DE19825716A1 - Baugruppe aus optischem Element und Fassung - Google Patents

Baugruppe aus optischem Element und Fassung

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Abstract

Baugruppe aus optischem Element (1) und Fassung (5), bei der das optische Element über eine Mehrzahl von Laschen (2) mit einem steifen Zwischenring (3) gekoppelt ist, der wiederum über Stellglieder (4) oder passive Entkoppler (35) mit einer Fassung (5) zum Anschluß an ein Gehäuse (7) und/oder an weitere Fassungen verbunden ist. Höchste mechanische Entlastung des optischen Elements, DVU-resistente Ausführungen. DOLLAR A Anwendung in Projektionsbelichtungsanlagen.

Description

Die Erfindung betrifft eine Baugruppe aus optischem Element und Fassung, die Verwendung einer solchen Baugruppe, ein Objektiv damit und eine Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie damit. Optische Bauelemente, z. B. Linsen, Prismen, Spiegel, Gitter, vielfach aus Glas, Kristall oder Keramik bestehend, werden regelmäßig mittels Fassungen, in der Regel aus Metall, zu optischen Baugruppen, zum Beispiel Objektiven, zusammengebaut.
Dabei sind die optischen Elemente unter Einhaltung enger Toleranzen relativ zueinander zu positionieren und die ganze Baugruppe soll eine gewisse Robustheit gegenüber Umwelteinflüssen aufweisen. Besondere Anforderungen werden dabei sowohl bei astronomischen Teleskopen, wie bei satellitengestützten Systemen (Beispiel ROSAT-Röntgenteleskop) und bei Projektionsbelichtungssystemen der Mikrolithographie gestellt.
EP 0 053 463 lehrt die Aufhängung von Präzisionsspiegeln an Blattfederelementen, die angeklebt werden.
Eine hochentwickelte Fassungstechnik für Linsen von Mikrolithographie-Projektionsobjektiven ist auch in US 5,428,482 beschrieben.
Entweder wird die Linse direkt mit drei radialen Biegebalken verklebt, oder ein Zwischenring ist über drei am Umfang gleichverteilte Festkörpergelenke mit einem äußeren Fassungsring verbunden. Vollflächige Verklebung von Linse und Zwischenring ist vorgesehen. Durch Stapeln der Fassungsringe wird dann die optische Baugruppe, insbesondere ein Objektiv, aufgebaut.
Anordnungen mit Aktuatoren zur Verlagerung oder Deformation optischer Elemente relativ zum Fassungs-Basisteil sind in vielfältiger Ausführung bekannt. Ein Beispiel gibt EP 0 145 902 A, wo ein Spiegel über drei tangentiale Speichen an einer Fassung aufgehängt ist, die durch Peltierelemente in ihrer Länge verändert werden können.
Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung einer Baugruppe aus optischem Element und Fassung, bei der die Genauigkeit der Positionierung des optischen Elements und seine Entkopplung von auf die Fassung wirkenden Umwelteinflüssen gesteigert sind. Die Fügestelle zwischen optischem Element und Fassung, also in der Regel eine Glas-Metall- oder Kristall-Metall-Verbindung, soll gleichzeitig von Anforderungen an die geometrische Präzision entlastet werden, um sie für andere Fügeverfahren als Kleben hauptsächlich wegen der DUV-Beständigkeit zugänglich zu machen.
Die erfinderische Lösung soll als Konstruktionsprinzip eine große Bandbreite von Anwendungsfällen abdecken. Die Integration in ein Objektiv und die Verwendung in einer Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage ist vorgesehen, mit besonderer Eignung zur sehr feinfühligen Regelung von dessen Abbildungsleistung.
Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Baugruppe aus optischem Element und Fassung nach Anspruch 1, bei der das optische Element über eine Mehrzahl von Laschen mit einem steifen Zwischenring gekoppelt ist, der wiederum über aktive Stellglieder oder passive Entkoppler mit einer Fassung zum Anschluß an ein Gehäuse und/oder an weitere Fassungen verbunden ist.
Vorteilhafte Ausführungsformen sind Gegenstand der Unteransprüche 2 bis 26. Gemäß Anspruch 2 sind die Laschen als Federgelenke bzw. Blattfedern angelegt. Damit wird im wesentlichen die unterschiedliche Wärmeausdehnung vom optischem Element (z. B. Glas) und Fassung (Metall) aufgenommen. Insgesamt werden Spannungen minimiert.
Die Verbindung des optischen Elements mit den Laschen ist Gegenstand der Ansprüche 3 bis 7. Hier geht es darum, Stabilität gegen die Strahlung mit der das optische Element beaufschlagt wird zu sichern - was bei Klebungen im UV-Bereich ein Problem ist - und gleichzeitig keine Spannungen im optischen Element aufzubauen, wie das bei formschlüssigen Verbindungen (Klemmung) unvermeidbar ist. Metallische Schweiß- oder Lötverbindungen werden daher bevorzugt.
Gemäß den Ansprüchen 8 bis 12 gilt ähnliches für die Verbindung der Laschen mit dem Zwischenring, wobei hier auch die homogene einstückige Ausführung nach Anspruch 8 möglich und in vielen Fällen sinnvoll ist. Wo jedoch Lagetoleranzen der Laschen an der Verbindung zum optischen Element auszugleichen sind, ist die Fügung an den Zwischenring z. B. durch Laserschweißen nach Anspruch 12 vorteilhaft.
