JPH04116619A - 薄型液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
薄型液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH04116619A JPH04116619A JP2237657A JP23765790A JPH04116619A JP H04116619 A JPH04116619 A JP H04116619A JP 2237657 A JP2237657 A JP 2237657A JP 23765790 A JP23765790 A JP 23765790A JP H04116619 A JPH04116619 A JP H04116619A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄型液晶表示素子の製造方法に関するものであ
る。
る。
最近、液晶表示素子は、より薄型化される傾向にあるが
、液晶表示素子を薄型化するためには、その一対のガラ
ス基板の厚さを薄くすることが必要である。
、液晶表示素子を薄型化するためには、その一対のガラ
ス基板の厚さを薄くすることが必要である。
ところで、液晶表示素子は、一般にマルチ製法と呼ばれ
る製法で製造されている。このマルチ製法は、液晶表示
素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板の各素子区
画にそれぞれ表示用の透明電極および配向膜等を形成し
、この一対のガラス基板を、一方のガラス基板にその各
素子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲んで印刷したシー
ル材を介して接着して、複数個の液晶表示素子か並んだ
素子集合体を組立て、この後、この素子集合体の両ガラ
ス基板を各素子区画ごとに分断して個々の液晶表示素子
に分離する方法であり、分離された各液晶表示素子は、
この後、前記シールキ（の一部にあらかじめ設けておい
た液晶注入口から液晶を注入し、次いてこの液晶注入［
］を月止して完成されている。このマルチ製法によれば
、複数個の液晶表示素子を一括して同時に製造すること
ができる。なお、このマルチ製法には、−・対のガラス
基板を接着する前に、一方のガラス基板の各素子区画の
液晶封入領域にそれぞれ適量の液晶をデイスペンサ等に
より滴下供給する方法もあり、この場合は、各素子区画
の液晶封入領域を囲むシール材に液晶注入口を設けてお
く必要はない。
る製法で製造されている。このマルチ製法は、液晶表示
素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板の各素子区
画にそれぞれ表示用の透明電極および配向膜等を形成し
、この一対のガラス基板を、一方のガラス基板にその各
素子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲んで印刷したシー
ル材を介して接着して、複数個の液晶表示素子か並んだ
素子集合体を組立て、この後、この素子集合体の両ガラ
ス基板を各素子区画ごとに分断して個々の液晶表示素子
に分離する方法であり、分離された各液晶表示素子は、
この後、前記シールキ（の一部にあらかじめ設けておい
た液晶注入口から液晶を注入し、次いてこの液晶注入［
］を月止して完成されている。このマルチ製法によれば
、複数個の液晶表示素子を一括して同時に製造すること
ができる。なお、このマルチ製法には、−・対のガラス
基板を接着する前に、一方のガラス基板の各素子区画の
液晶封入領域にそれぞれ適量の液晶をデイスペンサ等に
より滴下供給する方法もあり、この場合は、各素子区画
の液晶封入領域を囲むシール材に液晶注入口を設けてお
く必要はない。
しかし、このマルチ製法では、液晶表示素子複数個分の
面積をもつ大面積のガラス基板を用いるため、薄型液晶
表示素子の製造において最初から薄いガラス基板を使用
すると、一対の基板の接着工程等においてガラス基板に
割れが発生してしまう。このため、マルチ製法で液晶表
示素子を製造する場合は、使用できるガラス基板の厚さ
に制約かあり、したかってガラス基板の薄型化は０．３
ｍ１１程度か限界であった。
面積をもつ大面積のガラス基板を用いるため、薄型液晶
表示素子の製造において最初から薄いガラス基板を使用
すると、一対の基板の接着工程等においてガラス基板に
割れが発生してしまう。このため、マルチ製法で液晶表
示素子を製造する場合は、使用できるガラス基板の厚さ
