DE2723023A1 - Chromquelle fuer das elektroplattieren und deren herstellung und verwendung - Google Patents
Chromquelle fuer das elektroplattieren und deren herstellung und verwendungInfo
- Publication number
- DE2723023A1 DE2723023A1 DE19772723023 DE2723023A DE2723023A1 DE 2723023 A1 DE2723023 A1 DE 2723023A1 DE 19772723023 DE19772723023 DE 19772723023 DE 2723023 A DE2723023 A DE 2723023A DE 2723023 A1 DE2723023 A1 DE 2723023A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- solution
- chromium
- iii
- plating
- electroplating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Böblingen, den 20. Mai 1977 oe-som
Anmelderin:
International Business Machines Corporation, Armonk, N.Y. 10504
Amtliches Aktenzeichen:
Neuanmeldung
Aktenzeichen der Anmelderin: UK 976 018
Vertreter:
Patentassessor Dipl.-Chemiker Dr. rer. nat. Dietrich Oechßler 7030 Böblingen
Bezeichnung:
CHROMQUELLE FÜR DAS ELEKTROPLATTIEREN UND DEREN HERSTELLUNG UND VERWENDUNG
809825/058?
272JU23
Die Erfindung betrifft eine wässrige Thiocyanato-chrom(lll)-Komplexlösung
zum Verwenden als Chromquelle in einer Plattierlösung nach Patentanmeldung P 25 45 654.6 zum Elektroplattieren von Chrom oder
Chromlegierungen, ein Verfahren zur Herstellung insbesondere einer solchen Lösung und ein Elektroplattierverfahren insbesondere unter
Verwendung einer solchen Lösung.
In der Patentanmeldung P 25 45 654.6 wird eine Elektroplattierlösung zum
Aufbringen von Chrom oder Chromlegierungen beschrieben, welche als Chromquelle eine wässrige Lösung eines Thiocyanato-chrom(lll)-Komplexes
enthält. In einer bevorzugten Ausführungsform besteht der Thiocyanato-chrom(lll)-Komplex aus einer wässrigen Lösung einer
Mischung von Aquo-thiocyanato-chrom(III)-Komplexen mit der allgemeinen
Formel
(H20)6_nCrIM (NCS)n 3""
wobei η Werte zwischen 1 und 6 annehmen kann.
wobei η Werte zwischen 1 und 6 annehmen kann.
Es sei angemerkt, daß die tiefgestellten Indices immer positiv sind,
während die hochgestellten Indices sowohl positiv als auch negativ sein können. Komplexe dieser Art sind beispielsweise in der Zeitschrift
Inorganic Chemistry, Band 9, Seite 1028 (1970) beschrieben. Diese in der obengenannten Patentanmeldung beschriebene Plattierlösung
hat gegenüber den bis dahin bekannten Plattier lösungen, welche die hochgiftige Chromsäure oder giftige organische Lösungmittel enthalten,
viele Vorteile. Besonders wichtig ist, daß bei ihrer Anwendung zum Plattieren keine Gefahren für die Gesundheit auftreten und daß
die Entsorgung leichter und sicherer zu bewerkstelligen ist, als bei den bis dahin bekannten Plattierlösungen. Bei der Anwendung der
in der obengenannten Patentanmeldung beschriebenen Plattierlösung benutzt man billigere Materialien, braucht weniger Energie und die
Wertminderung aufgrund von Korrosion der für das Plattieren benutzten Vorrichtung ist viel geringer als bei Verwendung der bis
dahin bekannten Plattierlösungen. Darüber hinaus ist das mittels der in der obengenannten Patentanmeldung beschriebenen Plattier-
UK 976 018
809825/058?
_^ 272JÜ23
lösung niedergeschlagene Chrom frei von Mikrosprüngen und kann, ohne
daß sich Sprünge bilden, gebogen werden. Darüber hinaus ist bei Anwendung dieser Plattierlösung der Stromdichtenbereich, in welchem
glänzendes Chrom aufplattiert werden kann größer als bei der Anwendung der bis dahin bekannten Plattier lösungen.
