JPH1110528A - 両面同時研磨方法 - Google Patents
両面同時研磨方法Info
- Publication number
- JPH1110528A JPH1110528A JP16133897A JP16133897A JPH1110528A JP H1110528 A JPH1110528 A JP H1110528A JP 16133897 A JP16133897 A JP 16133897A JP 16133897 A JP16133897 A JP 16133897A JP H1110528 A JPH1110528 A JP H1110528A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- polishing
- substrate
- recording medium
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気記録媒体用基板の平坦度、表面粗さにつ
いて、維持向上を図る。 【解決手段】 磁気記録媒体用基板の両面同時研磨にお
いて、該基板を保持するキャリアー２の自転方向を所定
の回数の研磨工程毎に逆転する。所定の回数としては、
１〜１０回が望ましい。
いて、維持向上を図る。 【解決手段】 磁気記録媒体用基板の両面同時研磨にお
いて、該基板を保持するキャリアー２の自転方向を所定
の回数の研磨工程毎に逆転する。所定の回数としては、
１〜１０回が望ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用基板
の研磨方法に関する。
の研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体用基板は、近年、情報記録
の高密度化の要求にともない、その表面の平滑性、平面
性を向上させることを要求されている。この磁気記録媒
体用基板を得るためには、素材を所定の板厚に加工する
とともに、所定の平滑度、平坦度を満たすようにラッピ
ング加工を施す。加工時間を短縮するためには、製品の
板厚にできる限り近い板厚の素材を準備することとな
る。
の高密度化の要求にともない、その表面の平滑性、平面
性を向上させることを要求されている。この磁気記録媒
体用基板を得るためには、素材を所定の板厚に加工する
とともに、所定の平滑度、平坦度を満たすようにラッピ
ング加工を施す。加工時間を短縮するためには、製品の
板厚にできる限り近い板厚の素材を準備することとな
る。
【０００３】磁気記録媒体用基板の研磨工程には、平滑
性、平面性を向上させるだけではなく、基板表面のピッ
トやスクラッチの除去により外観基準も満たすことが要
求される。ラッピング加工には、湿式と乾式の２種類が
ある。磁気記録媒体用基板を研磨するラッピング加工
は、ポリウレタン製研磨パッドが固定された研磨工具を
磁気記録媒体用基板の両面に加圧、密着させるととも
に、研磨パッドと基板研磨面との間に研磨液を供給し
て、回転、摺動することによって、磁気記録媒体用基板
の両面を同時に加工する。
性、平面性を向上させるだけではなく、基板表面のピッ
トやスクラッチの除去により外観基準も満たすことが要
求される。ラッピング加工には、湿式と乾式の２種類が
ある。磁気記録媒体用基板を研磨するラッピング加工
は、ポリウレタン製研磨パッドが固定された研磨工具を
磁気記録媒体用基板の両面に加圧、密着させるととも
に、研磨パッドと基板研磨面との間に研磨液を供給し
て、回転、摺動することによって、磁気記録媒体用基板
の両面を同時に加工する。
【０００４】図２は、従来から用いられている両面同時
研磨機の構成を説明するための上面図である。被加工物
たる磁気記録媒体用基板１は、キャリアー２によって保
持され、通常キャリアー一枚当たり複数の基板が保持さ
れる。キャリアー２の外周に設けられた歯車２ａは、太
陽ギア３及びインターナルギア４とそれぞれ噛み合って
おり、これによってキャリアー２の自転、公転運動が実
現される。磁気記録媒体用基板１は、下ラップ盤５と上
ラップ盤（不図示）の間に位置し、両面同時に研磨され
る。
研磨機の構成を説明するための上面図である。被加工物
たる磁気記録媒体用基板１は、キャリアー２によって保
持され、通常キャリアー一枚当たり複数の基板が保持さ
れる。キャリアー２の外周に設けられた歯車２ａは、太
陽ギア３及びインターナルギア４とそれぞれ噛み合って
おり、これによってキャリアー２の自転、公転運動が実
現される。磁気記録媒体用基板１は、下ラップ盤５と上
ラップ盤（不図示）の間に位置し、両面同時に研磨され
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】キャリアー２の公転方
向は、太陽ギア３及びインターナルギア４の回転方向と
同じ方向になる。一方、キャリアー２の自転方向は、時
計回りも反時計回りもある。しかし、従来からキャリア
ー２の自転方向は一度設定されると、その後は変更しな
いのが通例となっている。このような状態で、キャリア
ー２の自転を常に同じ方向で行っていると、加工回数を
重ねていくうちに、被加工物の平坦度、表面粗さ、外
観、寸法精度等が所定の要求範囲から外れてくる現象が
