AT247093B - Verfahren und Bad zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften - Google Patents

Verfahren und Bad zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften

Info

Publication number
AT247093B
AT247093B AT803963A AT803963A AT247093B AT 247093 B AT247093 B AT 247093B AT 803963 A AT803963 A AT 803963A AT 803963 A AT803963 A AT 803963A AT 247093 B AT247093 B AT 247093B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
platinum
anodes
bath
sep
hydrochloric acid
Prior art date
Application number
AT803963A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Engelhard Ind Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Engelhard Ind Inc filed Critical Engelhard Ind Inc
Application granted granted Critical
Publication of AT247093B publication Critical patent/AT247093B/de

Links

Landscapes

  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   Verfahren und Bad zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften 
Die Erfindung bezieht sich auf das elektrolytische Abscheiden von Platin aus wässerigen Lösungen und betrifft insbesondere die Herstellung von mit Platin überzogenen Gegenständen aus einem Grundmetall, welche als sich nicht verbrauchende Anoden bei elektrochemischen Vorgängen besonders brauchbar sind. 



   Bei elektrochemischen Prozessen ist die richtige Auswahl des zur Herstellung von Elektroden verwendeten Materials sehr wichtig. Bei diesen Vorgängen ist es üblich, als Kathoden Elektroden aus Eisen, Stahl   u. dgl.   zu benutzen, doch gibt es nur einige wenige Materialien, die zur Herstellung unlöslicher Anoden verwendet werden können, weil die meisten Materialien, wenn sie als Anoden eingesetzt werden, einer raschen Korrosion unterliegen. Die Metalle der Platingruppe haben zwar, wenn man sie als unlösliche Anoden einsetzt, erwünschte Eigenschaften, doch ist es im Hinblick auf den hohen Preis dieser Materialien erwünscht, weniger kostspielige Ersatzmaterialien zu verwenden, wobei Graphit bisher oft als Anodenmaterial benützt worden ist. 



   Graphit besitzt jedoch eine Anzahl von Nachteilen, weil er einer stetigen Zersetzung unterliegt und häufig ersetzt werden muss, wobei man den elektrochemischen Vorgang unterbrechen muss. Die Auswahl einer geeigneten Anode ist besonders kritisch bei hochkorrosiven elektrochemischen Bädern, wie bei den für   die Chlorerzeugung benutzten Salzlösungen :   in diesem Falle muss bei Gebrauch von Graphitanoden das erzeugte Chlor gereinigt werden, um es von Spuren von Kohlendioxyd, die von der Oxydation der Graphitanoden herrühren, zu befreien. Ausserdem verursacht die Zersetzung bzw. Auflösung der Graphitanoden die Ablagerung von feinen Graphitkörnern in den die Elektroden umgebenden Diaphragmen, wodurch ein Ersatz der Diaphragmen zusammen mit den Elektroden notwendig wird. 



   Die bei Graphitelektroden, insbesondere bei der Kochsalzelektrolyse, auftretenden Schwierigkeiten werden bei Anwendung von Platinmetallanoden beseitigt. Solche Anoden können aus reinem Platin bestehen oder aber, wie aus dem Stande der Technik bekannt ist, aus einem korrosionsbeständigen Kernmetall, wie Titan, Silber od. dgl., aufgebaut sein, dass mit einem zusammenhängenden undurchlässigen Überzug bzw. einer solchen Hülle aus Platinmetall umkleidet ist. 



   Ausser dem Erfordernis einer im wesentlichen vollständigen Korrosionsbeständigkeit für die bei elektrolytischen Vorgängen verwendeten Anoden wird verlangt, dass sie bestimmte günstige Eigenschaften in bezug auf dieStromleitung aufweisen, um ein wirtschaftliches Arbeiten zu ermöglichen. So soll die Anode hochleitfähig sein und eine hohestrombelastung aushalten, d. h. bei der höchst möglichen Stromdichte ohne unzulässige Polarisation arbeiten können. In der Praxis wird durch die anodische Polarisation mit den sich ergebenden   hohen Überspannungseigenschaften die Wirksamkeit   der Elektrolyse herabgesetzt und die Wirtschaftlichkeit des elektrolytischen Vorganges nachteilig beeinflusst. 



