DE2114119C2 - Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf Rutheniumbasis - Google Patents
Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf RutheniumbasisInfo
- Publication number
- DE2114119C2 DE2114119C2 DE2114119A DE2114119A DE2114119C2 DE 2114119 C2 DE2114119 C2 DE 2114119C2 DE 2114119 A DE2114119 A DE 2114119A DE 2114119 A DE2114119 A DE 2114119A DE 2114119 C2 DE2114119 C2 DE 2114119C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ruthenium
- bath
- metal
- group
- indium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 24
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 title claims description 22
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 8
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N Ammonium sulfamate Chemical compound [NH4+].NS([O-])(=O)=O GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical class Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000929 Ru alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000337 indium(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H indium(iii) sulfate Chemical compound [In+3].[In+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H rhodium(3+);trisulfate Chemical compound [Rh+3].[Rh+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- PTECIXPBVVDNOU-UHFFFAOYSA-N molecular bromine;hydrate Chemical compound O.BrBr PTECIXPBVVDNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf Rutheniumbasis.
Aus der GB-PS 11 08 051 sind wäßrige Elektrolysebäder
zum Abscheiden von Ruthenium und Rutheniumlegierungen bekannt, die Ruthenium als wasserlösliche
Derivate, beispielsweise Bromhydrat, enthalten. Diese Bäder wurden bei verschiedenen Temperaturen und
Stromdichten verwendet, wobei jedoch die Niederschlagsgeschwindigkeiten und die Kathodenleistungen
sehr niedrig waren und diese Bäder im allgemeinen stark spannungsbeanspruchte Rutheniumniederschläge
lieferten. Die vorhandene Spannung verursachte im allgemeinen die Bildung von Rissen in den Niederschlagen,
wenn deren Dicke mehr als 1,5 bis 25 μπι betrug.
Dieses und die unbefriedigende Ausbeute stellen bei den meisten industriellen Anwendungen einen bedeutenden
Nachteil dar. Beispielsweise sind zur Herstellung von korrosionsbeständigen Elektroden dickere Niederschläge
ohne sichtbare Risse oder sonstige Fehler erforderlich.
Ein weiterer Fortschritt ergab sich aus der Entdekkung,
daß sich die Spannungsbeanspruchung in Rutheniumniederschlägen durch die Mischabscheidung von
mindestens einem der Metalle der Gruppe IHB des Periodischen Systems, d. h. Gallium, Indium und
Thallium, und Ruthenium teilweise beheben läßt. Es wurden Bäder zubereitet, die das Ruthenium als
wasserlöslichen Komplex der Formel
begann. Die Korrosionsbeständigkeit der mit solchen Bädern galvanisierten Teile wurde auf diese Weise
deutlich verbessert
Nun hat man festgestellt, daß das weitere Zusetzen mindestens eines Edelmetalls der Platingruppe zu dem
vorgenannten Bad aus Ruthenium und mindestens einem Metall der Spalte HIB des Periodischen Systems
die Korrosionsbeständigkeit der Niederschläge auf Rutheniumbasis erheblich steigert Es lassen sich
ίο dickere rissefreie Niederschläge erzielen. Dies ist
besonders überraschend im Hinblick auf die Tatsache, daß Niederschläge aus Rutheniumlegierungen mit
anderen Edelmetallen bekanntlich hochgradig spannungsbeansprucht sind und bei Dicken von weniger als
is 2,5 μπι (bereits) Risse zeigen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf
Rutheniumbasis zu schaffen, das korrosk-tisbeständige
Niederschläge ermöglicht, die auch bei Dicken von mindestens 2,5 μπι frei von sichtbaren Fehlern sind.
Man hat festgestellt, daß sich das bessere Aussehen und die verbesserten physikalischen Eigenschaften von
durch Mischabscheidung von Ruthenium mit mindestens einem anderen Metall der Platingruppe erhaltenen
Niederschlägen auf Rutheniumbasis mit der höheren Niederschlagsgeschwindigkeit und den sich aus der
Verwendung von Ruthenium in Form des Komplexes
(NH4KRu2CI8(H2O)2N]
und mindestens einem aus der Rhodium, Platin, Palladium, Osmium und Iridium umfassenden Gruppe
ausgewählten Edelmetall in Form eines seiner wasserlöslichen Derivate enthaltenden Abscheidungsbädern
ergebenden verbesserten Kathodenleistungen kombinieren lassen.