に制約かあり、したかってガラス基板の薄型化は０．３
ｍ１１程度か限界であった。
このため、従来は、０ 、 ３ ａｖ 〜１ 、 １
ｍｍ程度の厚さのガラス基板を用いて素子集合体を組立
て、この素子集合体を個々の液晶表示素子に分離した後
に、各液晶表示素子の両ガラス基板の外面を機械的に研
磨して、ガラス基板の厚さを薄くした薄型液晶表示素子
を製造している。なお、この製造方法において、ガラス
基板面の研磨を、素子集合体を個々の液晶表示素子に分
離してから行なっているのは、素子集合体の状態でガラ
ス基板面を研磨すると、ガラス基板か大きいために、研
磨中１こガラス基板が割れてしまうからである。
ｍｍ程度の厚さのガラス基板を用いて素子集合体を組立
て、この素子集合体を個々の液晶表示素子に分離した後
に、各液晶表示素子の両ガラス基板の外面を機械的に研
磨して、ガラス基板の厚さを薄くした薄型液晶表示素子
を製造している。なお、この製造方法において、ガラス
基板面の研磨を、素子集合体を個々の液晶表示素子に分
離してから行なっているのは、素子集合体の状態でガラ
ス基板面を研磨すると、ガラス基板か大きいために、研
磨中１こガラス基板が割れてしまうからである。
しかしなから、上記従来の製造方法は、素子集合体を個
々の液晶表示素子に分離した後に、１つ１つの液晶表示
素子についてその両ガラス基板を薄く研磨するものであ
るため、液晶表示素子の製造能率が悪く、したがって液
晶表示素子の製造コストが高くなるといる問題をもって
いた。しかも、上記従来の製造方法では、液晶表示素子
の両ガラス基板の外面を機械的に研磨してその厚さを薄
くしているため、ガラス基板面の均一な研磨か難しく、
そのために薄型化されたガラス基板の厚さのばらつきか
大きくなってしまうし、また、研磨中に、ガラス基板の
角部が欠けたりして生しるガラス屑によりガラス基板面
が傷ついて、この液晶表示素子が不良品となるため、液
晶表示素子の製造歩留も悪いという問題があった。
々の液晶表示素子に分離した後に、１つ１つの液晶表示
素子についてその両ガラス基板を薄く研磨するものであ
るため、液晶表示素子の製造能率が悪く、したがって液
晶表示素子の製造コストが高くなるといる問題をもって
いた。しかも、上記従来の製造方法では、液晶表示素子
の両ガラス基板の外面を機械的に研磨してその厚さを薄
くしているため、ガラス基板面の均一な研磨か難しく、
そのために薄型化されたガラス基板の厚さのばらつきか
大きくなってしまうし、また、研磨中に、ガラス基板の
角部が欠けたりして生しるガラス屑によりガラス基板面
が傷ついて、この液晶表示素子が不良品となるため、液
晶表示素子の製造歩留も悪いという問題があった。
本発明は上記のような実情にがんかみてなされたもので
あって、その目的とするところは、ガラス基板の厚さを
その全体にわたって均一に薄くした薄型液晶表示素子を
、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製造する
ことかできる、薄型液晶表示素子の製造方法を提供する
ことにある。
あって、その目的とするところは、ガラス基板の厚さを
その全体にわたって均一に薄くした薄型液晶表示素子を
、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製造する
ことかできる、薄型液晶表示素子の製造方法を提供する
ことにある。
本発明の薄型液晶表示素子の製造方法は、液晶表示素子
複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素子
区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシール材と、前記各
素子区画の全てを囲む外周シーリング材とを介して接着
して素子集合体を組立てた後、この素子集合体の状態で
前記一対のガラス基板の外面をエツチングして両ガラス
基板の厚さを薄くし、この後前記素子集合体を個々の液
晶表示素子に分離することを特徴とするものである。
複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素子
区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシール材と、前記各
素子区画の全てを囲む外周シーリング材とを介して接着
して素子集合体を組立てた後、この素子集合体の状態で
前記一対のガラス基板の外面をエツチングして両ガラス
基板の厚さを薄くし、この後前記素子集合体を個々の液
晶表示素子に分離することを特徴とするものである。