起きてしまい、良品率が低下するという問題が生じ易く
なる。
向は、太陽ギア３及びインターナルギア４の回転方向と
同じ方向になる。一方、キャリアー２の自転方向は、時
計回りも反時計回りもある。しかし、従来からキャリア
ー２の自転方向は一度設定されると、その後は変更しな
いのが通例となっている。このような状態で、キャリア
ー２の自転を常に同じ方向で行っていると、加工回数を
重ねていくうちに、被加工物の平坦度、表面粗さ、外
観、寸法精度等が所定の要求範囲から外れてくる現象が
起きてしまい、良品率が低下するという問題が生じ易く
なる。
【０００６】本発明の目的は、磁気記録媒体用基板の研
磨加工において、その平坦度、表面粗さ、外観、寸法精
度等の維持向上にある。
磨加工において、その平坦度、表面粗さ、外観、寸法精
度等の維持向上にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録媒体
用基板の両面を同時に研磨する両面同時研磨方法につい
て改善を施したもので、キャリアーの自転方向を所定の
回数の研磨終了後に逆転する方法である。所定の回数と
は、１〜１０回の範囲の任意の回数であることが望まし
い。
用基板の両面を同時に研磨する両面同時研磨方法につい
て改善を施したもので、キャリアーの自転方向を所定の
回数の研磨終了後に逆転する方法である。所定の回数と
は、１〜１０回の範囲の任意の回数であることが望まし
い。
【０００８】
【発明の実施の形態】磁気記録媒体用基板の研磨工程に
おいて、キャリアーの自転を常に同じ方向で行っていく
と、加工回数を重ねていくうちに、被加工物の平坦度、
表面粗さが所定の要求範囲から外れてくる現象が起きる
ことは、表１に示されている。表１は、 2.5インチ磁気
記録媒体用基板の研磨工程において、キャリアーの自転
を常に同じ方向で行った場合の加工回数と、製品（加工
終了後の基板）の平坦度および表面粗さＲａを示した一
例である。加工回数が10回を越えた製品については平坦
度の値が増大してゆくことがわかる。また、表面粗さＲ
ａの値は減少してゆくことがわかる。ここで、Ｒａは、
表面粗さ(Roughness) の一つの指標で、平均表面粗さを
表す。
おいて、キャリアーの自転を常に同じ方向で行っていく
と、加工回数を重ねていくうちに、被加工物の平坦度、
表面粗さが所定の要求範囲から外れてくる現象が起きる
ことは、表１に示されている。表１は、 2.5インチ磁気
記録媒体用基板の研磨工程において、キャリアーの自転
を常に同じ方向で行った場合の加工回数と、製品（加工
終了後の基板）の平坦度および表面粗さＲａを示した一
例である。加工回数が10回を越えた製品については平坦
度の値が増大してゆくことがわかる。また、表面粗さＲ
ａの値は減少してゆくことがわかる。ここで、Ｒａは、
表面粗さ(Roughness) の一つの指標で、平均表面粗さを
表す。
【０００９】
【表１】
【００１０】表２は、 2.5インチ磁気記録媒体用基板の
研磨工程において、キャリアーの自転方向を加工回数５
回毎に逆転させた場合の加工回数と、製品の平坦度およ
び表面粗さＲａを示したものである。加工回数が10回を
越えた製品についても、平坦度および表面粗さの値は一
定していることがわかる。
研磨工程において、キャリアーの自転方向を加工回数５
回毎に逆転させた場合の加工回数と、製品の平坦度およ
び表面粗さＲａを示したものである。加工回数が10回を
越えた製品についても、平坦度および表面粗さの値は一
定していることがわかる。
【００１１】
【表２】
【００１２】この様に、磁気記録媒体用基板の研磨工程
で、キャリアーの回転方向を数回加工を行った毎に逆転
させることで、被加工物の平坦度、表面粗さの維持向上
を図ることができる。以下、本発明の研磨方法について
より具体的に説明する。図１は、本発明の実施形態に係
る両面同時研磨機の構成部品の運動を説明するための上
面図である。なお、両面同時研磨機の構成については、
先に図２により説明したのでここでは説明を省略する。
で、キャリアーの回転方向を数回加工を行った毎に逆転
させることで、被加工物の平坦度、表面粗さの維持向上
を図ることができる。以下、本発明の研磨方法について
より具体的に説明する。図１は、本発明の実施形態に係
る両面同時研磨機の構成部品の運動を説明するための上
面図である。なお、両面同時研磨機の構成については、
先に図２により説明したのでここでは説明を省略する。
【００１３】鋳鉄製の上ラップ盤（不図示）と下ラップ
盤５にはポリウレタン製の研磨パッドを貼り付け、この
研磨パッドの間に磁気記録媒体用基板を密着させるとと
もに所定の圧力をかけ、研磨液を供給しながら回転、摺
動することによって、基板の両面が同時に研磨される。
図１に示すように、磁気記録媒体用基板１をキャリアー
１枚当たり４個保持させ、キャリアー２を太陽ギア３と
インターナルギア４に噛み合わせる。キャリアー２の自
転方向については、太陽ギア３の回転数とインターナル
ギア４の回転数を変化させることで、時計回りか反時計
回りかを選択できる。
盤５にはポリウレタン製の研磨パッドを貼り付け、この
研磨パッドの間に磁気記録媒体用基板を密着させるとと
もに所定の圧力をかけ、研磨液を供給しながら回転、摺
動することによって、基板の両面が同時に研磨される。
