DE2314868A1 - Photolackzusammensetzung - Google Patents
PhotolackzusammensetzungInfo
- Publication number
- DE2314868A1 DE2314868A1 DE19732314868 DE2314868A DE2314868A1 DE 2314868 A1 DE2314868 A1 DE 2314868A1 DE 19732314868 DE19732314868 DE 19732314868 DE 2314868 A DE2314868 A DE 2314868A DE 2314868 A1 DE2314868 A1 DE 2314868A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- azido
- photoresist composition
- composition according
- iodide
- photoresist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
- C09B62/44—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring
- C09B62/78—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring with other reactive groups
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/0085—Azides characterised by the non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
Photolackzusammensetzung
Die vorliegende Erfindung betrifft Photolackzusammensetzungen oder Photoresistmaterialien.
Viele Photolackzusammensetzungen oder Photoresistzusammensetzungen
sind bekannt, wie beispielsweise aus den US-Patentschriften 2 852 379, 3 024 180, 3 081 168, 3 143 ^23 und 3 551 160 ersichtlich
ist. ^,
Erfindungsgemäss wird die Lichtempfindlichkeit und Adhäsion von
Photolackzusammensetzungen durch Einbringen eines Sensitivierungsmittels in diese verbessert, das ein Azo- oder Cyaninfarbstoff
ist, wobei dieser Farbstoff zumindest eine Azidogruppe, substituiert an einem aromatischen Ring, aufweist.
Die vorliegende Erfindung betrifft somit Photolackzusammensetzungen
und insbesondere Photolackzusammensetzungen bzw. Photoresistzusammensetzungen
mit verbesserter Photpempfindlichkeit und Adhäsion solcher Zusammensetzungen an einer Unterlage, wie beispielsweise
einer Metallunterlage oder dergleichen Unterlagen. Erfindungsgemäss werden in die Photolackzusammensetzungen gewisse photosensitive
Verbindungen eingebracht, die eine spezielle chemische
309840/0979
Struktur haben.
Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen weisen einen unerwarteten
Vorteil gegenüber den bisher bekannten auf, da sie die Adhäsion der Photolackzusammensetzungen an der Unterlage verbessern
und auch die Photoempfindlichkeit erhöhen. '
Eine typische erfindungsgemässe Photolackzusammensetzung enthält ein photoempfindliches Polymeres, beispielsweise Poly-(2-chlor-1,3j-butadien).
Das photoempfindliche Polymere, gewöhnlich in Lösung in einem Lösungsmittel zusammen mit einem kolloidalen Bindemittel,
wird auf eine Unterlage, beispielsweise aus Metall, als Schicht aufgebracht. Die bildweise Belichtung führt zur Bildung
eines Musters in der Überzugszusammensetzung. Durch Behandlung mit einem geeigneten Lösungsmittel wird der ungehärtete Teil entfernt
und das Photolackbild erzeugt.
Wenn der Photolackfilm nicht ausreichend an der Unterlage haftet,
treten unerwünschte Verschlechterungen der Bildqualität auf. Demzufolge ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung, die Adhäsion
eines Photolackfilms an der Unterlage zu verbessern.
Es ist auch ein Ziel der Erfindung, die Photoempfindlichkeit von
Photolackzusammensetzungen zu erhöhen.
Diese und andere Ziele werden durch Einbringen gewisser Sensitivierungsmittel
in die"Photolackzusammensetzungen erreicht. Die bei der vorliegenden Erfindung verwendeten Sensitivierungsmittel sind
Azo- und Cyaninfarbstoffe. Diese Farbstoffe müssen auch zumindest eine an dem aromatischen Ring gebundene Azidogruppe aufweisen. Der
Mechanismus ihrer Wirkung ist zwar nicht geklärt, doch wird angenommen,
dass sich bei der Belichtung die sensitivierenden Farbstoffe zersetzen, wahrscheinlich an der Azidogruppe, und diese
Zersetzung zur Vernetzung an der Unterlage und somit zur Erhöhung der Adhäsion führt.
Viele Polymerzusammensetzungen sind als Photolacke bekannt. Die
309840/0979-
erfindungsgemässen Sensitivierungsmittel eignen sich zur Verwen- ;
dung bei allen solchen Zusammensetzungen. Zusätzlich zu dem Poly-j
meren und dem Sensitivierungsmittel kann die Photolackzusammen- j
setzung gewünschtenfalls auch zusätzliche Bestandteile, wie beispielsweise
Bindemittel, Antioxydantien, Weichmacher und dgl., | enthalten. Im allgemeinen ist nur eine kleine Menge, etwa 0,5 bis
etwa 10 Gew.-Ji, an Sensitivierungsmittel in den Photolackzusammensetzungen
erforderlich. * i
Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung
.
