und geringen Konstiast bei Betrachtung
in einem Betrachtungsgerät, und ihre Archiveignung läßt zu wünschen übrig. Die neueren, von der Firma 3M Company
entwickelten Trockensilberfilme, bei denen lichtempfindliche Silberhalogenide verwendet werden und die unter Wärmeeinwirkung
trocken entwickelt bzw. verarbeitet werden können und die zur Herstellung von Wiedergaben von lichtreflektierenden Originalen
im Microformat verwendbar sind, sind ebenfalls von recht körniger Struktur, ihr Auflösungsvermögen und Konstrast sind verhältnismäßig
gering, und ihre Archiveignung ist noch erheblich schlechter als die naßzubehandelnder Silberhalogenidfilme.
Der Erfindung liegt in erster Linie die Aufgabe zugrunde, ein
verbessertes Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Herstellung von Wiedergaben lichtreflektierender Originale unter vollständig
trockener Behandlung und unter Fortfall jeglicher Notwendigkeit von Naßentwicklungs- und -behandlungsschritten zu schaffen,
die Microformatwiedergaben von nicht-körniger Struktur mit
scharfem Auflösungsvermögen und hohem Kontrast sowie hervorragender Archiveignung liefern, die also durch Licht, Temperatur,
Feuchtigkeit, Alterung o.dgl. auch während einer Reihe von vielen Jahren nicht schädlich beeinflußt werden. Verfahren und Vorrichtung
gemäß der Erfindung sollen dabei leicht und einfach zu gebrauchen sein, insbesondere an die Bedürfnisse des kontinuierlichen
und wiederholbaren Gebrauches in einer Arbeitsstraße anpaßbar und zum Gebrauch auf einem Trockenarbeitstisch oder i-pult
geeignet sein.
Kurz ausgedrückt, wird bei dem Trockenarbeitsverfahren und der
-vorrichtung gemäß der Erfindung zur Herstellung von Wiedergaben lichtreflektierender Originale im Microformat für Archivzwecke
ein trockenverarbeitbarer Maskenfilmstreifen verwendet, der
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photosensitiv ist und zur Erzeugung von Diaabbildungen durch Lichteinwirkung mit einem Bild versehen (belichtet) und unter
Wärmeeinwirkung trockenentwickelt wird. Ein solcher trocken verarbeitbarer Maskenfilmstreifen wird durch eine Bilderzeugungsund
-entwicklungsstation sowie eine Bildübertragungsstation transportiert. Das wiederzugebende Original wird beleuchtet und reflektiert
das einfallende Licht, und das von dem Original reflektierte Lichtabbild wird auf Microbildgröße verkleinert oder verdichtet
und in der Belichtungs- und Entwicklungsstation auf den trockenverarbeitbaren Maskenfilmstreifen zur Einwirkung gebracht,
wodurch auf diesem Streifen ein Microabbild des Originals erzeugt wird, während der Streifen durch die Belichtungs- und Entwicklungsstation
hindurchgeführt wird. Der trockenverarbeitbare Maskenfilmstreifen wird bei seinem Transport durch die Abbildungs- und
Entwicklungsstation auch erhitzt, wodurch die Microabbildungen zu Mixrrobilddias entwickelt werden.
Bei dem Verfahren und der Vorrichtung whrd ferner ein trockenverarbeitbarer
Microformatfilm verwendet, der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes
empfindlich ist und durch solche zur Schaffung von Bildwiedergaben mit scharfem Auflösungsvermögen, hohem Kontrast und hervorragender
Archiveignung mit einem Abbild versehen und entwikkelt wird. Der trockenverarbeitbare Microformatfilm und der
trockenverarbeitbare Maskenfilmstreifen werden in der Bildübertragungsstation beim Transport des letzteren durch diese übereinander
ge legt. Dann werden in der Bildübertragungsstation durch den durchsichtigen, mit einem Microabbild versehenen, trokken
verarbeitbaren Maskenfilmstreifen auf den trockenverarbeitbaren Microformatfilm kurze Impulse elektromagnetischer Energie
oberhalb eines Schwellenwertes zur Wirkung gebracht, so daß in dem trockenverarbeitbaren Microformatfilm Abbildwiedergaben im
Microformat erzeugt werden, die den transparenten Microabbildungen
in dem trockenverarbeitbaren Maskenfilmstreifen entsprechen
und die sich, wie erwähnt, durch scharfes Auflösungsvermögen,
hohen Kontrast und Archiveignung auszeichnen.
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Der trockenverarbextbare Maskenfilmstreifen besteht aus einem
dünnen, im wesentlichen durchsichtigen, flexiblen Träger oder Substrat aus einem geeigneten Kunststoffmaterial und einem
darauf aufgetragenen Film, der gegenüber reflektiertem Licht photoempfindlich ist und zur Herstellung von Diaabbildungen
durch solches belichtet wird und durch Wärmeeinwirkung trockenentwickelt wird. Das photosensitive oder lichtempfindliche
Material kann ursprünglich im wesentlichen durchsichtig sein und negativ arbeiten, so daß das im wesentlichen durchsichtige,
lichtempfindliche Material an den Stellen, an denen es durch das reflektierte Licht aktiviert wird, im wesentlichen undurchsichtig
gemacht wird, so daß negative Durchlichtbilder oder Dianegative erzeugt werden. Andererseits kann das lichtempfindliche
Material ursprünglich im wesentlichen undurchsichtiges Material sein und positiv arbeiten, so daß das im wesentlichen
undurchsichtige lichtempfindliche Material an den durch das reflektierte Licht aktivierten Stellen im wesentlichen durchsichtig
oder durchscheinend gemacht wird, wodurch ein positives TransparentabbiId oder ein Diapositiv erzeugt wird.
Der trDckenverarbextbare Microformatfilm besteht aus einem
flexiblen Substrat und einem darauf aufgetragenen durchgehenden, im wesentlichen durchsichtigen Film, der gegenüber den kurzen
Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb des Schwellenwertes empfindlich ist und durch Einwirkung von solchen belichtet
und entwickelt und durch Dispersion (Streuung) des durchgehenden, im wesentlichen undurchsichtigen Filmes im wesentlichen
durchsichtig gemacht wird. Der durchgehende, im wesentlichen undurchsichtige Film wirkt also positiv, d.h. liefert
positive Abbilder. Vorzugsweise ist das flexible Substrat ein dünner, im wesentlichen transparenter Film,der aus einem
geeigneten Kunststoffmaterial gebildet ist, so daß er Dias liefert, die im Durchblick- bzw. Durchlichtverfahren betrachtbar
sind. Andererseits kann das flexible Substrat ein lichtreflektierender Film sein, der aus weißem reflexionsfähigem Papier
o.dgl. gebildet ist, und Abbilder liefern, die im Anblick-
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oder Aufliehtverfahren betrachtbar sind.
Wenn der trockenverarbeitbare Maskenfilmstreifen in der oben
besprochenen ¥eise negativ arbeitet, wird das darin hergestellte Abbild ein Micronegativ des Originals sein, und wenn er, wie
oben ebenfalls erläutert, positiv arbeitet, wird das darin hergestellte
Abbild des Originals ein Micropositiv sein.
Obwohl gemäß dem allgemeinen Erfindungsgedanken der trockenverarbeitbare
Microformatfilm die Form eines Microfilmstreifens
haben kann, auf den die Microabbilder übertragen werden, kann er in vorteilhafter Häter-bildung der Erfindung in der Form
einer Microfiche- oder einer Microformatkarte vorliegen. Ein
ursprünglicher Eintrag kann an gewünschten Bildstellen oder Punkten der Microfiche oder der Mierοformatkarte auf diese
übertragen werden, und später können zusätzliche Einträge an anderen gewünschten Bildstellen oder Punkten der Microfiche-
oder Microformatkarte auf diese übertragen werden, so daß diese HergänzbarM ist und auf dem jeweils neuesten Stand gehalten
werden kann. Daher kann ein Archivar Microabbilder von Aufzeichnungen unter Nutzung aller Vorteile, die ein Microfilmarchiv
bietet, nach den gleichen Organisationsgrundsätzen wie Papierakten geordnet halten.
In dieser letzteren Hinsicht kann eine Microfiche- oder Microformatkarte
gemäß der Erfindung in Längs- und Querrichtung mit Skalen oder Einrichtungen versehen sein, die ein Auflegen eines
ausgewählten Teiles derselben auf den mit einem Microabbild versehenen Trockenniaskenfilmstreifen beim Hindurchführen desselben
durch die Bildübertragungsstation gestatten bzw. erleichtern, so daß Microabbilder auf die Microfiche- oder Microformatkarte
nach Wunsch als Ersteintrag oder später als Ergänzung übertragen werden können. Es sind Maßnahmen getroffen, die es
ermöglichen, die Microfiche- oder Microformatkarte für diesen Zweck genau zu bestimmen und in die gen-aue Lage zu bringen.
Bei dem Verfahren und bei der Vorrichtung gemäß der Erfindung
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wird der Trockenmaskenfxlmstreifen zur Schaffung von Microdia-Einzelbildern
in der Belichtungs- und Entwicklungsstation belichtet
und entwickelt, und diese Microdia-Einzelbilder werden zur Übertragung der Microabbildungen auf die Trockenmicrofiche-
oder Trockenmicroformatkarte in die Bildübertragungsstation transportiert.
Gemäß der Erfindung sind Maßnahmen getroffen, den Trockenmaskenfilmstreifen nach jedem Transport eines Microdia-Einzelbildes
für die Bildübertragung in die Bildübertragungsstation für das nächste Arbeitsspiel an eine Stelle knapp vor
der Belichtungsstelle in der Abbildungs- und Entwicklungsstation zurückzubringen. Auf diese Weise werden die Microdia-Einzelbilder
auf dem Trockenmaskenfxlmstreifen an aufeinanderfolgenden
Stellen, ohne wesentliche Lücke zwischen diesen, erzeugt, so daß bei der Durchführung der Erfindung der Trockenmaskenfilmstreifen
bestens genutzt wird. Die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß der Erfindung ist mit geeigneten Steuereinrichtungen
für den Transport und Rücktransport des Trocken— maskenfilmstreifens in dieser Weise ausgestattet. Wenn das
Microabbild in dem Trockenmaskenfilmstreifen zu einem späteren Zeitpunkt entwickelt als belichtet wird, enthält die Steuereinrichtung
für den Transport und Rücktransport des Trockenmaskenfilmstreifens eine Einrichtung zum Vortransportieren des Microeinzelbildes
von der Belichtungsstelle zur Entwicklungsstelle in der Bilderzeugungs- und Entwicklungsstation für die Entwicklung
des Microeinzelbildes zu einem Microdia-Einzelbild vor Transport des letzteren in die Bildübertragungsstation.
Die Belichtungsstelle in der Belichtungs- und Entwicklungsstation
weist eine Kamera auf, die das Lichtreflexionsabbild von dem Original verkleinert und es zur Schaffung eines Microabbildes in
dem Trockenmaskenfxlmstreifen auf diesen zur Einwirkung bringt.
Die Entwicklungsstelle in der Belichtungs- und Entwicklungsstation
weist vorzugsweise einen erhitzten Kolben zum gleichförmigen Erhitzen des Microabbildes in dem Trockenmaskenfxlmstreifen für
die Erzeugung des Microdias auf. Die Bildübertragungsstation weist nicht nur eine Blitzlichtlampe zur Erzeugung kurzer Energieimpulse
oberhalb eines Schwellenwertes für die Übertragung
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der Microabbilder von dem Trockenmaskenfilmstreifen auf den Trockenmicroformatfilm, sondern auch eine Einrichtung, wie einen
Kolben, zur Ausübung eines Druckes unter formschlüssigem Kontakt zwischen dem Trockenmaskenfilmstreifen und dem Microformatfilm
bei der Übertragung des Micrroabbildes auf. Die Einzelheiten der Vorrichtung, einschließlich der bereits besprochenen, werden
unten eingehender besprochen. Auch die Konstruktion, Art und Eigenschaften des Trockenmaskenfilmstreifens und des Trockenmicroformatfilmes
werden im folgenden eingehender besprochen.
Des weiteren befaßt sich die Erfindung mit dem Verfahren und den!
Zusammenwirken der Verfahrensschritte sowie mit dem Aufbau der
Vorrichtung und dem Zusammenwirken ihrer Teile.
Die Erfindung befaßt sich also mit einem Trockenverfahren zur Herstellung von archivfähigen Microformatwiedergaben von lichtreflektierenden
Originalen unter Verwendung eines trockenverarbeitbaren Maskenfilmstreifens (Trockenmaskenfilmstreifens), der
lichtempfindlich ist und durch vondem Original reflektiertes, formatverkleinertes oder verdichtetes Licht mit einem Microabbild
versehen und zur Schaffung von Microdiaabbildern in dem Maskenfilmstreifen beim Hindurchtransport desselben durch eine
Belichtungs- und Entwicklungsstation unter Wärmeanwendung entwickelt
wird, sowie mit einer Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens. Bei diesem Verfahren wird außerdem ein trockenverarbeitbarer
Microformatfilm (Trockenmicroformatfilm) verwendet, der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie
oberhalb eines Schwellenwertes sensitiv ist und durch die Einwirkung
solcher Impulse durch die Microdiabilder des aufgelegten Maskenfilmstreifens beim Durchgang durch eine Bildübertragungsstation
zur Schaffung von archivgeeigneten Bildwiedergaben im Microformat entsprechend den Microdiaabbildern in dem Trockenmaskenfilmstreifen
und folglich entsprechend dem Original mit Microbildem versehen und entwickelt wird. Dieser Microformatfilm
hat vorzugsweise die Form einer Microfiche oder Microformatkart
e.