Demgemäß enthält ein Bad gemäß der Erfindung 0,5 bis 50 g/l Rutheniummetall in Form des Komplexes
(NH4)J[Ru2Cl8(H2O)2N],
ein aus der Gruppe von Indium, Gallium und Thallium ausgewähltes Metall in Form einer wasserlöslichen
Verbindung in Konzentrationen, die zwischen 0,01 g Metall/l und dem Wert enthalten sind, der der Sättigung
dieser wasserlöslichen Verbindung in dem Bad entspricht, und 0,05 bis 20 g/l eines Edelmetalls der
Platingruppe in Form eines wasserlöslichen Derivats desselben.
Dabei kann das Platinmetall Rhodium, Palladium oder Platin sein.
Der pH-Wert der Bäder liegt zweckmäßig unterhalb 3,0. Er beträgt vorzugsweise 1,5.
Der Gegenstand der Erfindung wird nunmehr anhand der nachstehenden Beispiele näher erläutert.
Ein Bad zur galvanischen Abscheidung einer ternären Legierung auf Rutheniumbasis wurde durch Vermischen
der folgenden Bestandteile zubereitet (die Konzentrationen der Metallsalze oder -komplexe sind in g/I des
ho freien Metalls angegeben):
g/l
und mindestens eines der vorgenannten Metalle der Gruppe IHB als wasserlösliches Salz enthalten. Mit
diesen Bädern konnten Niederschläge bis zu 5 μπι erzielt werden, bevor die Rissebildung aufzutreten
Rhodiumsulfat
Indiumsulfat
Ammoniumsulfamat
10,0
1,0
5,0
1,0
5,0
20,0
Das Bad wurde mit 20% Ammoniak auf den pH-Wert 2,0 eingestellt und dann bei 1,0 A/dm2 und 55° C
betrieben.
Mit Gold überzogene Messingproben wurden über verschiedene Zeiträume galvanisiert Die erzielten
Niederschläge (A) waren glänzend und bei Dicken bis zu 10 μπι frei von mit dem Auge oder dem Mikroskop
erkennbaren Rissen. Die Galvanisierungsgeschwindigkeit betrug 12 mg/Amin, d. h. 0,1 μητ/min. Die Legierung
enthielt 66% Ruthenium, 33% Rhodium und 1 % Indium, ι ο
Bei einem weiteren Versuch wurde das vorstehende Bad ohne Indium unter den vorstehend beschriebenen
Bedingungen betrieben.
Es wurden 67% Ruthenium und 33% Rhodium enthaltende Niederschläge mit Dicken von mindestens η
2,5 μ erzielt, bevor bei 500facher Vergrößerung oder mit
dem Auge erkennbare Risse zu erscheinen begannen.
Bei einem Kontrollversuch wurde das vorstehende Bad ohne Rhodium unter den vorstehend beschriebenen
Bedingungen betrieben, was Niederschläge aus Ruthenium und Indiujn (B) ergab. Ein Korrosionstest wurde
wie folgt durchgeführt: Die Proben (A) oder (B) wurden in einem 20 g/l Zitronensäure und 25 g/l NaOH
enthaltenden Elektrolyten als Anoden benutzt. Die Elektrolyse wurde über 20 Stunden bei 200C durchgeführt
Die Anoden wurden gewogen, wobei die Verluste der Niederschläge für (A) 0,008 mg/cm2/Ah und für (B)
0,05 mg/cmVAh betrugen. Die Probe (A) war glänzend ohne Korrosionsspuren; die Probe (B) war glänzend,
zeigte jedoch mehrere korrodierte Stellen.
Ein Bad zur galvanische'.1 Abscheidung einer ternären
Legierung auf Rutheniumbtsis wurde wie im Beispiel 1 beschrieben zubereitet, jedoch mit "· g/l Rhodiumsulfat J5
anstelle von 1 g/l. Das Bad wurde wie im Beispiel 1 betrieben.
Es wurden 40% Ruthenium, 59% Rhodium und 1% Indium enthaltende Niederschläge erzielt. Wie im
Beispiel 1 zeigten sie selbst bei Dicken bis zu ΙΟμπι 4i>
keine Risse oder sonstige Mängel.
Als Vergleich wurde unter den gleichen Bedingungen wie vorstehend ein Kontrollbad ohne Indium benutzt
Die Niederschläge verhielten sich wie beim zweiten Versuch gemäß Beispiel 1.
Ein wie im Beispiel 1 beschrieben durchgeführter Korrosionskontrollversuch zeigte, daß der vorgenannte
Niederschlag mit 59% Rhodium bei seiner Verwendung als Anode ein einem alkalischen elektrolytischen Bad
noch korrosionsbeständiger war als der Niederschlag mit 33% Rh.