Ein anderer wesentlicher Vorteil von Plattier lösungen, welche Thiocyanatverbindungen
des 3-wertigen Chroms enthalten, ist die Möglichkeit, organische Substanzen, wie z.B. Netzmittel, zu ihnen hinzuzufügen. Dies
ist nicht möglich mit Elektrolyten, welche Chromsäure enthalten, weil in diesen das organische Material spontan oxydiert wird. Es ist gefunden
worden, daß die Zugabe von Netzmitteln, wie z.B. dem unter dem Warenzeichen Triton-X von der Firma Lennig Chemical Company vertriebenen
Produkt oder dem von der 3M Corporation unter dem Namen FC-98 auf den Markt gebrachten Produkt, zu der wässrigen Thiocyanato-chrom (Hl)-Plattierlösung
das Aussehen des niedergeschlagenen Chroms verbessert und die maximal anwendbare Stromdichte, bei der ein Niederschlag des
Chroms erfolgt, ohne daß ein sich entwickelndes Gas das Plattieren verhindert, erhöht.
Wie in der obengenannten Patentanmeldung auch beschrieben ist, können,
wenn Chrom-Nickel- bzw. Chrom-Kobalt-Legierungen aufplattiert werden sollen, Nickel- bzw. Kobaltsulfat zu der Plattierlösung hinzugefügt werden.
Es wurde gefunden, daß bei Verwendung der in der obengenannten Patentanmeldung beschriebenen Plattierlösung bei niederen Stromdichten
kein glänzendes Chrom, sondern ein schwarzer Niederschlag erhalten wird. Dies kann zu Problemen führen, wenn auf komplex geformte Teile
plattiert werden soll, weil in solchen Fällen der Bereich der effektiv auftretenden Stromdichten sehr groß ist.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, eine Verbesserung der in der Patentanmeldung
P 25 45 654.6 beschriebenen als Chromquelle in einer Plattierlösung benutzten wässrigen Thiocyanato-chrom(Ill)-Komplexlösung
anzugeben, wobei die Verbesserung in erster Linie darin bestehen soll, daß die Lösung eine einwandfrei Elektroplattierung in einem ver-
UK 976 018
©09825/058?
2 7 2 3 Ü 2
größertenStromdichtenbereich zuläßt. Die erfindungsgemäße Lösung
soll sich außerdem einfacher herstellen lassen, als in der obengenannten Patentanmeldung
beschrieben worden ist.
Diese Aufgabe wird mit einer Lösung der eingangs genannten Art mit dem
Merkmal des kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1, der Verwendung insbesondere dieser Lösung bei einem Plattierverfahren der eingangs genannten Art
mit den Merkmalen des kennzeichnenden Teil des Anspruchs 11 und einem Verfahren der eingangs genannten Art mit den Merkmalen des kennzeichnenden
Teils des Anspruchs 8 gelöst.
Es wird angenommen, daß der Grund für die schwarzen Niederschläge bei
der Anwendung des in der Patentanmeldung 25 45 654.6 beschriebenen Verfahrens bei der Benutzung zu kleiner Stromdichten darin zu suchen
ist, daß ein Teil des niedergeschlagenen Chroms von einem Komplex mit
der Formel Cr (H_0)- stammt. Man muß sich nämlich wohl vorstellen, daß,
ζ ο
wenn Chrom (III) und Thiocyanat in wässriger Lösung vorliegen, die in
der Lösung vorliegenden Chrom(III)-Komplexe zwar alle 6 Liganden haben,
daß aber im Gleichgewicht in der Lösung sowohl Komplexe mit 6 Thiocyanato-Liganden
als auch die ganze Reihe der Komplexe vorhanden ist, bei welchen zwischen 1 und 6 der Thiocyanato-Liganden durch H.O-Moleküle ersetzt
sind. Das Gleichgewicht stellt sich gemäß der Gleichung:
Cr (NCS)6 3- + nH2O ^ Cr (NCS)6_n (H2O)n 13""*- + nNCS1- ein.