Gemäß Anspruch 13 sind Piezoelemente, aber auch Peltierelemente (nach EP 0 145 902 A) geeignete Antriebsmittel für die aktiven Stellglieder, die zudem geeignete Getriebe (Festkörperhebel und -gelenke) umfassen können.
Gemäß Anspruch 14 sind für die passiven Entkoppler in erster Linie Festkörpergelenke und -getriebe geeignet, etwa entsprechend US 5,428,482.
Eine bedeutende Klasse von optischen Elementen sind die nach Anspruch 15 vorgesehenen mit rotationssymmetrischem Rand mit einer Symmetrieachse. Dies umfaßt insbesondere die klassischen Linsen mit zylindrischem Rand, durchaus auch mit nicht sphärischen und nicht zentrierten optischen Flächen.
Dafür geben die Ansprüche 16 bis 18 vorteilhafte Ausführungen des Zwischenrings und der Laschen an.
Anspruch 19 gibt eine weitere Klasse von optischen Elementen an- die in Anspruch 15 beschriebene ist darin enthalten - mit denen besonders vorteilhafte Ausführungen u. a. nach den Ansprüchen 20 und 21 hinsichtlich der Laschenanordnung möglich sind. Die Laschen sind danach wie Speichen zwischen dem optischen Element "Nabe" und dem Zwischenring "Felge" angeordnet.
Nach Anspruch 22 sind die Laschen ähnlich wie die Balken der US 5,428,482 tangential angeordnet.
Anspruch 23 beschreibt einen wesentlichen Vorteil der erfindungsgemäßen Anordnung, die mit ihren vielen freien Konstruktionsparametern gut die Einstellung einer niedrigsten Eigenfrequenz mechanischer Schwingungen größer als 200 bis 400 Hz ermöglicht. Damit werden die im wesentlichen bei niedrigeren Frequenzen vorliegenden störenden Schwingungs­ anregungen wirksam unterdrückt.
Ansprüche 24 und 25 dokumentieren die mit der Erfindung erreichbare hohe Güte der spannungsfreien Lagerung. Es werden astigmatische bzw. 3 wellige Rest-Linsendeformationen unter 30 nm, bis unter 20 nm, erreicht. Die Deformationen der Auflagefläche des Außenrings werden zu über 95%, vorzugsweise über 98% und in optimalen Konstruktionen zu über 99% von der Linse entkoppelt.
Passive Stellglieder, wie sie nach Anspruch 26 vorgesehen sind, eignen sich besonders zur Justage nach den Ansprüchen 30 oder 31.
In ihrem bevorzugten Einsatz sind die Baugruppen gemäß den Ansprüchen 27 bis 29 in Objektiven und Projektionsbelichtungs­ anlagen der Mikrolithographie, wobei besonders die Einbindung in Regelkreise nach Anspruch 28 die Korrektur extrem feiner Störungen ermöglicht.
Näher erläutert wird die Erfindung anhand der Zeichnungen.
Fig. 1 zeigt einen schematischen Schnitt durch eine erfindungsgemäße Anordnung mit hängenden Laschen und Aktuator;
Fig. 2 zeigt einen schematischen Schnitt durch eine erfindungsgemäße Anordnung mit liegenden Laschen und Festkörpergelenk zwischen Zwischenring und Fassung;
Fig. 3 zeigt eine Aufsicht auf eine Anordnung nach Art der Fig. 2;
Fig. 4 zeigt eine Aufsicht auf eine erfindungsgemäße Anordnung mit tangentialen Laschen;
Fig. 5 zeigt einen schematischen Schnitt durch eine erfindungsgemäße Anordnung mit Spiegel und Aktuator mit Hebelgetriebe;
Fig. 6 zeigt schematisch eine Projektionsbelichtungsanlage;
Fig. 7 schematisch eine bevorzugte Federlasche.
Die in Fig. 1 dargestellte Anordnung weist eine Linse 1 und eine Fassung 5 auf. Erfindungsgemäß ist ein steifer Zwischen­ ring 3 - z. B. ein Edelstahlring von (größenordnungsmäßig) 1 cm2 Querschnitt abhängig von Masse und Steifigkeit der Linse- vorgesehen, der über Laschen 2 mit der Linse 1 und über Aktuatoren 4 mit der Fassung 5 verbunden ist. Über eine Zwischenlage 6, die der exakten Höhenjustage dient, ist die Fassung an ein Gehäuse 7 angeschlossen, das z. B. als Abstandsring zu einer weiteren derart gefaßten Linse ausgebildet ist.
Die Verbindung 12 der Linse 1 mit den Laschen 2 ist aus zwei Gründen problematisch:
Erstens ist die Werkstoffpaarung durch die unterschiedlichen Eigenschaften des optischen Elements 1 aus Glas, aus Kristallen wie CaF2 oder Quarz oder aus Glaskeramik (Zerodur(R)-Spiegel) und der Metall-Laschen 2 aus Edelstahl, Federbronze oder dergleichen beim Schweißen, Löten aber auch beim Schrauben oder Nieten problembehaftet.
Zweitens ist diese Fügestelle durch die Strahlung, zu deren Transport das optische Element da ist, belastet - mit Ausnahmen bei Spiegeln -. Bei Anwendungen im tiefen UV-Spektralbereich (etwa 300 - 100 nm Wellenlänge) führt dies zur weitgehenden Unbrauchbarkeit organischer Kleber, da diese durch die Strahlung zerstört werden.
Daneben ist diese Verbindung 12 mit sehr engen geometrischen Toleranzen auszuführen, um den Zweck der Anordnung zu erreichen.
