DE3027982C2 - Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung einer schwarzen Nickelschicht - Google Patents
Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung einer schwarzen NickelschichtInfo
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
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Description
R_NH-[(CH2)n-NH]ro-(CH2)p-X-R' (I)
in der bedeuten:
π 2 oder 3;
m 1, 2 oder 3;
ρ 2 oder 3;
X O oder NH;
R und R' die gleich oder verschieden sein können
H —CH3CH=CH,
-CH2CH2CH2SO3 oder
-CH2CH2CH2SO3 oder
— CH2CHCH2OH
I
OH
OH
15
20
25
und die Nickelionen in einer Menge von 2 bis 25 g/l und das Amin in einer solchen Menge anwesend
sind, daß das Molverhältnis von Nickel zu Amin im Bereich von 1 :1 bis 1 :4 liegt
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich Leitsalze in einer Menge bis zu
ihrer Löslichkeitsgrenze enthält
3. Bad nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es als Leitsalz ein Alkalimetallsuifat,
ein Aikaiimetaiihaiogenid, Magnesiumsulfat, ein Magnesiumhalogenid oder ein Gemisch aus zwei
oder mehr dieser Salze in einer Menge von 30 bis 50 g/l enthält.
4. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich mindestens ein Alkalimetall-thiocyanat,
-thiosulfat oder -hydrogensulfit in einer Menge bis zu 25 g/l enthält.
5. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich bis zu 200 mg/1 eines
Netzmittels enthält.
6. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 5. dadurch gekennzeichnet, daß es als Netzmittel ein anionisches
Netzmittel in einer Menge von 50 bis 100 mg/1 enthält.
7. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß es als Amin Triethylentetramin,
Dipropylentriamin oder 2-(2-Amino-ethylamino)-ethanol
oder ein Gemisch davon enthält.
8. Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer schwarzen Nickelschicht unter Verwendung eines
Bades nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Abscheidung bei einer Stromdichte
im Bereich von 0,2 bis 2,7 A/dm2 und einer Badtemperatur im Bereich von Raumtemperatur bis 65° C
durchgeführt wird.
65
Die Erfindung betrifft ein wäßriges Bad und ein Verfahren für die galvanische Abscheidung einer schwarzen
Nickelschicht, welches Nickelionen und mindestens eine
N-haltige Verbindung enthält
Ein Bad dieser Art ist aus der US-PS 28 44 530 bekannt Es ist sauer eingestellt Die N-haltige Verbindung
ist Natriumthiocyanat, das zusammen mit Zinkchlorid als Schwärzungsmittel eingesetzt ist Als Beispiele
für weitere Bäder für die galvanische Abscheidung schwarzer Nickelschichten, die für Dekorationszwecke oder die Verbesserung der Absorption von
Strahlungsenergie geeignet sind, seien die US-Patentschriften 26 79 475, 31 27 279, 36 81 211 und 37 53 873
genannt
Nachteilig bei diesen bekannten Bädern ist daß bei nicht genauer Kontrolle ihrer Zusammensetzung und
der Bedingungen, unter denen sie betrieben werden, keine durchgehenden schwarzen Nickelschichten erhalten
werden und diese nicht ausreichend gut am Substrat haften. Die Nickelschichten verleihen daher dem Substrat
auch keinen verbesserten Korrosionsschutz und nehmen Klarlack oder andere Sikkativ-Oberzüge nicht
an.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Bad der eingangs angegebenen Art zu schaffen, mit dem
sich innerhalb weiter Konzentration- und pH-Wert-Bereiche festhaftende schwarze Nickelschichten auf
den verschiedenartigsten Substraten erhalten lassen. Darüber hinaus soll ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung
einer schwarzen Nickelschicht unter Verwendung dieses Bades angegeben werden.
Die Aufgabe wird durch das Bad nach Anspruch 1 und das Verfahren nach Anspruch 8 gelöst Bevorzugte
Ausführungsformen des Bades nach Anspruch 1 sind in den Ansprüchen 2—7 angegeben.