すなわち、本発明は、液晶表示素子複数個分の面積をも
つ一対のガラス基板を各素子区画の液晶封入領域をそれ
ぞれ囲むシール材を介して接着するマルチ製法により素
子集合体を組立て、この素子集合体を個々の液晶表示素
子に分離する前に、この素子集合体の両ガラス基板の外
面をエツチングして、この両ガラス基板の厚さを薄くす
るものであり、このようにエツチングによってガラス基
板の厚さを薄くすれば、ガラス基板に割れを発生させる
ことなくその厚さを薄くすることができるし、またガラ
ス基板のエツチングは基板外面全体にわたって均等に進
行するため、ガラス基板をその全体にわたって均一に薄
くすることができる。
つ一対のガラス基板を各素子区画の液晶封入領域をそれ
ぞれ囲むシール材を介して接着するマルチ製法により素
子集合体を組立て、この素子集合体を個々の液晶表示素
子に分離する前に、この素子集合体の両ガラス基板の外
面をエツチングして、この両ガラス基板の厚さを薄くす
るものであり、このようにエツチングによってガラス基
板の厚さを薄くすれば、ガラス基板に割れを発生させる
ことなくその厚さを薄くすることができるし、またガラ
ス基板のエツチングは基板外面全体にわたって均等に進
行するため、ガラス基板をその全体にわたって均一に薄
くすることができる。
この場合、本発明では、素子集合体を組立てる際に、一
対のガラス基板をその各素子区画の全てを囲む外周シー
リング材を介して接着しているため、ガラス基板の外面
エツチングに際して、各表示区画の内面側がエツチング
雰囲気にさらされるのを前記外周シーリング材によって
阻止することができるから、各表示区画の内面側がエツ
チングされてダメージを受けることはない。
対のガラス基板をその各素子区画の全てを囲む外周シー
リング材を介して接着しているため、ガラス基板の外面
エツチングに際して、各表示区画の内面側がエツチング
雰囲気にさらされるのを前記外周シーリング材によって
阻止することができるから、各表示区画の内面側がエツ
チングされてダメージを受けることはない。
そして、本発明では、素子集合体の状態でその両ガラス
基板の外面をエツチングして両ガラス基板の厚さを薄く
しているため、この後に素子集合体を分断して個々に分
離される各液晶表示素子は、その全てが、既に両ガラス
基板の厚さを薄くされた素子であり、したかつて、ガラ
ス基板の厚さをその全体にわたって均一に薄くした薄型
液晶表示素子を、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩
留よく製造することができる。
基板の外面をエツチングして両ガラス基板の厚さを薄く
しているため、この後に素子集合体を分断して個々に分
離される各液晶表示素子は、その全てが、既に両ガラス
基板の厚さを薄くされた素子であり、したかつて、ガラ
ス基板の厚さをその全体にわたって均一に薄くした薄型
液晶表示素子を、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩
留よく製造することができる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第１図および第２図は組立てられた素子集合体を示して
いる。この素子集合体Ａは次のような方法で組立てる。
いる。この素子集合体Ａは次のような方法で組立てる。
ます、液晶表示素子複数個分（図では１０個分）の面積
をもつ０．３ｍ＋ｎ〜１．１＋ｎｍ程度の厚さの一対の
ガラス基板１，２の各素子区画ａ、ａに、それぞれ、表
示用の透明電極および配向膜等（図示せず）を形成する
。次に、いずれか一方のガラス基板面に、その各素子区
画ａ、ａの液晶封入領域すをそれぞれ囲む枠状のシール
材３．３を印刷するとともに、基板外周縁より僅かに内
側に、各素子区画ａ、ａの全てを囲む外周シーリング材
４を印刷する。なお、シール材３，３と外周シーリング
材４には同し接着剤を用い、シール材３．３と外周シー
リング材４とをスクリーン印刷法等により同時に印刷す
る。この接着剤としては、ガラス基板１．２とのエツチ
ング選択比か高いエポキシ樹脂系接着剤等を用いる。ま
た、各シール材３３は、その一部に液晶注入口３ａ、３
ａとなる隙間を残して印刷し、また外周シーリング材４
は、その一部には通気口４ａとなる隙間を残して印判す
る。次に、上記一対のカラス基板１，２をその各素子区
画ａ、ａを斤いに対向させて重ね合わせ、二の両ガラス
基板コ、２を前記シール材３，３および外周ンーリング
＋４４を介して接着する。この場合、両ガラス基板１，
２間の空間は、各シール材３，３の一部に設けた液晶注