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In der Zeichnung sind einige beirorzugte Ausführungsformen der
Erfindung beispielsweise dargestellt.
Fig. 1 ist eine teilweise geschnittene schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung zur Veranschaulichung
des zugehörigen Verfahrens;
Fig. 2 ist eine Draufsicht auf einen Teil der Vorrichtung gemäß Fig. 1;
Fig. 3 ist ein Zeitplan zur Veranschaulichung der Programmsteuerung
der in Fig. 1 und 2 dargestellten Vorrichtung;
Fig. h ist eine perspektivische Darstellung einer Tisch- oder
Pultvorrichtung mit den Merkmalen gemäß Fig. 1 und 2;
Fig. 5 ist ein Schnitt durch die Entwicklungsstelle der Belichtungs-
und Entwicklungsstation gemäß Fig. 1 in größerem Maßstab;
Fig. 6 ist ein Schnitt durch einen Teil der Bildübertragungsstation
gemäß Fig. 1 in größerem Maßstab;
Fig. 7 ist eine schematische Darstellung des Originals, von dem mittels der bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
gemäß der Erfindung ein Microabbild hergestellt werden soll;
Fig. 8 ist eine schematische Darstellung des mit einem Bild versehenen und entwickelten Trockenmaskenfilmstreifens;
Fig. 9 ist eine schematische Darstellung des Trockenmicroformatfilmes,
auf den das Abbild übertragen wurde;
Fig. 10 ist eine schematische Darstellung des bevorzugten Trockenmaskenfilmstreifens vor der Belichtung in
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vergrößertem Maßstab;
Fig. 11 ist eine schematische Darstellung des Trockenmaskenfilmstreifens
nach einleitender Belichtung;
Fig. 12 ist eine schematische Darstellung des einleitend belichteten
Trockenmaskenfilmstreifens naoh der Entwicklung;
Fig. 13 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform
des Microformatfilmes;
Fig. 14 ist eine schematische Darstellung des auf den belichteten
und entwickelten Trockenmaskenfilrastreifen gemäß Fig. 12 aufgelegten Microformatfilmes gemäß Fig. 13;
Fig. 15 ist eine schematische Darstellung ähnlich Fig. 14 zur
Veranschaulichung der Übertragung des Abbildes von dem Maskenfilmstreifen auf den Microformatfilm;
Fig. 16 ist eine schematische Darstellung des Microformatfilmes mit dem darauf übertragenen Abbild;
Fig. 17 ist eine schematische Darstellung des Originals, das
gemäß einer abgewandelten Ausführungsform der Erfindung
im Microformat abgebildet werden soll;
Fig. 18 ist eine schematische Darstellung einer abgewandelten Form eines Trockenmaskenfilmstreifens nach Belichtung
und Entwicklung;
Fig. 19 ist eine schematische Darstellung eines Trockenmicroformatfilmes,
auf den das Bild übertragen wurde;
Fig. 20 ist eine schematische Darstellung einer abgewandelten Ausführungsform eines Trockenmaskenfilmstreifens vor der
Belichtung;
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Fig. 21 ist eine schematische Darstellung des Trockenmasken—
filmstreifens gemäß Fig. 20 nach Belichtung und Entwicklung durch Wärme;
Fig. 22 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten
Ausführungsform des Microformatfilmesj
Fig. 23 ist eine schematische Darstellung des Microformatfilmes gemäß Fig. 22 in dem auf den belichteten und entwickelten
Maskenfilmstreifen gemäß Fig. 21 aufgelegten Zustand; .
Fig. Zk ist eine schematische Darstellung ähnlich Fig. 23 zur Veranschaulichung der Übertragung des Abbildes von
dem Maskenfilmstreifen auf den Microformatfilm;und
Fig. 25 ist eine schematische Darstellung des Microformatfilmes
mit dem darauf übertragenen Abbild.
Fig. 1,2 und k zeigen eine Ausführungsform der Vorrichtung 10
zur Durchführung des Trockenverfahrens gemäß der Erfindung. Die Vorrichtung weist im allgemeinen eine Belichtungs- und Entwicklungsstation
11, 12 und eine Bildübertragungsstation 13 auf.
Verwendet werden ein trockenverarbeitbarer Maskenfilmstreifen 14,
der durch die Belichtungs- und Entwicklungsstation 11, 12 und die Bildübertragungsstation 13 hindurchgeführt wird, sowie ein
trockenverarbeitbarer Mierοformatfilm 15» der in der Bildübertragungsstation
13 auf den Trockenmaskenfilmstreifen 14 aufgelegt
wird. Der Trockenmicroformatfilm 15 wird vorzugsweise, wie dargestellt,in der Form einer Microfiche oder Microformatkarte
verwendet.
Die Belichtungs- und Entwicklungsstation 11, 12 weist vorzugsweise
eine Bildaufnahmestelle 11, an der ein Einzelbildabschnitt des
Trockenmaskenfilmstreifens mit einem Microabbild versehen (belichtet) wird, und dine Entwicklungsstelle 12 auf, an der der
belichtete Einzelbildabschnitt zur Erzeugung eines Microdia-Einzelbildes
unter Wärmeeinwirkung entwickelt wird. Zu Zwek-
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ken der Veranschaulichung ist hier die Entwicklungsstelle in einem Abstand gleich zehn (1O) Einzelbildbreiten von der
Belichtungsstelle 11 entfernt angeordnet. Ebenfalls für die Zwecke der Veranschaulichung ist hier die Bildübertragungsatation
13 in einem Abstand von zwanzig (20) Microeinzelbildbreiten von der Entwicklungsstelle 12 und somit in einem Abstand
von dreißig (30) Microeinzelbildbreiten von der Belichtungsstelle 11 der Belichtungs- und Entwicklungsstation 11,
angeordnet. Nach Microbelichtung des Trockenmaskenfilmstreifens 14 zur Schaffung eines Microeinzelbildes A (voll ausgezogen in
Fig. 2) an der Belichtungs st eile 11 wird der Maskenfilmstreifen
14 um zehn (1O) Einzelbildbreiten transportiert, so daß das
microbelichtete Einzelbild in die Warmentwicklungsstelle 12 gebracht wird (wie in unterbrochenen Linien bei B in Fig. 2
angedeutet), an der das microbelichtete Einzelbild warment— wickelt wird. Nach Warmentwicklung des microbelichteten Einzelbildes
in dieser ¥eise wird der Maskenfilmstreifen 14 um weitere zwanzig (20) Microbildbreiten weitertransportiert, so
daß das aiorobelichtete und entwickelten Einzelbild in die Bildübertragungsstation 13' (in unterbrochenen Linien bei C in
Fig. 2 gezeigt) gebracht wird, in der das Microbild auf dem Maskenfilmstreifen 14 auf den Microformatfilm 15 übertragen wird.
Nach Übertragung des Microabbildes in dieser Weise wird der Maskenfilmstreifen 14 um neunundzwanzig (29) Bildbreiten z.urücktransportiert,
so daß das microbelichtete Einzelbild an einem Punkt 111, eine Einzelbildbreite vor der Bildbelichtungsstelle
11 der Belichtungs- und Entwicklungsstation 11, 12 (unterbrochene
Linien D in Fig. 2) gelangt. Bei Beendigung dieses Arbeltszyklus bietet sich der Belichtungsstelle 11 für eine Wiederholung des
beschriebenen Zyklus eine noch unverbrauchte Einzelbildbreite oder ein unbelichteter Abschnitt des Trockenmaskenfilmes 14,
anschließend an die bereits belichtete Einzelbildbreite D dar.
Auf diese Weise bleibt kein Teil des Trockenmaskenfilmstreifens 14 ungenutzt.
+ praktisch
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Der Trockenmaskensfilmstreifen Ik wird von einer Vorratsrolle
20 abgezogen, die in geeigneter Weise mit einem Rückzugmotor
21 verbunden ist, der die Aufgabe hat, den Maskenfilmstreifen 14 bei Fehlen einer Transportkraft auf die Rolle 20 aufzuwikkein,
jedoch ein Abziehen des Maskenfilmstreifens 14 von der
Rolle 20 unter Überwindung des Rückzugmomentes des Motors 21 zu gestatten. Der Rückzugmotor 21 wrkt also als Federbelastung
auf die Vorratsrolle 20 zur Aufrechterhaltung einer Zugspannung
in dem Maskenfilmstreifen 14, unter der der Filmstreifen 14
auf die Vorratsrolle 20 aufgewickelt wird, wenn dies zugelassen wird,die jedoch ein Abziehen des Maskenfilmstreifens von der
Vorratsrolle 20 unter Zugspannung zuläßt, wenn dies gewünscht wird. Der Maskenfilmstreifen ~\k wird von einer Rolle
zwischen zwei Plattenglieder 23 und 2k gelenkt, die vorzugsweise voneinander trennbar angeordnet sind. Eines dieser Plattenglieder,
vorzugsweise das Plattenglied 23» ist mit einer Nut 32 zur Führung des Maskenfilmstreifens Ik zwischen den Plattenglialern
23 und 2k ausgestattet. Das andere Ende des Maskenfilmstreifens ^k wird mittels einer Rolle 25 zwischen zwei
federbelastete Klemmrollen 26 und 27 gelenkt, die vorzugsweise
im Interesse des schlupffreien Angriffs an dem Maskenfilmstreifen 14 mit einer Kautschukauflage an der Oberfläche versehen
sind. Die Klemrarolle 26 ist mittels eines Schrittmotors 29 angetrieben
und treibt ihrerseits eine Aufwickelrolle 28 über einen elastischen Schlupfriemen 30, der eine Riemenscheibe 31 an der
Aufwickelrolle mitnimmt. Der Miskenfilmstreifen 14 wird von den
Klemmrollen 26 und 27 der Aufwickelrolle 28 zugeführt. Der Antrieb 30, 31 für die Aufwickelrolle 28 wirkt im Sinne der Aufrechterhaltung
der Zugspannung in dem Abschnitt des Maskenfilmstreifens
1k zwischen den Klemmrollen 26 und 27 und der Aufwickelrolle
28. Beim schrittweisen Betrieb des Schrittmotors 29 in der einen Richtung bewirken die Klemmrollen 26 und 27
einen Transport des Maskenfilmstreifens Ik und Überwindung des Rückzugmomentes des Rückzugmotors 21 von links nach rechts
(Fig. 1). Wenn der Schrittmotor 29 ruht, ruhen auch die Klemmrollen 26 und 27 und halten den Maskenfilmstreifen 14 entgegen
der Wirkung des Rückzugmotors 21 in Ruhe. Wird der Schritt-
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schaltmotor 29 schrittweise in der entgegengesetzten Richtung betrieben, ziehen die Klemmrollen 26 und 27 den Maskenfilmstreifen
14 in der entgegengesetzten Richtung ab und geben ihn für
den Rücktransport unter dem Einfluß des Rückzugmotors 21 von
rechts nach links (Fig. 1) frei.
Die Bilderzeugungs- oder Belichtungsstelle 11 der Belichtungsund
Entwicklungsstation weist eine Auflagerung 35» beispielsweise eine Glastafel, für die Auflagerung eines im Microformat
abzubildenden Originals 36, beispielsweise eines Dokumentes o.
dgl., auf. Dieses Original wird mittels Lampen 37 beleuchtet, und als solche können Glühlampen, Wolfram-j· Quarz- oder Jodlampen
verwendet werden. Diese Lampen 37 haben vorzugsweise eine Gesamtenergie von etwa 1 kW und bilden eine Breitband-Weißlichtquelle
zur Beleuchtung des Originals 36.
Die Belichtungsstelle 11 weist auch eine Kamera 38 mit einer
Linse 39 und vorzugsweise einem mittels eines Mechanismus 41 in geeigneter Weise betriebenen Verschluß 40 zum Sammeln oder
Verdichten des vom reflektierten Licht des Originals 36 gebildeten
Abbildes auf Microbildgröße und zum Lenken desselben auf den Maskenfilmstreifen 1k auf. Das Verkleinerungsverhältnis
auf die Microbildgröße ist vorzugsweise etwa 24—fach. Die BeIichtungssteile 11 weist vorzugsweise außerdem eine von einer
Feder 43 belastete Andruckplatte 42 zum Halten des Maskenfilmstreifens
14 in ebenem Zustand und in geeigneter Bildebene in bezug auf die Linse 39 auf. Wenn für die Microbelichtung des
Maskenfilmstreifens 14 das Original 36 mittels der Lampen 37
beleuchtet und der Verschluß 40 durch den Mechanismus 41 betätigt wird, wird ein latentes Microabbild erzeugt, und dieses
muß dann warmentwickelt werden.
Die Warmentwicklung des latenten Microabbildes erfolgt an der Entwicklungsstelle 12 der Belichtungs- und Entwicklungsstation.
