JPH02190258A - チタン板の両面研磨方法 - Google Patents

チタン板の両面研磨方法

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JPH02190258A
JPH02190258A JP1009692A JP969289A JPH02190258A JP H02190258 A JPH02190258 A JP H02190258A JP 1009692 A JP1009692 A JP 1009692A JP 969289 A JP969289 A JP 969289A JP H02190258 A JPH02190258 A JP H02190258A
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JP
Japan
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carrier
plate
titanium plate
thickness
polishing
Prior art date
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Pending
Application number
JP1009692A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyoshi Suenaga
末永 博義
Takeshi Ito
剛 伊藤
Masakuni Takagi
高木 雅邦
Hiroyoshi Takeuchi
竹内 寛義
Hideaki Fukai
英明 深井
Kuninori Minagawa
邦典 皆川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/27Work carriers
    • B24B37/28Work carriers for double side lapping of plane surfaces

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、磁気ディスク等に用いられるチタン或はチ
タン合金板の両面砥粒研磨の歩留まりを向上させる技術
に関するものである。
[従来技術] チタン及びチタン合金(以下、単にチタンと呼ぶ)は、
清浄度に優れ又アルミニウムやアルミニウム合金(以下
、アルミと称す)と比較して耐熱性に優れることから、
高品質の磁気ディスク基板等としての利用が嘱望されて
いる。磁気ディスク基板の場合、基板には高度の平坦度
と表面粗の滑らかさとが求められ、チタン板の研磨技術
の検討も鋭意行われているが、アルミニウム合金に比べ
て格段に加工の困難なチタン板では未だ実用的には種々
の問題を残している。このため、基板には、従来からア
ルミが主として用いられてきており、チタン基板は未だ
普及していない。
平坦で滑らかな表面を得る主な研磨方法として従来使用
されているものに、定盤の間に砥粒を介して被研磨板を
挟みキャリアーでこの被研磨板を保持して両面を研磨す
る方法がある(例えば、スピードファム[株]カタログ
r DLIOBLE  5IDEDLAPPING &
 POLISHING)4ACHINES J ) 。
この方法を使用する装置の主要部を、第2図(a)、(
b)に示す、(a>図は研磨部の概観を示す図、(b)
図は(a)図の半径線断面図で、1は下側定盤、2は主
測定盤、3は太陽ギヤー4はインターナルギヤ−5はキ
ャリアー 6は被研磨板、7は砥粒である。下側定盤1
と主測定盤2との間に被研磨板6が置かれ、被研磨板6
と定盤1.2との間に砥粒7が供給される。被研磨板6
はキャリアー5に開けられた穴に遊嵌された状態で保持
される。キャリアー5は遊星ギヤで、太陽ギヤー3の回
転によって、インターナルギヤ−4に沿って公転すると
ともに自転運動を行う、定盤も独自に回転出来るように
なっており、下側定盤1と主測定盤2とを互いに反対方
向に回転させ研磨を行う、即ち、被研磨板7の表面は、
キャリアー5の公転及び自転運動と下側定盤1或は主測
定盤2の回転運動との速度も含めた動きの差によって砥
粒7によって擦られて、研磨される。(以下、この方法
を摺動定盤研磨と称す)[発明が解決しようとする課題
] しかしながら、アルミの研磨では殆ど問題の無いこの研
磨方法をチタンの研磨に適用すると、キャリアーによる
チタン板の保持が十分に確実ではなく、チタン板が研磨
中に飛び出してチタン板に欠損を生じたり、確実性を増
そうとするとキャリアーに損傷を生じたりし、此れがチ
タン板研磨歩留の低下を来している。
この問題を解決するためにこの発明は行われたもので、
優れた平坦度と表面粗度の得られる摺動定盤研磨が、チ
タン板の研磨においても、安全に歩留まり良く適用出来
ることを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] この目的を達成するための手段は、チタン板をキャリア
ーで保持してチタン板の両面を同時に研磨するに際し、
チタン板の板厚t(mm)とキャリアーの厚さT(關)
との間に次の関係を満たす条件を保ちながら研磨するチ
タン板の両面研磨方法である。
0、 O25e ””≦T≦0.9t [作用] 研磨の際に、被研磨板は、前述したように、キャリアー
に遊嵌された状態で保持され、キャリアーの動きに応じ
て移動させられる。一方、被研磨板の表面には砥粒が存
在し、この砥粒には定盤からの研磨圧力が掛かっている
。即ち、表面に掛かる圧力に基づく研磨 抵抗が絶えず
存在する状態で研磨が行われる。硬度が高く強靭なチタ
ンでは、アルミに比べて格段にこの研磨抵抗が大きい、
このため、被研磨板がチタンの場合に、それが遊嵌され
ているキャリアーの穴から外れて飛び出すことも起こる
この飛び出しを防ぐには、キャリアーを厚くすればよい
のであるが、被研磨板よりも厚くすることは出来ず、ど