入口３ａ、３ａおよび外周シーリング材４の一部に設け
た通気口４ａを介して外部に連通しているため、両ガラ
ス基板１，２間の空気圧が高くなることはなく、したが
って、両ガラス基板１．２をその全域にわたって均一な
間隔で接着することができる。この後は、前記通気口４
ａを、ガラス基板１，２とのエツチング選択比が高いエ
ポキシ樹脂系接着剤等の封止材５で封止し、素子集合体
Ａを完成する。
をもつ０．３ｍ＋ｎ〜１．１＋ｎｍ程度の厚さの一対の
ガラス基板１，２の各素子区画ａ、ａに、それぞれ、表
示用の透明電極および配向膜等（図示せず）を形成する
。次に、いずれか一方のガラス基板面に、その各素子区
画ａ、ａの液晶封入領域すをそれぞれ囲む枠状のシール
材３．３を印刷するとともに、基板外周縁より僅かに内
側に、各素子区画ａ、ａの全てを囲む外周シーリング材
４を印刷する。なお、シール材３，３と外周シーリング
材４には同し接着剤を用い、シール材３．３と外周シー
リング材４とをスクリーン印刷法等により同時に印刷す
る。この接着剤としては、ガラス基板１．２とのエツチ
ング選択比か高いエポキシ樹脂系接着剤等を用いる。ま
た、各シール材３３は、その一部に液晶注入口３ａ、３
ａとなる隙間を残して印刷し、また外周シーリング材４
は、その一部には通気口４ａとなる隙間を残して印判す
る。次に、上記一対のカラス基板１，２をその各素子区
画ａ、ａを斤いに対向させて重ね合わせ、二の両ガラス
基板コ、２を前記シール材３，３および外周ンーリング
＋４４を介して接着する。この場合、両ガラス基板１，
２間の空間は、各シール材３，３の一部に設けた液晶注
入口３ａ、３ａおよび外周シーリング材４の一部に設け
た通気口４ａを介して外部に連通しているため、両ガラ
ス基板１，２間の空気圧が高くなることはなく、したが
って、両ガラス基板１．２をその全域にわたって均一な
間隔で接着することができる。この後は、前記通気口４
ａを、ガラス基板１，２とのエツチング選択比が高いエ
ポキシ樹脂系接着剤等の封止材５で封止し、素子集合体
Ａを完成する。
このようにして素子集合体Ａを組立てた後は、この素子
集合体Ａを第３図に示すようにエツチング槽１０内のエ
ツチング液１１中に浸漬し、素子集合体Ａの両ガラス基
板１．２の外面をエツチングする。なお、上記エツチン
グ液１１としては、弗酸をベースとするエツチング液を
使用する。
集合体Ａを第３図に示すようにエツチング槽１０内のエ
ツチング液１１中に浸漬し、素子集合体Ａの両ガラス基
板１．２の外面をエツチングする。なお、上記エツチン
グ液１１としては、弗酸をベースとするエツチング液を
使用する。
このように、素子集合体Ａをエツチング液１１中に浸漬
して両ガラス基板１，２の外面をエツチングすると、こ
の両ガラス基板１．２の厚さが第３図に鎖線で示した初
期の厚さから実線で示すように薄くなって行く。この両
ガラス基板１．２のエツチング時間は、最終的に得よう
とする基板厚さに応じて設定すればよく、このエツチン
グ時間を制御することにより、両ガラス基板１．２の厚
さを０．２ｍｍ〜０．１ｍｍまで薄くすることができる
。この場合、両ガラス基板１．２は、エツチング液１１
中において機械的な力かかからない状態でエツチングさ
れるため、ガラス基板１．２に割れが発生することはな
い。また、ガラス基板１２のエツチングは基板外面全体
に４つたって均等に進行するため、ガラス基板１．２を
その全体にわたって均一に薄くなる。また、素子集合体
Ａをエツチング液１１中に浸漬すると、工・ンチング液
１１が両ガラス基板１．２間にも侵入しようとするか、
この製造方法では、素子集合体Ａを組立てる際に、一対
のガラス基板コ、２をその各素子区画ａ、ａの全てを囲
む外周シーリング材４を介して接着するとともに、この
シーリング材４の一部に設けた通気口４ａを封止材５て
封止し、かつこのシーリング材４と封止材５を、ガラス
基板〕。
して両ガラス基板１，２の外面をエツチングすると、こ
の両ガラス基板１．２の厚さが第３図に鎖線で示した初
期の厚さから実線で示すように薄くなって行く。この両
ガラス基板１．２のエツチング時間は、最終的に得よう
とする基板厚さに応じて設定すればよく、このエツチン
グ時間を制御することにより、両ガラス基板１．２の厚
さを０．２ｍｍ〜０．１ｍｍまで薄くすることができる
。この場合、両ガラス基板１．２は、エツチング液１１
中において機械的な力かかからない状態でエツチングさ
れるため、ガラス基板１．２に割れが発生することはな
い。また、ガラス基板１２のエツチングは基板外面全体
に４つたって均等に進行するため、ガラス基板１．２を