Die Entwicklungsstelle 12 weist einen beheizten Kolben 46 auf, der sich normalerweise in einer zurückgezogenen Stellung (Fig. 1)
befindet, so daß die Wärmequelle des Kolbens 46 normalerweise
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von dem Maskenfilmstreifen 14 ferngehalten wird. Der Kolben 46
wird mittels eines geeigneten Motors oder einer Magentspule 47
zum Angriff an dem Maskenfilmstreifen 14 ausgeschoben. Diese ausgeschobene Stellung des Kolbens 46 ist eingehender in Fig.
dargestellt. Der Kolben 46 ist vorzugsweise aus Aluminium o.dgl. hergestellt und mittels eines thermostatgesteuerten Heizkörpers
48 beheizbar. Wie dargestellt, ist der Kolben mit einer geeigneten Substanz geringer Wärmeleitfähigkeit, wie Neoprene, beschichtet
, so daß seine Oberfläche gleichmäßig beheizbar ist. Die Temperatur der Heizfläche wird vorzugsweise auf ca. 124 C
gehalten. Wie in Fig. 5 gezeigt, ist die Heizfläche des Kolbens 46 mit quer zum Maskenfilmstreifen 14 liegender Achse zylindrisch
gewölbt und bewirkt eine Bewegung des Maskenfilmstreifens 14 nach oben in einen Hohlraum 50. Diese Bewegung des Maskenfilmstreifens
14, der sich unter Zugspannung befindet, verhindert ein Kräuseln des Maskenfilmstreifens und bewirkt wine gleichmäßige
Berührung zwischen dem Maskenfilmstreifen 14 und dem Kolben 46 für die Wärmeübertragung zur präzisen Entwicklung des
latenten Bildes in dem Maskenfilmstreifen 14 zu einem Microdia.
Nach beendeter Warmentwicklung der Microabbildung wird der Kolben 46 zurückgezogen und für die Warmentwicklung des nächsten latenten
Microabbildes in dem Maskenfilmstreifen 14 bereitgemacht.
In der Bildübertragungs-station 30 wird über einem Glasfenster
in dem Plattenglied 23 mit einer Umrißform, die dem Einzelmicro-Abbild in dem Maskenfilmstreifen 14 entspricht, auf den letzteren
der Microformatfilm 15 aufgelegt. Dann wird durch das Glasfenster 55 und den mit dem Microabbild versehenen und entwickelten
Einzelbildabschnitt des Maskenfilmstreifens 14 hindurch auf den
Microformatfilm 15 ein kurzer Energieimpuls hindurchgeschickt, durch den das Microabbild von dem Maskenfilmstreifen 14 auf den
Mi er ο format film 15 übertragen wird. Die Energiequelle 5^>
ist vorzugsweise eine Xenon-Blitzlichtröhre, beispielsweise das Modell No. FX-33C-15 der E G & G Company. Die Xenonblitzlichtröhre
hat eine elektrische Energieaufnahme von maximal ca. 50 J. Sie ist eine
Röhre vom Breitbandtyp mit einem Wellenlängenbereich von UV bis IR, ca. 2000 bis 10 000 S . Anstatt einer Xenonblitzlichtröhre
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als Quelle der kurzen Energieimpulse oberhalb eines Schwellenwertes
könnte ein Breitflecklaser oder ein Abtastlaser verwendet werden.
Wie oben zum Ausdruck gebracht wurde, hat der Microformatfilm
vorzugsweise die Form einer Microfiche oder Microformatkarte
mit normalen Abmessungen von 1©θ χ 150mm (knx 61) zur Aufnahme
von bis zu 96 Microabbildungen bei dem 24-fachen Verkleinerungsverhältnis
der Vorrichtung. Zur Längs- und Quereinstellung der Microfiche 15 ist diese in einen offenen Rahmen
eingesetzt, der in einem offenen Rahmen 58 quer zum Maskenfilmstreifen
14 beweglich ausgebildet 1st. Der offene Rahmen 58 ist seinerseits in bezug auf den Maskenfilmstreifen 14
in geeigneten Führungen 61 längsbeweglich. Die Rahmen 57 und 58 können mittels eines geeigneten Ansatzes 59 am Rahmen
mit einem Griff 60 in den gewünschten Richtungen bewegbar sein. Durch Handhabung des Griffes 60 kann also jeder beliebige
Punkt der Microfiche 15 an dem Glasfenster 55 mit
dem Maskenfilmstreifen 14 zur Deckung gebracht werden. Zur
Anzeige der jeweiligen Steilung der Microfiche 15 in bezug auf das Glasfenster 55 können an dem Ansatz 59 und an der
Führung 61 geeignete Skalen vorgesehen sein, die mit Zeigern 62 an der Führung 61 und 63 an dem Rahmen 58 zusammenwirken.
Auf diese Weise können von dem Maskenfilmstreifen lh Microabbiider auf jede beliebige Stelle der Microfiche
15 übertragen werden.
Das Plattenglied 2k kann mit einer Abdeckung 65 versehen sein,
die über den offenen Rahmen 57 und 58 liegt und mit einer
mit dem Glasfenster 55 fluchtenden Öffnung für die Aufnahme
eines Kolbens 66 versehen ist. Der Kolben 66 befindet sich normalerweise in einer zurückgezogenen Stellung (Fig. 1),
ist jedoch mittels eines Motors oder einer Magnetspule 67 in eine ausgeschobene Stellung (Fig. 6) versdi iebbar. Der
Kolben 66 weist einen rechteckigen Kautschukpolster 68wn im
wesentlichen der gleichen Umrißform wie das Fenster 55 auf.
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— 1 ο—
¥enn der Motor oder die Magnetspule 67 in Tätigkeit gesetzt wird und den Kolben 66 ausschiebt, werden die Microfiche 15
und der Maskenfilrastreifen 14 zwischen dem Kautschukpolster
68 und dem Glasfenster 55 festgeklemmt, so daß zwischen der
Microfiche 15 und dem Maskenfilmstreifen Ik eine gute und feste
Anlage gewährleistet ist, wenn zur Übertragung des Abbildes von dem microbelichteten Dia des Maskenfilmstreifens 1k aif
die Microfiche 15 durch diese Energieimpulse oberhalb eines
Schwellenwertes hindurchgeschickt werden.
Der Schrittmotor 29 für den Antrieb der Klemmrollen 26 und 27 in der einen oder anderen Richtung ist von herkömmlicher Konstruktion
und wird in der einen oder anderen Richtung durch in der einen bzw. anderen Richtung wirksame, intermittierende
Signale schrittweise betrieben. Venn dem Schrittmotor 29 keine solchen intermittierenden Signale zugeführt werden, bleibt dieser
verriegelt bzw. in der jeweiligen Stellung in Ruhe. Der Schrittmotor 29 ist mittels einer Schrittsteuer- und Zähleinrichtung
70 gesteuert. Wenn die Schrittsteuer- und Zähleinrichtung
70 durch ein Signal der einen oder der entgegengesetzten
Polarität erregt wird, liefert sie dem Schrittmotor 29 intermittierende Signale der einen oder der entgegengesetzten Richtung
zu und zählt die gelieferten Signale. Ein Computerlogik-
oder Speichersystem in der Schrittsteuer- und Zähleinrichtung 70 beendet die Zufuhr der intermittierenden Signale zu dem
Schrittmotor 29» sobald die Zahl der zugeführten Signale eine vorherbestimmte, gewählte Größe erreicht hat. Zu Zwecken der
Veranschaulichung ist hier angenommen, daß für den Transport des Maskenfilmstreifens 14 um eine (1) Microbildbreite sechzehn
(16) intermittierende Signale erforderlich sind. Wenn also ein Microeinzelbild auf dem Maskenfilmstreifen 14 von der Belichtungsstelle
11 zur Entwicklungssteile 12 in der Belichtungsund
Entwicklungsstation um zehn (1O) Einzelbildbreiten transportiert
werden soll, wird die Schrittsteuer- und -zähleinrichtung 70 unter dem Einfluß eines Signals der einen Polarität dem
Schrittmotor 29 einhundertsechzig (160) Impulse der einen Richtung
zuführen.
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In ähnlicher ¥eise wird, wenn ein Microeinzelbild auf den
Maskenfilmstreifen von der Belichtungsstelle 12 der Belichtungsund Entwicklungsstation um zwanzig (20) Einzelbildbreiten in
die Bildübertragungsstation 13 transportiert werden soll, die Schrittsteuer- und -zähleinrichtung 70 unter dem Einfluß eines.
Signale der gleichen Richtung dem Schrittmotor 29 dreihundertzwanzig (320) Impulse der gleichen Richtung zuführen. Wenn umgekehrt
ein Microeinzelbild auf dem Maskenfilmstreifen aus der
Bildübertragungsstation 13 um neunundzwanzig (29) Einzelbildbreiten an eine Stelle 111 eine Einzelbidlbreite vor der Bell
chtuags st eile 11 in der Belichtungs- und Entwicklungsstation
transportiert werden soll, liefert die Schrittstaier- und Zähleinrichtung
unter dem Einfluß eines Signals der entgegengesetzten Polarität dem Schrittschaltmotor 29 vierhundertvierundsechzig
(464) Impulse der entgegengesetzten Richtung zu.
Die Lampen 37 und der Verschluß 40 an der Belichtungsstelle 11
und der Heizkolben 46 an der Entwicklungsstelle 12 der Belichtungs- und Entwicklungsstation, die Energiequelle 56 und der
Kolben 66 an der Bildübertragungsstation 13 sowie die Schrittsteuer- und Zähleinrichtung 70 und der Schrittmotor 29 für den
Transport und Rücktransport des Maskenfilmstreifens 14 werden
im Verlauf eines Betriebszyklus entsprechend dem in Fig. 3 dargestellten Zeitplan mittels einer' Zyklusprogrammsteuerung
72 (Fig. 1) folgemäßig betrieben und in zeitlich zugeordneter Weise gesteuert. Die Zyklusprogrammsteuerung 72 weist eine
Zyklussteurung auf, die durch einen Startschalter 74 in Betrieb
gesetzt wird, der beim Antippen (momentanen Schließen) die Zyklusprogrammsteuerung 72 während eines vollständigen Betriebszyklus in Betrieb hält. Ein Lichtschaltabschnitt 75 der Programmsteuerung
72 schaltet die Lampen 37 für die Beleuchtung des Originals J6 während einer Zeitdauer von ca. 1,5 s ein, und
während dieses Intervalles öffnet und schließt ein Verschlußsteuerteil
76 den Verschluß 40 mittels des Verschlußbetätigungsmechanismus
4i zum Heranlassen des reflektierten Abbildes von dem Original 36 an den Maskenfilmstreifen 14 für die Erzeugung
eines latenten Microabbildes an diesem. Während der nächsten 0,5 s
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liefert ein Maskenfilmstreifentransportabschnitt 77 der
Programmsteuerung der Schrittschalt- und Zähleinrichtung 70
ein Signal der einen Polarität für den Transport des Maskenfilmstreifens
14 um eine Strecke entsprechend 10 Einzelbildbreiten zu. Während etwa der nächsten 5 s der Programmfolge
schaltet ein Entwicklungssteuerabschnitt 78 der Programmsteuerung
den Motor 47» der den Heizkolben 46 an der Bntwicklungsstelle
12 der Belichtungs- und Entwicklungsstation mit
dem Maskenfilmstreifen 14 zur Berührung bringt, wodurch das
dahin transportierte latente Microabbild warmentwickelt wird und in dem Maskenfilmstreifen 14 ein entwickeltes Microdia
erzeugt wird. Annähernd während der nächsten Sekunde liefert ein Maskenfilmstreifentransportabschnitt 79 der Schrittsteuerungs-
und Zähleinrichtung 70 ein Signal der gleichen Polarität für
den Transport des Maskenfilmstreifens 14 um eine Strecke entsprechend
20 Einzelbildbreiten, so daß das Microdia aus der Entwicklungsstelle 12 zur Bildübertragungsstation ^transportiert
wird. Anschließend betätigt während der nächsten ca. 1,5s
ein Klemmkolbensteuerabschnitt 80 den Motor 67 zum Ausschieben
des Klemmkolbens 66 in der Bildübertragungsstation. Während
dieses letzteren Intervalles löst ein Lampenauslösesteuerabschnitt
81 in der Programmsteuerung die Energiequelle 56 aus,
so daß das Microabbild von dem Maskenfilmstreifen 14 auf die
Microfiche oder Microformatkarte 15 übertragen wird. Während annähernd der nächsten 0,5 s liefert ein Steuerabschnitt 82
der Programmsteuerung der Schritt staierungs- und Zähleinrichtung
70 ein Signal der entgegengesetzten Polarität für die Betätigung
des Schrittschalters 29 in der entgegengesetzten Richtung für den Rücktransport des Maskenfilmstreifens 14 um eine Strecke
entsprechend 29 Einzelbildbreiten, so daß die ursprünglich belichtete Einzelbildbreite des Maskenfilmstreifens 14 zu dem
Punkt 111 gebracht wird, d er gegenüber der Belichtungsstelle der Belichtungs- und Entwicklungsstation um eine Einzelbildbreite verschoben liegt. Nach Beendigung dieses Betriebszyklus
wird zur Herstellung eines weiteren Microabbildes ein neues Original 36 dargeboten. Das neue Microabbild kann in einem
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Betriebszyklus, wie dem oben beschriebenen, hergestellt werden,
der durch momentanes Niederdrücken des Einschaltknopfes Th eingeleitet wird.