   Das Überspannungsverhalten ist bei der Chlorabscheidung unter Verwendung von Platinmetallanoden, gleichgültig ob die Anoden aus Blechen des Edelmetalls hergestellt sind oder aus mit Platin überzogenem Grundmetall, z. B. Titan, bestehen, günstiger als bei Verwendung von Graphitanoden. Es wurde jedoch 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 gefunden, dass bei hohen Stromdichten, beispielsweise über 21, 6   A/dm2   und aufwärts bis etwa 108   A/drrr,   weder Platinblech noch die üblichen mit Platin überzogenen Grundmetalle hinsichtlich der Überspannungs- eigenschaften des Chlors gänzlich befriedigen können. 



   Im Verlaufe von Untersuchungen zur Entwicklung eines Verfahrens zum Plattieren von Grundmetal- len mit Platin, die eine mit Platin überzogene, sich nicht verbrauchende, insbesondere für die Kochsalz- elektrolyse geeignete Anode schaffen sollen, wurde beobachtet, dass die elektrolytischen Niederschläge von Platin aus gebräuchlichen   Platinbädern,   wie Hexahydroxyplatinatbädern, glatt und in hohem Masse haftend sind. Derartige Überzüge haben jedoch schlechte Überspannungseigenschaften, die nur ungefähr mit jenen von Platinblech vergleichbar   sind.

   Weiters wurde das Überspannungsverhalten   von Platinschwarzniederschlägen untersucht, d. h. von Platin, welches aus einem Bad mit einem Gehalt von geringen Mengen löslicher Bleiverbindungen niedergeschlagen wurde ; dabei ergab sich, dass solche Platinschwarzniederschläge   ausgezeichnetes Überspannungsverhalten zeigen. Leider   haben jedoch die Platinschwarzniederschläge den Nachteil, dass sie eine äusserst schlechte Haftung aufweisen und für die Erzeugung von korrosionsbeständigen Anoden ungeeignet sind. weil sogar durch gewöhnliches Abwischen der hoch korrosionsbeständige Platinüberzug entfernt und das Grundmetall freigelegt wird. 



   Bei Untersuchung der in der vorstehend beschriebenen Weise erzeugten Überzüge zeigt sich, dass das   ausgezeichnete Überspannungsverhalten   von Platinschwarz im Vergleich zu gewöhnlichem, elektrolytisch   niedergeschlagenem Platin   in gewisser Weise mit der viel grösseren aktiven Platinoberfläche des matteren und verhältnismässig rauhen Platinschwarzüberzuges zusammenhängt. Diese Ergebnisse legen die Vermutung nahe, dass bestimmte Vorteile erzielt werden können, wenn man einen Platinniederschlag von hoher Haftung, jedoch mit dem matten Aussehen und der Unebenheit eines Platinschwarzniederschlages erzielen könnte. 



   Ein Hauptziel der Erfindung liegt in der Schaffung eines Verfahrens zum Abscheiden von Platin aus einem Elektroplattierungsbad zur Erzeugung von mit Platin überzogenen Grundmetallen, die als Anoden für elektrochemische Prozesse, insbesondere zur Elektrolyse wässeriger   Salzlösungen, geeignet   sind. 



   Die Erfindung zielt weiters darauf ab, ein stabiles Bad zu schaffen, aus welchem Platinniederschläge von hohem   Haftvermögen erhalten   werden können, die durch ein   günstiges   Überspannungsverhalten bei der Chlorabscheidung gekennzeichnet sind. 



   Ein weiteres Ziel ist schliesslich die Schaffung eines   mit Platin überzogenen Grundmetalls, welches zur   Anwendung als sich nicht aufbrauchende Anode geeignet ist. 