その全体にわたって均一に薄くなる。また、素子集合体
Ａをエツチング液１１中に浸漬すると、工・ンチング液
１１が両ガラス基板１．２間にも侵入しようとするか、
この製造方法では、素子集合体Ａを組立てる際に、一対
のガラス基板コ、２をその各素子区画ａ、ａの全てを囲
む外周シーリング材４を介して接着するとともに、この
シーリング材４の一部に設けた通気口４ａを封止材５て
封止し、かつこのシーリング材４と封止材５を、ガラス
基板〕。
２とのエツチング選択比か高いエポキシ樹脂系接着剤等
で形成しているため、両ガラス基板１，２間へのエツチ
ング液１］の侵入は外周シーリング材４によって阻止さ
れる。したかつて、ガラス基板１，２の外面エツチング
に際して、各表示区画ａ、ａの内面側、すなわち、シー
ル材３の外側の電極端子配列部や、シール材３で囲まれ
た液晶封入領域すが、エツチング雰囲気であるエツチン
グ液１１にさらされることはない。なお、両ガラス基板
１．２は、その外面だけてなく外周面もエツチングされ
るが、このガラス基板１．２の外周面がエツチングによ
り外周シーリング材４の内周面より内側に後退するまで
は、両ガラス基板１，２間へのエツチング液１１の侵入
が外周シーリング材４によって阻止されるから、上記の
ように外周シーリング材４を基板外周縁より僅かに内側
に印刷するとともに、この外周シーリング材４の幅を十
分大きくとっておけば、ガラス基板１，２の外周面かエ
ツチングされても同等問題はない。
で形成しているため、両ガラス基板１，２間へのエツチ
ング液１］の侵入は外周シーリング材４によって阻止さ
れる。したかつて、ガラス基板１，２の外面エツチング
に際して、各表示区画ａ、ａの内面側、すなわち、シー
ル材３の外側の電極端子配列部や、シール材３で囲まれ
た液晶封入領域すが、エツチング雰囲気であるエツチン
グ液１１にさらされることはない。なお、両ガラス基板
１．２は、その外面だけてなく外周面もエツチングされ
るが、このガラス基板１．２の外周面がエツチングによ
り外周シーリング材４の内周面より内側に後退するまで
は、両ガラス基板１，２間へのエツチング液１１の侵入
が外周シーリング材４によって阻止されるから、上記の
ように外周シーリング材４を基板外周縁より僅かに内側
に印刷するとともに、この外周シーリング材４の幅を十
分大きくとっておけば、ガラス基板１，２の外周面かエ
ツチングされても同等問題はない。
このように、素子集合体Ａの状態でその両ガラス基板〕
、２の外面をエツチングした後は、速やかに素子集合体
Ａを洗浄して付着エツチング液を完全に除去し、この後
、前記素子集合体Ａの両ガラス基板１．２を各素子区画
ａ、ａごとに分断して個々の液晶表示素子に分離する。
、２の外面をエツチングした後は、速やかに素子集合体
Ａを洗浄して付着エツチング液を完全に除去し、この後
、前記素子集合体Ａの両ガラス基板１．２を各素子区画
ａ、ａごとに分断して個々の液晶表示素子に分離する。
第４図および第５図は分離された液晶表示素子Ｂを示し
ており、分離された各液晶表示素子Ｂは、この後、シー
ル材３て囲まれた液晶封入領域ａに、液晶注入口３ａか
ら液晶封入領域すに真空注入法によって液晶を注入し、
次いで液晶注入口３ａを封止して完成される。なお、第
４図および第５図において、１ａは一方のガラス基板１
の電極端子配列部、２ａは他方のガラス基板２の電極端
子配列部である。
ており、分離された各液晶表示素子Ｂは、この後、シー
ル材３て囲まれた液晶封入領域ａに、液晶注入口３ａか
ら液晶封入領域すに真空注入法によって液晶を注入し、
次いで液晶注入口３ａを封止して完成される。なお、第
４図および第５図において、１ａは一方のガラス基板１
の電極端子配列部、２ａは他方のガラス基板２の電極端
子配列部である。
すなわち、この実施例の薄型液晶表示素子の製造方法は
、液晶表示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板
１．２を各素子区画ａ、ａの液晶封入領域すをそれぞれ
囲むシール材３．３を介して接着するマルチ製法により
素子集合体Ａを組立て、この素子集合体Ａを個々の液晶
表示素子Ｂに分離する前に、この素子集合体Ａの両ガラ
ス基板１．２の外面をエツチングして、この両ガラス基
板１．２の厚さを薄くするものであり、このようにエツ
チングによってガラス基板１，２の厚さを薄（すれば、
ガラス基板１，２に割れを発生させることなくその厚さ
を薄くすることができるし、またガラス基板１，２のエ
ツチングは基板外面全体にわたって均等に進行するため
、ガラス基板１゜２をその全体にわたって均一に薄くす