Weiter sind die optischen Elemente 1 empfindlich gegen thermische Belastungen, da beispielsweise Antireflexbe­ schichtungen Temperaturen deutlich über 100°c nicht vertragen und andererseits Gläser und besonders Kristalle wie CaF2 - das wegen seiner DUV-Transparenz als Partner zu Quarzglas für achromatisierte Optiken benötigt wird - empfindlich gegen zeitliche und räumliche Temperaturgradienten.
Im Beispiel ist die Verbindung 12 durch eine Ultraschall­ schweißung, wie sie beispielsweise aus E. Röder et al., Technologie & Management 44 (1995), Seite 31-39 bekannt ist, hergestellt, womit die o.g. Probleme beherrscht werden können. Eine andere mögliche Fügetechnik ist das Löten mit niedrigschmelzenden Loten wie in DE 197 55 356 dargestellt. Positionstoleranzen der Laschen 2 können durch die Kopplung 25 der Laschen an den steifen Zwischenring aufgefangen werden, wenn diese anschließend ausgeführt wird. Dafür hat sich das Laserschweißen als geeignet gezeigt, wodurch bei geringem Wärmeeintrag sehr gleichmäßige Schweißverbindungen erzielt werden.
Die Laschen 2 sind als Blattfederelemente aus Blech durch Stanzen oder Ätzen präzise geformt. Sie sind typisch 0,1 mm bis 0,5 mm dick, ca 3-20 mm breit und 10-30 mm lang, bei einem Abstand von einigen mm. Im Beispiel sind sie parallel zur optischen Achse und Symmetrieachse der Linse 1 angeordnet.
Eine Ausführung nach Fig. 7, ein Ätz- oder Stanzteil mit steifem Bügel 71, zwei tangentialen Blattfederelementen 72, 73 und Zone 74 zum Ultraschallverschweißen mit der Linse dazwischen ergibt momentenfreie radiale Ausdehnungsmöglichkeit der Linse. Mit 75 ist die Laser-Schweißzone zur Verbindung mit dem Zwischenring bezeichnet.
An zum Beispiel drei über den Umfang gleichverteilten Stellen ist der steife Zwischenring 3 über Aktuatoren 4 mit der Fassung 5 verbunden. Die Aktuatoren 4 sind z. B. aus piezoelektrischen Elementen aufgebaut. Durch diese Anordnung werden zwei Freiheitsgrade der Linse 1 gegenüber der Fassung 5 entkoppelt, nämlich die Kippungen um die x- und y-Achsen senkrecht zur Symmetrieachse 5.
Passive Aktuatoren die nur bei der Justage des Objektives benötigt werden, können auch durch Stellschrauben betätigt werden.
Dies ermöglicht einerseits eine Justierung der Linsenkippung und entkoppelt andererseits Deformationen der Fassung 5, die beim Zusammenbau der Fassungen 5, Zwischenlagen 6 und Gehäuse 7 zu kompletten optischen Systemen - z. B. Objektiven - aus deren Fertigungstoleranzen usw. entstehen.
Fig. 2 zeigt in entsprechender Darstellung eine Variante. Hier ist die Linse 1 durch eine Klebestelle 122 mit den Laschen 22 verbunden. Bei Anwendung einer Kleberschutzschicht nach DE 197 48 211 ist die Strahlungsbeständigkeit des Klebers gesichert. Die bekannte Methode des Richtkittens ermöglicht dabei eine sehr genaue Justage.
Die Laschen 22 sind mit dem steifen Ring 32 vereinigt aus einem Stück gefertigt, wobei z. B. zum Präzisionsdrehen zusätzlich das Erodieren zum Einbringen der Trennungen zwischen den Laschen 22 eingesetzt wird. Durch Festkörpergelenke 35 ist der steife Ring von der Fassung 52 entkoppelt, so daß sich deren Verformungen im Einbauzustand nicht auf die Linse 1 auswirken können.
Die typischen Abmessungen sind gleich wie bei Fig. 2.
Fig. 3 zeigt eine Ansicht der in Fig. 2 im Querschnitt gezeigten Anordnung in Richtung der optischen Achse und Symmetrieachse S. Man sieht, daß die Laschen 22 radial angeordnet sind und jeweils zu einer Ebene E symmetrisch ausgebildet sind, welche die Symmetrieachse S enthält (Anspruch 17). Auch hat das optische Element 1 (Linse) einen zur Symmetrieachse S rotationssymmetrischen Rand 1R, der Zwischenring 32 ist ein zur Symmetrieachse S rotations­ symmetrischer Ring (Anspruch 16), und die Laschen 22 sind über den Umfang gleichverteilt (Anspruch 18). Auf der X-Achse und der Y-Achse liegen jeweils Federgelenke 35, 35', deren Beweglichkeit jeweils paarweise verschieden orientiert ist. Der Fassungskonstrukteur wählt Anzahl, Lage und Beweglichkeit nach den gegebenen Beanspruchungen aus. Auch die Fassung 52 ist hier wie im allgemeinen bei Linsenfassungen zylindrisch.
Fig. 4 zeigt in gleicher Aufsicht eine erfindungsgemäße Anordnung mit tangential an die Linse 1 angreifenden Laschen 24, die hier auch senkrecht zur Zeichenebene stehen und damit im Sinne von Anspruch 20 senkrecht zur Hauptebene X, Y mit x- und y-Achse stehen - wie auch die hängenden Laschen der Fig. 1 -. Der Zwischenring 34 ist hier über drei unter jeweils 1200 angeordnete Aktuatoren 4 der zu Fig. 1 beschriebenen Bauart mit der Fassung 5 verbunden.