   Gemäss der Erfindung werden gut haftende bzw. haftfähige Platinniederschläge mit dem erwünschten Überspannungsverhalten dadurch hergestellt, dass man in einem elektrolytischen Prozess auf einer Kathode aus dem zu überziehenden Metall das Platin aus einer wässerigen Lösung von Chloroplatinsäure abscheidet, die einen Überschuss an Salzsäure und eine kleine Menge einer löslichen Wismutverbindung enthält. Geeignete Lösungen für die Ausführung der Erfindung enthalten etwa 0, 2 bis etwa 2,5   Gew. -0/0 Wismut,   bezogen auf das in der Lösung befindliche Platin. Typische Lösungen enthalten etwa 5 bis etwa 15 g/l Pla- 
 EMI2.1 
 5   Gew.-%   Salzsäure. 



   Die Menge der eingesetzten Salzsäure ist nicht kritisch, doch soll sie zumindest ausreichen, um eine homogene Lösung ohne Bildung von Niederschlägen während des Plattierungsvorganges zu gewährleisten. 



  Das Wismut kann als Chlorid   BiCl,   eingesetzt werden, oder auch in Form des Hydroxyds, Oxydes, Acetates od. dgl., wobei genügend   viel Salzsäure   zugegen sein muss, um das Wismut als Chlorid in Lösung zu halten. 
 EMI2.2 
 Elektrolyse von Salzlösungen aufweisen. Es wurde weiter gefunden, dass die verwendete Wismutmenge kritisch ist, weil eine zu geringe Menge dieses Metalles nur unzureichende Überspannungseigenschaften ergibt und eine zu grosse Menge zur Bildung eines   nicht haftenden, schwammartigen   Niederschlages   führt.   welcher für die Herstellung von mit Platin überzogenen Anoden ungeeignet ist. 



   Die Eigenschaften der wismuthaltigen Lösung gemäss der Erfindung sind einzigartig und lassen sich auch nicht dann erreichen, wenn man in der vorstehend angegebenen Zusammensetzung das Wismut durch so nahe verwandte Materialien, wie Antimon, ersetzt. 



   Es wurde die Wirkung von Antimonzusätzen zu Lösungen von Chloroplatinsäure untersucht. Die Zu- 
 EMI2.3 
 halt an Salzsäure führte zuerst zu einem matten,   grauschwarzen und haftenden Niederschlag.   Dieser Effekt erwies sich jedoch als nur vorübergehend, weil nachfolgend in demselben Bad plattierte Probestücke, ob- 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 gleich sie eine dunkelgraue Farbe hatten, glatt waren. Bei steigenden Zusätzen von   SbCL   bis zu 1   g/l   ergaben sich, obgleich nach diesem Zusatz matte Niederschläge entstanden, bei weiterer Elektrolyse glatte Niederschläge mit verminderten Überspannungseigenschaften. 



   Im Gegensatz hiezu gaben   Jie   wismuthaitigen Lösungen gemäss der Erfindung fest haftende, gleichmässige matte, dunkelgraue Niederschläge, welche sehr hohe Haftung und ausgezeichnetes Überspannungsverhalten zeigten. 



   Die erwünschte Konzentration von Platin und Wismut in den   Plattierungsbädern   gemäss der Erfindung ist zwar vorstehend angegeben, doch ist es   klar, dass   die mit diesen Lösungen tatsächlich erhaltenen Niederschläge nicht notwendigerweise dasselbe Platin-Wismut-Verhältnis aufweisen, wie es in der Lösung 
 EMI3.1 
 schen etwa 0,01 und etwa 0,   1 0/0,   bezogen auf Platin. 



   Die Bäder gemäss der Erfindung werden bei einer Temperatur zwischen etwa 20   und etwa 753C   betrieben, vorzugsweise zwischen etwa 20 und   600C   sowie mit einer Stromdichte im Bereich von etwa 1, 08 bis etwa   3,     24 A/dm2. Es   ist erwünscht, beim Plattierungsvorgang eine mässige Bewegung vorzusehen, bei- spielsweise durch ein gelindes Bewegen der Kathode ; der Plattierungsvorgang selbst wird während einer ge- nügenden Zeitspanne ausgeführt, um einen Niederschlag von etwa 0,635 bis etwa 6, 35 u, vorzugsweise von etwa 1. 27 bis   2.     54/. L. zu   erzeugen.

   Die genaue Zeit, die zur Erlangung von Niederschlägen der ge- wünschten Dicke erforderlich ist, hängt von der Konzentration der Lösung und der verwendeten Strom- dichte ab und kann beispielsweise von etwa 15 min bis zu einer Stunde oder mehr ausmachen. 