ζ Beispiel 1
7-Azido-l-(p-dimethylaminophenylazo)-2-naphthol
Eine Lösung von 18 g 7-Hydroxy-2-naphthylamin-hydrochlorid wurde in 25 ml konzentrierter Salzsäure und 75 ml Wasser gelöst. Diese
Lösung wurde mit 18 ml 5n-NaN02 bei Zimmertemperatur behandelt.
Das Reaktionsgemisch wurde filtriert und das Piltrat mit einer Lö sung von 8 g Natriumazid in 100 ml Wasser umgesetzt. Die Infrarot
Spektren zeigten das Vorhandensein einer Azidgruppe, und die Ver-i brennungsanalyse bestätigte die Struktur als 7-Azido-2-naphthol.
Analyse C | 1O1V | c — | 64 | ,86 |
Berechnet: | 64 | ,7 | ||
Gefunden: | ||||
H = 3,80
N = 22,69 % 22,7 %
Eine Lösung von 2,3 g Ν,Ν-Dimethyl-p-phenylendiamin in 50 ml Wasser und 5 ml konzentrierter Salzsäure wurde in der üblichen Weise!
bei 0 bis 5°C mit 2,6 ml einer 5n-NaNO2~L8sung diazotiert. Die
Diazoniumsalzlösung wurde zu einer Lösung von 2,3 g 7-Azido-2-naphthol in 50 ml Äthanol zugegeben. Das Reaktionsgemisch wurde
mit Ammoniumhydroxyd basisch gemacht und bei Zimmertemperatur ; etwa 3/4 Stunden gerührt. Die dunklen Pestsubstanzen wurden abfiltriert
und mit Wasser und Äthanol gewaschen. Sie wogen 3,5 g. Die
309840/0979
Infrarot-Spektren zeigten, dass eine Azidgruppe noch vorhanden '
war. Die Absorptionsspektren im sichtbaren Bereich zeigten ein Maximum bei 4950 2.
I Analyse ci8Hl6N6° - !
Berechnet: C = 65,05 H =4,85 N = 25,28 % . j Gefunden: 65,00 4,77 25,30 % :
7-Azido-l-(p-phenylazophenylazo)-2-naphthol
Wie in Beispiel 1 beschrieben hergestelltes 7~Azido-2-naphthol
wurde mit einer Lösung von 4-Phenylazobenzoldiazoniumsalz, hergestellt aus dem Amin in üblicher Weise, behandelt. Die Isolierung
erfolgte in der gleichen Weise wie die des Azofarbstoffe von Beispiel 1. Durch Infrarotanalyse wurde gezeigt, dass die dunkle i
Pestsubstanz eine Azidgruppe enthält. Die Verbrennungsanalyse j bestätigte ,eine reine Verbindung. I
Analyse C22Hl5N7°
Berechnet: C = 67,16 H = 3,89 N = 24,92 % ;.
Gefunden: 67,11 4,17 24,72 % ■
Das sichtbare Spektrum wies ein Maximum bei 4975 8 auf. . ';
Beispiel 3 "
6-Azido-2-(4-p-dimethylaminopheny1-1,3-butadieny1)-N-methylbenz- ·
thiazoliumjodid · .
6-Azido-2-methylbenzthiazol wurde aus dem Amin (CA. 1963 2348) · in der üblichen Weise hergestellt. Es wurde 6 Stunden mit Methyl-.
jodid zur Bildung des quaternären Salzes unter Rückfluss erhitzt.j
Der Niederschlag wurde mit Äther gewaschen und getrocknet. Nach !
der Dünnschichtchromatographie war das Produkt rein und schmolz
309840/0979
_-5_ 23H868
bei 2050C unter Zersetzung. Ein Gramm der Base lieferte 9*65 g
Salz.
Analyse C9H9N^SJ
Berechnet: C = 32,54 H = 2,73 N = 16,87 S = 9,65 J = 38,20 %
Gefunden: 32,44 2,7-7 16,59 9,41 37,72 %
Eine Lösung von 6,5 g p-Dimethylaminozimtaldehyd und 3,4 g des
obigen quaternären Salzes in 300 ml Äthanol wurde 24 Stunden unter
Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wurde heiss filtriert, und der Niederschlag wurde mit Äthanol gewaschen und getrocknet.
Es wurde eine blaue Pestsubstanz erhalten, die 3,7 S wog, eine Azidgruppe aufwies (Infrarot-Analyse), nach der DünnschichtChromatographie
rein war und im sichtbaren Bereich eine Absorption mit einem Maximum bei 58OO Ä aufwies. Die Verbrennungsanalyse bestätigte,
dass es die genannte Verbindung ist.