Die erfindungsgemäße Anordnung eignet sich natürlich nicht nur für rotationssymmetrische Linsen wie in oben stehenden Beispielen, sondern für jede Art optischer Elemente wie Prismen, Spiegel, Gitter, holographische Elemente usw. jeder Form. Beachtlich ist, daß diese Fassungstechnik für beliebige Lagen des optischen Elements relativ zur Schwerkraft geeignet ist.
Als Beispiel zeigt Fig. 5 einen dezentrierten Zylinderspiegel 15, der mit paarweise schrägstehenden Federlaschen 25 an den Zwischenring 35 angebunden ist. Über die Festkörpergelenke 452, 453 und den Hebel 451 ist der steife Zwischenring an die Fassung 55 gekoppelt. Der Aktuator 45 (z. B. piezoelektrisch, oder durch ein Peltierelement gesteuertes Ausdehnungselement vgl. EP 0 145 902 A) wirkt so über das Hebelgetriebe 451, 452, 453 mit Untersetzung auf den Zwischenring 35.
Fig. 6 zeigt schließlich beispielhaft die Unterbringung einer erfindungsgemäß in einer Fassung 652 angeordneten Linse 651 in einem Objektiv 65, das als Projektionsobjektiv Teil einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage ist. Diese besteht wie bekannt aus einer Lichtquelle 61, einem Beleuchtungssystem 63, einer Maske 64 mit einem Positionier­ system 641, dem Objektiv 65, dem Wafer 66 und dessen Positioniersystem 661.
Natürlich sind in der Regel im Objektiv 65 mehrere Linsen, bei einem katadioptrischen oder katoptrischen Objektiv auch Spiegel, erfindungsgemäß gefaßt. Hier ist aber aus Gründen der Klarheit nur eines gezeigt. Ebenso kann diese Fassungtechnik natürlich auch im Beleuchtungssystem 63 Verwendung finden.
Ein Leitsystem 67 der Projektionsbelichtungsanlage mit Sensoren 671, 672, 673 steuert die Aktuatoren 653 an der Fassung 652.
Abhängig von Bildparametern (Sensor 671) wie Fokuslage, Wellenfront und dergleichen, von Beleuchtungsparametern (Sensor 672) wie Pulsdauer, Zahl, Beleuchtungseinstellung wie Kohärenzgrad, Quadrupolbeleuchtung, und/oder von Parametern der Maske (Sensor 673) regelt das Leitsystem 67 durch ansteuern der Aktuatoren 653 wie auch ggf. der Aktuatoren anderer optischer Elemente die optimale Bildqualität, wobei in der Regel im Leitsystem 67 abgelegte Kennfelder und Kalibrierparameter Verwendung finden.

Claims (31)

1. Baugruppe aus optischem Element (1) und Fassung (5), bei der das optische Element über eine Mehrzahl von Laschen (2) mit einem steifen Zwischenring (3) gekoppelt ist, der wiederum über Stellglieder (4) oder passive Entkoppler (35) mit einer Fassung (5) zum Anschluß an ein Gehäuse (7) und/oder an weitere Fassungen verbunden ist.
2. Baugruppe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (22) als Federgelenke, insbesondere als Blatt­ federn, ausgelegt sind.
3. Baugruppe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (2) stoffschlüssig mit dem optischen Element (1) verbunden sind.
4. Baugruppe nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung der Laschen (2) mit dem optischen Element (1) gegen ultraviolette Strahlung, insbesondere bei Wellen­ längen unter 300 nm, resistent ist.
5. Baugruppe nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Element (1) aus Glas oder Kristall besteht, die Laschen (2) aus Metall und die Verbindung frei von organischen Bestandteilen ist.
6. Baugruppe nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung geschweißt ist, insbesondere durch Diffusions­ schweißung oder Ultraschallschweißung.
7. Baugruppe nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung gelötet ist.
8. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (22) mit dem Zwischenring (32) einen einteiligen Körper bilden.
9. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (2) stoffschlüssig an den Zwischenring (3) gekoppelt sind.
10. Baugruppe nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Kopplung der Laschen (2) mit dem Zwischenring (3) gegen ultraviolette Strahlung, insbesondere bei Wellenlängen unter 300 nm, resistent ist.
11. Baugruppe nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Kopplung frei von organischen Bestandteilen ist.
12. Baugruppe nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Kopplung geschweißt ist, insbesondere durch Laser­ schweißen.
13. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Stellglieder (4) Piezo­ elemente oder Peltierelemente enthalten.
14. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die passiven Entkoppler (35, 35') Festkörpergelenke enthalten.
15. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Element (1) einen rotationssymmetrischen Rand mit einer Symmetrieachse (S) aufweist.
16. Baugruppe nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Zwischenring (2) zur Symmetrieachse (S) rotations­ symmetrisch ist.
17. Baugruppe nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Laschen (2) symmetrisch zu die Symmetrieachse enthaltenden Ebenen (E) ausgebildet sind.
18. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (22) gleichmäßig über den Umfang des optischen Elements (1) verteilt angeordnet sind.
19. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Element (1) eine Haupt-Ebene (H) aufweist, welche sein Rand mit einer geschlossenen Kurve durchstößt.
20. Baugruppe nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (22) im wesentlichen senkrecht zur Haupt-Ebene (H) angeordnet sind.