In Fig. 7 ist das Original 36, beispielsweise ein Dokument o.
dgl., mit weißem reflektierendem Hintergrund 85 und mit schwarzen,
reflexionsunfähigen Daten oder Einschriften 86 dargestellt.
Der Trockenmaskenfilmstreifen 14 in der Darstellung gemäß
Fig. 10 ist in der einschlägigen Technik allgemein als ein von der Firma 3>M Company entwickelter Trockenei Ib er film bekannt
und kann denjenigen entsprechen, die in den US-PSen 3 152 903 (Joseph V. Shepard und Benjamin L. Shely) und 3 152
(David P. Sorensen und Joseph ¥. Shepard), beide übertragen auf Firma 3M Company - vormals Minnesota Mining and Manufacturing
Company- beschrieben sind. Spezieller kann der Maskenfilmstreifen
14 ein Trockeneüberfilm vom Typ 784-SP oder noch besser vom
Typ 7869 der 3M Company sein. Der erstere ist ein orthochromatischer
Film mit Filmempfindlichkeit gegenüber Wellenlängen von UV bis grün (4 000 bis 5OOO' & ). Letzterer ist ein panchromatischer
Film mit Empfindlichkeit gegenüber Wellenlängen von UV bis zum. fernen Rot (k 000 bis 7500 £).
Ein solcher Trockensilberfilmstreifen (Fig. 10) weist ein flexibles
und im wesentlichen durchsichtiges Substrat 87 aus synthetischem Plastik wie Mylar (Polyäthylenglycolterephtalat) oder äquivalentem,
wie Polycarbonat (allzuweich) o.dgl. auf. Auf den Träger 87 ist eine Schicht 88 aufgebracht, die ebenfalls im wesentlichen transparent
und gegenüber Licht photosensitiv ist und zur Er~zeugung von Diabildern mit Licht belichtbar und durch Wärme trockenentwickelbar
ist. Der Maskenfilmstreifen 1h hat eine Dicke von ca.
0,1 mm (4'mils). Die Schicht 88 enthält, durchwegs in einem Harzbinder
dispergiert, eine Beimischung eines Oxydationsmittels, eines Reduktionsmittels und einer katalysatorbildenden Verbindung,
die bei Lichteinwirkung freie Silbermetallkerne bildet. Bei einem
spezielleren Beispiel besteht die Beimischung aus Silberbehenat als Oxydationsmittel, Hydrochinon als Reductionsmittel, Silber-
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chlorid als Katalysatorbildner und als Harzbinder ein Copolymer
aus Butadien und Styrol. Photosensitiv ist nur das Silberchlorid.
Wie in Fig. 11 dargestellt, wird bei bild- oder mustermäßiger
Belichtung des Maskenfilmstreifens 1^ durch Lichtstrahlen 90,
beispielsweise an der Belichtungsstelle 11 der Vorrichtung gemäß Fig. 1, in dem Silberchlorid nur an denjenigen Stellen
Photolytsilber gebildet, an denen zur Erzeugung latenter Abbilder
91 Lichtstrahlen 90 an dem Maskenfilmstreifen zur Wirkung
gebracht werden. Die Zeitspanne, während welcher das Licht auf den Maskenfilmstreifen einwirkt (die Belichtungszeit) beträgt
ca. 1,5s , was unter den Lichtbedingungen gemäß ,der
Erfindung angemessen ist.
Wenn, wie in Fig. 12 veranschaulicht, auf den Maskenfilmstreifen
14, beispielsweise an der Entwicklungsstelle 12 der Vorrichtung
gemäß Fig. 1, Wärme 92 zur Wirkung gebracht wird, fördert das photolytische Silber in den Bereichen des latenten Abbildes
katalytisch eine Reaktion zwischen dem Oxydationsmittel Silberbehenat
und dem Reduktionsmittel Hydrochinon, und das Silberbehenat wird reduziert und bildet in den eingangs belichteten,
latenten Bildbereichen 91 Silberkristall-Bildbereiche 93. Die Zeitspanne, während welcher die Wärme auf den Maskenfilmstreifen
zur Einwirkung gebracht wird (Entwicklungszeit ) beträgt ca. 5 s, und dies ist unter den Wärmeenergiebedingungen gemäß der Erfindung
( ca. 124°C) angemessen. Die Kombination einer Belichtungszeit von ca. 1,5s und einer Entwicklungszeit von ca. 5 s liefert
eine optische Dichte von ca. 0,7 an den belichteten und entwickelten Bereichen 93 und von ca. 0,15 an den unbelichteten Bereichen
Dies ist von Bedeutung, wenn das entwickelte Abbild von dem Maskenfilmstreifen 14 in der Bildübertragungsstation 13 der Vorrichtung
gemäß Fig. 1 auf den Microformatfilm 15 übertragen wird. Trockensilberfilme werden normalerweise zur Erzielung einer größeren
optischen Dichte von ca. 2, 75 beim entwickelten Abbild gewöhnlich durch Erhitzen von 10 bis 30 s entwickelt. Das wirksame
Auflösungsvermögen der belichteten und warmentwickelten
Maskenfilmstreifenteile beträgt ca. 380 Linien je mm, jedoch sind die entwickelten Bildbereiche 93 recht körnig, und auch die
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.21- 2 51 Λ 8 01
Randbegrenzungen zwischen den belichteten Bereichen 93 und den unbelichteten Bereichen 88 sind wegen des Umstandes, daß die
belichteten Bereiche von kristallinem Silber gebildet sind, recht unregelmäßig.
Der belichtete und entwickelteTrockenraaskenfilmstreifen 14
ist in Fig. 8 dargestellt und hat im wesentlichen durchsichtige Bereiche 88 entsprechend den schwarzen Bereichen 86 des Originals
36 und im wesentlichen undurchsichtige Bereiche 93, entsprechend
den weißen Bereichen 85 des Originals. Der Maskenfilm— streifen 14 ist also negativ wirkend, und die darin belichteten
Dias sind Negative des Originals 36.
Der Trocken-Microformatfilm 15, der, wie oben erwähnt, vorzugsweise
die Form einer Microfiche oder Microformatkarte hat, ist in Fig. 13 veranschaulicht. Es handelt sich hier um einen Microformatfilm,
der im wesentlichen gegenüber Licht unempfindlich, jedoch empfindlich gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer
Energie oberhalb eines Schwellenwertes ist und durch Anwendung von solchen entsprechend einem im folgenden als Dispersionsverfahren
bezeichneten Verfahren belichtbar und entwickelbar ist. Derartige Trockenmicroformatfilme können von ähnlicher oder
gleicher Art sein wie diejenigen gemäß Beschreibung in den Patenten (Patentanmeldungen
entsprechend den US-Patentanmeldungen
Serial No. 1 62 842 vom 15. Juli 1971, Robert ¥. Hallman, Stanford
R. Ovshinsky und John P. deNeufville, und Serial No. 407 944
der gleichen Anmelder vom 19· Oktober 1973)·
Wie in den obengenannten Patentanmeldungen ausgeführt, besteht der Microformatfilm grundsätzlich aus einem flexiblen Substrat oder
Träger, vorzugsweise aus im wesentlichen durchsichtigem Kunststoff, auf dem ein dünner, durchgehende», im wesentlichen undurchsichtiger
und energieabsorptionsfähiger Dispersionsabbildungsfilm von relativhoher Oberflächenspannung im geschmolzenen oder erweichten Zustand
aufgetragen ist.
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ßeispiele solcher Abbildungsmaterialien vom Dispersionstyp,
die die genannten Erfordernisse erfüllen, sind die chalcogeniden
Elemente mit Ausnahme von Sauerstoff, und die solche enthaltenden glasigen oder kristallinen Massen. Zu den besseren
Dispersionsabbildungsmaterialien gehören Tellur und verschiedene Massen, die Tellur und andere Chalcogenide enthalten,
wie die folgenden Massen, deren Zusammensetzungen in Gewichtsteilen angegeben sind: 92,5 At.-% Tellur, 2,5 At.-%
Germanium, 2,5 At. -% Silicium und 2,5 At0 -% Arsen; eine Masse
mit 95 At.-$> Tellur und 5 At. -% Silicium; eine Masse mit 90-At
e-% Tellur, 5 At.-$ Germanium, 3 At „ -$>
Silicium und 2 At. ~% Antimon; eine Masse mit 85 At. -$>
Tellur, 10 At „ -% Germanium
und 5 Ato-% ¥ismut; eine Masse mit 85 At0-^ Tellur, 10 Ato-%
Germanium, 2,5 At.-% Indium und 2,5 At„-% Gallium; eine Masse
mit 85 At.-% Tellur, 10 At.-% Silicium, k At„-% Wismut und
1 At. -% Thallium; eine Masse mit 80 At. -<%>
Tellur, 14 At. -% Germanium, 2 At.-^ Wismut, 2 At.-^. Indium und 2 At.-°/o Schwefel;
eine Masse mit 70 At.-% Tellur, 10 At. -% Arsen, 10 At.-% Germanium
und 10 At.-% Antimon; eine Masse mit 60 At.-% Tellur,
20 At. -la Germanium, 10 At.-% Selen und 10 At<,-$>
Schwefel; eine Masse mit 60 At.-% Tellur, 20 At„-% Germanium und 20 At.-% Selen;
eine Masse mit 60 At.-<$ Tellur, 20 At0-^O Arsen, 10 At.-#
Germanium und 10 At.-^b Gallium; eine Masse mit 81 At0-^ Tellur,
15 At.-% Germanium, 2 At.-% Schwefel und 2 At.-% Indium; eine
Masse mit 90 Ato-% Selen, 8 At„-$. Germanium und 2 At.-$ Thallium;
eine Masse mit 85 At.-% Selen, 10 Ato-% Germanium und
5 At.-$> Kupferi eine Masse mit 85 At.-$>
Selen, 14 Ato-% Tellur
und 1 At. -% Brom; eine Masse mit 70 At. -$>
Selen, 20 At. ·-$>
Germanium und 10 At.-% Wismut; eine Masse mit 95 At.-tfo Selen und
5 Ato-% Schwefel; und Abwandlungen solcher Massen. Außerdem
können die Dispersionsabbildungsmaterialien Metalle oder Elemente
sein oder solche enthalten, wie Wismut, Antimon, Selen, Cadmium, Zink, Zinn, Polonium, Indium und Verbindungen dieser
Metalle oder Elemente, wofür spezifische Beispiele Antimontrisulfid, Wismuttrisulfid u.dgl. sind. Wismut bildet besonders
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geeignete und bevorzugte Dispersionsabbildungsmaterialien.
Eine bevorzugte Form des Microformatfilmes, der Microfiche oder
der Microformatkarte 15 ist in Fig. 13 dargestellt. Sie besteht aus einem flexiblen Substrat 95 aus im wesentlichen durchsichtigem
synthetischen Plast, wie Mylar (Polyäthylenglycolterephthalat) oder einem gleichwertigen Kunststoff, wie Polyäthylen,
Polyacetat, Celluloseacetat, Polypropylen, Polycarbonat o.dgl. Das Substrat 95 kann eine Dicke im Bereich von 175 bis 375 /Um
(7 bis 15 mils) haben, wobei eine Dicke von ca. 250 /um (1O
mils)bevorzugt wird. Auf diesem Substrat 95 ist ein. dünner,
durchgehender massiver Dispersionsfilm 96 aus Wismut mit einer
Dicke im Bereich von ca. 1000 bis 2000 A, vorzugsweise durch Aufdampfen (im Vakuum) o.dgle aufgetragen. Dieser dünne durchgehende
Dispersionsfilm oder die Wismutschicht 96 ist wärmeabsorbierend
und hat einen Schmelzpunkt von 271»3 °C, Über der
Wismutschicht 96 ist in geeigneter Weise eine Außenschutzschicht 97 angebracht, die aus einem im wesentlichen durchsichtigen
Kunststoffilm aus Saran (Polyviniliden) oder gleichwertigem
Material, wie Polyvinylalcohol, Polyvinylformal o. dgl., besteht.
Dieser Außenschutzfilm 97 hat eine Dicke von ca. 1 /Um.
Abschn itt des
Wenn sich der belichtete und entwickelte/Maskenfilmstreifens14
in der Bildübertragungsstation/der Vorrichtung gemäß Fig. 1 befindet, wird der Microformatfilm 15» wie in Fig. 14 gezeigt,
auf jenen aufgelegt, wobei die im wesentlichen durchsichtigen
Substrate oder Trägerschichten 95 und 87 einander abgewendet
an der Außenseite liegen. Wenn nun ein kurzer Impuls elektromagnetischer
Energie oberhalb eines Schwellenwertes, 981 zur
Wirkung gebracht wird (Fig. 15), wie dies in der Bildübertragungsstation 13 der Vorrichtung gemäß Fig. 1 geschieht, wird
ein solcher Energieimpuls 98 von den belichteten und warmentwickelten
Silbermetallbereichen 93 des Maskenfilmstreifens absorbiert und gestreut, so daß er den Mi'eroformatfilm 15 in
diesen Bereichen nicht wirksam erreicht und somit die durch-
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gehende, undurchsichtige Disperstonsfilmschicht 96 des Micro-
an
formatfilmes/diesen Bereichen nicht beeinflußt.
formatfilmes/diesen Bereichen nicht beeinflußt.
Durch die im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 88 des Maskenfilmstreifens
14 und durch den schützenden Außenfilm 97 des
Microformatfilmes 15 hingegen tritt ein solcher kurzer Energieimpuls 98 ohne weiteres durch und erreicht dort die Dispersionsfilmschicht
96 an den Bereichen 99 t und dort wird der Energieimpuls
absorbiert. Die Absorption des Impulses 98 elektromagnetischer
Energie bewirkt eine Erwärmung der Dispersionsfilraschicht
96 an diesen Bereichen 99 mindestens bis zum Erweichen
oder Schmelzen, so daß dann die durchgehende, massive Dispersionsfilmschicht
96 an diesen Bereichen 99 aufgebrochen und in kleine und weit voneinander entfernte Kügelchen dispergiert
wird, so daß diese Bereiche im wesentlichen durchsichtig werden. Diese Streuung des Materials der Dispersionsfilmschicht 96 an
den erhitzten, weichen oder geschmolzenen Bereichen 99 wird in erster Linie durch die Oberflächenspannung des erhitzten Materials
hervorgerufen, die das erhitzte Material veranlaßt, diese kleinen und voneinander weit entfernten Kügelchen zu bilden.
Venn infolge des kurzen Impulses elektromagnetischer Energie diese Kügelchen gebildet sind, kühlen sie schnell ab und
behalten diesen kugelförmigen Zustand bei, so daß der im wesentlichen
durchsichtige Zustand der Bereiche 99 erhalten bleibt.
Die in großen Abständen voneinander liegenden Kügelchen haben natürlich eine größere Dicke als die dünne durchgehende massive
Dispersionsfilmschicht 96, denn das Volumen des Materials
in den Bereichen 99 ist natürlich unverändert geblieben. Diese
Änderung der Dickenabmessung wird jedoch ohne weiteres durch die Elastizität und den Charakter des flexiblen Substrates 95
sowie der flexiblen äußeren Schutzfilmschicht 97 des Microformatfilmes
15 ausgeglichen.
Der fertige, mit einem Microabbild versehene Microformatfilm,
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die Microfiche oder die Microformatkarte 15» die zur Verwendung
beim Abrufen der darauf aufgezeichneten Daten oder Informationen geeignet und bestimmt ist, ist in Fig. 15 veranschaulicht
und weist das im wesentlichen durchsichtige Substrat 95» den im wesentlichen durchsichtigen Außenschutzfilm 97>
die durchgehenden, massiven, im wesentlichen undurchsichtigen Bereiche 96 und die im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 99 auf. Der
Microformatfilm 15» der ursprünglich im wesentlichen undurchsichtig
ist und an den Stellen, an denen die elektromagnetische Energie zur Wirkung gebracht wurde, im wesentlichen durchsichtig
geworden ist, ist positiv wirkend und in Fig„ 9 mit im wesentLiehen
undurchsichtigen Bereichen 96, entsprechend den im
wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 93 des Maskenfilstreifens
14, und mit im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 99»
entsprechend den im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 88 des Maskenfilmstreifens 14 dargestellt. Der Microformatfilm 15 ist
also ein Positiv des Maskenfilmstreifens 14 und ein Negativ des
Originals 36. Die in dem Microformatfilm 15 hergestellten Microabbilder
sind im Durchblick- oder Durchlichtverfahren lesbare
Microdias.
Die von der Energiequelle 56 (Xenonblitzröhre) erzeugten kurzen
Impulse elektromagnetischer Energie liegen innerhalb des Bereiches
von 10 ms bis hinunter zu 1 /US und weniger, z.B. bis zu
0,1 /US. Für einen kurzen Impuls von 10 /us beträgt die zum
Herbeifuhren der Dispersion in den Bereichen 99 des Microformatfilmes 15 (ohne den dazwischen liegenden Maskenfilmstreifen
l4) von der Quelle zur Wirkung gebrachte Energie ca. 300 mJ/cm Bei dazwischen eingelegtem Maskenfilmstreifen 14 beträgt die
gelieferte Energie ca. 950 mJ/cm . Diese kurzen Impulse elektromagnetischer
Energie der angegebenen Werte stellen kurze Impulse oberhalb eines Schwellenwertes dar, die die Abbildungseinträge
in dem Microformatfilm 15 erzeugen. Die optischen Dichten
des Microformatfilmes 15 liegen im Bereich von 2,2 bis 2,5 für
die unbelichteten, im wesentlichen undurchsichtigen Bereiche
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und im Bereich, von 0,2 bis 0,3 für die im wesentlichen durchsichtigen
belichteten Bereiche 99» und dies sorgt für hohen Kontrast. Dieser hohe Kontrast im dem Microformatfilm 15 wird
durch die optischen Dichten in dem Maskenfilmstreifen 14 erzeugt,
die vergleichsweise nur ca. 0,7 für die belichteten, im wesentlichen undurchsichtigen+93 und ca. 0,15 mit einem Maximum von
ca. 0,20 für die unbelichteten, im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 88 betragen und einen nur niedrigen Kontrast kennzeichnen.
Die Kombination einer kurzen Belichtungszeit von ca. 1,5 s für den Maskenfilmstreifen 14 an der Belichtungsstelle 11 der Vorrichtung
gemäß Fig. 1 anstatt einer normalerweise vorgeschriebenen längeren Belichtungszeit von bis zu 5 s, und kurzen Entwicklungszeit
unter Wärmeanwendung von ca. 5 s an der Entwicklungsstelle 12 der Vorrichtung nach Fig. 1 anstelle der normalerweise
vorgeschriebenen längeren Warmentwicklungsdauer von 1o bis 30 s führt zu der genannten optischen Dichte von ca.
0,7 für die belichteten, im wesentlichen undurchsichtigen Bereiche 93 des Maskenfilmstreifens anstelle der unter der
normalerweise vorgeschriebenen längeren Belichtungsdauer und Warmentwicklungsdauer zu erwartenden höheren und erreichbaren
optischen Dichten von bis zu 2,75· Diese verhältnismäßig niedrige optische Dichte von ca. 0,7 verhindert eine wesentliche
Absorption der kurzen Impulse elektromagnetischer Energie, 98,
an den belichteten und im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 93 des Maskenfilmstreifens 14» die zu Beschädigungen,
wenn nicht zur Zerstörung des Maskenfilmstreifens führen würde.
Eine solche Zerstörung des Maskenfilmstreifens 14 durch übermäßige
Absorption der Impulse elektromagnetischer Energie würde so rasch vor sich gehen, daß eine Bilderzeugung auf dem
Mieroformatfilm unmöglich wäre. Die Impulse 98 elektromagnetischer
Energie werden von den belichteten, im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 93 des Maskenfilmstreifens i4 in der
Hauptsache absorbiert und gestreut, und die Menge an solcher
+ Bereiche
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Energie, die nicht gestreut oder absorbiert wird, sondern durch
die belichteten, im wesentlichen undurchsichtigen Bereiche 93 hindurchtritt, liegt unterhalb des Schwellenwertes, der für die
Bilderzeugungsdispersion der Dispersionsabbildungsschicht 96
des Microformatfilmes 15 erforderlich ist, und bewirkt keine
bilderzeugende Belichtung dieser Bereiche in dem Microformatfilm 15, die den Bereichen 93 des Maskenfilmstreifens 14 entsprechen.
Da die im wesentlichen undurchsichtige Dispersionsabbildungsschicht
96 des Microformatfilmes 15 eine durchgehende massive
Schicht ist, ist sie nicht körnig und unterscheidet sich in dieser
Hinsicht von den belichteten und entwickelten Bereichen
. die
des Maskenfilmstreifens 1h ,/notwendigerweise körnig sind, da sie Silberkristalle enthalten. Dies hat zur Folge, daß die Begrenzungen (Ränder) zwischen den im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 99 und den im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 97 des Microformatfilmes 15 eine größere Randscharfe aufweisen als die Begrenzungen zwischen den körnigen, im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 93 und den im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 88 des Maskenfilmstreifens ik. Es hat sich gezeigt, daß der Maskenfilmstreifen 14 eine hohe Randschärfe bei dem Microformatfilm 15 ergibt, obwohl seine eigene Randschärfe erheblich geringer ist. Dies ist auf das hohe Gamma (größer als 10) des Dispersionsmaterials zurückzuführen. Wegen der hohen Randschärfe hat der Microformatfilm 15 ein Auflösungsvermögen von 6OO Linien/mm gegenüber einem Auflösungsvermögen von im wesentlichen nur 38O Linien/mm für den Maskenfilmstreifen 14. Infolgedessen ist die Schärfe beim Microformat-
des Maskenfilmstreifens 1h ,/notwendigerweise körnig sind, da sie Silberkristalle enthalten. Dies hat zur Folge, daß die Begrenzungen (Ränder) zwischen den im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 99 und den im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 97 des Microformatfilmes 15 eine größere Randscharfe aufweisen als die Begrenzungen zwischen den körnigen, im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 93 und den im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 88 des Maskenfilmstreifens ik. Es hat sich gezeigt, daß der Maskenfilmstreifen 14 eine hohe Randschärfe bei dem Microformatfilm 15 ergibt, obwohl seine eigene Randschärfe erheblich geringer ist. Dies ist auf das hohe Gamma (größer als 10) des Dispersionsmaterials zurückzuführen. Wegen der hohen Randschärfe hat der Microformatfilm 15 ein Auflösungsvermögen von 6OO Linien/mm gegenüber einem Auflösungsvermögen von im wesentlichen nur 38O Linien/mm für den Maskenfilmstreifen 14. Infolgedessen ist die Schärfe beim Microformat-
BO groß wie dzw.
film 15 wesentlichygrößer als die beim Maskenfilmstreifen 14.
film 15 wesentlichygrößer als die beim Maskenfilmstreifen 14.
Bei der obigen Beschreibung wurde das flexible Substrat 95 des Microformatfilmes 15 als im wesentlichen transparentes Kunststoff
substrat beschrieben, und in diesem Fall sind die darin erzeugten Microabbilder Microdias, die im Durchblick- oder
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JUurchlichtverf ahren lesbar sind. Statt dessen kann jedoch das
flexible Substrat 95 B.W5 einem iichtrefl ektierenden Material,
wie weißem Papier, gebildet sein, das durch die im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 99 Licht zu retlektieren vermag, so daß
die auf dem Microformatfilm 15 als Microbildeinträge gebildeten
Daten oder Informationen iir? Anblick oder Auf 1 ichtvervahren
lesbar sind.
Eine abgewandelte Form des Maskenf ilrns treif ens 14 ist bei 14a
in Fig. 20, 21, 23 und 24 veranschaulicht, Ls handelt sich um
einen zum Unterschied von dem oben besprochenen, bevorzugten, negativ arbeitenden, ursprünglich im wesentlichen durchsichtigen
Maskenfilmstreifen 14 ursprünglich im wesentlichen undurchsichtigen,
positiv arbeitenden Maskenfilmstreifen. Wie in Fig.
20 gezeigt, weist dieser ein im wesentlichen durchsichtiges, flexibles Substrat 101 aus Kunststoff, ähnlich dem Substrat
des Maskenfilmstreifens l4, aufo Auf dem Substrat 101 ist eine
dünne, durchgehende, massive Schicht 102 aus im wesentlichen undurchsichtigem und reflektierendem metallischem Silber, und
auf dieser eine dünne Schicht 103 aus im wesentlichen durchsichtigem Arsentrisulfid (AspS ) aufgetragen.
Wenn nun, wie in Fige 21 veranschaulicht, ein Abbild oder ein
Muster aus reflektiertem Licht 90 durch die im wesentlichen
durchsichtige As„S„-Schicht auf die diese tragende Seite des
Maskenfilmstreifens 14a zur Wirkung gebracht wird, wie dies an
der Belichtungsstelle 11 der Vorrichtung gemäß Fig. 1 geschieht, und wenn gleichzeitig auf den Maskenfilmstreifen 14a Wärme 92
zur Wirkung gebracht wird, bewirkt das Bild oder Muster aus reflektiertem Licht 90 eine Reaktion, die an der Grenzfläche zwischen
der AspS -Schicht 103 und dem metallischen Silber beginnt
und an den belichteten Bereichen 104 ein im wesentlichen durchsichtiges Reaktionsprodukt erzeugt» Zur gleichzeitigen Erwärmung
des Maskenfilmstreifens 14A während der Belichtung und Entwicklung
an der Belichtungsstelle der Vorrichtung gemäß Fig. 1
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kann die Andruckplatte k2 an der Bel ichtuiigsstel le 11 in zweckmäßiger
Weise beheizt sein, und die daran anschließende WarmentwicklungsstelIe
12 der Vorrichtung gemäß Fig. 1 kann außer Betrieb bleiben oder entfallen. In diesem Fall kann der Schrittmotor
29 von der Schrittsteuerungs- und Zähleinrichtung JO und der
Programmsteuerung J2 für den Betriebszyklus derart gesteuert sein,
daß er den Maskenfilmstreifen 14a in einem Zug um 30 Einzelbildbreiten
verschiebt, so daß das microbelichtete und entwickelte Einzelbild vom Punkt A an der Beiichtungsstelle 11 direkt an den
Punkt C der Bildübertragungsstation 13 gebracht wird,und anschließend
an die Bildübertragung den Maskenfiimstreifen \kA in
der anhand der Fig„ 1 und 2 beschriebenen Weise um 29 Einzelbildbreiten
zurückverschiebt, so daß das microbe 1ichtete Einzelbild
vom Punkt C an der Station 13 in die Stellung U am Punkt 111,
knapp vor dem Punkt 11 gebracht wird.