図１に示すように、磁気記録媒体用基板１をキャリアー
１枚当たり４個保持させ、キャリアー２を太陽ギア３と
インターナルギア４に噛み合わせる。キャリアー２の自
転方向については、太陽ギア３の回転数とインターナル
ギア４の回転数を変化させることで、時計回りか反時計
回りかを選択できる。
【００１４】例えば、図１のように両面同時研磨機を上
方から見た場合、太陽ギア３、インターナルギア４及び
下ラップ盤５はいずれも反時計回りに回転し、不図示の
上ラップ盤は時計回りに回転し、キャリアー２は、反時
計回りに太陽ギア３の回りを公転する。このときのキャ
リアー２の自転方向を＋Ａで表す。太陽ギア３の回転数
をインターナルギア４の回転数に対して上昇させると、
キャリアー２の自転方向を逆転させて−Ａで表される自
転方向とすることができる。
方から見た場合、太陽ギア３、インターナルギア４及び
下ラップ盤５はいずれも反時計回りに回転し、不図示の
上ラップ盤は時計回りに回転し、キャリアー２は、反時
計回りに太陽ギア３の回りを公転する。このときのキャ
リアー２の自転方向を＋Ａで表す。太陽ギア３の回転数
をインターナルギア４の回転数に対して上昇させると、
キャリアー２の自転方向を逆転させて−Ａで表される自
転方向とすることができる。
【００１５】本実施形態では、キャリアー２の自転方向
を５回加工を行った毎に逆転させた。キャリアーの自転
方向の逆転の周期については、研磨工程回数10回以内が
適切であり、望ましくは５回以内がよい。次に研磨条件
について述べる。研磨液に酸化セリウムの懸濁液を使用
し、研磨加工圧力30〜 120ｇ／cm2、研磨時間70分、下
ラップ盤回転数５〜40ｒｐｍ、上ラップ盤回転数５〜40
ｒｐｍとしたとき、研磨除去量は 0.4〜１μm ／min で
あった。この研磨加工によって作製した磁気記録媒体基
板の表面粗さＲａは30Å以下であった。なお、表面粗さ
測定には接触型のディスク専用の表面粗さ・微細形状測
定装置（Tencor社製テンコールＰー１２）を用いた。
を５回加工を行った毎に逆転させた。キャリアーの自転
方向の逆転の周期については、研磨工程回数10回以内が
適切であり、望ましくは５回以内がよい。次に研磨条件
について述べる。研磨液に酸化セリウムの懸濁液を使用
し、研磨加工圧力30〜 120ｇ／cm2、研磨時間70分、下
ラップ盤回転数５〜40ｒｐｍ、上ラップ盤回転数５〜40
ｒｐｍとしたとき、研磨除去量は 0.4〜１μm ／min で
あった。この研磨加工によって作製した磁気記録媒体基
板の表面粗さＲａは30Å以下であった。なお、表面粗さ
測定には接触型のディスク専用の表面粗さ・微細形状測
定装置（Tencor社製テンコールＰー１２）を用いた。
【００１６】
【発明の効果】磁気記録媒体用基板の研磨工程におい
て、キャリアーの自転方向を所定回数の研磨を行った毎
に逆転させることで、製品の平坦度、表面粗さの維持向
上を図ることができる。平坦かつ平滑な磁気記録媒体用
基板の製造が可能になることによって、磁気ヘッドの低
浮上量化が可能となり、磁気ディスクの高密度化特に線
記録密度の向上が実現できる。
て、キャリアーの自転方向を所定回数の研磨を行った毎
に逆転させることで、製品の平坦度、表面粗さの維持向
上を図ることができる。平坦かつ平滑な磁気記録媒体用
基板の製造が可能になることによって、磁気ヘッドの低
浮上量化が可能となり、磁気ディスクの高密度化特に線
記録密度の向上が実現できる。
【図１】本発明の実施形態に係る両面同時研磨機の構成
部品の運動を説明するための上面図である。
部品の運動を説明するための上面図である。
【図２】両面同時研磨機の構成を示す平面図である。
１・・・・磁気記録媒体用基板 ２・・・・キャリアー ３・・・・太陽ギア ４・・・・インターナルギア ５・・・・下ラップ盤
Claims (2)
- 【請求項１】 磁気記録媒体用基板を遊星回転運動を行
うキャリアーによって保持し、前記磁気記録媒体用基板
の両面を同時に研磨する両面同時研磨方法において、 前記キャリアーの自転方向を所定の回数の研磨工程毎に
逆転することを特徴とする両面同時研磨方法。 - 【請求項２】 前記所定の回数は１〜１０回であること
を特徴とする、請求項１に記載の両面同時研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16133897A JPH1110528A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 両面同時研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16133897A JPH1110528A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 両面同時研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1110528A true JPH1110528A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=15733191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16133897A Pending JPH1110528A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 両面同時研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1110528A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106584266A (zh) * | 2016-11-29 | 2017-04-26 | 湖南省新化县长江电子有限责任公司 | 一种新能源汽车陶瓷件双面研磨用工装 |