21. Baugruppe nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (22) im wesentlichen in der Haupt-Ebene (H) radial zum Rand des optischen Elements (1) angeordnet sind.
22. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Laschen (22) im wesent­ lichen tangential zum Rand (1R) des optischen Elements (1) angeordnet sind.
23. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die niedrigste Eigenfrequenz mechanischer Schwingungen größer als 200 Hz, vorzugsweise größer als 300 Hz, bis zu etwa 1 KHz ist.
24. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die astigmatische und die dreiwellige Deformation des optischen Elements (1) unter 30 nm liegt.
25. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß die Deformationen der Auflage­ fläche des Außenrings (5) zu über 95% vom optischen Element (1) entkoppelt sind.
26. Baugruppe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Teil der Stellglieder (4) passiv ist.
27. Objektiv (65) enthaltend zumindest eine Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 26.
28. Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie enthaltend zumindest eine Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 26, mit mindestens einem Aktuator (653), dadurch gekennzeichnet, daß ein Regelkreis vorhanden ist, der mindestens einen Aktuator (653) ansteuert.
29. Verwendung einer Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 26 zum Aufbau einer Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage.
30. Verwendung des passiven Stellgliedes nach Anspruch 26 zur Justage der Linse zu einer Referenz außerhalb des Objektives nach Anspruch 27.
31. Verwendung des passiven Stellgliedes nach Anspruch 26 zur Justage der Linse innerhalb des Objektives nach Anspruch 27 während der Justage derselben.
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Country Status (6)

Country Link
US (1) US6229657B1 (de)
EP (1) EP0964281B1 (de)
JP (2) JP4618604B2 (de)
KR (1) KR100568195B1 (de)
DE (2) DE19825716A1 (de)
TW (1) TW459149B (de)

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10029306A1 (de) * 2000-06-14 2002-01-17 Physik Instr Pi Gmbh & Co Anordnung zur temperaturkompensierten, mehrdimensionalen Mikropositionierung von zueinander lagedefinierten optischen Komponenten
EP1209500A2 (de) * 2000-10-31 2002-05-29 Carl Zeiss Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
WO2003036359A2 (de) * 2001-10-20 2003-05-01 Carl Zeiss Smt Ag Optisches element mit einer optischen achse
EP1312965A1 (de) * 2000-08-18 2003-05-21 Nikon Corporation Haltevorrichtung für optisches Element
DE10229623A1 (de) * 2002-06-28 2004-01-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Baugruppe mit einer äußeren Fassung und einem optischen Element
DE10228053A1 (de) * 2002-06-19 2004-01-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Element und Verfahren zu seiner Herstellung, bei dem zwei in Bezug zu mindestens einer Justierachse positionierte Körper stoffschlüssig miteinander verbunden sind
US6816325B1 (en) 2003-09-11 2004-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Mounting apparatus for an optical element
US6844994B2 (en) 2000-09-20 2005-01-18 Carl Zeiss Smt Ag Optical element deformation system
US6870632B2 (en) 2001-03-30 2005-03-22 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for mounting an optical element in an optical system
DE10344178A1 (de) * 2003-09-24 2005-04-28 Zeiss Carl Smt Ag Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element
US6897599B2 (en) 2001-02-13 2005-05-24 Carl Zeiss Smt Ag System for damping oscillations
US7014328B2 (en) 2001-04-12 2006-03-21 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for tilting a carrier for optical elements
US7034998B2 (en) 2000-06-21 2006-04-25 Carl Zeiss Smt Ag Method of connecting a multiplicity of optical elements to a basic body
US7082693B2 (en) 2001-03-30 2006-08-01 Carl Zeiss Smt Ag Adjusting apparatus for devices and for setting adjustments
DE102006043185A1 (de) * 2006-09-14 2008-04-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum justierten Verbinden von Platten und nach diesem Verfahren hergestellte optische Baugruppe
US7540983B2 (en) 2003-07-11 2009-06-02 Carl Zeiss Smt Ag Method of producing aspherical optical surfaces
US7581305B2 (en) 2004-04-12 2009-09-01 Carl Zeiss Smt Ag Method of manufacturing an optical component
US7920344B2 (en) 2005-07-01 2011-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Arrangement for mounting an optical element
DE102006038294B4 (de) * 2005-09-02 2012-03-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Fassung für ein optisches Element
DE102011080408A1 (de) * 2011-08-04 2013-02-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Semiaktive Kippkorrektur für feste Spiegel
US8441747B2 (en) 2006-09-14 2013-05-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical module with minimized overrun of the optical element
DE102012102566A1 (de) * 2012-03-26 2013-09-26 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Übertragungselement für eine Stellbewegung eines optischen Elementes, Positioniereinrichtung sowie Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsmaschine
DE102012218220A1 (de) * 2012-10-05 2013-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Untersetzungskinematik
DE102013201604A1 (de) * 2013-01-31 2014-08-14 Picofine GmbH Kippvorrichtung und Verfahren zum Kippen