Die Nickelionen werden in Form von badverträglichen und badlöslichen Nickelsalzen, wie Nickelsulfat,
Nickelhalogenid, Nickelsulfonat, Nickelfluoborat in das Bad eingeführt. Bevorzugt wird Nickeisuifat Die Nikkelhalogenide
lassen sich mit gutem Erfolg einsetzen, wenn eine Nickelanode beim Betreiben des Bades verwendet
wird, sind aber nicht günstig, wenn inerte Anoden wie Kohleanoden verwendet werden, weil sich an
der Anode das entsprechende gasförmige Halogen entwickelt Nickelsulfat hat bei Verwendung einer Nickelanode
den weiteren Vorteil, daß die Lösung nicht so leicht die Oberfläche der Anode angreift, und der Anstieg
der Nickelionenkonzentration im Bad geht erheblich langsamer vor sich, was die Kontrolle des Bades im
Betrieb vereinfacht
Die Zeit der galvanischen Abscheidung kann 1 bis 10 Minuten betragen, abhängig von der jeweils verwendeten
besonderen Badzusammensetzung, der Art des Substruts, der Art des gewünschten Oberflächenaussehens
und der Stromdichte, bei der gearbeitet wird. Normalerweise führt eine Galvanisierdauer im Bereich von 2 bis 3
Minuten zu zufriedenstellendem Ergebnis.
Die Nickelschicht kann auf Metallsubstraten, wie Nikkei, Kupfer, Messing, galvanisch abgeschiedenes Zink, in
zufriedenstellender Weise abgeschieden werden. Um eine glänzende blanke, weitgehend schwarze Nickelschicht
zu erhalten, sollte das Substrat in blanken Zustand gebracht worden sein, entweder durch galvanische
Abscheidung eines glänzenden Überzugs oder durch mechanische Bearbeitung, wie z. B. Schleifen.
Wenn das Substrat weniger blank ist, tendiert die resultierende Nickelschicht dazu, mit der Zeit grauer zu werden.
Um die Erfindung noch genauer zu veranschaulichen, werden die nachstehenden Beispiele gebracht
Es wurde ein galvanisches Bad, das 26 g/l NiSO4 - 6 H2O und 26 g/l Triethylentetramin enthielt,
hergestellt Der pH-Wert des Bades wurde mit Natronlauge auf 12 eingestellt In diese Lösung wurde ein frisch
bereitetes, mit einer Glanznickelschicht versehenes Werkstück getaucht und mit dem Kathodenpol der
Stromquelle verbunden. Mit dem Anodenpol der Stromquelle wurden Kohlestäbe verbunden, um den
Kreis zu schließen. Das Werkstück wurde zwei bis drei Minuten bei 1,6 A/dm2 und 24°C galvanisiert Es wurde
eine gleichmäßige schwarze gut haftende Nickelschicht abgeschieden.
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt, das 26 g/l
NiSO4 - 6 H2O und 26 g/l Dipropylentriamin enthielt.
Der pH-Wert der, iösung wurde mit Schwefelsäure auf
4 eingestellt In die Lösung wurde ein frisch bereitetes, mit einer Glanznickelschicht versehenes Werkstück getaucht
und 2 bis 3 Minuten bei 1,6 A/dm2 und 24°C
galvanisiert Es wurde eine gleichmäßig schwarze gut haftende Nickelschicht erhalten.
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt das 26 g/l
N1SO4 ■ 6 H2O und 21 g/l 2-(2-Aminoethylamino)-ethanol
enthielt Der pH-Wert der Lösung wurde mit NaOH auf 12 eingestellt In die Lösung wurde ein frisch bereitetes
Werkstück, auf dem eint Glanzeickelschicht abgeschieden
worden v/ar, getaucht and 2 bis 3 Minuten bei 1,6 A/dm2 und 24° C galvanisiert. Es w rde eine gleichmäßig
schwarze, gut haftende Nickelschicht erhalten.
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt, das 26 g/l NiSO4 - 6 H2O, 21 g/l 2-(?.-AminoethyIamino)-ethanol
und 5 g/l NaSCN enthielt Der pH-Wert der Lösung wurde mit NaOH auf 12 eingestellt In die Lösung wurde
ein frisch bereitetes, mit einer Glanznickelschicht überzogenes Werkstück getaucht und 2 bis 3 Minuten
bei 1,6 A/dm2 und 24° C galvanisiert. Es wurde eine gleichmäßig schwarze, gut haftende Nickelschicht erhalten.
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt, das 26 g/l NiSO4 · 6 H2O, 21 g/l 2-(2-Aminoethylamino)-ethanol
und 10 g/l Na2S2O3 enthielt. Der pH-Wert der Lösung
wurde mit NaOH auf 12 eingestellt. In die Lösung wurde ein frisch bereitetes Nickeiwerkstück getaucht und 2
bis 3 Minuten bei 1,6 A/dm2 und 24° C galvanisiert. Es wurde eine gleichmäßig schwarze, gut haftende Nickelschicht
erhalten.
Der Zusatz von entweder Natriumthiocyanat oder Nätriumthiösulfat zu den Bädern gemäß den Beispielen
4 und 5 diente zur Vertiefung der Schwärze; die in diesen Beispielen erhaltenen Nickelschichten waren viel
dunkler als die mit dem Bad nach Beispiel 3 erhaltenen, welches die gleiche Zusammensetzung wie die Bäder
nach den Beispielen 4 und 5 hatte, jedoch kein die Schwärzung vertiefendes Mittel enthielt.