   Es wurde beobachtet, dass im Verlaufe des Plattierungsvorganges an den Platinanode Chlor freige- setzt wird, so dass bei Anwendung der Lösung gemäss der Erfindung für einen tatsächlichen Erzeugungsvor- gang eine entsprechende Lüftung vorgesehen werden muss. Bei kontinuierlicher Elektrolyse der Lösung ver- ändert sich das Aussehen des Niederschlages von einem matten Dunkelgrau in Richtung auf ein glatteres, graueres Aussehen. Da der matte Endzustand bevorzugt wird, wurde es als vorteilhaft gefunden, Luft oder ein anderes   inertesGas, z. B. Stickstoff,   Argon usw., kontinuierlich durch die Lösung hindurchzuleiten, um den Gehalt derselben an freiem Chlor herabzusetzen ; auf diese Weise erhält man besser übereinstimmende Ergebnisse im Hinblick auf das Aussehen des Niederschlages. 



   Zur Vorbereitung von Metallen für das Elektroplattieren in dieser Lösung kann jede gebräuchliche Standardmethode verwendet werden, wie ein   Entfettungs- oder   elektrolytischer Reinigungsvorgang, oder jede andere Methode, die zur Vorbereitung einer reinen. aufnahmefähigen Metallfläche geeignet ist. 



   Zu den Metallen, auf welche Platin gemäss der Erfindung elektrolytisch niedergeschlagen werden kann, gehören unter anderem Silber. Nickel, Gold, Tantal, Wolfram, Molybdän, Titan und Rhodium. Mit Platin überzogenes Titan ist natürlich von besonderer Bedeutung für die Kochsalzelektrolyse, u. zw. wegen der Eigenschaften des Titans in bezug auf leichtes Gewicht, Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Leitfähigkeit, welche Eigenschaften das Titan als Grundmetall für platinierte Anoden für die Kochsalzelektrolyse besonders wertvoll machen. Für bestimmte Anwendungszwecke kann es erwünscht sein, die erfindungsgemässen Bäder zum Niederschlagen von Platin auf ein   Platin- oderpalladiumgrundmetall   zu benutzen. 



   Zur Bestimmung des Überspannungsverhaltens von erfindungsgemäss hergestellten platinierten Anoden kann eine Apparatur verwendet werden, die grundsätzlich aus einer Luggin-Kapillarsonde, einer   Kalomelelektrode und einem Vakuumröhrenvoltmetervon 20 Megohm Widerstand besteht.   Die Genauigkeit der Messung mit diesem Instrument beträgt etwa 10 - 20 Millivolt. 



   Überspannungsmessung : Die Luggin-Sonde besteht aus einem Rohr, dessen eines Ende unter einem rechten Winkel abgebogen und zu einer feinen Kapillare ausgezogen ist, die mit der Oberfläche der Elektrode in leichtem Kontakt steht. Das andere Ende des Rohres ist mit einem oben offenen zylindrischen Scheidetrichter verbunden, in welchen eine Bezugselektrode (Kalomelelektrode) eintaucht. Der Trichter und das Rohr sind mit einer Lösung des Elektrolyten gefüllt, im vorliegenden Fall mit einer   22 igen   Kochsalzlösung. Mit dieser einfachen Vorrichtung wird der Elektrolyt (in welchem kein Strom fliesst) der Bezugselektrode wirksam bis zur Oberfläche der zu untersuchenden Elektrode erstreckt.

   Die Drähte eines Vakuumröhrenvoltmeters sind mit dieser Elektrode und mit der Bezugselektrode verbunden und mit dieser Anordnung wird das Elektrodenpotential mit praktisch vernachlässigbarem Lösungs-IRAbfall gemessen. 