ることができる。また、この場合、上記製造方法では、
素子集合体Ａを組立てる際に、一対のガラス基板１゜２
をその各素子区画ａ、ａの全てを囲む外周シーリング材
４を介して接着しているため、ガラス基板１，２の外面
エツチングに際して、各表示区画ａ、ａの内面側がエツ
チング雰囲気にさらされるのを前記外周シーリング材４
によって阻止することができるから、各表示区画ａ、ａ
の内面側がエツチングされてダメージを受けることはな
い。そして、上記製造方法では、素子集合体への状態で
その両ガラス基板１，２の外面をエツチングして両ガラ
ス基板１．２の厚さを薄くしているため、この後に素子
集合体Ａを分断して個々に分離される各液晶表示素子Ｂ
は、その全てか、既に両ガラス基板１．２の厚さを薄く
された素子であり、したがって、ガラス基板１，２の厚
さをその全体にわたって均一に薄くした薄型液晶表示素
子Ｂを、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製
造することができる。
、液晶表示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板
１．２を各素子区画ａ、ａの液晶封入領域すをそれぞれ
囲むシール材３．３を介して接着するマルチ製法により
素子集合体Ａを組立て、この素子集合体Ａを個々の液晶
表示素子Ｂに分離する前に、この素子集合体Ａの両ガラ
ス基板１．２の外面をエツチングして、この両ガラス基
板１．２の厚さを薄くするものであり、このようにエツ
チングによってガラス基板１，２の厚さを薄（すれば、
ガラス基板１，２に割れを発生させることなくその厚さ
を薄くすることができるし、またガラス基板１，２のエ
ツチングは基板外面全体にわたって均等に進行するため
、ガラス基板１゜２をその全体にわたって均一に薄くす
ることができる。また、この場合、上記製造方法では、
素子集合体Ａを組立てる際に、一対のガラス基板１゜２
をその各素子区画ａ、ａの全てを囲む外周シーリング材
４を介して接着しているため、ガラス基板１，２の外面
エツチングに際して、各表示区画ａ、ａの内面側がエツ
チング雰囲気にさらされるのを前記外周シーリング材４
によって阻止することができるから、各表示区画ａ、ａ
の内面側がエツチングされてダメージを受けることはな
い。そして、上記製造方法では、素子集合体への状態で
その両ガラス基板１，２の外面をエツチングして両ガラ
ス基板１．２の厚さを薄くしているため、この後に素子
集合体Ａを分断して個々に分離される各液晶表示素子Ｂ
は、その全てか、既に両ガラス基板１．２の厚さを薄く
された素子であり、したがって、ガラス基板１，２の厚
さをその全体にわたって均一に薄くした薄型液晶表示素
子Ｂを、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製
造することができる。
なお、上記実施例では、素子集合体Ａの両ガラス基板１
，２の外面エツチングを、素子集合体Ａをエツチング液
１１中に浸漬して行なっているが、このガラス基板１．
２の外面エツチングは、素子集合体Ａにエツチング液を
散布して行なっても、またドライエツチングによって行
なってもよい。
，２の外面エツチングを、素子集合体Ａをエツチング液
１１中に浸漬して行なっているが、このガラス基板１．
２の外面エツチングは、素子集合体Ａにエツチング液を
散布して行なっても、またドライエツチングによって行
なってもよい。
また、上記実施例では、素子集合体Ａを個々の液晶表示
素子Ｂに分離した後に、各液晶表示素子Ｂに液晶を注入
しているが、この液晶は、一対のガラス基板１．２を接
着して素子集合体Ａを組立てる前に、一方のガラス基板
の各素子区画ａ、ａの液晶封入領域すにデイスペンサ等
によって滴下供給してもよく、その場合は、各素子区画
ａ、ａの液晶封入領域すを囲むシール材３に液晶注入口
３ａを設けておく必要はない。
素子Ｂに分離した後に、各液晶表示素子Ｂに液晶を注入
しているが、この液晶は、一対のガラス基板１．２を接
着して素子集合体Ａを組立てる前に、一方のガラス基板
の各素子区画ａ、ａの液晶封入領域すにデイスペンサ等
によって滴下供給してもよく、その場合は、各素子区画
ａ、ａの液晶封入領域すを囲むシール材３に液晶注入口
３ａを設けておく必要はない。
本発明の薄型液晶表示素子の製造方法は、液晶表示素子
複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素子
区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシール材と、前記各