Ein Bad zur galvanischen Abscheidung einer ternären Legierung auf Rutheniumbasis wurde durch Vermischen
der folgenden Bestandteile zubereitet (die Konzentrationen der Metallsalze oder -komplexe sind in g/l des
freien Metalls angegeben):
Bestandteile
g/1
(NH4-S[RUjCi8(H2O)2N] 10,0
Na2PtC6 ' " 0,2
Indiumsulfat 5,0
Ammoniumsulfamat 20,0
Das Bad wurde auf den pH-Wert Ip eingestellt und
bei 1,0 A/dm2 und 65'C betrieben. Die Proben wurden wie im Beispiel 1 beschrieben zubereitet, und die
Kathodenleistung betrug 8 mg/Amin. Die Proben waren glänzend und hatten eine gute Korrosionsbeständigkeit.
Es wurde ein Galvanisierungsbad wie im Beispiel 3 beschrieben zubereitet, jedoch wurde das Platin durch
0,05 g/l Palladium in Form einer salzsauren Lösung aus PdCI2 ersetzt.
Die Betriebsbedingungen waren die gleichen wie für Beispiel 3. Es wurden korrosionsbeständige Niederschläge
bei einer Niederschlagsgeschwindigkeit von 9,4 mg/Amin erzielt.
Claims (6)
1. Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf Rutheniumbasis, das ggf. Leit- oder
Puffersätze enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,5 bis 50 g/l Rutheniummetall in Form
des Komplexes
(NRO3 [Ru2CI8(H2O)2N],
ein aus der Gruppe von Indium, Gallium und Thallium ausgewähltes Metall in Form einer
wasserlöslichen Verbindung in Konzentrationen, die zwischen 0,01 g Metall/l und dem Wert enthalten
sind, der der Sättigung dieser wasserlöslichen Verbindung in dem Bad entspricht, und 0,05 bis 20 g/l
eines Edelmetalls der Platingruppe in Form eines wasserlöslichen Derivats desselben enthält
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Platinmetall Rhodium, Palladium oder Platin
ist
3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der pH-Wert unterhalb 3,0
liegt
4. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Metall der Gruppe Indium
ist
5. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Metall der Gruppe Gallium
ist.
6. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der pH-Wert 1,5 beträgt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH423570A CH512590A (fr) | 1970-03-20 | 1970-03-20 | Procédé pour le dépôt électrolytique d'alliages de ruthénium, bain aqueux pour la mise en oeuvre de ce procédé, et article revêtu d'un alliage de ruthénium obtenu par ce procédé |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2114119A1 DE2114119A1 (de) | 1971-10-07 |
| DE2114119C2 true DE2114119C2 (de) | 1982-07-01 |
Family
ID=4272323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2114119A Expired DE2114119C2 (de) | 1970-03-20 | 1971-03-19 | Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf Rutheniumbasis |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3692641A (de) |
| BE (1) | BE764153A (de) |
| CA (1) | CA927313A (de) |
| CH (1) | CH512590A (de) |
| DE (1) | DE2114119C2 (de) |
| FR (1) | FR2083474B1 (de) |
| GB (1) | GB1328928A (de) |
| NL (1) | NL7103762A (de) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5544157B2 (de) * | 1971-08-21 | 1980-11-11 | ||
| US3892638A (en) * | 1973-06-21 | 1975-07-01 | Oxy Metal Industries Corp | Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys |
| GB1520140A (en) * | 1976-06-08 | 1978-08-02 | Inco Europ Ltd | Electrodeposition of ruthenium |
| AU523857B2 (en) * | 1978-07-14 | 1982-08-19 | International Nickel Inc. | Alloys and electrodes |
| EP0018165A1 (de) * | 1979-04-10 | 1980-10-29 | Inco Europe Limited | Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Ruthenium, konzentrierte Lösung zur Badherstellung und mit Ruthenium beschichteter Gegenstand |
| IN164233B (de) * | 1984-12-14 | 1989-02-04 | Oronzio De Nora Impianti | |
| DE502007002036D1 (de) * | 2007-03-28 | 2009-12-31 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Elektolyt und Verfahren zur Abscheidung von dekoraium |
| ATE487812T1 (de) | 2008-11-21 | 2010-11-15 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Edelmetallhaltige schichtfolge für dekorative artikel |
| DE102019109188B4 (de) * | 2019-04-08 | 2022-08-11 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Verwendung eines Elektrolyten zur Abscheidung von anthrazit/schwarzen Rhodium/Ruthenium Legierungsschichten |
| WO2020250174A1 (en) * | 2019-06-11 | 2020-12-17 | Legor Group Spa | Galvanic bath and process for producing a ruthenium/platinum alloy by means of electro-galvanic deposition |