   Als Elektrolyt wurde eine   220/oigne   Natriumchloridlösung benutzt, die in einer Lucitezelle enthalten 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 war. Eine poröse Tonkappe enthielt eine Nickelkathode und verhinderte das Vermischen der Lösungen in den   Anolyt- und Katholytabteilen.   Durch Plattieren von Silber- bzw. Titanstreifen von 76 X 25 mm 
 EMI4.1 
 fi Stärke ausvorbereitet. Diese Probestücke wurden mit Streifen maskiert, so dass einkreisförmiges Feld von ungefähr 0, 8 cm2 der Wirkung des Stromes ausgesetzt wurde. 



   Die angewendete Stromdichte lag in einem Bereich von 2, 16 bis 108 A/dm2. Der Natriumchloridelektrolyt wurde bei Temperaturen von 25 und   700C   eingesetzt. 



   Die Erfindung wird an Hand der folgenden speziellen Ausführungsbeispiele ohne Beschränkung hierauf näher   erläutert :     Beispiel l :   Es wurde eine Lösung von folgender Zusammensetzung angesetzt : 
 EMI4.2 
 
<tb> 
<tb> Platin <SEP> (als <SEP> H2PtCl6. <SEP> H2O) <SEP> 8 <SEP> g/l
<tb> Wismut <SEP> (als <SEP> Bics) <SEP> 0. <SEP> 05 <SEP> g/l <SEP> 
<tb> Salzsäure <SEP> 34 <SEP> g/l
<tb> 
 
Als Kathode wurde ein Titanstreifen von   76 x 25 mm,   der 40 h in konzentrierter Salzsäure   ge-   ätzt worden war. benutzt. Bei einer Stromdichte von 1,62   A/dm 2,   Raumtemperatur und mässigem Rühren durch Bewegen der Kathode betrug das Gewicht des in 15 min   erhaltenen Niederschlages 0. 23 g,   was einer durchschnittlichen Plattierungsdicke von 2, 54   entsprach.

   Der Niederschlag war gleichmässig matt, dunkelgrau und fest haftend. Beim Abwischen mit Filterpapier liess sich von dem Niederschlag nicbts abreiben. Die Messungen der Chlorüberspannung in Kochsalzlösung (22%   NaCl)   ergab keine Polarisation bei Stromdichten aufwärts bis 108 A/dm2. Ein in gleicher   Weise hergestellter Titanstreifen, der jedoch   in einem Hexahydroxyplatinatbad mit einem   2. 54 je   starken Niederschlag überzogen worden war, zeigte eine schon bei 21,6 A/dm2 auftretende Polarisation, womit ein rascher Anstieg der   Überspannung ein-   herging. 



   Beispiel2 :EswurdeeineLösungfolgenderZusammensetzunghergestellt: 
 EMI4.3 
 
<tb> 
<tb> Platin <SEP> (als <SEP> H2PtCI6. <SEP> H2O) <SEP> 8 <SEP> g/l
<tb> Wismut <SEP> (als <SEP> BiCl) <SEP> 0, <SEP> 08 <SEP> g/l <SEP> 
<tb> Salzsäure <SEP> 34 <SEP> g/l
<tb> 
 
Als Kathode wurde ein 48 h in konzentrierter Salzsäure geätzter Titanstreifen von 76 x 25 mm benutzt. Beim Arbeiten mit einer Stromdichre von 1,62 A/dm2 bei Raumtemperatur und mässigem Rühren durch Bewegen der Kathode betrug das Gewicht des Niederschlages in 15 min 0, 225 g, entsprechend einer durchschnittlichen Dicke von 2,   5411.   Der Niederschlag war gleichmässig schwarz, doch wurde bei einem Schlag mitFilterpapier eine kleine Menge des Niederschlages abgerieben. Zum Hauptteil erwies sich der Niederschlag als gut haftend.

   Die in   22% iger Kochsalzlösung ausgeführten   Überspannungsmessungen für Chlor zeigten keine Tendenz zur Polarisation aufwärts bis zu Stromdichten von 108 A/dm2. 



   Vergleichsversuche : Es sei hier auf die   Fig. 1. 2   und 3 der Zeichnungen Bezug genommen, worin die Ergebnisse von Überspannungsmessungen für verschiedene platinierte Anoden in Diagrammen wiedergegeben sind, in welchen das Potential (in V) gegen die Stromdichte (in   A/dm2)   aufgetragen wurde. Die in den Figuren dargestellten Kurven wurden bei Untersuchung der folgenden Proben erhalten, die in den vorstehend beschriebenen Versuchen als Anoden benutzt worden waren. 