DE102015115929B3 (de) * 2015-09-21 2016-10-06 Jenoptik Optical Systems Gmbh Monolithische Linsenfassung
DE102015115931B3 (de) * 2015-09-21 2016-10-27 Jenoptik Optical Systems Gmbh Spannungsentkoppelte monolithische Linsenfassung
DE102021200131A1 (de) 2021-01-11 2022-07-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe mit einem Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines Elements
DE102022214186A1 (de) 2022-12-21 2024-06-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und projektionsbelichtungsanlage

Families Citing this family (69)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
DE19859634A1 (de) * 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
DE19930643C2 (de) * 1999-07-02 2002-01-24 Zeiss Carl Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
US6650412B1 (en) * 1999-09-10 2003-11-18 Kaiser Optical Systems Thermal compensation for optical apparatus
DE19957398A1 (de) * 1999-11-29 2001-05-31 Zeiss Carl Verfahren zum Richten der Auflageflächen von Auflagegliedern für optische Elemente
JP4945845B2 (ja) 2000-03-31 2012-06-06 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
EP1148389B1 (de) * 2000-04-17 2008-02-27 ASML Netherlands B.V. Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
US6556364B2 (en) * 2000-04-25 2003-04-29 Michael F. Meehan Apparatus, system, and method for precision positioning and alignment of a lens in an optical system
DE10062786A1 (de) 2000-12-15 2002-06-20 Zeiss Carl System zur Dämpfung von Schwingungen
DE10136387A1 (de) * 2001-07-26 2003-02-13 Zeiss Carl Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie
DE10140608A1 (de) * 2001-08-18 2003-03-06 Zeiss Carl Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements
JP2003107311A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
TW577108B (en) * 2001-11-07 2004-02-21 Nikon Corp Optical device and the manufacturing method thereof, optical system, and manufacturing method of exposure device and micro-device
JP2003241049A (ja) * 2002-02-22 2003-08-27 Nikon Corp 光学素子保持方法、光学素子研磨加工方法及び光学素子成膜方法
DE10216114A1 (de) * 2002-04-12 2003-10-23 Zeiss Carl Smt Ag Vorrichtung zur deformationsarmen Lagerung eines nicht rotationssymmetrischen optischen Elementes
DE10219514A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
US20030234916A1 (en) * 2002-06-21 2003-12-25 Nikon Corporation Soft supports to reduce deformation of vertically mounted lens or mirror
JP4565261B2 (ja) * 2002-06-24 2010-10-20 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
AU2003250898A1 (en) * 2002-08-08 2004-03-11 Carl Zeiss Smt Ag Device for receiving an optical module in an imaging unit
EP1576403A1 (de) * 2002-12-23 2005-09-21 BAE Systems PLC Halterung für verformbaren spiegel
AU2003219097A1 (en) * 2003-03-26 2004-10-18 Carl Zeiss Smt Ag Device for the low-deformation replaceable mounting of an optical element
ATE449978T1 (de) * 2003-06-06 2009-12-15 Nikon Corp Halteeinrichtung für optische elemente, objektivtubus, belichtungseinrichtung und herstellungsverfahren für bauelemente
EP1646074A4 (de) * 2003-07-09 2007-10-03 Nikon Corp Belichtungsvorrichtung und verfahren zur bauelementeherstellung
KR101134210B1 (ko) * 2003-10-02 2012-04-09 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 반도체 리토그래피용 광학 서브어셈블리 및 투영 대물렌즈
DE10352820A1 (de) * 2003-11-12 2005-06-23 Carl Zeiss Smt Ag Flanschbaugruppe eines optischen Systems
WO2005054953A2 (en) * 2003-11-24 2005-06-16 Carl-Zeiss Smt Ag Holding device for an optical element in an objective
US7265917B2 (en) * 2003-12-23 2007-09-04 Carl Zeiss Smt Ag Replacement apparatus for an optical element
US7697222B2 (en) * 2003-12-25 2010-04-13 Nikon Corporation Apparatus for holding optical element, barrel, exposure apparatus, and device producing method
US20050153064A1 (en) * 2004-01-14 2005-07-14 Asml Holding N.V. Method of covering clear aperture of optic during deposition of glue protection layer
EP1577693B1 (de) * 2004-02-26 2011-07-13 Carl Zeiss SMT GmbH Objektiv mit wenigstens einem optischen Element
DE102004014641B4 (de) * 2004-03-09 2007-09-13 Carl Zeiss Smt Ag Anordnung zur Lagerung eines optischen Bauelements
US7515359B2 (en) 2004-04-14 2009-04-07 Carl Zeiss Smt Ag Support device for positioning an optical element
KR101332497B1 (ko) * 2005-01-26 2013-11-26 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학 조립체를 포함하는 마이크로-리소그래피의 투사 노광기
JP5199068B2 (ja) * 2005-05-09 2013-05-15 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学エレメント調整組立体
WO2006133800A1 (en) 2005-06-14 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same
JP4710427B2 (ja) * 2005-06-15 2011-06-29 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP2007017632A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
TWI372271B (en) * 2005-09-13 2012-09-11 Zeiss Carl Smt Gmbh Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device
DE102005057860A1 (de) 2005-12-03 2007-06-06 Carl Zeiss Smt Ag Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie
DE102006038634A1 (de) * 2006-08-17 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Halteeinrichtung für ein optisches Element mit Stützkraftausgleich
JP2008058732A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Mitsumi Electric Co Ltd カメラモジュール
JP5013906B2 (ja) * 2007-03-05 2012-08-29 キヤノン株式会社 光学素子保持装置
DE102008040218A1 (de) 2007-07-11 2009-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Drehbares optisches Element
JP5128665B2 (ja) 2007-08-23 2013-01-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
