DE19754664C2 - Verfahren zur Herstellung einer transparenten, leitfähigen Schicht, danach hergestellte transparente, leitfähige Schicht sowie deren Verwendung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer transparenten, leitfähigen Schicht, danach hergestellte transparente, leitfähige Schicht sowie deren VerwendungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine transparente
leitfähige Schicht, deren Herstellungsverfahren und Verwen
dung, im besonderen als antistatische Schicht und elektroma
gnetische Wellen abschirmende Schicht für Heimgeräte und als
transparenter Stromversorgungselektrolyt für einen Flach
plattendisplay.
Eine transparente leitfähige Schicht ist eine dünne
Schicht, die auf die Oberfläche einer Isoliermaterialschicht
mit hoher Lichtdurchlässigkeit aufgebildet ist. Die trans
parente leitfähige Schicht umfaßt einen Metalldünnfilm aus
Platin (Pt) oder Gold (Au) und einen Metalloxiddünnfilm aus
Indiumzinnoxid (ITO), Zinnoxid, Titanoxid oder Antimonoxid.
Im allgemeinen wird eine transparente leitfähige
Schicht durch ein Bedampfungsverfahren, ein Ablagerungsver
fahren oder ein Ionenstrahlverfahren hergestellt. Bei Bil
dung der transparenten leitfähigen Schicht durch eines der
obigen Verfahren ist eine teure Ausrüstung, wie eine Vakuumvorrichtung,
erforderlich, was die Herstellungskosten er
höht. Da außerdem die obigen Herstellungsverfahren unter
Vakuumbedingungen durchgeführt werden, ist die Größe des
herzustellenden Dünnfilms streng begrenzt.
Vorbekannte Verfahren zur Herstellung einer transparen
ten leitfähigen Schicht umfassen die Aufschichtung einer
Dispersion, welche transparente leitfähige Partikel enthält,
auf ein Substrat zur Bildung einer leitfähigen Schicht und
anschließende Bildung einer Schutzschicht aus einem Hydroly
seprodukt eines Metallalkoxids auf die entstandene Struktur.
Die Struktur der transparenten leitfähigen Schicht, die
durch das obige Verfahren gebildet wird, ist in Fig. 1
dargestellt.
Gemäß Fig. 1 (Stand der Technik) haben die transparenten leitfähigen Par
tikel 14 der leitfähigen Schicht 12, die auf einem Substrat
11 ausgebildet ist, keinen direkten Kontakt zueinander, und
in dem Raum zwischen den transparenten leitfähigen Partikeln
14 treten Lücken auf. Die Bezugsziffer 13 bezeichnet die
Schutzschicht aus einem Hydrolyseprodukt eines Metallalk
oxids.
Jedoch verbleibt ein Lösungsmittel, welches bei der
Herstellung der transparenten leitfähigen Schicht verwendet
wird, teilweise in den Zwischenräumen. Der Zwischenraum
zwischen den transparenten leitfähigen Partikeln erhöht den
Übergangswiderstand der transparenten leitfähigen Schicht,
wodurch die Leitfähigkeit der Schicht herabgesetzt wird.
Zum Erhalt einer transparenten leitfähigen Schicht mit
ausgezeichneter Leitfähigkeit ist es erforderlich, ein
Hochtemperatur (400°C oder mehr)-Sinterverfahren in einer
reduzierenden Atmosphäre durchzuführen. Es ist jedoch
schwierig, dieses Hochtemperatur-Sinterverfahren auf Gegen
stände mit geringer Hitzebeständigkeit, wie Kunststoffe,
anzuwenden, und das Verfahren könnte eine Beschichtungsvor
richtung beschädigen, was Schwierigkeiten bei der praktischen
Verwendung verursacht.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, eine transpa
rente leitfähige Schicht mit ausgezeichneter Leitfähigkeit,
Transparenz und Härte zur Verfügung zu stellen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist ebenfalls, ein
Herstellungsverfahren und die Verwendung der transparenten
leitfähigen Schicht aufzuzeigen.
Die Aufgabe der Erfindung wird gelöst durch das Ver
fahren nach Anspruch 1, bzw. die transparente, leitfähige
Schicht nach Anspruch 7, bzw. die Verwendung nach Anspruch
8; die Ansprüche 2 bis 6 betreffen besondere Ausgestaltungen
des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Die obigen Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Er
findung werden durch detaillierte Beschreibung einer bevor
zugten Ausführungsform mit Bezug auf die angefügten Zeich
nungen näher ersichtlich, wobei
Fig. 1 schematisch die Struktur einer transparenten
leitfähigen Schicht, die durch ein konventionelles Verfahren
gebildet wurde, und
Fig. 2 schematisch die Struktur einer erfindungsgemä
ßen leitfähigen Schicht zeigen.
Erfindungsgemäß wird eine Sol-Gel-Reaktion eines Me
tallalkoxids [M1(OR)4], wie Siliziumalkoxid, verwendet, um
eine Hydrolysereaktion eines Metallsalzes (M2X) (Reaktions
gleichung (1)) irreversibel zu machen. Im Ergebnis ist ein
Metallion (M2) in einer Netzwerkstruktur des Silikats enthal
ten, wie in der folgenden Reaktionsgleichung (2) dargestellt.
wobei M2 ein Metallion und X Chlorid, Nitrat oder Sulfonat
darstellen.
Eine erfindungsgemäß verwendbare transparente leitfähi
ge Zusammensetzung enthält
transparente leitfähige Partikel, Metallalkoxid [M1(OR) 4], Metall (M2)-Partikel oder deren Salze (M2X) und einen Katalysator,
wobei es sich bei dem Metallalkoxid [M1(OR)4] um Si(OR)4, Ti(OR)4, Sn(OR)4 und/oder Zr(OR)4 handelt, wobei R C1-C4- Alkyl, das Metall (M2) Silber (Ag), Gold (Au), Platin (Pt), Kupfer (Cu), Nickel (Ni), Blei (Pb), Cobalt (Co), Rhodium (Rh), Ruthenium (Ru) und/oder Zinn (Sn) und X Chlorid, Nitrat und/oder Sulfonat sind.
transparente leitfähige Partikel, Metallalkoxid [M1(OR) 4], Metall (M2)-Partikel oder deren Salze (M2X) und einen Katalysator,
wobei es sich bei dem Metallalkoxid [M1(OR)4] um Si(OR)4, Ti(OR)4, Sn(OR)4 und/oder Zr(OR)4 handelt, wobei R C1-C4- Alkyl, das Metall (M2) Silber (Ag), Gold (Au), Platin (Pt), Kupfer (Cu), Nickel (Ni), Blei (Pb), Cobalt (Co), Rhodium (Rh), Ruthenium (Ru) und/oder Zinn (Sn) und X Chlorid, Nitrat und/oder Sulfonat sind.
Eine erfindungsgemäß verwendbare transparente leitfähi
ge Zusammensetzung kann außerdem ein Reduktionsmittel, wel
ches ein Metallsalz (M2X) in der Reaktion gemäß Gleichung (2)
reduzieren kann, enthalten. Bei Zugabe des Reduktionsmittels
zu der Zusammensetzung kann die Reaktivität der Reaktion
gemäß Gleichung (2) erhöht werden.
Als Reduktionsmittel werden NaBH4, SnCl2, Glykole oder
Ketone verwendet. Bevorzugt beträgt der Gehalt an dem Reduk
tionsmittel 1 × 10-4-8 × 10-2 Mol%, bezogen auf 1 Mol des Metall
alkoxids. Wenn der Gehalt an Reduktionsmittel innerhalb des
obigen Bereichs liegt, ist die Reaktivität der Reaktion
gemäß Gleichung (2) am höchsten.
Bei den Metall (M2)-Partikeln der vorliegenden Erfindung
handelt es sich um Silber (Ag), Gold (Au), Platin (Pt),
Kupfer (Cu), Nickel (Ni), Blei (Pb), Cobalt (Co), Rhodium
(Rh), Ruthenium (Ru) und/oder Zinn (Sn). Ag, Au und Pt,
welche sehr beständig gegen Oxidation sind, werden bevorzugt
verwendet. Bevorzugt beträgt der Durchmesser der Metall (M2)-
Partikel 5-90 nm. Wenn der Durchmesser der Metallpartikel
weniger als 5 nm beträgt, ist die Leitfähigkeit der trans
parenten leitfähigen Schicht nicht ausreichend. Wenn der
Durchmesser der Metallpartikel 90 nm übersteigt, wird deren
Transparenz herabgesetzt.
Als Metallsalz (M2X) der vorliegenden Erfindung können
Materialien, die in Wasser, Alkohol oder Keton löslich sind,
verwendet werden. Bevorzugt werden Chlorid, Nitrat oder
Sulfonat, welche das Metall, (M2) enthalten, verwendet.
Bevorzugt beträgt das molare Verhältnis des Metalls (M2)
des Metallsalzes (M2X) zu dem Metall (M1) des Metallalkoxids
[M1(OR)4] 0,01 : 1-0,2 : 1. Wenn das molare Verhältnis des Me
talls (M2) zu dem Metall (M1) weniger als 0,01/1 beträgt, ist
die verbesserte Wirkung auf die Leitfähigkeit der transpa
renten leitfähigen Schicht minimal. Wenn andererseits das
molare Verhältnis 0,2/1 übersteigt, wird deren Transparenz
deutlich herabgesetzt, was zu Schwierigkeiten bei der prak
tischen Verwendung führt.
Der Katalysator der vorliegenden Erfindung vereinfacht
die Hydrolyse des Metallalkoxids und umfaßt eine Säure, wie
Salzsäure oder Salpetersäure. Der Gehalt an Katalysator be
trägt hier 0,01-0,04 Mol%, bezogen auf 1 Mol des Metallalk
oxids.
In der vorliegenden Erfindung ist das Lösungsmittel
nicht begrenzt. Im allgemeinen wird jedoch ein alkoholisches
Lösungsmittel, z. B. Methanol, Ethanol und n-Butanol, reines
Wasser oder eine Mischung davon verwendet.
Als transparente leitfähige Partikel der vorliegenden
Erfindung können jegliche transparenten leitfähigen Parti
kel, z. B. Metalloxid, wie Indiumzinnoxid (ITO), Zinnoxid,
Indiumoxid, Titanoxid oder Antimontitanoxid (ATO), verwendet
werden.
Im folgenden wird ein Verfahren zur Herstellung einer
transparenten leitfähigen Schicht unter Verwendung der er
findungsgemäß verwendbaren transparenten leitfähigen Zusam
mensetzung detailliert beschrieben.
Zuerst werden transparente leitfähige Partikel mit
einem Durchmesser von 5-120 nm in Lösungsmitteln disper
giert, um eine erste Zusammensetzung herzustellen. Dann wird
die Zusammensetzung auf ein Substrat aufgeschichtet und die
entstandene Beschichtung getrocknet. Die Trocknungsstufe
kann hier weggelassen werden.
Es werden Metallalkoxid [M1(OR)4], Metallsalz (M2X),
reines Wasser und alkoholisches Lösungsmittel gemischt und
dann Salpetersäure oder Salzsäure zu der Mischung gegeben,
um eine zweite Zusammensetzung herzustellen. Bei dem Metall
alkoxid [M1(OR)4] handelt es sich hier um Si(OR)4, Ti(OR)4,
Sn(OR)4 und/oder Zr(OR)4, wobei R C1-C4-Alkyl ist.
Die oben hergestellte zweite Zusammensetzung wird auf
das Substrat aufgeschichtet und dann getrocknet. Die ent
standene Beschichtung wird dann bei 160-300°C, bevorzugt
180-200°C, 30-60 Minuten erhitzt, um eine transparente
leitfähige Schicht gemäß Fig. 2 zu erhalten. Die Bezugs
ziffer 21 bezeichnet hier ein Substrat, Bezugsziffer 22 eine
leitfähige Schicht, Bezugsziffer 23 ein Hydrolyseprodukt des
Metallalkoxids, Bezugsziffer 24 Metall (M2)-Partikel und
Bezugsziffer 25 transparente leitfähige Partikel. Wie in
Fig. 2 gezeigt, liegen die Metall (M2)-Partikel 25 in den
Zwischenräumen zwischen den transparenten leitfähigen Parti
keln 22 vor. Demgemäß besitzt die erhaltene transparente
leitfähige Dünnschicht ausgezeichnete Leitfähigkeit.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung anhand der
Beispiele näher beschrieben.
2,5 g Zinn-gedopte Indiumoxidpartikel mit einem Durch
messer von etwa 80 nm wurden in einem Mischlösungsmittel,
welches 20 g Methanol, 67,5 g Ethanol und 10 g n-Butanol
enthielt, dispergiert, um eine erste Zusammensetzung herzu
stellen.
4,5 g Tetraethylorthosilikat wurden zu einem Mischlö
sungsmittel, welches 30 g Methanol, 50 g Ethanol, 12 g n-
Butanol und 4 g reines Wasser enthielt, gegeben, und dann
0,6 g Salpetersäure (HNO3) und 0,3 g Silbernitrat (AgNO3) zu
der Mischung gegeben. Das Ganze wurde etwa 24 Stunden bei
Raumtemperatur gerührt, um eine zweite Zusammensetzung her
zustellen.
Während ein gereinigtes Glassubstrat bei etwa 90 U/min
rotiert wurde, wurden 50 cm3 der ersten Zusammensetzung auf
das Glassubstrat gegossen und dann die Rotationsgeschwindig
keit des Glassubstrats auf etwa 150 U/min erhöht. Dann wur
den auf die gleiche Weise 60 cm3 der zweiten Zusammensetzung
aufgeschichtet. Dann wurde das nacheinander mit der ersten
und zweiten Zusammensetzung beschichtete Substrat getrocknet
und dann bei 200°C eine Stunde gesintert, um eine trans
parente leitfähige Schicht zu vervollständigen.
Eine transparente leitfähige Schicht wurde durch das
gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem
Unterschied, daß außerdem 0,001 g NaBH4 als Reduktionsmittel
zu der zweiten Zusammensetzung gegeben wurden.
Eine transparente leitfähige Schicht wurde durch das
gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem
Unterschied, daß die zweite Zusammensetzung folgendermaßen
hergestellt wurde.
4,5 g Tetraethylorthosilikat wurden zu einem Mischlö
sungsmittel, welches 30 g Methanol, 50 g Ethanol, 12 g n-Bu
tanol und 4 g reines Wasser enthielt, gegeben und dann 0,6 g
Salpetersäure und 0,2 g Chlorogoldsäure (HAuCl4 . 4H2O) zu der
Mischung gegeben. Die erhaltene Mischung wurde dann etwa 30
Stunden bei Raumtemperatur gerührt, um eine zweite Zusammen
setzung herzustellen.
Eine transparente leitfähige Schicht wurde durch das
gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem
Unterschied, daß die zweite Zusammensetzung folgendermaßen
hergestellt wurde.
4,5 g Tetraethylorthosilikat wurden zu einem Mischlö
sungsmittel, welches 30 g Methanol, 50 g Ethanol, 12 g n-Bu
tanol und 4 g reines Wasser enthielt, gegeben und dann 0,6 g
Salpetersäure, 0,2 g Chlorogoldsäure (HAuCl4 . 4H2O) und 0,3 g
Zinnchlorid (SnCl2 . 2H2O) zu der Mischung gegeben. Dann wurde
die erhaltene Mischung etwa 30 Stunden bei Raumtemperatur
gerührt, um eine zweite Zusammensetzung herzustellen.
Eine transparente leitfähige Schicht wurde durch das
gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem
Unterschied, daß 0,036 g Silbernitrat (AgNO3) zu der zweiten
Zusammensetzung gegeben wurden (niedriger Gehalt an Silbernitrat).
Eine transparente leitfähige Schicht wurde durch das
gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem
Unterschied, daß 0,73 g Silbernitrat (AgNO3) zu der zweiten
Zusammensetzung gegeben wurden (hoher Gehalt an Silbernitrat).
Eine transparente leitfähige Schicht wurde durch das
gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem
Unterschied, daß kein Silbernitrat (AgNO3) zu der zweiten
Zusammensetzung gegeben wurde.
Eine transparente leitfähige Schicht wurde durch das
gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 hergestellt, mit dem
Unterschied, daß nur die zweite Zusammensetzung auf das
Glassubstrat geschichtet wurde.
Es wurden Oberflächenwiderstand, Transparenz und
Stifthärte der transparenten leitfähigen Schichten der Bei
spiele 1 bis 4 und Vergleichsbeispiele 1 bis 4 bestimmt; die
Ergebnisse sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
Wie aus Tabelle 1 ersichtlich, ist der Oberflächenwi
derstand der transparenten leitfähigen Schichten, die in den
Beispielen 1 bis 4 hergestellt wurden, sehr viel geringer
als der der Vergleichsbeispiele 1, 2 und 4 und ihre Trans
parenz und Stifthärte im Vergleich zu den Vergleichsbeispie
len 1 bis 4 ebenso ausgezeichnet.
Andererseits sind bei der transparenten leitfähigen
Schicht des Vergleichsbeispiels 1 Transparenz und Stifthärte
der Schicht ausgezeichnet. Weiter ist die Leitfähig
keit der transparenten leitfähigen Schicht des Vergleichs
beispiels 2 ausgezeichnet, während ihre Transparenz und
Härte schlecht sind. Weiter sind bei den Ver
gleichsbeispielen 3, in dem kein Silbernitrat zugegeben
wurde, und 4, bei dem nur die zweite Zusammensetzung aufge
schichtet wurde, Transparenz und Stifthärte der transparen
ten leitfähigen Schicht ausgezeichnet, während der Oberflä
chenwiderstand sehr schlecht ist.
Die vorliegende Erfindung liefert folgende Wirkungen.
Zunächst werden Leitfähigkeit, Transparenz und Härte der
transparenten leitfähigen Schicht im Vergleich zu transpa
renten leitfähigen Schichten aus dem Stand der Technik ver
bessert. Zweitens erfordert das erfindungsgemäße Verfahren
zur Herstellung einer transparenten leitfähigen Schicht kein
Hochtemperatur-Sinterverfahren und keine zusätzliche Vakuum
vorrichtung, so daß die Herstellungskosten verringert wer
den. Drittens kann eine transparente leitfähige Schicht
durch ein Niedrigtemperatur-Sinterverfahren hergestellt
werden, so daß das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren
auf ein Substrat, welches keine gute Hitzebeständigkeit
aufweist, angewendet werden kann.
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung einer transparenten, leitfähigen Schicht auf Glas- oder Kunst
stoffsubstraten mit den Stufen:
- a) Auftragen einer ersten Dispersion, welche transparente, leitfähige Metalloxid-Partikel, ausgewählt aus Indiumzinnoxid, Zinnoxid, Indiumoxid, Titanoxid oder Antimonti tanoxid, mit einem Durchmesser von 5 bis 120 nm in Lösungsmitteln enthält, auf das Substrat;
- b) gegebenenfalls Trocknen der entstandenen Beschichtung;
- c) Auftragen einer zweiten Beschichtungszusammensetzung, welche
- - Metallalkoxide [M1(OR)4], ausgewählt aus Si(OR)4, Ti(OR)4, Sn(OR)4 und/oder Zr(OR)4, wobei R C1-C4-Alkyl ist, sowie
- - Metall (M2)-Partikel, ausgewählt aus Ag, Au, Pt, Cu, Ni, Pb, Co, Rh, Ru und/oder Sn oder deren Salze, wobei X Chlorid, Nitrat und/oder Sulfonat ist, sowie
- - Salzsäure und/oder Salpetersäure als Katalysator sowie
- - Wasser und alkoholische Lösungsmittel enthält, auf die entstandene Beschichtung
in Stufe a);
- a) Trocknen und Erwärmen der Beschichtung bei 160°C bis 300°C.
2. Verfahren nach Ansprüche 1,
wobei die zweite Beschichtungszusammensetzung außerdem als Reduktionsmittel
NaBH4, SnCl2, Glykole und/oder Ketone enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 2,
wobei der Gehalt an Reduktionsmittel 1 × 10-4 bis 8 × 10-2 Mol-%, bezogen auf 1 Mol des
Metallakoxids, beträgt.
4. Verfahren nach Anspruch 1,
wobei das Molverhältnis des Metalls (M2) zu dem Metall (M1) 0,01 : 1 bis 0,2 : 1 beträgt.
5. Verfahren nach Anspruch 1,
wobei die Metal (M2)-Partikel einen Durchmesser von 5 bis 90 nm aufweisen.
6. Verfahren nach Anspruch 1,
wobei der Gehalt an Katalysator 0,01 bis 0,04 Mol-%, bezogen auf 1 Mol des Metallal
koxids, beträgt.
7. Transparente, leitfähige Schicht, hergestellt mit dem Verfahren nach einem der Ansprü
che 1 bis 6, gekennzeichnet durch einen Oberflächenwiderstand im Bereich von 1,1 × 103
bis 7.5 × 103 Ω/▱, einer Transparenz von 98% und einer Stifthärte H von 8.
8. Verwendung der transparenten, leitfähigen Schicht nach Anspruch 7 als antistatische
Schicht, als elektromagnetische Wellen abschirmende Schicht für Heimgeräte, als trans
parenter Stromversorgungselektrolyt für einen Flachplattendisplay.
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