Aus dieser Gleichung ergibt sich, daß bei einem großen Wasserüberschuß,
welcher in wässriger Lösung immer vorhanden ist, die wasserhaltigen Komplexe begünstigt sind, was die Gefahr, daß schwarze Niederschläge
erhalten werden,erhöht. Überraschenderweise wurde nun gefunden,
daß auch in einer wässrigen Lösung, wenn das Chrom (III): Thiocyanato-Verhältnis
1:6 in der Lösung eingestellt wird, das Gleichgewicht offenbar so stark zu den mehr Thiocyanat enthaltenden Komplexen verschoben
wird, daß bei Stromdichten, bei welchen bei dem in der Patentanmeldung P 25 45 654.6 beschriebenen Verfahren sich schwarze Niederschläge
bilden, glänzende Chromniederschläge erhalten werden, so daß es möglich ist, den anwendbaren Stromdichtenbereich zu noch kleineren
Stromdichtenwerten auszudehnen, d.h., daß man beispielsweise mit einer
UK 976 018
309825/0582
2 V 2 J ü 2
Lösung, welche 0,05 molar an Chrom ist, bei Stromdichten von^ 4mA/cm
arbeiten kann.
Die wässrige Lösung mit dem 1: 6-Verhältnis von Chrom(lll) zu Thiocyanat
ermöglicht es aber nicht nur, die anwendbaren Stromdichtenwerte nach kleineren Stromdichten hin auszudehnen, sondern ermöglicht auch, indem
unter Aufrechterhaltung des Chroms: Thiocyanat-Verhältnisses die Chromkonzentration
erhöht wird, eine Ausdehnung der anwendbaren Stromdichten nach größeren Werten hin. Dies erhöht die Plattierungseffizienz
des Bades ganz wesentlich, ohne daß eine Qualitätseinbuße in Kauf genommen werden muß. So ist es beispielsweise möglich, bei einer Molarität
des Chroms in der Lösung von 0,1 bei Stromdichten von 320 mA/cm glänzende Chromniederschläge zu erhalten.
Die genannten Stromdichten wurden beim Elektroplattieren in einer HuII-ZeIIe
ermittelt. Einzelheiten, die die HuII-ZeIIe betreffen, sind in dem Buch "Nickel and Chromium Plating" von J.K. Dennis and T.E. Such,
welches im Verlag Newnes-Butterworths erschienen ist, auf den Seiten 23 ff. beschrieben. Bei der HuII-ZeIIe handelt es sich um ein Gerät,
das dazu benutzt wird, um die Variation in den Erscheinungsformen des aus einer bestimmten Elektrolytlösung aufplattierten Materials bei
wechselnden Strochdichten zu zeigen. Die Anode und die Kathode sind
nicht parallel zueinander angeordnet, vielmehr bilden die Elektrodenflächen einen spitzen Winkel miteinander. Diese Anordnung hat zur
Folge, daß die Stromdichte sich parallel zur Kathodenoberfläche ändert. Die Stromverteilung für die beschriebene Elektrodenanordnung ist
berechnet worden und man hat Tabellen aufgestellt, so daß die Kathodenplatte mit einer Tabelle verglichen werden kann, um das Erscheinungsbild
des aufplattierten Materials mit einer bestimmten Stromdichte in Relation setzen zu können. Die Stromdichte an jedem Punkt entlang
der Kathode in der Zelle kann mittels des von R.O. Hull vorgeschlagenen
Ausdrucks:
i = I (5 · 10 -5 · 24 log. x) berechnet werden,
wobei i = der Stromdichte in A/dm an einen; Punkt, welcher χ cm von dem
Punkt mit der höchsten Stromdichte entfernt ist, und I der Zellenstrom ist.
UK 976 018
80982S/0582
Der Vorteil des 1: 6-Verhältnisses von Chrom (III) zu Thiocyanat besteht aber
nicht nur darin, daß es den praktisch anwendbaren Bereich der Stromdichten erhöht, sondern auch, daß das lon Cr'" (NCS)6 ^stabil ist und
komerziell in der Form von Hexathiocyanato-chromat(lll)Salzen, wie z.B.
K0 Cr (NCS)C, Na, Cr (NCS) c oder (NH.,), Cr(NCS)-, erhältlich ist. In-
i
DJ D 4 3 O
dem man die Cleichgewichtseinstellung dieser Salze in wässriger Lösung,
beispielsweise durch ein dreistündiges Erhitzen auf 80°C oder durch ein elektrochemisches Reduktions-Reoxydationsverfahren, herbeiführt, werden die
für das Elektroplattieren benötigten Cr (NCS) (H2°^6- ~KomP'exe gebildet.
Es leuchtet unmittelbar ein, daß die Herstellung der Aquo-thiocyanatochrom(lll)-lonen
mittels dieses Verfahrens wesentlich einfacher ist, als mit den in der Patentanmeldung P 25 45 654.6 beschriebenen Verfahren.