-
1997
- 1997-06-18 JP JP16133897A patent/JPH1110528A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106584266A (zh) * | 2016-11-29 | 2017-04-26 | 湖南省新化县长江电子有限责任公司 | 一种新能源汽车陶瓷件双面研磨用工装 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7275311B2 (en) | Apparatus and system for precise lapping of recessed and protruding elements in a workpiece | |
| CN101010401B (zh) | 抛光浆料，用于信息记录介质的玻璃基材的制造方法和信息记录介质的制造方法 | |
| JP5056961B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
| US6050879A (en) | Process for lapping air bearing surfaces | |
| JP2007197235A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法。 | |
| JPH02190258A (ja) | チタン板の両面研磨方法 | |
| JP2002123931A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法、及び該方法により研磨された情報記録媒体用ガラス基板 | |
| US6953385B2 (en) | System, method, and apparatus for non-traditional kinematics/tooling for efficient charging of lapping plates | |
| JP2001191247A (ja) | ディスク状基板の両面研削方法、情報記録媒体用基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2008273777A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法、磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体用ガラス基板の研磨装置 | |
| JP5912002B2 (ja) | 円板状ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク | |
| JPH1110528A (ja) | 両面同時研磨方法 | |
| JPS62236664A (ja) | 磁気デイスク用基盤のテクスチヤリング方法 | |
| US4929499A (en) | Use of nickel-phosphorous undercoat for particulate media in magnetic storage devices | |
| JP5510030B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 | |
| GB2240497A (en) | Surface treatment of disc-shaped work pieces | |
| JP2002326156A (ja) | ガラス基板研磨用キャリア及びガラス基板研磨装置 | |
| JP2001155331A (ja) | 磁気ディスク用基板およびその研磨方法 | |
| JPH05303735A (ja) | 磁気ディスクおよび磁気ディスク装置 | |
| JP2001250224A (ja) | 磁気記録媒体用基板とその製造方法および磁気記録媒体 | |
| TWI779081B (zh) | 磁性碟片用基板及其之製造方法 | |
| JPH1160282A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の研磨方法 | |
| JP5701938B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JPH1190813A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置 | |
| JPH1110529A (ja) | 両面同時加工方法 |