DE102008041310A1 (de) 2007-08-31 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
JP5127515B2 (ja) * 2008-03-12 2013-01-23 キヤノン株式会社 光学素子保持装置
DE102008000967B4 (de) * 2008-04-03 2015-04-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie
WO2009124590A1 (en) * 2008-04-09 2009-10-15 Carl Zeiss Smt Ag Optical aperture device
DE102008026978A1 (de) * 2008-05-29 2009-12-03 Carl Zeiss Ag Fernrohr
DE102008032853A1 (de) 2008-07-14 2010-01-21 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element
DE102009044957A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Stützelemente für ein optisches Element
DE102008063223B3 (de) * 2008-12-23 2010-09-09 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Monolithische optische Fassung
DE102009005954B4 (de) 2009-01-20 2010-10-21 Carl Zeiss Smt Ag Dämpfungsvorrichtung
DE102009029673A1 (de) 2009-09-22 2010-11-25 Carl Zeiss Smt Ag Manipulator zur Positionierung eines optischen Elementes in mehreren räumlichen Freiheitsgraden
DE102009045163B4 (de) * 2009-09-30 2017-04-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2011090250A (ja) * 2009-10-26 2011-05-06 Canon Inc 光学装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法
DE102010008756A1 (de) * 2010-02-17 2011-06-30 Carl Zeiss Laser Optics GmbH, 73447 Optische Anordnung
US8542450B2 (en) * 2011-02-08 2013-09-24 Utah State University Research Foundation Kinematic optic mount
CN107219606A (zh) * 2011-07-20 2017-09-29 株式会社尼康 透镜镜筒以及拍摄装置
KR101693950B1 (ko) * 2011-09-29 2017-01-06 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물 렌즈
DE102013109185B3 (de) * 2013-08-23 2014-05-22 Jenoptik Optical Systems Gmbh Optische Baugruppe mit einer Fassung mit Verbindungseinheiten gerichteter Nachgiebigkeit
US9557516B2 (en) 2013-10-07 2017-01-31 Corning Incorporated Optical systems exhibiting improved lifetime using beam shaping techniques
DE102014224418A1 (de) 2014-11-28 2015-02-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Halteeinrichtung und Lithographieanlage
JP6240142B2 (ja) * 2015-11-26 2017-11-29 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
US10088468B2 (en) * 2016-02-04 2018-10-02 Nova Biomedical Corporation Analyte system and method for determining hemoglobin parameters in whole blood
DE102019213798A1 (de) * 2019-09-11 2021-03-11 Robert Bosch Gmbh Verfahren zum Fügen eines Kameraobjektivs an einem Objektivhalter
DE102019218925A1 (de) * 2019-12-05 2021-06-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur montage eines optischen systems
CN112068274B (zh) * 2020-09-08 2022-05-17 西安应用光学研究所 一种用于精密光机系统粘接的胶头保形装置和方法
DE102021214140A1 (de) * 2021-12-10 2023-06-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Fassung für eine linse, anordnung, lithographieanlage sowie verfahren

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD151230A1 (de) * 1980-06-02 1981-10-08 Gerhard Meister Fassung fuer optische bauelemente
JPS5790607A (en) * 1980-11-28 1982-06-05 Fujitsu Ltd Optical glass fitting device
JPS5887504A (ja) * 1981-11-20 1983-05-25 Olympus Optical Co Ltd レンズ保持装置
JPS5975217A (ja) * 1982-10-23 1984-04-27 Olympus Optical Co Ltd レンズ保持装置
US4540251A (en) 1983-12-01 1985-09-10 International Business Machines Corporation Thermo-mechanical overlay signature tuning for Perkin-Elmer mask aligner
JPS60230609A (ja) * 1984-05-01 1985-11-16 Konishiroku Photo Ind Co Ltd プラスチツクレンズ保持装置
US4733945A (en) * 1986-01-15 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Precision lens mounting
DD250784A1 (de) * 1986-07-01 1987-10-21 Zeiss Jena Veb Carl Optische anordnung mit radialer und axialer temperaturkompensation
JPH0220328A (ja) * 1988-07-08 1990-01-23 Nikon Corp 紫外域用光学要素
US5428482A (en) * 1991-11-04 1995-06-27 General Signal Corporation Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly
US5457577A (en) * 1992-01-22 1995-10-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Quick-set precision optical holder
JPH0631281U (ja) * 1992-09-21 1994-04-22 日本ビクター株式会社 プロジェクションテレビの投写装置
JPH0710710U (ja) * 1993-07-12 1995-02-14 旭光学工業株式会社 レンズの保持構造
US5523893A (en) * 1994-08-24 1996-06-04 Northrop Grumman Corporation Strain free temperature-compensated optical mounts
JPH08171054A (ja) * 1994-12-16 1996-07-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
JPH1026736A (ja) * 1996-07-10 1998-01-27 Sanyo Electric Co Ltd 太陽光採光装置における原点位置検出装置
JPH1054932A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nikon Corp 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
DE19748211A1 (de) 1997-10-31 1999-05-06 Zeiss Carl Fa Optisches Array-System und Reader für Mikrotiterplatten
DE19755356A1 (de) 1997-12-12 1999-06-17 Zeiss Carl Fa VUV-beständige Verbindungstechnik für Linsen und Fassungen
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung

Cited By (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10029306A1 (de) * 2000-06-14 2002-01-17 Physik Instr Pi Gmbh & Co Anordnung zur temperaturkompensierten, mehrdimensionalen Mikropositionierung von zueinander lagedefinierten optischen Komponenten
DE10029306C2 (de) * 2000-06-14 2003-07-31 Physik Instr Pi Gmbh & Co Anordnung zur temperaturkompensierten, mehrdimensionalen Mikropositionierung von zueinander lagedefinierten optischen Komponenten
US7034998B2 (en) 2000-06-21 2006-04-25 Carl Zeiss Smt Ag Method of connecting a multiplicity of optical elements to a basic body
US7420752B2 (en) 2000-08-18 2008-09-02 Nikon Corporation Holding apparatus
EP1744193A1 (de) * 2000-08-18 2007-01-17 Nikon Corporation Halter für ein optisches Element mit einem Antriebsmechanismus, der die Bewegung des optischen Elements entlang dreier Koordinatenachsen erlaubt
US7154684B2 (en) 2000-08-18 2006-12-26 Nikon Corporation Optical element holding apparatus
EP1312965A1 (de) * 2000-08-18 2003-05-21 Nikon Corporation Haltevorrichtung für optisches Element
EP1312965A4 (de) * 2000-08-18 2003-08-13 Nikon Corp Haltevorrichtung für optisches Element
US6844994B2 (en) 2000-09-20 2005-01-18 Carl Zeiss Smt Ag Optical element deformation system
EP1209500A2 (de) * 2000-10-31 2002-05-29 Carl Zeiss Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
US6552862B2 (en) 2000-10-31 2003-04-22 Carl-Zeiss-Stiftung Mounting device for an optical element
EP1209500A3 (de) * 2000-10-31 2003-08-20 Carl Zeiss Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
US6897599B2 (en) 2001-02-13 2005-05-24 Carl Zeiss Smt Ag System for damping oscillations
US7082693B2 (en) 2001-03-30 2006-08-01 Carl Zeiss Smt Ag Adjusting apparatus for devices and for setting adjustments
US6870632B2 (en) 2001-03-30 2005-03-22 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for mounting an optical element in an optical system
US7014328B2 (en) 2001-04-12 2006-03-21 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for tilting a carrier for optical elements
WO2003036359A3 (de) * 2001-10-20 2003-10-09 Zeiss Carl Semiconductor Mfg Optisches element mit einer optischen achse
WO2003036359A2 (de) * 2001-10-20 2003-05-01 Carl Zeiss Smt Ag Optisches element mit einer optischen achse
US7295331B2 (en) 2001-10-20 2007-11-13 Carl Zeiss Smt Ag Optical element with an optical axis
DE10228053B4 (de) * 2002-06-19 2006-06-14 Carl Zeiss Jena Gmbh Element und Verfahren zu seiner Herstellung, bei dem zwei in Bezug zu mindestens einer Justierachse positionierte Körper stoffschlüssig miteinander verbunden sind
DE10228053A1 (de) * 2002-06-19 2004-01-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Element und Verfahren zu seiner Herstellung, bei dem zwei in Bezug zu mindestens einer Justierachse positionierte Körper stoffschlüssig miteinander verbunden sind
DE10229623A1 (de) * 2002-06-28 2004-01-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Baugruppe mit einer äußeren Fassung und einem optischen Element
US7540983B2 (en) 2003-07-11 2009-06-02 Carl Zeiss Smt Ag Method of producing aspherical optical surfaces
US6816325B1 (en) 2003-09-11 2004-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Mounting apparatus for an optical element
DE10344178B4 (de) * 2003-09-24 2006-08-10 Carl Zeiss Smt Ag Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element
DE10344178A1 (de) * 2003-09-24 2005-04-28 Zeiss Carl Smt Ag Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element
US7581305B2 (en) 2004-04-12 2009-09-01 Carl Zeiss Smt Ag Method of manufacturing an optical component
US7920344B2 (en) 2005-07-01 2011-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Arrangement for mounting an optical element
DE102006038294B4 (de) * 2005-09-02 2012-03-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Fassung für ein optisches Element
DE102006043185A1 (de) * 2006-09-14 2008-04-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum justierten Verbinden von Platten und nach diesem Verfahren hergestellte optische Baugruppe
DE102006043185B4 (de) * 2006-09-14 2010-05-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum justierten Verbinden von Platten und nach diesem Verfahren hergestellte optische Baugruppe
US8441747B2 (en) 2006-09-14 2013-05-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical module with minimized overrun of the optical element
DE102011080408A1 (de) * 2011-08-04 2013-02-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Semiaktive Kippkorrektur für feste Spiegel
DE102012102566A1 (de) * 2012-03-26 2013-09-26 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Übertragungselement für eine Stellbewegung eines optischen Elementes, Positioniereinrichtung sowie Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsmaschine
DE102012102566B4 (de) 2012-03-26 2019-02-21 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Übertragungselement für eine Stellbewegung eines optischen Elementes, Positioniereinrichtung sowie Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsmaschine
DE102012218220A1 (de) * 2012-10-05 2013-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Untersetzungskinematik
DE102013201604A1 (de) * 2013-01-31 2014-08-14 Picofine GmbH Kippvorrichtung und Verfahren zum Kippen
DE102013201604B4 (de) * 2013-01-31 2014-10-23 Picofine GmbH Kippvorrichtung und Verfahren zum Kippen
DE102015115929B3 (de) * 2015-09-21 2016-10-06 Jenoptik Optical Systems Gmbh Monolithische Linsenfassung
DE102015115931B3 (de) * 2015-09-21 2016-10-27 Jenoptik Optical Systems Gmbh Spannungsentkoppelte monolithische Linsenfassung
US10036869B2 (en) 2015-09-21 2018-07-31 Jenoptik Optical Systems Gmbh Monolithic lens mount
DE102021200131A1 (de) 2021-01-11 2022-07-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe mit einem Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines Elements
DE102022214186A1 (de) 2022-12-21 2024-06-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und projektionsbelichtungsanlage

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