Analyse C20Hp0NcSJ
Berechnet: C = 49,08 H = 4,12 N = 14,31 S = 6,55 J s 25,93 %
Gefunden: 49,19 4,49 14,30 6,69 25,88 %
6-Azido-3-methyl~2-j/3-(6-azido-3-methylbenzthiazolyliden)-progeny 27-henzthiazoliumjodid
__
Eine Lösung von 4,5 g 6-Azido-3-methyl-2-methylbenzthiazoliumjodid
und 4,1 g Triäthylorthoformiat in 200 ml Essigsäureanhydrid wurde eine 3/4 Stunde unter Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wurde
heiss filtriert, und die Peststoffe wurden in Dimethylformamid
gelöst und dann durch Zugabe von Äther ausgefällt. Die dunklen Kristalle wurden mit Äther gewaschen und getrocknet. Sie waren
nach der Dünnschichtchromatographie und Verbrennungsanalyse rein.
Analyse c 1nH 15 N8S2J !
309840/0979
Berechnet: C = 41,76 H = 2,76 N = 20,51 S = 11,73 J = 23,22 %
Gefunden: 4l,8O 2,91 20,38 11,63 23,18 %
Beispiel 5 . " :
6-Azido-3--niethyl-2-(p-dimethylaminostyryl)-benzthiazoliumjodid
Eine Lösung von 1,6 g 6-Azido-2,3-dimethylbenzthiazoliumjodid und
3,0 g p-Dimethylaminobenzaldehyd in 100 ml Äthanol, wurde 24 Stunden
unter Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wurde heiss filtriert, mit Äther und heissem Aceton gewaschen und getrocknet.
Die dunkle Pest substanz wog 1,8 g und war nach der Dünnschicht Chromatographie
und Verbrennungsanalyse rein.
Analyse C^gH^N'SJ
Berechnet: C = 46,65 H = 3,91 N = 15*11 S = 6,91 J = 27,39 % \
Gefunden: 46,7 3,9 15,0 6,8 27,3 %
N-Methyl-4-(6-azido-3~niethyl-2-benzthiazolylidenmethylen)-chinoliniumjodid
; ;
1,6 g 6-Azido-2,3-dimethylbenzthiazoliumjodid, "4,0 g N-Methylchinoliniumjodid
und 1 g Kaliumhydroxyd wurden in 300 ml Methanol 1/2 Stunde unter Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wurde
heiss filtriert, und die dunkle Pestsubstanz wurde mit Aceton und Äther gewaschen und getrocknet. Die Ausbeute an reinem Produkt betrug
1,1 g. '
Analyse C^
Berechnet: C = 48,4 H = 3,4 N = 14,8 S = 6,7 J= 26,8 %
Gefunden: 48,0 3,6 l4,6 6,6 26,7'%
Die folgenden Zusammensetzungen erläutern die Verwendung der neu-
3098A0/0979
en Sensitivierungsmittel in Photolaekzusammensetzungen:
10 g Poly-(2-chlor-l,3-butadien)
10 g Polyamid (Versallon 1112) 0,9 g Stearinsäure 0,2 g Phenyl-ß-naphthylamin
1>9 g 7-Azido-l-(p-dimethylaminophenylazo)-2-naphthol
Die Bestandteile werden in Xylol gelöst und auf ein Gesamtvolumen von 100 ml gebracht.
10 g Poly-(2—chlor-1,3-butadien)
10 g Polyketon-2KRA-0252 (Union Carbide Co.) 0,9 g Triäthanolamin
0,2 g Phenyl-ß-naphthylamin
1,0 g 6-Azido-2-(4-p-dimethylaminophenyl-l,3-butadienyl)-N-methylbenzthiazoliumjodid
. Die Bestandteile werden in Xylol gelöst und auf ein Gesamtvolumen
von 100 ml gebracht.
309840/0979
Claims (7)
- PatentansprücheIj Photolackzusammensetzung, gekennzeichnet durch einen Gehalt an einer Verbindung, die ein Azo- oder Cyaninfarbstoff ist, als Photosensitivierungsmittel, wobei der Farbstoff zumindest eine Azidgruppe an einem aromatischen Ring aufweist.
- 2. Photolackzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Photosensitivierungsmittel in einer Menge von 0,5 bis 10 Gew.-% vorhanden ist.
- 3. Photolackzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Photosensitivierungsmittel 7-Azido-l-(p-dimethylaminophenylazo)-2-naphthol ist.
- k. Photolackzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Photosensitivierungsmittel 7-Azido-l-(p-phenylazophenylazo)-2-naphthol ist.
- 5· Photolackzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Photosensitivierungsmittel 6-Azido-2-(4-p-dimethylaminophenyl-1,3^butadienyl)-N-methylbenzthiazoliumjodid ist..
- 6. Photolackzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Photosensitivierungsmittel 6-Azido-3-methyl-2-^5-(6-azidO'*3'"methylbenzthiazolyliden)-propen7-benzothiazoliumjodid ist.
- 7. Photolackzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Photosensitivierungsmittel 6-Azido-3-methyl-2-(pdimethylaminostyryD-benzthiazoliumjodid ist.3098A0/0979
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US23979472A | 1972-03-30 | 1972-03-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2314868A1 true DE2314868A1 (de) | 1973-10-04 |
Family
ID=22903773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732314868 Pending DE2314868A1 (de) | 1972-03-30 | 1973-03-26 | Photolackzusammensetzung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5617655B2 (de) |
DE (1) | DE2314868A1 (de) |
FR (1) | FR2177770A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0154994A2 (de) * | 1984-03-13 | 1985-09-18 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Verbesserte lichtempfindliche Kunststoffzusammensetzung mit klebefreier Oberfläche und ein Verfahren zur Verwendung dieser Zusammensetzung |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5255399U (de) * | 1975-10-16 | 1977-04-21 | ||
JPS5494499U (de) * | 1977-11-09 | 1979-07-04 | ||
JPS6278986U (de) * | 1985-11-07 | 1987-05-20 |
-
1973
- 1973-02-20 FR FR7306803A patent/FR2177770A1/fr active Granted
- 1973-02-28 JP JP2340573A patent/JPS5617655B2/ja not_active Expired
- 1973-03-26 DE DE19732314868 patent/DE2314868A1/de active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0154994A2 (de) * | 1984-03-13 | 1985-09-18 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Verbesserte lichtempfindliche Kunststoffzusammensetzung mit klebefreier Oberfläche und ein Verfahren zur Verwendung dieser Zusammensetzung |
EP0154994A3 (en) * | 1984-03-13 | 1986-01-22 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | A photosensitive resin composition which is improved with respect to surface tack-free characteristic after curing, and a method |
US4716094A (en) * | 1984-03-13 | 1987-12-29 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition which is improved with respect to surface tack-free characteristic after curing, and a method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2177770A1 (en) | 1973-11-09 |
JPS5617655B2 (de) | 1981-04-23 |
JPS4917223A (de) | 1974-02-15 |
FR2177770B1 (de) | 1979-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3019909C2 (de) | Hydrazonverbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Ladungstransportmaterialien | |
DE1693159A1 (de) | Verfahren zum Haerten von wasserloeslichen Polymeren | |
DE2002047C2 (de) | 5- und 6-Phenylmethylenimino-3-(p-Aminophenyl)-3-(3-indolyl)-phthalide | |
DE2314868A1 (de) | Photolackzusammensetzung | |
DE1493426A1 (de) | In 4-Stellung substituierte 4'-tert.-Aminoalkoxy-biphenyle | |
DE918484C (de) | Verfahren zur Herstellung photographischer Farbbilder | |
DE1793501A1 (de) | Neue carbonsaeureamidgruppenhaltige Verbindungen,Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung | |
DE2542335A1 (de) | Neue derivate des 5h-dibenz eckige klammer auf b,f eckige klammer zu azepins und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE1900791A1 (de) | Verfahren zum Haerten von gelatinehaltigen,lichtempfindlichen photographischen Schichten | |
DE2245234A1 (de) | Durch licht desensibilisierbares abbildungsblatt | |
DE2064481C3 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichungsmaterial mit einer elektrisch leitenden Schicht und einer photoleitfähigen Schicht, die einen polymeren organischen Photoleiter enthält | |
DE1926655A1 (de) | Photographisches Trockenkopierverfahren | |
EP0008472B1 (de) | Lichtempfindliche Benzoldiazoniumsalze und Diazotypiematerial unter Verwendung derselben | |
DE2226008C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE879273C (de) | Verfahren zur Herstellung neuer Disazofarbstoffe | |
DE1230669B (de) | Lichtempfindliche Diazoschicht | |
AT240390B (de) | Mit einer Diazoverbindung vorsensibilisierte Druckplatte | |
DE86448C (de) | ||
DE1419842C (de) | Verfahren zur Herstellung von als Farbstoffentwicklersubstanzen geeigneten Farbstoffen der Azo oder Anthrachinon reihe | |
AT238196B (de) | Verfahren zur Herstellung von neuen Triazolidinen | |
DE1900857A1 (de) | Lichtempfindliche Diazoniumverbindungen fuer das Diazotypie-Photoreproduktionsverfahren | |
DE1693196A1 (de) | Sensibilisierungsgemisch fuer Einkomponenten-Diazotypiematerial | |
DE1794301A1 (de) | 1:1 Chromkomplex-Farbstoffe und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE1165410B (de) | Verfahren zur Herstellung seitenrichtiger positiver Kopien durch Waermeentwicklung | |
DE2053406A1 (de) | Glucuronsaure Derivate, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHJ | Non-payment of the annual fee |