   Probe A : Platinschwarz auf Silber. 



   Es wurde die zur Herstellung von Platinschwarz übliche Lösung benutzt, die 30   g/l   Chloroplatinsäure, 0, 2 g/l Bleiacetat, 83   ml/l   konzentrierte Salzsäure (normal bezogen auf HCI) enthielt. Es wurde eine Stromdichte von   1, 62 A/dm2 angewendet ;   die Plattierungszeit betrug 15 min, der Platinniederschlag entsprach einer Niederschlagsdicke von 2.   54/1.   



   Probe B : Platin-Wismut auf Silber. 



   Die Lösung enthielt 20 g/l Chloroplatinsäure, 83   ml/l   HCI und 0,06   g/l     Bi (OH) g   (gelöst   inHCl).   Es wurde eineStromdichte von 1, 62 A/dm2 benutzt, die Plattierungszeit betrug 15 min, die Niederschlagsdicke 2.   54jan.   



   Probe C : Platin-Wismut auf Titan. 



   Es wurde wie in Beispiel 1 gearbeitet. Die Stärke des Niederschlages betrug 2,   54 JI.   

 <Desc/Clms Page number 5> 

 



   Probe D : Platin-Wismut auf Titan. 



   Es wurde wie in Beispiel   l   gearbeitet. Die Niederschlagsdicke betrug   l, 27 u.   



   Probe E : Platin auf Titan   au. Platinatlösung.   



   Ein geätzter Titanstreifen wurde mit Platin aus einer Lösung plattiert, die 20   g/l   Natriumhexahy- droxyplatinat und 10   g/l   Natriumhydroxyd enthielt ; es wurde bei einer Temperatur von   750C   und mit einer Stromdichte von   0.. 81 A/dm2 gearbeitet ;   die Plattierungszeit betrug 25 min, die Niederschlags- dicke 2,   54 li.   



   Probe F : Platin auf Titan aus Chloroplatinsäure. 



   Ein geätzter Titanstreifen wurde mit Platin aus   einer Lösung von 20 g/l   Chloroplatinsäure und 83   ml/l  
Salzsäure plattiert. Es wurde mit einer Stromdichte von 1, 62 A/dm2 gearbeitet, die Plattierungszeit war
15 min, die Niederschlagsdicke 2,   54 ju.   



   Probe G : Reiner Platinstreifen. 



   Probe H : Platin auf Silber aus Platinatlösung. 



   Ein polierter Silberstreifen wurde in dem für Probe E beschriebenen Bad mit einer Stromdichte von
0, 81 A/dm2 25 min lang plattiert ; die Niederschlagsdicke betrug   2,54 il.   



   Diskussion : In Fig.   1. die   das Überspannungsverhalten von bestimmten der in der vorstehend beschrie- benen Weise hergestellten Proben als Anoden veranschaulicht. ist der Anstieg des Potentials gegen die Stromdichte (ermittelt bei 25 C) aufgetragen. Aus Kurve 1 ist zu ersehen, dass Platinschwarz (Probe A) extrem niedrige Überspannungswerte im ganzen Bereich der untersuchten Stromdichten zeigt. d.   h.   aufwärts bis etwa 54   A/dm2.   Wie jedoch schon früher gesagt, haftet Platinschwarz nicht und ist daher zur Fabrikation von korrosionsbeständigen Anoden ungeeignet. 



   Die Kurven 3. 4 und 5 in Fig. 1 zeigen. dass bei auf Titan (Probe E) oder auf Silber (Probe H) niedergeschlagenem Platin und bei einem Reinplatinblech (Probe G) in   allen Fällen   ein unerwünschter Potentialanstieg bei angelegten Stromdichten im Bereich von 10, 8 bis   21, 6 A/dm 2   auftritt. 



   In ausgesprochenem Gegensatz hiezu ergibt sich, dass das Überspannungsverhalten der Probe B, die gemäss der Erfindung hergestellt worden war, sich dem Verhalten von Platinschwarz eng anschliesst, wie dies Kurve 2 in Fig.   l   zeigt, und dass diese Probe gegenüber jeder der andern untersuchten Anoden weit überlegen ist. 