素子区画の全てを囲む外周シーリング材とを介して接着
して素子集合体を組立てた後、この素子集合体の状態で
前記一対のガラス基板の外面をエツチングして両ガラス
基板の厚さを薄くし、この後前記素子集合体を個々の液
晶表示素子に分離するものであるから、ガラス基板の厚
さをその全体にわたって均一に薄くした薄型液晶表示素
子を、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製造
することかできる。
複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素子
区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシール材と、前記各
素子区画の全てを囲む外周シーリング材とを介して接着
して素子集合体を組立てた後、この素子集合体の状態で
前記一対のガラス基板の外面をエツチングして両ガラス
基板の厚さを薄くし、この後前記素子集合体を個々の液
晶表示素子に分離するものであるから、ガラス基板の厚
さをその全体にわたって均一に薄くした薄型液晶表示素
子を、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製造
することかできる。
第１図〜第５図は本発明の一実施例を示したもので、第
１図および第２図は組立てられた素子集合体の一部切開
正面図および縦断側面図、第３図はガラス基板のエツチ
ング状態図、第４図および第５図は分離された液晶表示
素子の一部切開正面図および縦断側面図である。 Ａ 素子集合体、１．２ ガラス基板、ａ素子区画、ｂ
液晶封入領域、３・ シール材、３ａ−液晶注入口、
４・外周シーリング材、４ａ・・通気口、５・・・封止
材、１トエッチング液、Ｂ・・液晶表示素子。
１図および第２図は組立てられた素子集合体の一部切開
正面図および縦断側面図、第３図はガラス基板のエツチ
ング状態図、第４図および第５図は分離された液晶表示
素子の一部切開正面図および縦断側面図である。 Ａ 素子集合体、１．２ ガラス基板、ａ素子区画、ｂ
液晶封入領域、３・ シール材、３ａ−液晶注入口、
４・外周シーリング材、４ａ・・通気口、５・・・封止
材、１トエッチング液、Ｂ・・液晶表示素子。
Claims (1)
- 液晶表示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板
を、その各素子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシー
ル材と、前記各素子区画の全てを囲む外周シーリング材
とを介して接着して素子集合体を組立てた後、この素子
集合体の状態で前記一対のガラス基板の外面をエッチン
グして両ガラス基板の厚さを薄くし、この後前記素子集
合体を個々の液晶表示素子に分離することを特徴とする
薄型液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2237657A JP2722798B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 薄型液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2237657A JP2722798B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 薄型液晶表示素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04116619A true JPH04116619A (ja) | 1992-04-17 |
| JP2722798B2 JP2722798B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=17018576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2237657A Expired - Lifetime JP2722798B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 薄型液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2722798B2 (ja) |
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