Der ursprünglich im wesentlichen undurchsichtige, in dieser Weise mit einem Microbild versehene und entwickelte Maskenfilmstreifen
IkA weist im wesentlichen undurchsichtige Bereiche 102 und - an
den belichteten und entwickelten Stellen - im wesentlichen durchsichtige Bereiche 1ü4 auf (Fig. 21 und 18). Der Maskenfilmstreifen
14a ist daher positivwirkend und liefert ein Microdiapositiv
des Originals 36 (Fig. 17 und 18).
DerMicroformatfilm 15 ist der gleiche, wie oben beschrieben, und
weist, wie in Fig. 22 bis 25 veranschaulicht, ein flexibles, im
wesentlichen durchsichtiges Substrat 95 aus Kunststoff, eine im wesentlichen undurchsichtige Dispersionsabbildungsschicht 96 und
eine im wesentlichen durchsichtige Schutzschicht/auf. Wie in Fig. 23 gezeigt, wird der Microf ormatf Hin, wenn sich der zu übertragende,
belichtete und entwickelte Teil des Maskenfilmstreifens 14a in
der Bildübertragungsstation 13 der Vorrichtung gemäß Fig. 1 befindet,
auf diesen derart aufgelegt, daß die im wesentlichen durchsichtigen Substrate an den Außenseiten liegen. Wenn nun, wie in
Fig. 2k angedeutet, ein kurzer Impuls elektromagnetischer Knergie
oberhalb eines Schwellenwertes, 98,
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zur Wirkung gebracht wird, wie dies in der Bildübertragungsstation
13 dex" Vorrichtung gemäß Figa 1 geschieht, wird dieser
Energieimpuls 98 von den unbelichteten, massiven und durchgehenden
undurchsichtigen Bereichen 102 der Schicht aus metallischem
Silber reflektiert, so daß er den Microformatfilm 15 in diesen
Bereichen nicht erreicht und dort die durchgehende, undurchsichtige Dispersionsabbildungsschicht 96 nicht beeinflußt. Da die
elektromagnetische Energie 98 von den unbelichteten Bereichen
102 reflektiert wird, erreicht sie auch nicht die Trennfläche zwischen diesen Bereichen 102 und dem hinter diesen liegenden
AspS -Material 103» so daß durch die elektromagnetische Energie
98 keine Reaktion! zwischen dem Silber und dem AspS„ hervorgerufen
wird. Auf diese Weise bleibt die Unversehrtheit der Microabbildungen auf dem Maskenfilmstreifen 14 in der Bildübertragungsstation
13 der Vorrichtung gemäß Fig. 1 erhalten.
An denjenigen Bereichen 99 des Microformatfilmes 15» die der
Energieimpuls in der oben besprochenen Weise im wesentlichen durchsichtig machen soll, tritt hingegen der kurze Energieimpuls
98 ungehindert durch die im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 10k des Maskenfilmstreifens \kA hindurch und gelangt an die üispersionsfilmschicht
96. Der belichtete Microformatfilm I5 1st
in Fig. 25 dargestellt. Der Microformatfilm 15« der ursprünglich
im wesentlichen undurchsichtig war und der an den Stellen der Einwirkung der elektromagnetischen Energie im wesentlichen durchsichtig
geworden ist, ist positivwirkend und hat entsprechend der Darstellung in Fig0 I9 im wesentlichen undurchsichtige Bereiche
96 entsprechend den im wesentlichen undurchsichtigen
Bereichen 102 des Maskenfilmstreifens IkA und im wesentlichen
durchsichtige Bereiche 99 entsprechend den im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 104 des Maskenfilmstreifens 14a. Der Microformatfilm
15 ist also ein Positiv des Maskenfilmstreifens 14a
und ein Positiv des Originals 36.
Da der Microformatfilm 15 nicht lichtempfindlich ist und nur
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kurzen
durch einen/Impuls elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes durch einen Dispersionsvorgang belichtet wird, zeichnet er sich durch hervorragende Archiveignung aus, da er über jahrelange Zeiträume keine Schädigungen durch Licht, Temperatur, Feuchtigkeit und Alterung erleidet.
durch einen/Impuls elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes durch einen Dispersionsvorgang belichtet wird, zeichnet er sich durch hervorragende Archiveignung aus, da er über jahrelange Zeiträume keine Schädigungen durch Licht, Temperatur, Feuchtigkeit und Alterung erleidet.
Das Trockenverfahren und die Vorrichtung zu dessen Durchführung
gemäß der Erfindung eignen sich insbesondere für Pult- oder
Tischgerate zur Verwendung in Büros o«dgl. Eine solche Büromaschine gemäß der Erfindung ist schematisch in Fig. k veranschaulicht und weist, wie dargestellt, ein geeignetes Gehäuse 106 auf, das die Vorrichtung zur Durchführung des Trockenverfahrens enthalt. Zusätzlich zum atartschalterJk kann die Vorrichtung zusätzliche Steuereinrichtungen, beispielsweise wie bei 107 dargestellt, aufweisen. Im übrigen wurden in Fig0 k zur Bezeichnung der Teile der Vorrichtung die gleichen Bezugszeichen wie in Fig. 1 verwendet.
Tischgerate zur Verwendung in Büros o«dgl. Eine solche Büromaschine gemäß der Erfindung ist schematisch in Fig. k veranschaulicht und weist, wie dargestellt, ein geeignetes Gehäuse 106 auf, das die Vorrichtung zur Durchführung des Trockenverfahrens enthalt. Zusätzlich zum atartschalterJk kann die Vorrichtung zusätzliche Steuereinrichtungen, beispielsweise wie bei 107 dargestellt, aufweisen. Im übrigen wurden in Fig0 k zur Bezeichnung der Teile der Vorrichtung die gleichen Bezugszeichen wie in Fig. 1 verwendet.
Patentansprüche
ORIGINAL INSPECTED
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Claims (1)
- 25PatentansprücheTrocken arbeitendes Verfahren zur Herstellung archivgeeigneter Microformatwiedergaben lichtreflektierender Originale, wie Schriftstücke,dadurch gekennzeichnet, daß ein lichtempfindlicher, zur Erzeugung von Bilddias durch Belichtung und Trockenentwicklung geeigneter Trockenmaskenfilmstreifen durch eine Belichfcungs- und Entwicklungsstation und durch eine Bildübertragungsstation geführt wird, daß das Original beleuchtet wird, so daß es das Licht reflektiert, daß das von dem Original reflektierte Lichtabbiid in der Belichtungs- und Entwicklungsstation auf Microbildgröße verkleinert und zur Erzeugung eines Microabbildes des Originals auf einem in der Belichtungs- und Entwicklungsstation befindlichen Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens auf diesen zürn Einwirken gebracht wird, der Abschnitt des Trockenmaskenfilms zur Umwandlung des Microabbildes in ein Microdia beim Transport durch die Belichtungs— und Entwicklungsstation zum Entwickeln erhitzt wird, in der Bildübertragungsstation ein trocken verarbeitbarer Microformatfilm, der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich und zur Schaffung von archivgeeigneten Bildwiedergaben durch solche Impulse belichtbar und entwickelbar ist, mit dem dorthin transportierten micro— belichteten Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens übereinandergelegt wird, und daß dort zur Erzeugung von Bildwiedergaben mit Archiveignung in dem Microformatfilm, die dem Microdia in dem Trockenmaskenfilmstreifen entsprechen, durch den durchsichtigen, mit dem Microdia versehenen Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens auf den Trockenmicroformatfilm kurze Impulse elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes hindurchgeschickt werden.5098 i3/06492. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Microformatwiedergaben in dem Trockenmicroformatfilm als Microdias hergestellt werden.3. Verfahren nach Anspruch 1,oder ü, dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmicroformatfilm in Form einer Microfiche oder Microformatkarte mit Längs- und <4uerskalen verwendet wird, die es ermöglichen, ausgewählte Teile der Microfiche mit dem in die Bildübertragungsstation transportierten, mit dem Microdia versehenen Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens zur Deckung zu bringen.4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3f dadurch gekennzeichnet, daß zur Schaffung von Wiedergaben in dem ^icroformatfilm in der Form von im Durchblick- oder Durchlichtverfahren lesbaren Dias ein Trockenmicroformatfilm verwendet wird, der aus einem lichtdurchlässigen Substrat und einem darauf aufgebrachten Film besteht, der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich und durch Einwirkung von solchen belichtbar und entwickelbar ist«5· Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur Schaffung von Wiedergaben in dem Microformatfilm in der Form von im Anblick— oder Auflichtverfahren lesbaren Microabbildungen ein Trockenmicroformatfilm verwendet wird, der aus einem lichtreflektierenden Substrat und einem darauf aufgebrachten Film besteht, der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich ist und durch Einwirkung von solchen belichtbar und entwickelbar ist.6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmicroformatfilm aus einem Substrat und einem darauf befindlichen, durchgehenden, im wesentli-ORtGINAL INSPECTED 509843/0649 -34-2 5 ^ ' ? 01chen undurchsichtigen Film besteht, der gegenüber den kurzen Impulsen elektroraagnetis eher Energie oberhalb des Schwellenwertes empfindlich ist und an den Orten der Einwirkung derselben zur Schaffung der Bildwiedergaben im Microformat in dem Trockenmicroformatfilm belichtet und entwickelt und durch Dispersion des durchgehenden, im wesentlichen undurchsichtigen Filmes im wesentlichen durchsichtig gemacht wird.Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmaskenfilmstreifen aus einem im wesentlichen durchsichtigen Substrat und einem darauf befindlichen, im wesentlichen durchsichtigen Film besteht, der lichtempfindlich ist und durch Lichteinwirkung und Trockenentwicklung an denjenigen Orten, an denen das Licht zur Wirkung gebracht wurde, im wesentlichen undurchsichtig gemacht wird.8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmaskenfilmstrifen aus einem im wesentlichen durchsichtigen Substrat und einem im wesentlichen undurchsichtigen Film besteht, der lichtempfindlich ist und durch Einwirkung von Licht und Trockenentwicklung durch Warme an denjenigen Orten, an denen das Licht zur Wirkung gebracht wurde, im wesentlichen durchsichtig gemacht wird.9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis δ, dadurch gekennzeichnet, da# ein auf dem Maskenfilmstreifen hergestelltes Microabbild von einem Punkt, an dem es in der Belichtungsund Entwicklungsstation durch Belichtung erzeugt wurde, zu einem Punkt in der Bildübertragungsstation transportiert wird, an dem das Microabbild auf den Trockenmicroformatfilm übertragen wird, und daß das Microabbild auf dem Maskenfilmstreifen von diesem Punkt in der Bildübertragungsstation zu einem Punkt knapp vor dem Punkt in der Belichtungs- und Ent-+ durch Wärme ORfGINAL INSPECTED5 09843/0649 -35-25K301wicklungsstation zurücktransportiert wird, an dem es zuvor belichtet worden ist.1ü. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß ein an dem Maskenfilmstreifen hergestelltes Microabbild von einem Punkt in der Belichtungs- und Entwicklungsstation, an dem es belichtet wurde, zunächst zu einem Punkt ebenfalls in der Belichtungs- und Entwicklungsstation transportiert wird, an dem es entwickelt wird, und dann zu einem Punkt in der Bi ldiibertragungsstation transportiert wird, an dem das entwickelte Microabbild auf den Microformatfilm übertragen wird, und daß das Microabbild an dem Maskenfilmstreifen von diesem Punkt in der Bildübertragungsstation zu einem Punkt knapp vor dem Punkt in der Belichtungs- und Entwicklungsstation zurücktransportiert wird, an dem es zuvor belichtet" worden ist.11, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens zur Herstellung archivgeeigneter Microformatwiedergaben von lichtreflektierenden Originalen n«.ch einem der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet durch einen trocken verarbeitbaren Maskenfilmstreifen, der lichtempfindlich ist und zur Schaffung von Bilddias durch Licht belichtbar und durch Wärme trockenentwickelbar ist; eine Belichtungs- und Entwicklungsstation; eine Bildübertragungsstation; eine Einrichtung zum Transportieren des Trockenmaskenfilmstreifens durch die Belichtungs- und Entwicklungsstation sowie durch die Bildübertragungsstation; eine Einrichtung zum Beleuchten des Originals in solcher Weise, daß dieses das Licht reflektiert; eine Einrichtung in der Belichtungs- und Entwicklungsstation zum Verkleinern des von dem Original reflektierten Lichtabbildes auf Microbildgröße und zum Richten desselben auf ein/in die Belichtungs- und Entwicklungsstation transportierten Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens zur Erzeugung eines Microabbildes des Originals in diesem; eine Einrichtung in0RK3INAL INSPECTED 509843/0649 -36-25U801der Belichtungs- und Entwicklungsstation zum Erhitzen des in die Belichtungs— und Entwicklungsstation bzw. durch diese transportierten Abschnittes des Trockenmaskenfilmstreifens zum Entwickeln des Microabbildes zu einem Microbilddia; einen trocken verarbeitbaren Microformatfilm, der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich ist und zur Schaffung archivgeeigneter Bildwiedergaben durch Einwirkung solcher Impulse belichtbar und entwickelbar ist; eine Einrichtung in der Bildübertragungsstation zum Aufnehmen des Trockenmicroformatfilmes; eine Einrichtung in der Bxldübertragungsstation zum Übereinanderlegen des Trockenmicroformatfilmes und des in die Bildübertragungsstation transportierten, mit dem Microbilddia versehenen Abschnittes des Trockenmaskenfilmstreifens ; und eine Einrichtung in der Bildübertragungsstation zum Kichten kurzer Impulse elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes durch den in die Bxldübertragungsstation transportierten, mit dem Microbilddia versehenen Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens auf den Trockenmicroformatfilm zur Schaffung einer Microformatwiedergabe auf diesem, die dem Microbilddia in dem Trockenma s— kenfilmstreifen entspricht und sich durch Archiveignung auszeichnet.12e Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die in dem Trockenmicroformatfilm hergestellten Bildwiedergaben im Microformat Microbilddias sind.13· Vorrichtung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmicroformatfilm als Microfiche oder Microformatkarte ausgebildet ist und daß die Einrichtung in der Bildübertragungsstation für die Aufnahme des Trockenmicroformatfilmes eine Einrichtung zur Aufnahme der Microfiche und zum Einstellen derselben in Längs- und Querrichtung aufweist, mittels welcher ausgewählte Teile der509843/0649 -37-„37- 25H801Microfiche mit dem in die Bildübertragungsstation transportierten und mit dem Microbilddia versehenen Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens zur Deckung bringbar sind,Ik. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 13t dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmicroformatfilm aus einem lichtdurchlässigen Substrat und einem darauf aufgetragenen Film besteht, der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich ist und zur Erzeugung von im Durchblick- oder Durchlichtverfahren lesbaren Microbilddias in dem Microformatfilm durch solche Impulse belichtbar und entwickelbar ist.15· Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1I bis 13» dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmicroformatfilm aus einem lichtdurchlässigen Substrat und einem darauf aufgetragenen Film besteht, der gegenüber kurzen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich ist und zur Schaffung von Microbilddias in dem aufgetragenen Film, die durch Reflexion des Lichtes an dem lichtreflektierenden Substrat durch das Microbilddia hindurch im Anblick- oder Auflichtverfahren lesbar sind, durch solche Impulse belichtbar und entwickelbar ist.16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 15» dadurch gekennzeichnet, daiJ der Trockenmicroformatfilm aus einem Substrat und einem darauf befindlichen, durchgehenden, im wesentlichen undurchsichtigen Film besteht, der gegenüber den kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich ist und an den Orten, an denen solche zur Sehaffung der Bildwiedergabe im Microformat in dem Trockenmicroformatfilm zur Wirkung gebracht werden, belichtet, entwickelt und durch Dispersion des durchgehenden, im wesentlichen undurchsichtigen Filmes im wesentlichen durchsichtig gemacht wird.Impulsen509843/0649 -38-25H80117° Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 15» dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmaskenfilmstreifen aus einem im wesentlichen durchsichtigen Substrat und einem darauf befindlichen, im wesentlichen durchsichtigen Film besteht, der lichtempfindlich ist und bei Belichtung durch Licht und Trockenentwicklung durch Wärme an denun-Stellen der Lichteinwirkung im wesentlichen/durchsichtiggemacht wird.18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 15> dadurch gekennzeichnet, daß der Trockenmaskenfilmstreifen aus einem im wesentlichen durchsichtigen Substrat und einem darauf befindlichen, im wesentlichen undurchsichtigen Film besteht, der lichtempfindlich ist und bei Belichtung durch Licht und Trockenentwicklung durch Wärme an den Orten der Lichteinwirkung im wesentlichen durchsichtig gemacht wird.19· Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Transportieren des Trockenmaskenfilmstreifens durch die Belichtungs und Entwicklungsstation sowie durch die Bildübertragungsstation aus einer Einrichtung zum Vortransportieren eines Microabbildes an dem Maskenfilmstreifen von einem Punkt in der Belichtungs- und Entwicklungsstation, an dem es erzeugt worden ist, zu einem Punkt in der Bildübertragungsstation, an dem das Microabbild auf den Trockenmicroformatfilm übertragen werden soll, und einer Einrichtung zum Zurücktransportieren des Microabbildes an dem Maskenfilmstreifen von dem Punkt in der Bildübertragungsstation zu einem Punkt knapp vor dem Punkt in der Belichtungs- und Entwicklungsstation, an dem es vorher belichtet worden ist, besteht .20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 191 dadurch509843/0649 -39-25H801gekennzeichnet, daß die Belichtungs- und Entwicklungsstation eine Belichtungsstelle, an der der Trockenmaskenfilm microbelichtet wird, und in einem Abstand von dieser eine Entwicklungsstelle aufweist, an der das belichtete Microabbild warmentwickelt wird, und daß die Einrichtung zum Transportieren des Trockenmaskenfilmstreifens durch die Belichtungs- und Entwicklungsstation sowie durch die Bildübertragungsstation eine Einrichtung zum Vortransportieren des Microabbildes auf dem Maskenfilmstreifen von der Belichtungsstelle zunächst zu der Entwicklungsstelle und dann weiter zu einer Stelle in der Bildübertragungsstation, an der das entwickelte Microabbild auf den Trockenmicroformatfilm übertragen wird, sowie eine Einrichtung zum Zurücktransportieren des Microabbildes auf dem Maskenfilmstreifen von der Stelle in der Bildübertragungsstation zu einer Stelle knapp vor der Belichtungsstelle in der Belichtungsund Entwicklungsstation, an der es vorher belichtet wurde, aufweist.21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtungs- und Entwicklungsstation eine Belichtungsstelle, an der der Trockenmaskenfilmstreifen microbelichtet wird, sowie in einem Abstand von dies.er eine Entwicklungsstelle aufweist, an der das Microabbild in dem Trockenmaskenfilm warmentwickelt wird, und daß sich an der Belichtungsstelle der Belichtungs-- und Entwicklungsstation eine Kamera mit einer Andruckplatte zum Halten des Trockenmaskenfilmstreifens in ebener Lage in einwandfreier Brennpunkteinstellung befindet.22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtungs- und Entwicklungsstation eine Belichtungsstelle, in der der Trockenmaskenfilmstreifen-40-509843/0649-4ο-25Η801raicrobelichtet wird, und in einem Abstand von dieser eine Entwicklungsstelle aufweist, an der das Microabbild in dem Trockenmaskenfilmstreifen warmentwickelt wird, und daß die Entwicklungsstelle mit einem normalerweise zurückgezogenen, beheizten Kolben und einer Einrichtung zum Ausschieben des beheizten Kolbens zur Berührung mit dem mit dem Abbild versehenen Abschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens zum Warmentwickeln desselben ausgestattet ist.23o Vorrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß der beheizte Kolben aus Metall mit einem Überzug aus einer Substanz niedriger Wärmeleitfähigkeit besteht.24. Vorrichtung nach Anspruch 22 oder 23» dadurch gekennzeichnet, daß der beheizte Kolben für den Angriff an dem Trockenmaskenfilmstreifen im ausgeschobenen Zustand des Kolbens eine im wesentlichen zylindrisch gekrümmte Fläche mit quer zu dem Trockenmaskenfilmstreifen liegender Achse aufweist.25· Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildübertragungsstation ebenfalls mit einer Einrichtung zur Ausübung eines Kontaktandruckes zwischen den übereinanderliegenden Filmen - Trockenmaskenfilmstreifen und Trockenmicroformatfilm - während der Einwirkung der kurzen Impulse elektromagnetischer Energie oberhalb des Schwellenwertes ausgestattet ist.26, Vorrichtung nach Anspruch. 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Ausüben eines Kontaktdruckes einen normalerweise zurückgezogenen Kolben und eine Einrichtung zum Ausschieben desselben zum Angriff an dem Microformatfilm aufweist.509843/0649
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/458,715 US3966317A (en) | 1974-04-08 | 1974-04-08 | Dry process production of archival microform records from hard copy |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2514801A1 true DE2514801A1 (de) | 1975-10-23 |
DE2514801C2 DE2514801C2 (de) | 1985-07-04 |
Family
ID=23821806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2514801A Expired DE2514801C2 (de) | 1974-04-08 | 1975-04-04 | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Mikrokopien auf trockenem Wege |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3966317A (de) |
JP (1) | JPS6051696B2 (de) |
CA (1) | CA1032389A (de) |
DE (1) | DE2514801C2 (de) |
FR (1) | FR2274945A1 (de) |
GB (1) | GB1477973A (de) |
NL (1) | NL7504170A (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2335866A1 (fr) * | 1975-12-15 | 1977-07-15 | Minnesota Mining & Mfg | Perfectionnements aux appareils photographiques a repetition pour microfilms et microfiches |
DE2723613A1 (de) * | 1976-06-02 | 1977-12-15 | Agfa Gevaert Ag | Bildherstellungsverfahren mittels polymerer photolackmuster |
DE2946070A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-05-29 | Energy Conversion Devices Inc | Einrichtung zur blitzlicht-formatbilderzeugung auf einem film mit einer schicht aus einem durch energie dispergierbaren bilderzeugenden material |
DE2946131A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-06-04 | Energy Conversion Devices Inc | Blitzlichtvorrichtung zur bilderzeugung in der bilderzeugungsebene eines films mit einer schicht eines durch energie dispergierbaren, bilderzeugenden materials |
DE2946132A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-06-04 | Energy Conversion Devices Inc | Bilderzeugungsvorrichtung zur blitzlicht-bilderzeugung auf einem trockenverarbeitbaren film, der auf einer oberflaeche eine schicht aus einem durch energie dispergierbaren bilderzeugenden material traegt |
Families Citing this family (99)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4346449A (en) * | 1976-09-16 | 1982-08-24 | Energy Conversion Devices, Inc. | Data storage and retrieval system |
US4205387A (en) * | 1976-09-16 | 1980-05-27 | Energy Conversion Devices, Inc. | Data storage and retrieval system |
US4123157A (en) * | 1976-11-17 | 1978-10-31 | Energy Conversion Devices, Inc. | Dry process production and annotation of archival microform records from hard copy |
US4170728A (en) * | 1978-01-23 | 1979-10-09 | Energy Conversion Devices, Inc. | Heat applying microfilm recording apparatus |
US4194826A (en) * | 1978-09-05 | 1980-03-25 | Energy Conversion Devices, Inc. | System for developing heat responsive film |
CA1125355A (en) * | 1978-11-17 | 1982-06-08 | Energy Conversion Devices Inc. | Imaging apparatus |
US4453822A (en) * | 1979-11-29 | 1984-06-12 | Energy Conversion Devices, Inc. | Apparatus for producing microform records from multiple data sources |
US4360265A (en) * | 1979-11-29 | 1982-11-23 | Energy Conversion Devices, Inc. | Apparatus for producing microform records from hard copy, cathode ray tube image or transparency data-containing sources |
US4332466A (en) * | 1980-01-21 | 1982-06-01 | Energy Conversion Devices, Inc. | Apparatus for producing microform records at high speed from computer or other electrical data signal sources |
US4260250A (en) * | 1980-04-11 | 1981-04-07 | Energy Conversion Devices, Inc. | Imaging apparatus |
DE3138065A1 (de) * | 1980-10-03 | 1982-05-06 | Energy Conversion Devices, Inc., 48084 Troy, Mich. | Optisches projektionssystem |
US4355890A (en) * | 1981-01-23 | 1982-10-26 | Energy Conversion Devices, Inc. | Microfiche recording system |
US4344701A (en) * | 1981-01-23 | 1982-08-17 | Energy Conversion Devices, Inc. | Microfiche recording system with traveling film head |
US4348104A (en) * | 1981-01-23 | 1982-09-07 | Energy Conversion Devices, Inc. | Double exposure control for microfiche recording system |
JPS5922440U (ja) * | 1982-07-31 | 1984-02-10 | マックス株式会社 | 乾式現像機 |
US4501487A (en) * | 1983-08-15 | 1985-02-26 | Energy Conversion Devices, Inc. | Microfiche recording apparatus and method with stationary film head |
JPH0339799Y2 (de) * | 1984-10-22 | 1991-08-21 | ||
JPS6242199U (de) * | 1985-09-03 | 1987-03-13 | ||
US4777495A (en) * | 1987-04-24 | 1988-10-11 | Ncr Corporation | Aperture card plotter |
US4894679A (en) * | 1988-06-03 | 1990-01-16 | Graphics Lx Corp. | Method and apparatus for use in transferring an image |
US5337117A (en) * | 1993-05-13 | 1994-08-09 | Noritsu Koki Co., Ltd. | Image combining printer |
US6638820B2 (en) | 2001-02-08 | 2003-10-28 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices, method of precluding diffusion of a metal into adjacent chalcogenide material, and chalcogenide comprising devices |
JP4742429B2 (ja) * | 2001-02-19 | 2011-08-10 | 住友電気工業株式会社 | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
US6727192B2 (en) | 2001-03-01 | 2004-04-27 | Micron Technology, Inc. | Methods of metal doping a chalcogenide material |
US6734455B2 (en) * | 2001-03-15 | 2004-05-11 | Micron Technology, Inc. | Agglomeration elimination for metal sputter deposition of chalcogenides |
US7102150B2 (en) * | 2001-05-11 | 2006-09-05 | Harshfield Steven T | PCRAM memory cell and method of making same |
US6951805B2 (en) * | 2001-08-01 | 2005-10-04 | Micron Technology, Inc. | Method of forming integrated circuitry, method of forming memory circuitry, and method of forming random access memory circuitry |
US6737312B2 (en) | 2001-08-27 | 2004-05-18 | Micron Technology, Inc. | Method of fabricating dual PCRAM cells sharing a common electrode |