こまで被研磨材の厚さに近づけられるかでその限界が決
まる。これを調べると、実用される#400以上の細か
い砥粒では、被研磨板の厚さのほぼ90%が限界で、こ
れより近づけるとキャリアーの研磨損傷による欠落を生
じ、欠落物が砥粒中に混じて研磨効果を妨げる。即ち、
被研磨板の厚さをt (am)、キャリアーの厚さをT
(mm)とすると、 T≦0.9t・・・(A)である。
このことから、キャリアーの厚さを被MTpi板の90
%とすればよいことになるが、被研磨板の種々の厚さに
キャリアーの厚さを対応させることは非実用的であり、
薄くしても研磨板が飛び出さない限界を把握する必要が
ある。この厚さの下限を、板厚や砥粒の種類、粒度等の
実用的な研磨条件範囲において調べると、被研磨板が薄
くなるに伴いキャリアーの板厚との比を大きくする必要
があった。これは、被研磨板の厚さが変わっても研磨面
の面積は変わらず従って研磨抵抗は変わらないので当然
である。そして、その関係は、同様に、 T2O,025e”’−5・(B ’)である。
したがって、被研磨板の厚さt(w+m)に応じて、(
A)式と(B)式とを満たす条件で研磨を行うと、被研
磨板の飛びだしを防止することができる。
このように、この発明ではキャリアーの厚さ寸法を制御
することによって、飛び出しを防止するので、キャリア
ーの材料が変わっても同じ効果が得られる0例えば、キ
ャリアーの材料として、グラスファイバー、布入りベー
クライト、塩化ビニール、鋼、ステンレス鋼等がよく用
いられるが、共通して同じ効果が得られる。砥粒につい
ても同様で、その種類や形状が変わっても同じように効
果が得られる。更に、定盤やキャリアー等が回転する場
合のみならず、直線往復その他の運動をする場合の効果
についても同様である。
[実施例] 市販板2種純チタン冷延板(JIS −H−4600の
TP35C相当)で、厚さ31.2 mm、l +u、
0.5順のものを直径3.5インチのディスクに打抜き
、これらの両面を同時に摺動定盤研磨し、このときにキ
ャリアーの損傷があったかどうか及びディスクの欠損率
とを調べた。
研磨工程では砥粒の粗さを#400、#800、#15
00、#3000、#4000の順に細がくし、段階的
に研磨した。用いた砥粒の種類は炭化珪素とアルミナで
ある。使用したキャリアーは3.5インチディスク素材
を2枚保持できる直径9インチのグラスファイバー製の
ものであった。
キャリアーの板厚は−0,15u量から2.81−の間
で選択した。研磨圧力は50 g/aAで一定とした。
キャリアーの損傷は目視により又ディスクの欠損率は1
50枚中の欠損したものの数を百分率で表したものであ
る。
ディスクの厚さと用いたキャリアーの厚さ及び得られた
結果を第1表に示す。
実施例では、全ての例でキャリアーの損傷は見られず、
又、研磨中にキャリアーから飛び出して損傷したものは
一つもない、一方、比較例では、キャリアーの損傷か又
はディスクの欠損かの何れかが生じている。これらの例
で、被研磨板の厚さとキャリアーの厚さとの関係を視覚
的に捉えるようにしたのが第1図である1図で、A及び
Bは、各々、(A)式及び(B)式のグラフであり、実
施例の条件は黒丸で示し、比較例の条件は白丸で示しで
ある。この発明の被研磨材とキャリアーの厚さの条件範
囲が、AとBのグラフで囲まれた範囲であり、この範囲
内の条件で研磨を行うと、キャリアーの損傷もディスク
の欠損も発生しないことが一目で読みとれる。
従来は1.上記の範囲に限らずこの場合の比較例の条件
においても研磨が行われていたため、歩留まりが低下し
ていたものである。
[発明の効果] この発明によれば、チタン板の砥石研磨において被研磨
材の厚さに適応して・Xヤリアーの厚さを調整するので
、キャリアーの損傷が無く、したがって欠落物の影響を
受けず、同時に被研磨材がキャリアーから飛び出すこと
がない、このため、安定して一定の研磨効果が得られ、
歩留まりが向上する。このように、チタン材のような難
加工性材料の実用的に優れた研磨方法を実現したこの発
明の効果は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の詳細な説明するためのディスクとキ
ャリアーの厚さの関係図、第2図は従来の技術を説明す
るための摺動定盤研磨の概要を示す図である。 1・・・下側定盤、2・・・上側定盤、3・・太陽ギヤ
4・・インナーギヤー、5・・・キャリア6・・・被研
磨板、7・・・砥粒。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 チタン板をキャリアーで保持して両面研磨するに際し、
    チタン板の板厚を(mm)とキャリアーの厚さT(mm
    )との間に次の関係を満たす条件において研磨すること
    を特徴とするチタン板の両面研磨方法。 0.025e^t^+^1^.^5≦T≦0.9t
JP1009692A 1989-01-20 1989-01-20 チタン板の両面研磨方法 Pending JPH02190258A (ja)

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DE90101093T DE69004275T2 (de) 1989-01-20 1990-01-19 Verfahren zum Läppen beider Flächen einer Titanscheibe.
EP90101093A EP0379214B1 (en) 1989-01-20 1990-01-19 Method for lapping two surfaces of a titanium disk
CA002008193A CA2008193A1 (en) 1989-01-20 1990-01-19 Method for lapping two surfaces of a titanium disk
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