Beim Einsetzen der erfindungsgemäßen Thiocyanato-chrom (IlI)-Komplexlösung
beim Elektroplattieren wurde als weiterer Vorteil festgestellt,daß
auf die Benutzung einer kationenselektiven lonenaustausch-Membran,
welche den Anodenraum vom übrigen Bad abtrennt und deren Benutzung in der Patentanmeldung P 25 45 654.6 vorgeschlagen wird, verzichtet
werden kann. Der Zweck dieser Membran ist es, einen Abfall des ρ,,-Werts
der Lösung während des Plattierens zu verhindern. Nachteilig bei der
Anwendung der Membran ist aber die notwendige höhere Spannung, um ihren Widerstand gegen den Stromfluß zu überwinden, und die daraus
resultierende Erhöhung der Badtemperatur. Es wurde bei den Untersuchungen im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung nun festgestellt,
daß wenn ein normales Verhältnis von Lösungsvolumen zur Elektrodenoberfläche, d.h. nicht mehr als 100 cm Elektrodenfläche
pro Liter Lösung, eingehalten wird und wenn die zu plattierenden Teile mit einer normalen, glänzenden Chromschicht mit einer Dicke
zwischen etwa 0,3 und etwa 0, 5yum versehen werden, die Änderung des Pu-Wertes während des Plattierens nicht ausreicht, um das Plattieren
zu beeinträchtigen. Darüber hinaus wurde festgestellt, daß, wenn es aus irgendeinem Grund auf einem besonders konstanten p.,-Wert
ankommt oder wenn eine besonders lange Plattierungsdauer notwendig ist, der ρ,,-Wert während des Plattierens in regelmäßigen Abständen
auf den gewünschten Wert eingestellt werden kann, indem kleine Mengen einer Natriumhydroxidlösung zu der Plattierlösung
hinzugefügt werden. Alternativ kann der ρμ-Wert auch durch auto-
UK 976 018
609825/058?
matisches Zufügen von Natriumhydrotfirllösung innerhalb der erforderlichen
Grenzen gehalten werden.
Die erfindungsgemäße wässrige Lösung ist auch in konzentrierter Form
so stabil, daß sie in dieser Form in vorteilhafter Weise in den Handel gebracht werden kann. Vor Gebrauch muß die konzentrierte Lösung
dann nur so verdünnt werden, daß die für das Plattieren benötigten Konzentrationen der verschiedenen Ionen vorliegen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den übrigen Unteransprüchen.
Die Erfindung wird anhand von den folgenden Beispielen beschrieben.
Beispiel 1
Eine 0,05 molare wässrige Lösung von Aquo-thiocyanato-chrom(lll)-Komplex-Ionen
(aquo chromium III thiocyanate complex ions) wurde, wie es in der Patentanmeldung P 25 45 654.6 beschrieben worden ist,
hergestellt, d.h. daß Natriumthiocyanat zusammen mit einer Chromperchloratlösung
erhitzt wurde. Das Chrom (III): Thyiocyanat-Verhältnis
lag bei 1:6. Natriumperchlorat wurde zugefügt, um die Leitfähigkeit der Lösung zu erhöhen. Ein Ätzmittel und zwar das unter dem Handelnamen
Triton-X vertriebene Netzmittel wurde auch zu der Lösung hinzugefügt. Die Plattierlösung war:
0,05 molar an Chrom (III) und
0,3 molar an Thiocyanat und enthielt
50 gr/Liter (Sättigungskonzentration) Borsäure 100 gr/Liter Natriumperchlorat und
0,1 ml/Liter Triton-X.
Eine Messingplatte wurde mittels der beschriebenen Lösung unter Benutzung einer üblichen HuII-ZeIIe unter den folgenden Bedingungen
plattiert: Die Anode bestand aus einem platzierten Geflecht aus Titan
die Kathode aus einer Hull-Zellen-Platte aus Messing, der pH lag bei
2,6, die Temperatur bei 20 C, der Gesamtstrom lag bei 4 A, die Zellenspannung bei 8, 5V und die Plattierungszeit betrug 2 Minuten.
«)gr=Abkürzung für Gramm
UK 976 P18
809825/0582
7ο
Es wurde gefunden, daß die Kathode im Bereich zwischen den 4mA/cm -
2
und der 17OmA/cm -Positionen auf einer Hull-Zellen-Skala (Hull cell scale) mit einem glänzenden Chrombelag plattiert war.
und der 17OmA/cm -Positionen auf einer Hull-Zellen-Skala (Hull cell scale) mit einem glänzenden Chrombelag plattiert war.
Unterhalb der 4mA/cm -Position waren wegen der sehr dünnen Chrombeläge
Interferenzfarben zu sehen und noch weiter unten folgte ein nichtbedecktes Messinggebiet. Oberhalb der 17OmA/cm - Position wurde eine
Ablagerung durch den sehr starken Wasserstoffstrom verhindert. Der Pu der Lösung lag nach dem Plattieren bei 1,8. Auf diese Weise wurde
ein glänzender Chrombelag mit einer vollen attraktiven Farbe über den Cesamtbereich der Stromdichte erhalten und bei niedrigen Stromdichten
wurde kein schwarzer Belag erzeugt.
Eine Lösung wurde wie in Beispiel 1 erzeugt, wobei die Lösung 0,1 molar
an Chrom(lll) war.
Die Plattierlösung war:
0,1 molar an Chrom(lll) und
0,6 molar an Thiocyanat, enthielt
50 gr/Liter (Sättigungskonzentration) Borsäure, 100 gr/Liter Natriumperchlorat und
0,1 ml/Liter Triton-X.
Eine Hull-Zellen-Kathode aus Messing wurde mittels dieser Lösung in
einer Standard-267ml-Hull-Zelle unter den folgenden Bedingungen plattiert. Die Anode bestand aus einem platzierten Titangeflecht, die
Kathode aus einer Hull-Zellen-Platte aus Messing, der pH der Lösung
lag bei 2,6, die Temperatur bei 2O0C, der Cesamtstrom lag bei 5 A,
die Zellenspannung bei 11 V und die Plattierungszeit betrug 2 Minuten.
Es wurde gefunden, daß die Kathode im Bereich zwischen der 10mA/cm und
der 32OmA/cm -Position mit einem glänzenden Chrombelag plattiert war.
UK 976 018
809825/0582
AA
2 2
Unterhalb der 1OmA/cm - und oberhalb der 32OmA/cm -Position wurde ein
Band von Interferenzfarben, welches in reines Messing überging, gefunden. Der Niederschlag war etwas dunkler in der Farbe als die Niederschläge,
welche in den Lösungen mit einer 0,05 molaren Chrom-Konzentration erhalten worden waren. Die obere Grenze der Stromdichte wurde gemäß
der oben angegebenen Formel von R.O. Hull berechnet.
Die Beispiel 3 bis 6 beschreiben Alternativmethoden zur Herstellung
einer Cr (NCS)- -Ionen enthaltenden Lösung.
Eine 0,05 molare wässrige Lösung von Natrium-hexathiocyanato-chromat (III)
(Na_ Cr(NCS).) wurde mit Borsäure (H-BO ) gesättigt. Die Lösung wurde
dann 3 Stunden lang auf 800C erhitzt. Die Lösung wurde dann gekühlt
xnd anschließend wurden 100 gr/Liter NaCIO^ hinzugefügt, um die Leitfähigkeit
der Lösung zu erhöhen. Außerdem wurde das Netzmittel Triton-X zugefügt.
Die Plattierungslösung war:
0,05 molar an Chrom (III) und
0,3 molar an Thiocyanat und enthielt
50 gr/Liter (Sättigungskonzentration) Borsäure, 100 gr/Liter Natriumperchlorat und
0,1 ml/Liter Triton-X.
Eine 0,05 molare wässrige Lösung von Natrium-hexathiocyanato-chromat(lll)
(Na_ Cr (NCS).) wurde mit Borsäure gesättigt. Die Lösung wurde dann
elektrochemisch an einer Quecksilber-Elektrode bei einem Potential von -1000mV gegen eine Standard-Kalomel-Elektrode reduziert, um auf diese
Weise eine Lösung von Thiocyanato-chrom(ll)-Komplexen zu erzeugen. Diese Lösung wurde dann bei -300mV gegen eine Standard-Kalomel-Elektrode
reoxydiert, um auf diese Weise eine Lösung von Aquo-thiocyanatochrom(IlI)-Komplexen
zu erzeugen, (siehe Inorganic Chemistry 9, 1028,
UK 976 018
809825/0582
1970). 100 gr/Liter Natriumperchlorat wurden zugefügt, um die Leitfähigkeit
der Lösung zu erhöhen. Ein Netzmittel, nämlich Triton-X, wurde auch hinzugefügt.
Eine 0,05 molare wässrige Lösung von Kalium-hexathiocyanato-chromat(lll)
(K_ Cr (NCS) g) wurde mit Borsäure (H3BO3) gesättigt. Die Lösung wurde
dann 3 Stunden lang auf 80 C erhitzt. Die Lösung wurde dann gekühlt und 100 gr/Liter Natriumsulfat wurden hinzugefügt, um die Leitfähigkeit der
Lösung zu erhöhen. Das Netzmittel Triton-X wurde hinzugefügt.
Das Bad war:
0,05 molar an Chrom (III) und
0,30 molar an Thiocyanat enthielt
50 gr/Liter (Sättigungskonzentration) Borsäure, 100 gr/Liter Natriumsulfat und
0,1 ml/Liter Triton-X.
Eine 0,05 molare wässrige Lösung von Ammonium-hexathiocyanatochromat
(III) ((NH^)3 Cr (NCS) ß)wurde mit Borsäure gesättigt. Die Lösung
wurde 3 Stunden lang auf 8O0C erhitzt. Die Lösung wurde dann gekühlt
und 100 gr/Liter Natriumsulfat wurden hinzugefügt, um die Leitfähigkeit der Lösung zu erhöhen. Das Netzmittel Triton-X wurde hinzugefügt.
Die Plattierungslösung war:
0,05 molar an Chrom(lll) und
0,30 molar an Thiocyanat, enthielt
50 gr/Liter (Sättigungskonzentration) Borsäure, 100 gr/Liter Natriumsulfat und
0,1 ml/Liter Triton-X.
UK 976 018
809825/0582
λΐ
Bequem läßt sich die erfindungsgemäße Lösung in Form eines Konzentrats
der wässrigen Lösung des Thiocyanato-chrom(lll)-Komplexes in den Handel bringen, welches verdünnt werden kann, um die erforderliche
Konzentration der verschiedenen Ionen zu erhalten.
UK 976 018
809825/0582
Claims (15)
1. Wässrige Thiocyanate-chrom(IlI)-Komplex-Lösung zum Verwenden als
Chromquelle in einer Plattierlösung nach Patentanmeldung P 25 45 654.6 zum Elektroplattieren von Chrom oder Chromlegierungen, dadurch gekennzeichnet,
daß in der Lösung ein Chrom (III) :Thiocyanat-Verhältnis von 1: 6 vorliegt.
2. Lösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie an Borsäure
gesättigt ist.
3. Lösung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ihr ein
Salz zugesetzt ist.
4. Lösung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Salz aus
der Gruppe Natriumperchlorat, Natriumsulfat und Kaliumsulfat ausgewählt
ist.
5. Lösung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß ihr ein Netzmittel zugesetzt ist.
6. Lösung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ihr als Nickel- oder Kobaltquelle Nickel- bzw.
Kobaltsulfat zugesetzt ist.
7. Lösung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß in ihr die Thiocyanato-chrom(III)-Komplex-Konzentration höher als in der Plattier lösung ist.
8. Verfahren zum Herstellen einer Lösung insbesondere nach einem oder
mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die wässrige Lösung eines Hexathiocyanato-chromat(III)-Komplexsalzes
bis zur Gleichgewichtseinstellung behandelt wird (equilibrated).
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die wässrige
Lösung eines Salzes aus der Gruppe Natrium-, Kalium- und Ammonium-
UK 976 018
809825/058? ORIGiNAL INSPECTED
hexathiocyanato-chromaUIII) 3 Stunden lang auf 800C erhitzt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine mit
Borsäure gesättigte, wässrige Lösung von Natrium-hexathiocyanatochromat(lll)
elektrochemisch an einer Hg-Elektrode zunächst reduziert und dann wieder oxydiert wird.
11. Elektroplattierverfahren zum Erzeugen von aus Chrom- oder Chromlegierungen
bestehenden Überzügen auf einem als Kathode geschalteten Substrat unter Verwendung einer Lösung insbesondere nach
einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen die in die Lösung eintauchende Anode und Kathode eine
Spannung gelegt und Stromdichten in einem auf die Chromkonzentration der Lösung abgestimmten Bereich eine festgelegte Zeit aufrechterhalten
werden.
12. Elektroplattierverfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß eine an Chrom (IM) 0,05 molare Lösung verwendet wird und bei Stromdichten an der Kathodenoberfläche zwischen 4 und 170 mA/cm
2 Minuten lang plattiert wird.
13. Elektroplattierverfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß eine an Chrom (III) 0,1 molare Lösung verwendet wird und bei Stromdichten an der Kathodenoberfläche zwischen 10 und 320 mA/cm
2 Minuten lang plattiert wird.
14. Elektroplattierverfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche
11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß bei einem ρ,,-Wert der
Lösung welcher bei ^ 1,8 liegt, plattiert wird.
15. Elektroplattierverfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß bei längerdauernden Plattierungen zu Stützung des ρμ-Werts
der Lösung regelmäßig kleine Mengen einer Natriumhydroxyd-Lösung zu gesetzt werden.
UK 976 018
809825/0582
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB52594/76A GB1571193A (en) | 1976-12-16 | 1976-12-16 | Electroplating chromium and its alloys |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2723023A1 true DE2723023A1 (de) | 1978-06-22 |
DE2723023C2 DE2723023C2 (de) | 1988-01-07 |
Family
ID=10464519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19772723023 Granted DE2723023A1 (de) | 1976-12-16 | 1977-05-21 | Chromquelle fuer das elektroplattieren und deren herstellung und verwendung |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5395134A (de) |
BE (1) | BE853930R (de) |
CA (1) | CA1123370A (de) |
CH (1) | CH627795A5 (de) |
DE (1) | DE2723023A1 (de) |
FR (1) | FR2374436A2 (de) |
GB (1) | GB1571193A (de) |
IT (1) | IT1115399B (de) |
NL (1) | NL7704932A (de) |
SE (1) | SE429563B (de) |
ZA (1) | ZA773264B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2944142A1 (de) * | 1978-11-11 | 1980-05-29 | Ibm | Elektroplattierloesung und ihre verwendung zum erzeugen von chromniederschlaegen |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2093861B (en) * | 1981-02-09 | 1984-08-22 | Canning Materials W Ltd | Bath for electrodeposition of chromium |
GB8411063D0 (en) * | 1984-05-01 | 1984-06-06 | Mccormick M | Chromium electroplating |
DE102006035871B3 (de) * | 2006-08-01 | 2008-03-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Abscheidung von Chromschichten als Hartverchromung, Galvanisierungsbad sowie hartverchromte Oberflächen und deren Verwendung |
JP2011099126A (ja) * | 2008-01-24 | 2011-05-19 | Okuno Chemical Industries Co Ltd | 3価クロムめっき浴 |
US12006585B2 (en) * | 2018-12-11 | 2024-06-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Method for depositing a chromium or chromium alloy layer and plating apparatus |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2545654A1 (de) * | 1974-12-11 | 1976-06-16 | Ibm | Verfahren zum herstellen galvanischer ueberzuege aus chrom und chromlegierungen |
-
1976
- 1976-12-16 GB GB52594/76A patent/GB1571193A/en not_active Expired
-
1977
- 1977-04-19 FR FR7712637A patent/FR2374436A2/fr active Granted
- 1977-04-22 SE SE7704661A patent/SE429563B/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-04-25 CH CH508777A patent/CH627795A5/de not_active IP Right Cessation
- 1977-04-25 BE BE176993A patent/BE853930R/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-05-05 NL NL7704932A patent/NL7704932A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-05-21 DE DE19772723023 patent/DE2723023A1/de active Granted
- 1977-05-30 ZA ZA00773264A patent/ZA773264B/xx unknown
- 1977-12-01 CA CA292,140A patent/CA1123370A/en not_active Expired
- 1977-12-02 IT IT30296/77A patent/IT1115399B/it active
- 1977-12-12 JP JP14825677A patent/JPS5395134A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2545654A1 (de) * | 1974-12-11 | 1976-06-16 | Ibm | Verfahren zum herstellen galvanischer ueberzuege aus chrom und chromlegierungen |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DENNIS, J.K. - SUCH, T.E.: Nickel and Chromium Plating, S. 23 ff * |