| AT523922B1 (de) * | 2020-09-08 | 2022-01-15 | Iwg Ing W Garhoefer Ges M B H | Elektrolytbad für Palladium-Ruthenium-Beschichtungen |
| DE102020131371A1 (de) | 2020-11-26 | 2022-06-02 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Rutheniumlegierungsschicht und deren Schichtkombinationen |
| IT202100003875A1 (it) * | 2021-02-19 | 2022-08-19 | Legor Group S P A | Bagno galvanico e procedimento al fine di produrre una lega di platino-rutenio tramite deposizione elettrogalvanica |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL43163C (de) * | 1935-01-16 |
-
1970
- 1970-03-20 CH CH423570A patent/CH512590A/fr not_active IP Right Cessation
-
1971
- 1971-03-12 BE BE764153A patent/BE764153A/xx unknown
- 1971-03-18 FR FR7111003A patent/FR2083474B1/fr not_active Expired
- 1971-03-19 CA CA108185A patent/CA927313A/en not_active Expired
- 1971-03-19 DE DE2114119A patent/DE2114119C2/de not_active Expired
- 1971-03-19 NL NL7103762A patent/NL7103762A/xx unknown
- 1971-03-22 US US126886A patent/US3692641A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-04-19 GB GB2390071*A patent/GB1328928A/en not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| NICHTS-ERMITTELT |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE764153A (fr) | 1971-08-02 |
| CA927313A (en) | 1973-05-29 |
| FR2083474A1 (de) | 1971-12-17 |
| CH512590A (fr) | 1971-09-15 |
| GB1328928A (en) | 1973-09-05 |
| NL7103762A (de) | 1971-09-22 |
| US3692641A (en) | 1972-09-19 |
| FR2083474B1 (de) | 1974-10-11 |
| DE2114119A1 (de) | 1971-10-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AT267991B (de) | Bad zur Herstellung eines Überzuges aus Platinmetallen und deren Legierungen | |
| DE2114119C2 (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf Rutheniumbasis | |
| CH647269A5 (de) | Plattierungsloesung fuer die ablagerung einer palladium/nickel-legierung. | |
| DE3601698C2 (de) | ||
| DE1094245B (de) | Bleidioxyd-Elektrode zur Verwendung bei elektrochemischen Verfahren | |
| DE3875227T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines bades fuer die elektroplattierung einer binaeren zinn-kobalt-, zinn-nickel- oder zinn-blei- legierung und damit hergestelltes elektroplattierungsbad. | |
| DE1222348B (de) | Galvanisches Gold- oder Goldlegierungsbad | |
| DE1960047A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer Goldlegierung und waessriges Abscheidungsbad zur Ausfuehrung des Verfahrens | |
| DE1262722B (de) | Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Palladiumueberzuegen auf elektrischen Kontaktteilen | |
| DE3530223C2 (de) | ||
| DE1235102B (de) | Cyanidfreies galvanisches Glanzzinkbad | |
| DE3509367C1 (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Gold/Zinn-Legierungsueberzuegen | |
| DE3041740A1 (de) | Verfahren zum galvanisieren mit silber/platinmetall-legierungen | |
| DE1771734A1 (de) | Verfahren zur Elektroplattierung mit Rhenium und ein Bad zur Ausfuehrung dieses Verfahrens | |
| DE1256504B (de) | Verfahren zur galvanischen Herstellung unloeslicher Anoden fuer elektrochemische Prozesse | |
| DE2725073A1 (de) | Verfahren zum galvanischen abscheiden von ruthenium | |
| DE2511119A1 (de) | Zusatzmittel fuer die elektroplattierung | |
| DE2014122C3 (de) | Wäßriges saures Rutheniumbad zur galvanischen Abscheidung von Ruthenium | |
| DE1208593B (de) | Saures galvanisches Nickelbad zum Abscheiden halbglaenzender UEberzuege | |
| DE3139641A1 (de) | "galvanisches bad und verfahren zur abscheidung halbglaenzender duktiler und spannungsfreier nickelueberzuege" | |
| DE1086508B (de) | Saures galvanisches Kupferbad | |
| AT247093B (de) | Verfahren und Bad zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften | |
| DE815882C (de) | Verfahren zur Erzeugung von Niederschlaegen auf Metallflaechen durch Elektrolyse | |
| DE692122C (de) | Rhodiumbad | |
| DE654270C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von UEberzuegen aus Wolframlegierungen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OD | Request for examination | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: OMI INTERNATIONAL CORP. (EINE GESELLSCHAFT N.D.GES |
|
| 8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: HAUCK, H., DIPL.-ING. DIPL.-WIRTSCH.-ING., 8000 MUENCHEN SCHMITZ, W., DIPL.-PHYS. GRAALFS, E., DIPL.-ING., 2000 HAMBURG WEHNERT, W., DIPL.-ING., 8000 MUENCHEN DOERING, W., DIPL.-WIRTSCH.-ING. DR.-ING., PAT.-ANW., 4000 DUESSELDORF |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |