DE19623070A1 - Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung für eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung für eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung und speziell auf ein Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung.
Im allgemeinen werden bei einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung ein oberes und ein unteres Substrat miteinander verbunden. Ein Substrat, das in Matrixform Pixelelektroden und Schalteinrichtungen aufweist, sowie ein Substrat, das ein Farbfilter zur Erzielung von Farben und eine gemeinsame Elektrode aufweist, werden aneinander befestigt. Flüssigkristallmaterial wird zwischen die zwei Substrate eingespritzt, die dann dicht verschlossen werden. Sobald ein äußeres elektrisches Feld an diese Anordnung angelegt wird, bewegt sich der Flüssigkristall entsprechend dem elektrischen Feld, so daß mittels Licht, das durch die Substrate tritt, ein Bild angezeigt wird.
Wie in Fig. 3 gezeigt, weist eine herkömmliche Flüssigkristallanzeigevorrichtung Flüssigkristallmaterial 5 mit sich in Abhängigkeit von einem elektrischen Feld ändernder Lichtdurchlässigkeit, ein erstes transparentes Substrat 3 (unteres Substrat), auf dem eine elektrische Verdrahtung ausgebildet ist, um an einen ausgewählten Bereich ein elektrisches Feld anlegen zu können, und ein zweites transparentes Substrat 4 (Farbfiltersubstrat) auf. Das Flüssigkristallmaterial 5 wird zwischen die Substrate 3 und 4 eingespritzt. Dann wird das Flüssigkristallmaterial 5 mittels eines Dichtungsmaterials 6 zwischen den Substraten 3, 4 dicht verschlossen. Polarisierungsscheiben 2-1 und 2-2 werden an den Substraten 3 und 4 angebracht. Eine Hintergrundbeleuchtungseinrichtung 1 zum Erzeugen von Licht wird an der Unterseite des unteren Substrats befestigt.
Auf dem ersten transparenten Substrat sind eine Abtastleitung (Gate-Leitung), eine Datenleitung, eine Pixelelektrode und eine Schalteinrichtung zum Steuern eines an die Pixelelektrode anzulegenden elektrischen Feldes in Matrixform angeordnet. Auf dem zweiten transparenten Substrat sind die gemeinsame Elektrode und das Farbfilter angeordnet. Auf den Substraten sind Leiterbahnen und Anschlußflächen zum Anlegen äußerer Signale ausgebildet.
Ein Verfahren zum Herstellen einer solchen Flüssigkristallanzeigevorrichtung wird nachfolgend erörtert.
Auf einem transparenten Substrat, z. B. Glas, sind mehrere hunderttausend bis mehrere Millionen Pixelelektroden-Einheiten zusammen mit Steuereinrichtungen zum Steuern von an diese Pixelelektroden anzulegenden Datensignalen angeordnet, und es sind Datenleitungen und Abtastleitungen ausgebildet, um von außen ein Videosignal anlegen zu können. Diese Anordnung stellt das erste transparente Substrat 3 dar.
Zur Bildung des zweiten transparenten Substrats 4 sind auf einem weiteren transparenten Substrat ein Farbfilter und eine gemeinsame Elektrode angeordnet, um mittels Durchleitung von Licht Farben zu erzeugen, wobei der Durchtritt des Lichts ausschließlich von den Pixelelektroden bestimmt wird. Nach dem Zusammenbau des unteren und des oberen Substrats wird auf diesen ein Dichtungsmittel verteilt, um sie dicht zu machen. Die beiden Substrate werden zum Zusammenfügen angeordnet. Das Flüssigkristallmaterial wird zwischen sie eingespritzt, und schließlich wird die Flüssigkristalleinspritzöffnung verschlossen, damit das Flüssigkristallmaterial nicht nach außen entweicht.
Nach dem Einsiegeln des Flüssigkristallmaterials werden die Polarisierungsscheiben 2-1 und 2-2 an den Substraten befestigt. Zum Anlegen eines äußeren Signals wird an den Leiterbahnen eine integrierte Treiberschaltung angeschlossen. Zur Vervollständigung der Flüssigkristallanzeigevorrichtung werden unter dem unteren Substrat eine Hintergrundbeleuchtungseinrichtung, d . h. eine lichtaussendende Einrichtung, und eine Befestigungsanordnung angefügt.
Bei der Herstellung des oberen und des unteren Substrats nach dem herkömmlichen Verfahren werden Spülungs-, Ablagerungs- oder Ätzvorrichtungen in einer zweistelligen Zahl von Arbeitsschritten eingesetzt. Hierbei werden auf die transparenten Substrate während der Bearbeitungsvorgänge unter Umständen mechanische Kräfte ausgeübt. Außerdem erfahren die Substrate Erwärmungs- und Abkühlungsprozesse, welche die Substrate beschädigen können, wenn diese bruchempfindlich sind.
Beim herkömmlichen Verfahren wird zur Herstellung der Flüssigkristallanzeigevorrichtung als Substratmaterial transparentes Glas verwendet. Handelsübliches Glas ist normalerweise 1,1 mm dick. Um jedoch das Gewicht der Flüssigkristallanzeigevorrichtung zu verringern, wurde erwogen, ein Substrat von 0,7 mm Dicke zu verwenden. Beim oben beschriebenen herkömmlichen Verfahren wird, wenn die Dicke des Substrats in einer anfänglichen Arbeitsphase festgelegt wird, dieselbe Dicke bis zum Endprodukt beibehalten.
Da herkömmlich verwendetes Glas vergleichsweise dick ist, ist es gegen mechanische oder thermische Belastungen während des Herstellungsprozesses geschützt. Wenn jedoch von Anfang an ein dünnes Substrat verwendet wird, ist infolge seiner Beschädigung oder Verformung mit einem größeren Ausschuß zu rechnen. Außerdem wird bei der Herstellung des unteren Substrats und beim Einfüllen des Flüssigkristallmaterials mehr als zehnmal der Vorgang des Erwärmens und Abkühlens zwischen 200 und 300°C durchgeführt, und bei Spül- und Beschichtungsarbeitsgängen erfolgt wiederholt eine Bearbeitung bei hohen Drehzahlen. Aus diesem Grund kann die Glasdicke nicht dünner gewählt werden. Es gibt Grenzen für die Senkung des Gewichts einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung. Um diese Probleme zu lösen, müssen die Bearbeitungsgeräte verbessert oder zusätzliche Funktionen bereitgestellt werden, wodurch die Kosten des Endprodukts in die Höhe getrieben werden.
Die Erfindung erfolgte angesichts der oben geschilderten Umstände und bezweckt, die Probleme und Nachteile des Standes der Technik zu überwinden.
Durch die Erfindung wird die Aufgabe gelöst, ein Verfahren zum Herstellen einer leichten und dünnen Substratsanordnung bereitzustellen.
Dies wird erfindungsgemäß mit einem Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung erreicht, das folgende Schritte aufweist: ein erstes Substrat mit einer ersten Dicke wird bereitgestellt; ein zweites Substrat mit einer zweiten Dicke wird bereitgestellt; zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat wird eine Innenschicht angeordnet; das erste Substrat, das zweite Substrat und die Innenschicht werden unter Verwendung eines Klebstoffs zusammengefügt; und die Dicke des ersten und/oder des zweiten Substrats wird verringert.
Nach einem weiteren Gesichtspunkt der Erfindung weist ein Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung für eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung folgende Schritte auf: ein erstes transparentes Substrat mit einer ersten Dicke wird bereitgestellt; ein zweites transparentes Substrat mit einer zweiten Dicke wird bereitgestellt; das erste und das zweite transparente Substrat werden so zusammengefügt, daß zwischen dem ersten und dem zweiten transparenten Substrat ein Zwischenraum gebildet wird; die erste und/oder die zweite Dicke wird verringert; ein Flüssigkristallmaterial wird in den Zwischenraum zwischen dem ersten und dem zweiten transparenten Substrat eingespritzt; und der Zwischenraum zwischen dem ersten und dem zweiten transparenten Substrat wird dicht verschlossen.
Nach einem weiteren Gesichtspunkt der Erfindung weist ein Verfahren zum Herstellen einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung folgende Schritte auf: ein erstes transparentes Substrat mit einer ersten Dicke wird bereitgestellt; ein zweites transparentes Substrat mit einer zweiten Dicke wird bereitgestellt; das erste und das zweite transparente Substrat werden so zusammengefügt, daß zwischen dem ersten und dem zweiten transparenten Substrat ein Zwischenraum gebildet wird; die erste und/oder die zweite Dicke wird verringert; ein Flüssigkristallmaterial wird in den Zwischenraum zwischen dem ersten und dem zweiten transparenten Substrat eingespritzt; und der Zwischenraum zwischen dem ersten und dem zweiten transparenten Substrat wird dicht verschlossen.
Die Erfindung wird anhand mehrerer Ausführungsbeispiele mit Hilfe der Zeichnung näher erläutert; in der Zeichnung zeigen:
Fig. 1A und 1B schematische Schnittansichten einer ersten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Substratsanordnung;
Fig. 2A bis 2G schematische Schnittansichten einer zweiten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Substratsanordnung; und
Fig. 3 einen schematischen Querschnitt durch ein herkömmliches Substrat.
Nachstehend wird im einzelnen auf die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung eingegangen.
Wie in Fig. 1A gezeigt, werden bei einer ersten Ausführungsform ein oberes Substrat 4 (das zweite transparente Substrat) und ein unteres Substrat 3 (das erste transparente Substrat), die jeweils die Dicke t besitzen, miteinander verbunden. Zwischen die Substrate 3, 4 wird ein Zwischenlagematerial 5 eingespritzt. Die miteinander verbundenen Substrate 3, 4 werden durch ein Dichtungsmaterial 6 derart versiegelt, daß der Zwischenraum zwischen den beiden Substrate 3 und 4 vollständig verschlossen ist.
Die Gesamtdicke des oberen und des unteren Substrats ist gleich der Summe aus der Dicke der transparenten Substrate 3, 4 und der Dicke des Zwischenlagematerials 5. Der Abstand zwischen dem oberen und dem unteren Substrat 3, 4 ist gleich der Dicke des Zwischenlagematerials, die sehr klein ist (üblicherweise 5 bis 6 µm). Deshalb beträgt die tatsächliche Dicke der miteinander verbundenen Substrate ungefähr 2t.
Wenn in diesem Zustand die Außenflächen des oberen und des unteren Substrats, die miteinander verbunden sind, geätzt oder unter Verwendung eines Poliermittels poliert werden, um die Dicke der Substratsanordnung zu verringern, kann die Dicke auf einen gewünschten Wert gebracht werden. Wie in Fig. 1B gezeigt, nimmt die Dicke des oberen und des unteren Substrats 4′ und 3′ (nach dem Ätzen oder Polieren) den Wert 2t′ an. Außerdem können zu Herstellungsbeginn ein oberes und ein unteres Substrat unterschiedlicher Dicke verwendet werden. Das obere Substrat 3 und das untere Substrat 4 können jeweils aus einem transparenten Isolator, einer Metallscheibe oder einer Halbleiterscheibe bestehen. Das obere Substrat und das untere Substrat können aus dem gleichen Werkstoff oder aus unterschiedlichen Werkstoffen bestehen, um leichtgewichtige, dünne Substrate herzustellen.
Die folgenden drei Verfahren können zum Polieren des oberen und des unteren Substrats verwendet werden:
  • 1) mechanisches Verfahren: das obere und das mit ihm verbundene untere Substrat werden mit Sandpapier oder einer ein Poliermittel verwendenden Poliervorrichtung poliert, und dabei gleichzeitig mit einem Kühlmittel besprüht;
  • 2) chemisches Verfahren: die Substrate werden unter Verwendung einer Lösung, z. B. einer starken Säure, geätzt, um eine Teildicke der Substrate abzulösen (dies führt nicht zu einer Beschädigung der Substrate, da aus diese keine mechanische Kraft einwirkt);
  • 3) eine Kombination der zwei unter 1) und 2) genannten Verfahren.
Wie aus Fig. 2A ersichtlich, wird ein Substrat 10 der Dicke t1 dazu verwendet, darauf eine Anordnung 11 aus einem Dünnschichttransistor (TFT: Thin Film Transistor), d. h. einer Schalteinrichtung, einer Pixelelektrode, einer Abtastleitung (Gate-Leitung) und einer Datenleitung auf die gleiche Weise wie beim herkömmlichen Herstellungsprozeß auszubilden. Dies ergibt das Substrat 10, welches das untere Substrat ist.
Wie aus Fig. 2B ersichtlich, wird ein Substrat 20 der Dicke t2 dazu verwendet, darauf ein Farbfilter 21 auf die gleiche Weise wie beim herkömmlichen Herstellungsprozeß auszubilden, um das zweite Substrat 20 anzufertigen, welches das obere Substrat ist. Hierbei können die Dicken t1 und t2 voneinander verschieden oder gleich sein.
Wie in Fig. 2C gezeigt, wird auf das obere und das untere Substrat - nach deren Beschichtung mit einer Orientierungsschicht zur Orientierung von Flüssigkristallmaterial - ein Abstandshalter 13 aufgesprüht, um zwischen dem oberen und dem unteren Substrat einen konstanten Abstand beizubehalten. Um das Flüssigkristallmaterial am Entweichen zu hindern, wird ein Dichtungsmaterial 14 auf den Substraten aufgetragen, nur eine Flüssigkristalleinspritzöffnung 16 bleibt frei. Danach werden das obere und das untere Substrat miteinander verbunden, derart, daß die Dünnschichttransistor-Anordnung 11 und das Farbfilter 21 einander zugewandt sind.
Um vollständig zu verhindern, daß Fremdkörper oder starke Säure zwischen die zwei Substrate eintreten können, können zusätzlich zum Dichtungsmaterial 14 außerhalb desselben Hilfsdichtungen 19 verwendet werden, wie in Fig. 2D dargestellt. Hierbei kann das als Hilfsdichtung 19 verwendete Material das gleiche wie das Dichtungsmaterial 14 sein oder von diesem unterschiedlich sein, und es kann zur gleichen Zeit wie das Dichtungsmaterial 14 aufgetragen werden.
Damit während des nachfolgenden Vorgangs des Atzens der Substrate keine Fremdstoffe oder starken Säuren zwischen das erste und das zweite Substrat eintreten können, d. h. damit keine Fremdstoffe oder starke Säuren in die Dünnschichttransistor-Anordnung 11 und ins Farbfilter 21 eindringen können, wird eine säurefeste Dichtung 15 verwendet, von welcher der Spalt zwischen den beiden Substraten 10, 20 von außen dicht abgeschlossen wird. Wenn nach diesen Arbeitsschritten die Substrate in eine starke Säure, z. B. in eine Lösung zum Atzen von Glassubstrat bei hoher Geschwindigkeit, eingetaucht und während einer vorgegebenen Zeitdauer geätzt werden, wird die Dicke des oberen und des unteren Substrats von t2 auf t4 bzw. von t1 auf t3 abgebaut, wie in Fig. 2E gezeigt. Auf diese Weise werden ein oberes Substrat 20′ und ein unteres Substrat 10′ erhalten, die dünner und leichter sind. Hierbei wird die Dicke der Substrate durch die Ätzdauer gesteuert. Zum Verringern der Dicke der Substrate kann anstelle des Atzens Sandpapier oder eine mit einem Poliermittel arbeitende Poliervorrichtung mechanisch angewendet werden.
Nach Abschluß des Ätzens werden feine Kratzer poliert und stirnseitig überflüssige Substratteile unter Verwendung einer Substrat-Schneideinrichtung entfernt, wie in Fig. 2F gezeigt. Dabei werden die säurefeste Dichtung 15 und die Hilfsdichtung 19 ebenfalls entfernt. Wie in Fig. 2G dargestellt, wird nach dem Beschneiden der Substrate Flüssigkristallmaterial 22 durch die Flüssigkristalleinspritzöffnung 16 eingespritzt. Um ein Austreten des Flüssigkristallmaterials zu verhindern, wird die Einspritzöffnung 16 mit einer Dichtung 17 verschlossen und damit der Herstellungsprozeß abgeschlossen.
Nach einer anderen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens, das dem Verfahren nach den Fig. 2A bis 2G ähnlich ist, werden das erste und das zweite Substrat miteinander verbunden und dann Flüssigkristallmaterial dazwischen eingespritzt. Das erste und das zweite Substrat werden durch eine säurefeste Dichtung 15 dicht verschlossen. Anschließend werden das erste und das zweite Substrat unter Verwendung der Poliervorrichtung oder der chemischen Lösung poliert. Die darauffolgenden Arbeitsschritte sind die gleichen wie bei der herkömmlichen Bearbeitung.
Zwar wird gemäß der obigen Beschreibung die Dicke sowohl des ersten als auch des zweite Substrats verringert, aber es kann auch die Dicke nur eines der beiden Substrate verringert werden und trotzdem die vorteilhafte Wirkung der Erfindung erzielt werden. Wenn zum Beispiel das erste Substrat Glas und das zweite Substrat Kunststoff ist, kann es sein, daß nur das erste oder das zweite Substrat am Rand beschnitten wird. Ferner braucht nur das erste oder das zweite Substrat poliert zu werden, wenn das erste Substrat eine Siliziumscheibe und das zweite Substrat aus Kunststoff ist.
Dementsprechend werden bei der Erfindung das erste und das zweite Substrat mittels einer säurefesten Dichtung verschlossen und ihre Außenflächen poliert. Dann wird der von einer säurefesten Dichtung verschlossene Teil abgeschnitten. Vor dem Zusammen fügen des ersten und des zweiten Substrats wird ein Versiegelungsmittel verwendet, um die Substratsanordnung dicht zu machen. In diesem Fall kann der Aufbau doppellagig sein und erst dann sein äußerer Teil abgeschnitten werden.
Wie vorstehend beschrieben, werden bei der Erfindung während eines zur Herstellung von Pixelelementen (Bildelementen) und eines Farbfilters dienenden Prozesses, bei dem die Substrate starke mechanische oder thermische Belastungen erfahren, Substrate stabiler Dicke verwendet. Nachdem die beiden Substrate miteinander verbunden wurden und vor oder nach dem Einspritzen von Flüssigkristallmaterial, d. h. nach den Bearbeitungsgängen, in denen mechanische oder thermische Belastungen auftreten, werden die Substrate poliert, sei es unter Verwendung einer mit einem Poliermittel arbeitenden Poliervorrichtung oder mittels Naßätzung. Durch diese Bearbeitung wird die Dicke der Substrate verringert, wodurch die Anzahl von Ausschußerzeugnissen gesenkt wird und leichte und dünne Substrate erzielt werden.
Gemäß dem oben beschriebenen Verfahren hat die Erfindung folgende Vorteile:
  • a) Es ist nicht notwendig, von Anfang an ein instabiles dünnes Substrat zu verwenden, sondern es wird ein stabiler Herstellungsprozeß unter Verwendung kostengünstiger Substrate erhalten. Dies senkt auch die Kosten für eine Verbesserung der Ausrüstung und eine Ergänzung von Funktionen.
  • b) Dieses Verfahren ist stabil, wodurch eine gleichbleibende Ausbeute erzielt und eine hohe Wettbewerbsfähigkeit ermöglicht wird.
  • c) Als wirksamster Vorteil werden die Substrate zur Einstellung ihrer Dicke auf dünne und leichte Produkte erst dann poliert, nachdem sie bei der Bearbeitung mechanischen oder thermischen Belastungen ausgesetzt waren, im Gegensatz zu dem Fall, in dem von Anfang an ein dünnes Substrat verwendet wird und dann dessen Dicke wegen Beschädigungsgefahr nicht unter einen gegebenen Wert (0,7 mm) zurückgeführt werden kann, so daß letzteres Verfahren an Grenzen stößt.

Claims (8)

1. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung, welche ein erstes Substrat, ein zweites Substrat und ein Flüssigkristallmaterial zwischen den beiden Substraten aufweist, bei dem das erste Substrat (3, 10) und das zweite Substrat (4, 20) einander flächig gegenüberliegend im Abstand voneinander derart miteinander verbunden werden, daß zwischen den beiden Substraten (3, 10; 4, 20) ein Zwischenraum gebildet wird, und eine Teildicke des ersten und/oder des zweiten Substrats (3, 10; 4, 20) von der Außenseite der Substrate (3, 10; 4, 20) her abgetragen wird.
2. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 1, bei dem der Zwischenraum unter Verwendung wenigstens einer Hilfsdichtung (19, 15) dicht verschlossen wird, bevor die Teildicke des ersten und/oder des zweiten Substrats (3, 10; 4, 20) abgetragen wird.
3. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 2, bei dem die Hilfsdichtung (19, 15) in einem Randbereich der Substrate (3, 10; 4, 20) zwischen diesen angeordnet wird und, nachdem die Teildicke des ersten und/oder des zweiten Substrats (3, 10; 4, 20) abgetragen wurde, wieder entfernt wird.
4. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 3, bei dem die Hilfsdichtung (19, 15) dadurch entfernt wird, daß die Substratsanordnung mit Hilfe einer Substrat-Schneideeinrichtung auf Maß geschnitten wird.
5. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die Teildicke des ersten und/oder des zweiten Substrats (3, 10; 4, 20) mit Hilfe eines chemischen und/oder eines mechanischen Vorganges abgetragen wird.
6. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 5, bei dem die Teildicke des ersten und/oder des zweiten Substrats (3, 10; 4, 20) abgeätzt bzw. abgeschabt wird.
7. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem beim Zusammenfügen des ersten und des zweiten Substrats (3, 10; 4, 20) zwischen diesen wenigstens ein Abstandhalter (13) zur Bestimmung der Dicke des Zwischenraumes angeordnet wird.
8. Verfahren zum Herstellen einer Substratsanordnung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem in den Zwischenraum zwischen die Substrate (3, 10; 4, 20) ein Flüssigkristallmaterial (22) eingespritzt und dort mit Hilfe einer Dichtung (14, 17) dicht eingeschlossen wird.
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Families Citing this family (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6197209B1 (en) 1995-10-27 2001-03-06 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Method of fabricating a substrate
KR0180850B1 (ko) * 1996-06-26 1999-03-20 구자홍 유리기판 에칭장치
KR100462824B1 (ko) * 1996-11-27 2005-04-13 삼성전자주식회사 박막트랜지스터용액정표시소자제조방법
KR100265556B1 (ko) 1997-03-21 2000-11-01 구본준 식각장치
JP3298451B2 (ja) * 1997-03-28 2002-07-02 三菱電機株式会社 液晶パネルの製造方法
US6327011B2 (en) * 1997-10-20 2001-12-04 Lg Electronics, Inc. Liquid crystal display device having thin glass substrate on which protective layer formed and method of making the same
US7808479B1 (en) 2003-09-02 2010-10-05 Apple Inc. Ambidextrous mouse
KR100472356B1 (ko) * 1998-05-25 2005-07-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치및그제조방법
US6280559B1 (en) * 1998-06-24 2001-08-28 Sharp Kabushiki Kaisha Method of manufacturing color electroluminescent display apparatus and method of bonding light-transmitting substrates
KR100529573B1 (ko) * 1998-07-16 2006-02-08 삼성전자주식회사 액정 표시 장치용 초박형 기판의 제조 방법
KR100272513B1 (ko) 1998-09-08 2001-01-15 구본준 유리기판의 식각장치
KR100308157B1 (ko) 1998-10-22 2001-11-15 구본준, 론 위라하디락사 액정표시소자용 유리기판
FR2788349B1 (fr) * 1999-01-08 2002-08-09 Thomson Csf Procede de realisation d'une cellule a cristal liquide, cellule a cristal liquide et carte a puce integrant une telle cellule
KR100685309B1 (ko) * 2000-02-21 2007-02-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치의 제조방법
KR100552798B1 (ko) 2000-11-30 2006-02-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치의 씰 패턴 및 그의 형성 방법
KR100685918B1 (ko) * 2000-12-27 2007-02-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유리기판 식각장치 및 이를 이용한 유리기판 식각방법
KR100652041B1 (ko) * 2000-12-29 2006-11-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
KR100776508B1 (ko) * 2000-12-30 2007-11-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 패널의 제조방법
KR100595302B1 (ko) 2000-12-30 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 제조를 위한 유리기판 식각장치
US6816225B2 (en) * 2001-06-26 2004-11-09 International Business Machines Corporation LCD cell construction by mechanical thinning of a color filter substrate
KR100685947B1 (ko) * 2001-09-08 2007-02-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자의 제조방법
US8512580B2 (en) * 2001-09-21 2013-08-20 Lg Display Co., Ltd. Method of fabricating thin liquid crystal display device
KR100595303B1 (ko) * 2001-09-25 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 식각장치용 버블판 및 그를 이용한 식각장치
KR100771949B1 (ko) * 2001-11-07 2007-10-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 초박형 액정표시장치용 씰패턴
KR100809938B1 (ko) * 2001-12-06 2008-03-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100672633B1 (ko) * 2001-12-18 2007-01-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자의 제조방법
TWI237716B (en) * 2001-12-18 2005-08-11 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display device and its manufacturing method
KR100672634B1 (ko) * 2001-12-19 2007-02-09 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자의 기판 반송 장치 및 방법
KR100685952B1 (ko) * 2002-03-19 2007-02-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자용 기판, 액정표시소자 및 그 제조방법
JP3800125B2 (ja) 2002-04-18 2006-07-26 セイコーエプソン株式会社 電気光学パネル、電子機器及び電気光学パネルの製造方法
KR100843132B1 (ko) * 2002-05-23 2008-07-02 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 씰패턴
US7656393B2 (en) 2005-03-04 2010-02-02 Apple Inc. Electronic device having display and surrounding touch sensitive bezel for user interface and control
US11275405B2 (en) 2005-03-04 2022-03-15 Apple Inc. Multi-functional hand-held device
JP4145104B2 (ja) * 2002-09-09 2008-09-03 奇美電子股▲ふん▼有限公司 液晶ディスプレイの製造装置
KR100710160B1 (ko) * 2002-10-07 2007-04-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유리기판 파손방지용 카세트
KR100641793B1 (ko) 2002-12-26 2006-11-02 샤프 가부시키가이샤 표시패널 및 그 제조방법
KR100490553B1 (ko) * 2003-03-18 2005-05-17 삼성에스디아이 주식회사 평판형 표시장치의 제조방법 및 이 방법을 이용한 박형평판 표시장치.
JP2005077945A (ja) * 2003-09-02 2005-03-24 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示装置の製造方法
JP2005241827A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
JP4682346B2 (ja) * 2006-08-02 2011-05-11 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
EP2048119A1 (de) * 2007-10-11 2009-04-15 Nishiyama Stainless Chemical Co., Ltd. Methode zum Trennen eines Glasverbundes und Flachbildschirm
JP5232498B2 (ja) * 2008-02-25 2013-07-10 株式会社ジャパンディスプレイイースト 液晶表示装置及びその製造方法
TWI371434B (en) * 2008-04-11 2012-09-01 Au Optronics Corp Method for manufacturing display panel within substrates having different thickness
JP4648422B2 (ja) * 2008-04-25 2011-03-09 東芝モバイルディスプレイ株式会社 表示素子の製造方法
US8673163B2 (en) * 2008-06-27 2014-03-18 Apple Inc. Method for fabricating thin sheets of glass
US7810355B2 (en) 2008-06-30 2010-10-12 Apple Inc. Full perimeter chemical strengthening of substrates
US10031549B2 (en) * 2008-07-10 2018-07-24 Apple Inc. Transitioning between modes of input
US20100006350A1 (en) * 2008-07-11 2010-01-14 Elias John G Stylus Adapted For Low Resolution Touch Sensor Panels
US8300019B2 (en) 2008-07-15 2012-10-30 Apple Inc. Capacitive sensor coupling correction
US9335868B2 (en) * 2008-07-31 2016-05-10 Apple Inc. Capacitive sensor behind black mask
US8743091B2 (en) * 2008-07-31 2014-06-03 Apple Inc. Acoustic multi-touch sensor panel
US8659556B2 (en) 2008-09-10 2014-02-25 Apple Inc. Advanced receive channel architecture
US20100066683A1 (en) * 2008-09-17 2010-03-18 Shih-Chang Chang Method for Transferring Thin Film to Substrate
US7918019B2 (en) * 2009-01-09 2011-04-05 Apple Inc. Method for fabricating thin touch sensor panels
US9063605B2 (en) 2009-01-09 2015-06-23 Apple Inc. Thin glass processing using a carrier
WO2010101961A2 (en) 2009-03-02 2010-09-10 Apple Inc. Techniques for strengthening glass covers for portable electronic devices
US20110019354A1 (en) * 2009-03-02 2011-01-27 Christopher Prest Techniques for Strengthening Glass Covers for Portable Electronic Devices
US8654524B2 (en) 2009-08-17 2014-02-18 Apple Inc. Housing as an I/O device
US9778685B2 (en) 2011-05-04 2017-10-03 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
US9213451B2 (en) 2010-06-04 2015-12-15 Apple Inc. Thin glass for touch panel sensors and methods therefor
US10189743B2 (en) 2010-08-18 2019-01-29 Apple Inc. Enhanced strengthening of glass
US8824140B2 (en) 2010-09-17 2014-09-02 Apple Inc. Glass enclosure
US8950215B2 (en) 2010-10-06 2015-02-10 Apple Inc. Non-contact polishing techniques for reducing roughness on glass surfaces
US9725359B2 (en) 2011-03-16 2017-08-08 Apple Inc. Electronic device having selectively strengthened glass
US10781135B2 (en) 2011-03-16 2020-09-22 Apple Inc. Strengthening variable thickness glass
US9128666B2 (en) 2011-05-04 2015-09-08 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
US9944554B2 (en) 2011-09-15 2018-04-17 Apple Inc. Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor
US9516149B2 (en) 2011-09-29 2016-12-06 Apple Inc. Multi-layer transparent structures for electronic device housings
US10144669B2 (en) 2011-11-21 2018-12-04 Apple Inc. Self-optimizing chemical strengthening bath for glass
US10133156B2 (en) 2012-01-10 2018-11-20 Apple Inc. Fused opaque and clear glass for camera or display window
US8773848B2 (en) 2012-01-25 2014-07-08 Apple Inc. Fused glass device housings
US9176604B2 (en) 2012-07-27 2015-11-03 Apple Inc. Stylus device
US9946302B2 (en) 2012-09-19 2018-04-17 Apple Inc. Exposed glass article with inner recessed area for portable electronic device housing
US9459661B2 (en) 2013-06-19 2016-10-04 Apple Inc. Camouflaged openings in electronic device housings
US9886062B2 (en) 2014-02-28 2018-02-06 Apple Inc. Exposed glass article with enhanced stiffness for portable electronic device housing
TWI551440B (zh) 2015-07-17 2016-10-01 群創光電股份有限公司 基板單元、元件基板及顯示裝置的製造方法
US11036318B2 (en) 2015-09-30 2021-06-15 Apple Inc. Capacitive touch or proximity detection for crown
US11402950B2 (en) 2016-07-29 2022-08-02 Apple Inc. Methodology and application of acoustic touch detection
US11157115B2 (en) 2017-03-31 2021-10-26 Apple Inc. Composite cover material for sensitivity improvement of ultrasonic touch screens
US11347355B2 (en) 2017-05-24 2022-05-31 Apple Inc. System and method for acoustic touch and force sensing
US11334196B2 (en) 2017-05-24 2022-05-17 Apple Inc. System and method for acoustic touch and force sensing
US11144158B2 (en) 2017-05-24 2021-10-12 Apple Inc. Differential acoustic touch and force sensing
US10949030B2 (en) 2017-09-26 2021-03-16 Apple Inc. Shear-poled curved piezoelectric material
US10802651B2 (en) 2018-01-30 2020-10-13 Apple Inc. Ultrasonic touch detection through display
US11366552B2 (en) 2018-02-06 2022-06-21 Apple, Inc. Ultrasonic polarizer
US10725573B2 (en) 2018-08-06 2020-07-28 Apple Inc. Annular piezoelectric structure for ultrasonic touch sensing
KR102237344B1 (ko) * 2018-12-14 2021-04-07 바다중공업 주식회사 전기식 수밀도어 비상발전기

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04116619A (ja) * 1990-09-07 1992-04-17 Casio Comput Co Ltd 薄型液晶表示素子の製造方法
JPH0561011A (ja) * 1991-09-03 1993-03-12 Rohm Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH05249423A (ja) * 1992-03-06 1993-09-28 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH05249422A (ja) * 1992-03-06 1993-09-28 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子の製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2178894B (en) * 1985-08-06 1988-07-27 Gen Electric Co Plc Preparation of fragile devices
GB2178895B (en) * 1985-08-06 1988-11-23 Gen Electric Co Plc Improved preparation of fragile devices
US5042918A (en) * 1988-11-15 1991-08-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Liquid crystal display device
JPH02190258A (ja) * 1989-01-20 1990-07-26 Nkk Corp チタン板の両面研磨方法
US6067062A (en) * 1990-09-05 2000-05-23 Seiko Instruments Inc. Light valve device
JP3526058B2 (ja) * 1992-08-19 2004-05-10 セイコーインスツルメンツ株式会社 光弁用半導体装置
JP2839801B2 (ja) * 1992-09-18 1998-12-16 三菱マテリアル株式会社 ウェーハの製造方法
JPH07168172A (ja) * 1993-12-16 1995-07-04 Canon Inc 液晶表示装置及びその製造方法
JP3253439B2 (ja) * 1993-12-24 2002-02-04 シャープ株式会社 液晶表示素子の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04116619A (ja) * 1990-09-07 1992-04-17 Casio Comput Co Ltd 薄型液晶表示素子の製造方法
JPH0561011A (ja) * 1991-09-03 1993-03-12 Rohm Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH05249423A (ja) * 1992-03-06 1993-09-28 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH05249422A (ja) * 1992-03-06 1993-09-28 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR970009480A (ko) 1997-02-24
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GB2302956B (en) 2000-03-01
FR2736446A1 (fr) 1997-01-10
GB2302956A (en) 1997-02-05
GB9614103D0 (en) 1996-09-04
JPH09138392A (ja) 1997-05-27
DE19623070C2 (de) 2001-02-08
US5766493A (en) 1998-06-16

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