Inorganic Chemistry, Bd. 9, 1970, S. 1028 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2944142A1 (de) * | 1978-11-11 | 1980-05-29 | Ibm | Elektroplattierloesung und ihre verwendung zum erzeugen von chromniederschlaegen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1123370A (en) | 1982-05-11 |
JPS5395134A (en) | 1978-08-19 |
FR2374436B2 (de) | 1980-02-01 |
SE429563B (sv) | 1983-09-12 |
FR2374436A2 (fr) | 1978-07-13 |
GB1571193A (en) | 1980-07-09 |
IT1115399B (it) | 1986-02-03 |
DE2723023C2 (de) | 1988-01-07 |
JPS5621356B2 (de) | 1981-05-19 |
ZA773264B (en) | 1979-01-31 |
SE7704661L (sv) | 1978-06-17 |
NL7704932A (nl) | 1978-06-20 |
CH627795A5 (en) | 1982-01-29 |
BE853930R (fr) | 1977-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3022962C2 (de) | Verfahren zum Regenerieren einer chemischen Verkupferungslösung | |
DE3043571A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur durchfuehrung eines elektrolytischen prozesses | |
DE2907739B2 (de) | Verfahren zur Verwendung von Eisen (H)-sulfat bei der Herstellung von Titandioxid von Pigmentqualität nach dem Schwefelsäureprozeß | |
DE2723943C2 (de) | Thiocyanato-Chrom (III)-Komplex-Lösung für ein Bad zum Elektroplattieren von Chrom oder Chromlegierungen, Verfahren zur Herstellung und Anmeldung des Bades | |
DE2545654C2 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zum Abscheiden von Chrom oder einer Chromlegierung und Herstellung eines solchen Bades | |
DE2943049C2 (de) | ||
DE2912351C2 (de) | ||
DE2114119A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Ruthenium und Elektrolysebad zur Durchfuehrung dieses Verfahrens | |
DE60036100T2 (de) | Verfahren zur herstellung von polysulfiden durch anwendung elektrolytischer oxidation | |
DE2723023A1 (de) | Chromquelle fuer das elektroplattieren und deren herstellung und verwendung | |
DE1250712B (de) | Galvanisches Nickelsulfamatbad und Verfahren zum Abscheiden von Nickeluberzugen | |
DE3102585C2 (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Chrom mittels eines dreiwertiges Chrom enthaltenden Bades | |
DE3207776A1 (de) | Verfahren zur elektrodialytischen behandlung von galvanisierloesungen | |
DE2818780C2 (de) | ||
DE2247840B2 (de) | Galvanisches chrombad | |
DE3027982C2 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung einer schwarzen Nickelschicht | |
DE2836353B1 (de) | Verfahren zum Gewinnen von Wasserstoff und Schwefelsaeure durch elektrochemisches Zerlegen eines Elektrolyten sowie Elektrode zur Durchfuehrung der elektrochemischen Zerlegung | |
DE2929305C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen galvanischen Abscheidung von Mangan auf Stahl | |
DE2635560C3 (de) | Galvanisches Zinkbad, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung | |
DD262679A5 (de) | Verfahren zur entfernung von chrom-vi-ionen aus waessrigen loesungen | |
EP0911428B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Wismutverbindungen | |
CH681893A5 (de) | ||
DE701803C (de) | Verfahren zur Verminderung der UEberspannung bei der elektrolytischen Entwicklung von Wasserstoff in Wasserzersetzern | |
DE942428C (de) | Verfahren zum galvanischen Verchromen von Gegenstaenden | |
DE877848C (de) | Verfahren zur Verbesserung der Eigenschaften von fuer elektrolytische Zwecke bestimmten Loesungen, insbesondere galvanischen Baedern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
8178 | Suspension cancelled | ||
AF | Is addition to no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2545654 Format of ref document f/p: P |
|
AF | Is addition to no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2545654 Format of ref document f/p: P |
|
D2 | Grant after examination | ||
PK | Publication date corrected |
Effective date: 19880121 |
|
8380 | Miscellaneous part iii |
Free format text: "AUF DEM TITELBLATT DER PATENTSCHRIFT IST DER VEROEFFENTLICHUNGSTAG DER PATENTERTEILUNG ZU AENDERN IN 21.01.88" |
|
8364 | No opposition during term of opposition |