4
Beispiel 6
Beispiel 6
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt das 25 g/l Ni(NH2SO3J2, 21 g/l 2-(2-AminoethyIamino)-ethanol
und 5 g/l NaSCN enthielt Der pH-Wert wurde mit Schwefelsäure auf 6 eingestellt In die Lösung wurde ein
frisch bereitetes Nickelwerkstück getaucht und 2 bis 3 Minuten bei 1,1 A/dm2 und 24°C beschichtet Die erhaltene
Nickelschicht war gleichmäßig schwarz und hiftete gut
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt das 23 g/I N^BF4J2, 21 g/l 2-(2-Aminoethylamino)-ethanol und
5 g/l NaSCN enthielt Der pH-Wert wurde mit Schwefelsäure auf 6 eingestellt In die Lösung wurde ein frisch
bereitetes Nickelwerkstück getaucht und 2 bis 3 Minuten bei 1,1 A/dm2 und 24°C galvanisiert Es wurde eine
gleichmäßig schwarze, gut haftende Nickelschicht erhalten.
Es wurde ein. galvanisches Bad hergestellt das 24 g/l
NiCI4 · 6 H2O, 21 g/l 2-(2-Aminoethylamino)-ethanoI
und 5 g/l NaSCN entbleit Der pH-Wert wurde mit Schwefelsäure auf 6 eingestellt. In die Lösung wurde ein
frisch bereitetes Nickelwerkstück getaucht und 2 bis 3 Minuten bei 1,1 A/dm2 und 24° C galvanisiert Es wurde
eine gleichmäßig schwarze, gut haftende Nickelschicht erhalten.
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt, das 17 g/I
NiSO4 · 6 H2O, 14 g/I 2-(2-Aminoethyiamino)-ethanoi,
5 g/l NaSCN, 40 g/l Na2SO4 und 0,2 g/l eines anionischen
Netzmittels, Natriumlaurylsulfat, enthielt Der pH-Wert wurde mit Schwefelsäure auf 6 eingestellt. In
die Lösung wurde ein frisch bereitetes Nickelweikstück getaucht und 2 bis 3 Minuten bei 1,1 A/dm2 und 24° C
galvanisiert Es wurde eine gleichmäßig schwarze, gut haftende Nickelschicht erhalten.
Beispiel 10
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt, daß 40 g/l NiSO4 · 6 H2O, 33 g/l 2-(2-Aminoethylamino)-ethanoi,
5 g/l NaSCN, 30 g/l Na2SO4 und 0,1 g eines anionischen
Netzmittels, Natriumlauryl-ethoxi-sulfat, enthielt Der
pH-Wert wurde mit Schwefelsäure auf 6 eingestellt. In die Lösung wurde ein frisch bereitetes Nickeiwerkstück
getaucht und 2 bis 3 Minuten bei 1,1 A/dm2 und 24° C galvanisiert. Es wurde eine gleichmäßige schwarze, gut
haftende Nickelschicht erhalten.
Beispiel 11
Es wurde ein galvanisches Bad hergestellt, das 26 g/l
NiSO4 · 6 H2O, 21 g/l 2-(2-Aminoethylamino>ethanol,
5 g/l NaSCN, 40 g/l Na2SO4 und 0,2 g/l Natriumlaurylsulfat
enthielt. Der pH-Wert wurde mit Schwefelsäure auf 6 eingestellt In die Lösung wurde ein frisch bereitetes
Nickelwerkstück getaucht und 2 bis 3 Minuten bei 1,1 A/dm2 und 65°C galvanisiert Der Überzug war
schwarz und von guter Haftfestigkeit.