   Fig. 2 zeigt die Resultate, die bei Untersuchungen von erfindungsgemäss hergestellten Anoden auf Titangrundmetall im Vergleich mit einer Anode erhalten werden, die durch Niederschlagen von Platin aus Chloroplatinsäure in Abwesenheit irgendeiner zugesetzten Wismutverbindung erhalten werden. 



   Es ist zu beachten, dass die wismuthaitigen Niederschläge (Kurven 6 und 7) im wesentlichen konstantes Potential für Stromdichten sogar bis 108 A/dm2 zeigen und dasseine Variation der Dicke des Platinniederschlages von 1. 27 auf 2, 54   jn die Anodeneigenschaften   nur wenig beeinflusst. Wie Kurve 8 zeigt, bringt die durch Niederschlagen von Platin auf Titan aus Chloroplatinsäure in Abwesenheit von zugesetztem Wismut hergestellte Anode bei   einer Stromdichte von 43, 2 A/dm 2 einen   raschen Potentialanstieg hervor und wäre daher zur Kochsalzelektrolyse mit hoher Stromdichte ungeeignet. 



   Fig. 3 veranschaulicht die Vergleichsversuche für Überspannungsmessungen, die bei 700C ausgeführt wurden. Es ist zu beachten. dass die gemäss der Erfindung hergestellte Probe C im wesentlichen keinen Potentialanstieg aufwärts bis zu einer Stromdichte von 108 A/dm2 zeigt, vgl. Kurve 9. Demgegen- über zeigen Anoden aus reinem Platin (Probe G) und aus Platin, das aus Natriumplatinatlösung niedergeschlagen worden war (Probe E), verbesserte Überspannungseigenschaften bei den bei   700C   ausgeführten Untersuchungen (vgl. die Kurven 10 und 11 mit den Kurven 3 und 4   von Fig. 1), wobei aber keine   dieser Proben den hervorragenden flachen Kurvenverlauf der erfindungsgemässen Anode zeigt. 



   Das Verfahren gemäss der Erfindung wurde vorstehend speziell im Zusammenhang mit der Herstellung und Untersuchung von   mit Platin überzogenen Anoden für   die Kochsalzelektrolyse zur Erzeugung von Chlor und Ätznatron beschrieben. Es ist jedoch für den Fachmann klar. dass die erfindungsgemässen Anoden für die   verschiedenstenElektroplattierungsvorgängeVerwendung   finden können. So können platinierte Titananoden für Elektroplattierungsprozesse unter Verwendung von Lösungen von Rhodium, Gold (in saurem 
 EMI5.1 
 
Andere hauptsächliche Verwendungszwecke für die neue Anode gemäss der Erfindung liegen in der Umwandlung von Seewasser und Brackwasser durch Elektrolyse, in dem Abscheiden von wertvollen oder schädlichen Bestandteilen aus Industrieabwässern usw.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE : 1. Verfahren zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften, insbesondere für mit Platin überzogene Anoden zur Elektrolyse wässeriger Salzlösungen, dadurch gekennzeichnet, dass man das mit Platin zu überziehende Metall, wie z.
    B. Titan oder Silber als Kathode in einem elektrolytischen Prozess einsetzt und mit einem Elektrolyten arbeitet, der eine wässerige Lösung von Chloroplatinsäure, eine Menge von etwa 0,2 bis etwa 2,5 Gew. -0/0, be- zogen auf das in der Lösung vorhandene Platin, einer löslichen Wismutverbindung und einen Überschuss an Salzsäure enthält, wobei das Bad bei einer Temperatur zwischen etwa 20 und etwa 750C mit einer Stromdichte im Bereich von etwa 1, 08 bis etwa 3, 24 A/dm'l. betrieben wird.
    2. Verfahren nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrolytische Abscheidung während einer Zeit von einer 1/4 bis etwa 1 h unter Erzielung eines Niederschlages von etwa 0,635 bis 635 mm Dicke durchgeführt wird. EMI6.1 lytischen Prozesses. ein inertes Gas durch den Elektrolyten hindurchgeleitet wird, um das darin gebildete Chlor kontinuierlich zu entfernen.
    4. Bad zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch g e k e n n z e i c h net, dass es aus einer wässerigen Lösung von Chloroplatinsäure, einer löslichen Wismutverbindung und Salzsäure besteht, wobei das Wismut in einer Menge von etwa 0,2 bis etwa 2, 5 Gew.-%, bezogen auf Platin, vorhanden ist.
    5. PlattierungsbadnachAnspruch4, dadurch gekennzeichnet, dassesetwa5bis etwal5g/l Chloroplatinsäure enthält.
    6. Plattierungsbad nach Anspruch 4 oder 5, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, dass es aus einer wässerigen Lösung besteht, die etwa 5 bis etwa 15 g/l Chloroplatinsäure, etwa 1 bis etwa 5 Gew. -0/0 Salz - säure und etwa 0,02 bis etwa 0,08 g/l BiCls enthält.
AT803963A 1962-10-08 1963-10-07 Verfahren und Bad zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften AT247093B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US247093XA 1962-10-08 1962-10-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
AT247093B true AT247093B (de) 1966-05-25

Family

ID=21821984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT803963A AT247093B (de) 1962-10-08 1963-10-07 Verfahren und Bad zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften

Country Status (1)

Country Link
AT (1) AT247093B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0139382A1 (de) * 1983-08-31 1985-05-02 Imperial Chemical Industries Plc Herstellung einer Kathode zur Verwendung in einer elektrolytischen Zelle

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0139382A1 (de) * 1983-08-31 1985-05-02 Imperial Chemical Industries Plc Herstellung einer Kathode zur Verwendung in einer elektrolytischen Zelle
US4586998A (en) * 1983-08-31 1986-05-06 Imperial Chemical Industries Plc Electrolytic cell with low hydrogen overvoltage cathode

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3018563C2 (de) Korrosionsfeste Elektroden für die Elektrolyse wässriger Lösungen von Alkalihalogeniden
DE1571721C3 (de) Elektrode zur Verwendung in elektrolytischen Prozessen
DE2807054C2 (de)
DE3588054T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Elektrode und deren Verwendung in elektrochemischen Verfahren.
DE3874495T2 (de) Elektrodenkatalysator und dessen herstellungsverfahren.
DD243718A5 (de) Elektrode fuer elektrochemiesche prozesse, verfahren zur herstellung derselben
DE2936033C2 (de)
DE2708043A1 (de) Plattierte metallische kathode
DE1467221B2 (de) Verfahren zur Herstellung einer für die Chloralkali-Elektrolyse geeigneten Elektrode
DE2640244C2 (de) Kathode für die Elektrolyse von Wasser oder einer wäßrigen Alkalihalogenidlösung und Verfahren zu deren Herstellung
DE69611476T2 (de) Aktivierte Kathode und deren Herstellungsverfahren
DE2543033A1 (de) Edelmetallbeschichtete elektroden und verfahren zu ihrer herstellung
DE2537100C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Bleidioxidelektrode und ihre Verwendung zur Durchführung von Elektrolysen
DE2909593C2 (de)
DE2114119C2 (de) Bad zur galvanischen Abscheidung ternärer Legierungen auf Rutheniumbasis
DE1671426A1 (de) Elektrode und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2338549B2 (de)
DE1256504B (de) Verfahren zur galvanischen Herstellung unloeslicher Anoden fuer elektrochemische Prozesse
DE69109029T2 (de) Anode für Chrom-Elektroplattierung, Verfahren zur Herstellung und Verwendung dieser Anode.
AT247093B (de) Verfahren und Bad zur Herstellung von haftfähigen Niederschlägen aus Platin mit verbesserten Überspannungseigenschaften
DE2718316A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum elektrolysieren
DE1052771B (de) Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden von Platin
DE2114543B2 (de) Verfahren zur herstellung einer elektrode zur verwendung in elektrolytischen verfahren
DE2723023A1 (de) Chromquelle fuer das elektroplattieren und deren herstellung und verwendung
EP0911428B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Wismutverbindungen