US6881623B2 (en) * | 2001-08-29 | 2005-04-19 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices, method of forming a programmable memory cell of memory circuitry, and a chalcogenide comprising device |
US6955940B2 (en) * | 2001-08-29 | 2005-10-18 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices |
US6784018B2 (en) * | 2001-08-29 | 2004-08-31 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices and method of forming a programmable memory cell of memory circuitry |
US20030047765A1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-03-13 | Campbell Kristy A. | Stoichiometry for chalcogenide glasses useful for memory devices and method of formation |
US6709958B2 (en) * | 2001-08-30 | 2004-03-23 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit device and fabrication using metal-doped chalcogenide materials |
US6815818B2 (en) * | 2001-11-19 | 2004-11-09 | Micron Technology, Inc. | Electrode structure for use in an integrated circuit |
US6791859B2 (en) * | 2001-11-20 | 2004-09-14 | Micron Technology, Inc. | Complementary bit PCRAM sense amplifier and method of operation |
US6873538B2 (en) * | 2001-12-20 | 2005-03-29 | Micron Technology, Inc. | Programmable conductor random access memory and a method for writing thereto |
US6909656B2 (en) * | 2002-01-04 | 2005-06-21 | Micron Technology, Inc. | PCRAM rewrite prevention |
US20030143782A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-07-31 | Gilton Terry L. | Methods of forming germanium selenide comprising devices and methods of forming silver selenide comprising structures |
US6867064B2 (en) * | 2002-02-15 | 2005-03-15 | Micron Technology, Inc. | Method to alter chalcogenide glass for improved switching characteristics |
US6791885B2 (en) * | 2002-02-19 | 2004-09-14 | Micron Technology, Inc. | Programmable conductor random access memory and method for sensing same |
US7151273B2 (en) * | 2002-02-20 | 2006-12-19 | Micron Technology, Inc. | Silver-selenide/chalcogenide glass stack for resistance variable memory |
US7087919B2 (en) * | 2002-02-20 | 2006-08-08 | Micron Technology, Inc. | Layered resistance variable memory device and method of fabrication |
US6809362B2 (en) * | 2002-02-20 | 2004-10-26 | Micron Technology, Inc. | Multiple data state memory cell |
US6891749B2 (en) * | 2002-02-20 | 2005-05-10 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable ‘on ’ memory |
US6937528B2 (en) | 2002-03-05 | 2005-08-30 | Micron Technology, Inc. | Variable resistance memory and method for sensing same |
US6849868B2 (en) * | 2002-03-14 | 2005-02-01 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for resistance variable material cells |
US6864500B2 (en) * | 2002-04-10 | 2005-03-08 | Micron Technology, Inc. | Programmable conductor memory cell structure |
US6855975B2 (en) * | 2002-04-10 | 2005-02-15 | Micron Technology, Inc. | Thin film diode integrated with chalcogenide memory cell |
US6858482B2 (en) * | 2002-04-10 | 2005-02-22 | Micron Technology, Inc. | Method of manufacture of programmable switching circuits and memory cells employing a glass layer |
US6890790B2 (en) | 2002-06-06 | 2005-05-10 | Micron Technology, Inc. | Co-sputter deposition of metal-doped chalcogenides |
US6825135B2 (en) | 2002-06-06 | 2004-11-30 | Micron Technology, Inc. | Elimination of dendrite formation during metal/chalcogenide glass deposition |
JP4027282B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2007-12-26 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
US7015494B2 (en) * | 2002-07-10 | 2006-03-21 | Micron Technology, Inc. | Assemblies displaying differential negative resistance |
US7209378B2 (en) | 2002-08-08 | 2007-04-24 | Micron Technology, Inc. | Columnar 1T-N memory cell structure |
US7018863B2 (en) * | 2002-08-22 | 2006-03-28 | Micron Technology, Inc. | Method of manufacture of a resistance variable memory cell |
US6867114B2 (en) | 2002-08-29 | 2005-03-15 | Micron Technology Inc. | Methods to form a memory cell with metal-rich metal chalcogenide |
US20040040837A1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-03-04 | Mcteer Allen | Method of forming chalcogenide sputter target |
US6856002B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-02-15 | Micron Technology, Inc. | Graded GexSe100-x concentration in PCRAM |
US6867996B2 (en) | 2002-08-29 | 2005-03-15 | Micron Technology, Inc. | Single-polarity programmable resistance-variable memory element |
US6831019B1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-12-14 | Micron Technology, Inc. | Plasma etching methods and methods of forming memory devices comprising a chalcogenide comprising layer received operably proximate conductive electrodes |
US7010644B2 (en) * | 2002-08-29 | 2006-03-07 | Micron Technology, Inc. | Software refreshed memory device and method |
US7364644B2 (en) * | 2002-08-29 | 2008-04-29 | Micron Technology, Inc. | Silver selenide film stoichiometry and morphology control in sputter deposition |
US6864521B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-03-08 | Micron Technology, Inc. | Method to control silver concentration in a resistance variable memory element |
US7294527B2 (en) | 2002-08-29 | 2007-11-13 | Micron Technology Inc. | Method of forming a memory cell |
US7163837B2 (en) * | 2002-08-29 | 2007-01-16 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a resistance variable memory element |
US6813178B2 (en) | 2003-03-12 | 2004-11-02 | Micron Technology, Inc. | Chalcogenide glass constant current device, and its method of fabrication and operation |
US7022579B2 (en) * | 2003-03-14 | 2006-04-04 | Micron Technology, Inc. | Method for filling via with metal |
US7050327B2 (en) * | 2003-04-10 | 2006-05-23 | Micron Technology, Inc. | Differential negative resistance memory |
US6930909B2 (en) * | 2003-06-25 | 2005-08-16 | Micron Technology, Inc. | Memory device and methods of controlling resistance variation and resistance profile drift |
US6961277B2 (en) | 2003-07-08 | 2005-11-01 | Micron Technology, Inc. | Method of refreshing a PCRAM memory device |
US7061004B2 (en) * | 2003-07-21 | 2006-06-13 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory elements and methods of formation |
US6903361B2 (en) * | 2003-09-17 | 2005-06-07 | Micron Technology, Inc. | Non-volatile memory structure |
US7153721B2 (en) * | 2004-01-28 | 2006-12-26 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory elements based on polarized silver-selenide network growth |
US7105864B2 (en) * | 2004-01-29 | 2006-09-12 | Micron Technology, Inc. | Non-volatile zero field splitting resonance memory |
US7098068B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-08-29 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a chalcogenide material containing device |
US7583551B2 (en) * | 2004-03-10 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Power management control and controlling memory refresh operations |
US7326950B2 (en) * | 2004-07-19 | 2008-02-05 | Micron Technology, Inc. | Memory device with switching glass layer |
US7354793B2 (en) * | 2004-08-12 | 2008-04-08 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a PCRAM device incorporating a resistance-variable chalocogenide element |
US7190048B2 (en) * | 2004-07-19 | 2007-03-13 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory device and method of fabrication |
US7365411B2 (en) * | 2004-08-12 | 2008-04-29 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory with temperature tolerant materials |
US7151688B2 (en) * | 2004-09-01 | 2006-12-19 | Micron Technology, Inc. | Sensing of resistance variable memory devices |
US20060131555A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-22 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable devices with controllable channels |
US7374174B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Micron Technology, Inc. | Small electrode for resistance variable devices |
US7317200B2 (en) | 2005-02-23 | 2008-01-08 | Micron Technology, Inc. | SnSe-based limited reprogrammable cell |
US7269044B2 (en) | 2005-04-22 | 2007-09-11 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for accessing a memory array |
US7427770B2 (en) | 2005-04-22 | 2008-09-23 | Micron Technology, Inc. | Memory array for increased bit density |
US7709289B2 (en) | 2005-04-22 | 2010-05-04 | Micron Technology, Inc. | Memory elements having patterned electrodes and method of forming the same |
US7269079B2 (en) * | 2005-05-16 | 2007-09-11 | Micron Technology, Inc. | Power circuits for reducing a number of power supply voltage taps required for sensing a resistive memory |
US7233520B2 (en) * | 2005-07-08 | 2007-06-19 | Micron Technology, Inc. | Process for erasing chalcogenide variable resistance memory bits |
US7274034B2 (en) * | 2005-08-01 | 2007-09-25 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory device with sputtered metal-chalcogenide region and method of fabrication |
US7317567B2 (en) * | 2005-08-02 | 2008-01-08 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for providing color changing thin film material |
US7332735B2 (en) | 2005-08-02 | 2008-02-19 | Micron Technology, Inc. | Phase change memory cell and method of formation |
US7579615B2 (en) * | 2005-08-09 | 2009-08-25 | Micron Technology, Inc. | Access transistor for memory device |
US20070037316A1 (en) * | 2005-08-09 | 2007-02-15 | Micron Technology, Inc. | Memory cell contact using spacers |
US7304368B2 (en) * | 2005-08-11 | 2007-12-04 | Micron Technology, Inc. | Chalcogenide-based electrokinetic memory element and method of forming the same |
US7251154B2 (en) | 2005-08-15 | 2007-07-31 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus providing a cross-point memory array using a variable resistance memory cell and capacitance |
US7277313B2 (en) * | 2005-08-31 | 2007-10-02 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory element with threshold device and method of forming the same |
US7560723B2 (en) | 2006-08-29 | 2009-07-14 | Micron Technology, Inc. | Enhanced memory density resistance variable memory cells, arrays, devices and systems including the same, and methods of fabrication |
US8467236B2 (en) * | 2008-08-01 | 2013-06-18 | Boise State University | Continuously variable resistor |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2233827A1 (de) * | 1971-07-15 | 1973-02-08 | Energy Conversion Devices Inc | Verfahren zur bildherstellung |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2855834A (en) * | 1954-12-20 | 1958-10-14 | Doster Moren Nubie | Automatic photographic printing machine |
GB909203A (en) * | 1957-11-08 | 1962-10-31 | Caps Limited | Improvements in or relating to photographic type composing apparatus |
US3051044A (en) * | 1959-09-09 | 1962-08-28 | Gen Dynamics Corp | Recording and projection system |
US3155022A (en) * | 1963-05-31 | 1964-11-03 | Xerox Corp | Buffer for electronic display readout |
US3570380A (en) * | 1968-06-07 | 1971-03-16 | Olivetti & Co Spa | Impactless typewriter |
US3778151A (en) * | 1972-10-02 | 1973-12-11 | Pentacon Dresden Veb | Microfilm camera with longitudinal and cross slides movable in steps |
-
1974
- 1974-04-08 US US05/458,715 patent/US3966317A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-04-03 FR FR7510497A patent/FR2274945A1/fr active Granted
- 1975-04-04 DE DE2514801A patent/DE2514801C2/de not_active Expired
- 1975-04-04 GB GB1392975A patent/GB1477973A/en not_active Expired
- 1975-04-07 CA CA223,909A patent/CA1032389A/en not_active Expired
- 1975-04-08 NL NL7504170A patent/NL7504170A/xx unknown
- 1975-04-08 JP JP50042725A patent/JPS6051696B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2233827A1 (de) * | 1971-07-15 | 1973-02-08 | Energy Conversion Devices Inc | Verfahren zur bildherstellung |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2335866A1 (fr) * | 1975-12-15 | 1977-07-15 | Minnesota Mining & Mfg | Perfectionnements aux appareils photographiques a repetition pour microfilms et microfiches |
DE2723613A1 (de) * | 1976-06-02 | 1977-12-15 | Agfa Gevaert Ag | Bildherstellungsverfahren mittels polymerer photolackmuster |
DE2946070A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-05-29 | Energy Conversion Devices Inc | Einrichtung zur blitzlicht-formatbilderzeugung auf einem film mit einer schicht aus einem durch energie dispergierbaren bilderzeugenden material |
DE2946131A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-06-04 | Energy Conversion Devices Inc | Blitzlichtvorrichtung zur bilderzeugung in der bilderzeugungsebene eines films mit einer schicht eines durch energie dispergierbaren, bilderzeugenden materials |
DE2946132A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-06-04 | Energy Conversion Devices Inc | Bilderzeugungsvorrichtung zur blitzlicht-bilderzeugung auf einem trockenverarbeitbaren film, der auf einer oberflaeche eine schicht aus einem durch energie dispergierbaren bilderzeugenden material traegt |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2514801C2 (de) | 1985-07-04 |
NL7504170A (nl) | 1975-10-10 |
AU7991375A (en) | 1976-10-14 |
GB1477973A (en) | 1977-06-29 |
JPS6051696B2 (ja) | 1985-11-15 |
FR2274945B1 (de) | 1979-05-04 |
US3966317A (en) | 1976-06-29 |
FR2274945A1 (fr) | 1976-01-09 |
JPS50142028A (de) | 1975-11-15 |
CA1032389A (en) | 1978-06-06 |
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