Claims (1)
1. Wäßriges Bad für die galvanische Abscheidung einer schwarzen Nickelschicht, welches Nickelionen
und mindestens eine N-haltige Verbindung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es einen pH-Wert
im Bereich von 4 bis 12 hat; die N-haltige Verbindung ein badlösliches Amin der nachstehenden
allgemeinen Formel 1 ist
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/071,610 US4244790A (en) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | Composition and method for electrodeposition of black nickel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3027982A1 DE3027982A1 (de) | 1981-04-02 |
DE3027982C2 true DE3027982C2 (de) | 1986-07-17 |
Family
ID=22102429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3027982A Expired DE3027982C2 (de) | 1979-08-31 | 1980-07-24 | Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung einer schwarzen Nickelschicht |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4244790A (de) |
JP (1) | JPS5635789A (de) |
AR (1) | AR223524A1 (de) |
AU (1) | AU531506B2 (de) |
BR (1) | BR8005415A (de) |
CA (1) | CA1158596A (de) |
DE (1) | DE3027982C2 (de) |
ES (1) | ES8106023A1 (de) |
FR (1) | FR2464314A1 (de) |
GB (1) | GB2057505B (de) |
HK (1) | HK66486A (de) |
IT (1) | IT1133029B (de) |
MX (1) | MX153749A (de) |
SE (1) | SE443162B (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4332647A (en) * | 1980-10-17 | 1982-06-01 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Composition and method for electrodeposition of black nickel |
JPS59194918U (ja) * | 1983-06-13 | 1984-12-25 | 田口 武男 | 熱可塑性合成樹脂の筒状フイルム製造装置における可変型サイジングリング |
DE69220519T2 (de) * | 1991-03-04 | 1998-02-19 | Toda Kogyo Corp | Verfahren zur Plattierung eines Verbundmagneten sowie Verbundmagnet mit einem Metallüberzug |
WO2012059789A1 (en) | 2010-11-04 | 2012-05-10 | Selektif Teknoloji Sanayi Ticaret Limited Sirketi | Roll to roll manufacturing of solar selective sheets |
CN108699714A (zh) * | 2016-01-29 | 2018-10-23 | 住友金属矿山株式会社 | 黑化镀液和导电性基板的制造方法 |
CN109825859A (zh) * | 2019-03-26 | 2019-05-31 | 深圳大学 | 发黑电镀液、金属表面电镀发黑处理方法和金属构件 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2355070A (en) * | 1937-07-03 | 1944-08-08 | Little Inc A | Electrolytic deposition of metal |
US2662853A (en) * | 1950-11-07 | 1953-12-15 | Harshaw Chem Corp | Electrodeposition of nickel |
US2836549A (en) * | 1955-01-21 | 1958-05-27 | Elechem Corp | Nickel plating bath containing acetylenic polyamines |
BE564818A (de) * | 1957-02-15 | Mond Nickel Co Ltd | ||
US3386897A (en) * | 1964-09-15 | 1968-06-04 | Barnet D. Ostrow | Electroplasting bright nickel |
-
1979
- 1979-08-31 US US06/071,610 patent/US4244790A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-05-07 CA CA000351451A patent/CA1158596A/en not_active Expired
- 1980-05-15 AR AR281058A patent/AR223524A1/es active
- 1980-06-04 FR FR8012459A patent/FR2464314A1/fr active Granted
- 1980-06-05 AU AU59077/80A patent/AU531506B2/en not_active Ceased
- 1980-06-10 SE SE8004321A patent/SE443162B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-07-01 IT IT49123/80A patent/IT1133029B/it active
- 1980-07-03 ES ES493080A patent/ES8106023A1/es not_active Expired
- 1980-07-04 JP JP9159880A patent/JPS5635789A/ja active Granted
- 1980-07-24 DE DE3027982A patent/DE3027982C2/de not_active Expired
- 1980-08-27 BR BR8005415A patent/BR8005415A/pt not_active IP Right Cessation
- 1980-08-29 MX MX183761A patent/MX153749A/es unknown
- 1980-08-29 GB GB8028047A patent/GB2057505B/en not_active Expired
-
1986
- 1986-09-11 HK HK664/86A patent/HK66486A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5635789A (en) | 1981-04-08 |
ES493080A0 (es) | 1981-07-01 |
AU531506B2 (en) | 1983-08-25 |
FR2464314A1 (fr) | 1981-03-06 |
MX153749A (es) | 1986-12-31 |
DE3027982A1 (de) | 1981-04-02 |
BR8005415A (pt) | 1981-03-10 |
FR2464314B1 (de) | 1985-03-15 |
AR223524A1 (es) | 1981-08-31 |
ES8106023A1 (es) | 1981-07-01 |
GB2057505A (en) | 1981-04-01 |
SE8004321L (sv) | 1981-03-01 |
US4244790A (en) | 1981-01-13 |
AU5907780A (en) | 1981-03-05 |
HK66486A (en) | 1986-09-18 |
CA1158596A (en) | 1983-12-13 |
IT1133029B (it) | 1986-07-09 |
IT8049123A0 (it) | 1980-07-01 |
SE443162B (sv) | 1986-02-17 |
GB2057505B (en) | 1983-08-10 |
JPS576518B2 (de) | 1982-02-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: OMI INTERNATIONAL CORP. (EINE GESELLSCHAFT N.D.GES |
|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: HAUCK, H., DIPL.-ING. DIPL.-WIRTSCH.-ING., 8000 MU |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |