JP2722798B2 - 薄型液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
薄型液晶表示素子の製造方法Info
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- JP2722798B2 JP2722798B2 JP2237657A JP23765790A JP2722798B2 JP 2722798 B2 JP2722798 B2 JP 2722798B2 JP 2237657 A JP2237657 A JP 2237657A JP 23765790 A JP23765790 A JP 23765790A JP 2722798 B2 JP2722798 B2 JP 2722798B2
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄型液晶表示素子の製造方法に関するもので
ある。
ある。
最近、液晶表示素子は、より薄型化される傾向にある
が、液晶表示素子を薄型化するためには、その一対のガ
ラス基板の厚さを薄くすることが必要である。
が、液晶表示素子を薄型化するためには、その一対のガ
ラス基板の厚さを薄くすることが必要である。
ところで、液晶表示素子は、一般にマルチ製法と呼ば
れる製法で製造されている。このマルチ製法は、液晶表
示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板の各素子
区画にそれぞれ表示用の透明電極および配向膜等を形成
し、この一対のガラス基板を、一方のガラス基板にその
各素子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲んで印刷したシ
ール材を介して接着して、複数個の液晶表示素子が並ん
だ素子集合体を組立て、この後、この素子集合体の両ガ
ラス基板を各素子区画ごとに分断して個々の液晶表示素
子に分離する方法であり、分離された各液晶表示素子
は、この後、前記シール材の一部にあらかじめ設けてお
いた液晶注入口から液晶を注入し、次いでこの液晶注入
口を封止して完成されている。このマルチ製法によれ
ば、複数個の液晶表示素子を一括して同時に製造するこ
とができる。なお、このマルチ製法には、一対のガラス
基板を接着する前に、一方のガラス基板の各素子区画の
液晶封入領域にそれぞれ適量の液晶をディスペンサ等に
より滴下供給する方法もあり、この場合は、各素子区画
の液晶封入領域を囲むシール材に液晶注入口を設けてお
く必要はない。
れる製法で製造されている。このマルチ製法は、液晶表
示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板の各素子
区画にそれぞれ表示用の透明電極および配向膜等を形成
し、この一対のガラス基板を、一方のガラス基板にその
各素子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲んで印刷したシ
ール材を介して接着して、複数個の液晶表示素子が並ん
だ素子集合体を組立て、この後、この素子集合体の両ガ
ラス基板を各素子区画ごとに分断して個々の液晶表示素
子に分離する方法であり、分離された各液晶表示素子
は、この後、前記シール材の一部にあらかじめ設けてお
いた液晶注入口から液晶を注入し、次いでこの液晶注入
口を封止して完成されている。このマルチ製法によれ
ば、複数個の液晶表示素子を一括して同時に製造するこ
とができる。なお、このマルチ製法には、一対のガラス
基板を接着する前に、一方のガラス基板の各素子区画の
液晶封入領域にそれぞれ適量の液晶をディスペンサ等に
より滴下供給する方法もあり、この場合は、各素子区画
の液晶封入領域を囲むシール材に液晶注入口を設けてお
く必要はない。
しかし、このマルチ製法では、液晶表示素子複数個分
の面積をもつ大面積のガラス基板を用いるため、薄型液
晶表示素子の製造において最初から薄いガラス基板を使
用すると、一対の基板の接着工程等においてガラス基板
に割れが発生してしまう。このため、マルチ製法で液晶
表示素子を製造する場合は、使用できるガラス基板の厚
さに制約があり、したがってガラス基板の薄型化は0.3m
m程度が限界であつた。
の面積をもつ大面積のガラス基板を用いるため、薄型液
晶表示素子の製造において最初から薄いガラス基板を使
用すると、一対の基板の接着工程等においてガラス基板
に割れが発生してしまう。このため、マルチ製法で液晶
表示素子を製造する場合は、使用できるガラス基板の厚
さに制約があり、したがってガラス基板の薄型化は0.3m
m程度が限界であつた。
このため、従来は、0.3mm〜1.1mm程度の厚さのガラス
基板を用いて素子集合体を組立て、この素子集合体を個
々の液晶表示素子に分離した後に、各液晶表示素子の両
ガラス基板の外面を機械的に研磨して、ガラス基板の厚
さを薄くした薄型液液晶表示素子を製造している。な
お、この製造方法において、ガラス基板面の研磨を、素
子集合体を個々の液晶表示素子に分離してから行なって
いるのは、素子集合体の状態でガラス基板面を研磨する
と、ガラス基板が大きいために、研磨中にガラス基板が
割れてしまうからである。
基板を用いて素子集合体を組立て、この素子集合体を個
々の液晶表示素子に分離した後に、各液晶表示素子の両
ガラス基板の外面を機械的に研磨して、ガラス基板の厚
さを薄くした薄型液液晶表示素子を製造している。な
お、この製造方法において、ガラス基板面の研磨を、素
子集合体を個々の液晶表示素子に分離してから行なって
いるのは、素子集合体の状態でガラス基板面を研磨する
と、ガラス基板が大きいために、研磨中にガラス基板が
割れてしまうからである。
しかしながら、上記従来の製造方法は、素子集合体を
個々の液晶表示素子に分離した後に、１つ１つの液晶表
示素子についてその両ガラス基板を薄く研磨するもので
あるため、液晶表示素子の製造能率が悪く、したがって
液晶表示素子の製造コストが高くなるという問題をもっ
ていた。しかも、上記従来の製造方法では、液晶表示素
子の両ガラス基板の外面を機械的に研磨してその厚さを
薄くしているため、ガラス基板面の均一な研磨が難し
く、そのために薄型化されたガラス基板の厚さのばらつ
きが大きくなってしまうし、また、研磨中に、ガラス基
板の角部が欠けたりして生じるガラス屑によりガラス基
板面が傷ついて、この液晶表示素子が不良品となるた
め、液晶表示素子の製造歩留も悪いという問題があっ
た。
個々の液晶表示素子に分離した後に、１つ１つの液晶表
示素子についてその両ガラス基板を薄く研磨するもので
あるため、液晶表示素子の製造能率が悪く、したがって
液晶表示素子の製造コストが高くなるという問題をもっ
ていた。しかも、上記従来の製造方法では、液晶表示素
子の両ガラス基板の外面を機械的に研磨してその厚さを
薄くしているため、ガラス基板面の均一な研磨が難し
く、そのために薄型化されたガラス基板の厚さのばらつ
きが大きくなってしまうし、また、研磨中に、ガラス基
板の角部が欠けたりして生じるガラス屑によりガラス基
板面が傷ついて、この液晶表示素子が不良品となるた
め、液晶表示素子の製造歩留も悪いという問題があっ
た。
本発明は上記のような実情にかんがみてなされたもの
であつて、その目的とするところは、ガラス基板の厚さ
をその全体にわたって均一に薄くした薄型液相表示素子
を、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製造す
ることができる、薄型液晶表示素子の製造方法を提供す
ることにある。
であつて、その目的とするところは、ガラス基板の厚さ
をその全体にわたって均一に薄くした薄型液相表示素子
を、マルチ製法を利用して能率的にかつ歩留よく製造す
ることができる、薄型液晶表示素子の製造方法を提供す
ることにある。
本発明の薄型液相表示素子の製造方法は、液晶表示素
子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素
子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシーリング材とを
介して接着して素子集合体を組立てた後、この素子集合
体の状態で前記各素子区画に対応する前記ガラス基板の
外面に、前記ガラス基板の厚さを薄くするエッチング処
理を施すことを特徴とする。
子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素
子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシーリング材とを
介して接着して素子集合体を組立てた後、この素子集合
体の状態で前記各素子区画に対応する前記ガラス基板の
外面に、前記ガラス基板の厚さを薄くするエッチング処
理を施すことを特徴とする。
すなわち、本発明は、液晶表示素子複数個分の面積を
もつ一対のガラス基板を各素子区画の液晶封入領域をそ
れぞれ囲むシール材を介して接着するマルチ製法により
素子集合体を組立て、この素子集合体を個々の液晶表示
素子に分離する前に、この素子集合体の両ガラス基板の
外面をエッチングして、この両ガラス基板の厚さを薄く
するものであり、このようにエッチングによってガラス
基板の厚さを薄くすれば、ガラス基板に割れを発生させ
ることなくその厚さを薄くすることができるし、またガ
ラス基板のエッチングは基板外面全体にわたって均等に
進行するため、ガラス基板をその全体にわたって均一に
薄くすることができる。この場合、本発明では、素子集
合体を組立てる際に、一対のガラス基板をその各素子区
画の全てを囲む外周シーリング材を介して接着している
ため、ガラス基板の外面エッチングに際して、各表示区
画の内面側がエッチング雰囲気にさらされるのを前記外
周シーリング材によって阻止することができるから、各
表示区画の内面側がエッチングされてダメージを受ける
ことはない。
もつ一対のガラス基板を各素子区画の液晶封入領域をそ
れぞれ囲むシール材を介して接着するマルチ製法により
素子集合体を組立て、この素子集合体を個々の液晶表示
素子に分離する前に、この素子集合体の両ガラス基板の
外面をエッチングして、この両ガラス基板の厚さを薄く
するものであり、このようにエッチングによってガラス
基板の厚さを薄くすれば、ガラス基板に割れを発生させ
ることなくその厚さを薄くすることができるし、またガ
ラス基板のエッチングは基板外面全体にわたって均等に
進行するため、ガラス基板をその全体にわたって均一に
薄くすることができる。この場合、本発明では、素子集
合体を組立てる際に、一対のガラス基板をその各素子区
画の全てを囲む外周シーリング材を介して接着している
ため、ガラス基板の外面エッチングに際して、各表示区
画の内面側がエッチング雰囲気にさらされるのを前記外
周シーリング材によって阻止することができるから、各
表示区画の内面側がエッチングされてダメージを受ける
ことはない。
そして、本発明では、素子集合体の状態でその両ガラ
ス基板の外面をエッチングして両ガラス基板の厚さを薄
くしているため、この後に素子集合体を分断して個々に
分離される各液晶表示素子は、その全てが、既に両ガラ
ス基板の厚さを薄くされた素子であり、したがって、ガ
ラス基板の厚さをその全体にわたって均一に薄くした薄
型液晶表示素子を、マルチ製法を利用して能率的にかつ
歩留よく製造することができる。
ス基板の外面をエッチングして両ガラス基板の厚さを薄
くしているため、この後に素子集合体を分断して個々に
分離される各液晶表示素子は、その全てが、既に両ガラ
ス基板の厚さを薄くされた素子であり、したがって、ガ
ラス基板の厚さをその全体にわたって均一に薄くした薄
型液晶表示素子を、マルチ製法を利用して能率的にかつ
歩留よく製造することができる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第１図および第２図は組立てられた素子集合体を示し
ている。この素子集合体Ａは次のような方法で組立て
る。
ている。この素子集合体Ａは次のような方法で組立て
る。
まず、液晶表示素子複数個分（図では10個分）の面積
をもつ0.3mm〜1.1mm程度の厚さの一対のガラス基板1,2
の各素子区画a,aに、それぞれ、表示用の透明電極およ
び配向膜等（図示せず）を形成する。次に、いずれか一
方のガラス基板面に、その各素子区画a,aの液晶封入領
域ｂをそれぞれ囲む枠状のシール材3,3を印刷するとと
もに、基板外周縁より僅かに内側に、各素子区画a,aの
全てを囲む外周シーリング材４を印刷する。なお、シー
ル材3,3と外周シーリング材４には同じ接着剤を用い、
シール材3,3と外周シーリング材４とをスクリーン印刷
法等により同時に印刷する。この接着剤としては、ガラ
ス基板1,2とのエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系
接着剤等を用いる。また、各シール材3,3は、その一部
に液晶注入口3a,3aとなる隙間を残して印刷し、また外
周シーリング材４は、その一部には通気口4aとなる隙間
を残して印刷する。次に、上記一対のガラス基板1,2を
その各素子区画a,aを互いに対向させて重ね合わせ、こ
の両ガラス基板1,2を前記シール材3,3および外周シーリ
ング材４を介して接着する。この場合、両ガラス基板1,
2間の空間は、各シール材3,3の一部に設けた液晶注入口
3a,3aおよび外周シーリング材４の一部に設けた通気口4
aを介して外部に連通しているため、両ガラス基板1,2間
の空気圧が高くなることはなく、したがって、両ガラス
基板1,2をその全域にわたって均一な間隔で接着するこ
とができる。この後は、前記通気口4aを、ガラス基板1,
2とのエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系接着剤等
の封止材５で封止し、素子集合体Ａを完成する。
をもつ0.3mm〜1.1mm程度の厚さの一対のガラス基板1,2
の各素子区画a,aに、それぞれ、表示用の透明電極およ
び配向膜等（図示せず）を形成する。次に、いずれか一
方のガラス基板面に、その各素子区画a,aの液晶封入領
域ｂをそれぞれ囲む枠状のシール材3,3を印刷するとと
もに、基板外周縁より僅かに内側に、各素子区画a,aの
全てを囲む外周シーリング材４を印刷する。なお、シー
ル材3,3と外周シーリング材４には同じ接着剤を用い、
シール材3,3と外周シーリング材４とをスクリーン印刷
法等により同時に印刷する。この接着剤としては、ガラ
ス基板1,2とのエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系
接着剤等を用いる。また、各シール材3,3は、その一部
に液晶注入口3a,3aとなる隙間を残して印刷し、また外
周シーリング材４は、その一部には通気口4aとなる隙間
を残して印刷する。次に、上記一対のガラス基板1,2を
その各素子区画a,aを互いに対向させて重ね合わせ、こ
の両ガラス基板1,2を前記シール材3,3および外周シーリ
ング材４を介して接着する。この場合、両ガラス基板1,
2間の空間は、各シール材3,3の一部に設けた液晶注入口
3a,3aおよび外周シーリング材４の一部に設けた通気口4
aを介して外部に連通しているため、両ガラス基板1,2間
の空気圧が高くなることはなく、したがって、両ガラス
基板1,2をその全域にわたって均一な間隔で接着するこ
とができる。この後は、前記通気口4aを、ガラス基板1,
2とのエッチング選択比が高いエポキシ樹脂系接着剤等
の封止材５で封止し、素子集合体Ａを完成する。
このようにして素子集合体Ａを組立てた後は、この素
子集合体Ａを第３図に示すようにエッチング槽10内のエ
ッチング液11中に浸漬し、素子集合体Ａの両ガラス基板
1,2の外面をエッチングする。なお、上記エッチング液1
1としては、弗酸をベースとするエッチング液を使用す
る。
子集合体Ａを第３図に示すようにエッチング槽10内のエ
ッチング液11中に浸漬し、素子集合体Ａの両ガラス基板
1,2の外面をエッチングする。なお、上記エッチング液1
1としては、弗酸をベースとするエッチング液を使用す
る。
このように、素子集合体Ａをエッチング液11中に浸漬
して両ガラス基板1,2の外面をエッチングすると、この
両ガラス基板1,2の厚さが第３図に鎖線で示した初期の
厚さから実線で示すように薄くなって行く。この両ガラ
ス基板1,2のエッチング時間は、最終的に得ようとする
基板厚さに応じて設定すればよく、このエッチング時間
を制御することにより、両ガラス基板1,2の厚さを0.2mm
〜0.1mmまで薄くすることができる。この場合、両ガラ
ス基板1,2は、エッチング液11中において機械的な力が
かからない状態でエッチングされるため、ガラス基板1,
2に割れが発生することはない。また、ガラス基板1,2の
エッチングは基板外面全体にわたって均等に進行するた
め、ガラス基板1,2をその全体にわたって均一に薄くな
る。また、素子集合体Ａをエッチング液11中に浸漬する
と、エッチング液11が両ガラス基板1,2間にも侵入しよ
うとするが、この製造方法では、素子集合体Ａを組立て
る際に、一対のガラス基板1,2をその各素子区画a,aの全
てを囲む外周シーリング材４を介して接着するととも
に、このシーリング材４の一部に設けた通気口4aを封止
材５で封止し、かつこのシーリング材４と封止材５を、
ガラス基板1,2とのエッチング選択比が高いエポキシ樹
脂系接着材等で形成しているため、両ガラス基板1,2間
へのエッチング液11の侵入は外周シーリング材４によっ
て阻止される。したがって、ガラス基板1,2の外面エッ
チングに際して、各素子区画a,aの内面側、すなわち、
シール材３の外側の電極端子配列部や、シール材３で囲
まれた液晶封入領域ｂが、エッチング雰囲気であるエッ
チング液11にさらされることはない。なお、両ガラス基
板1,2は、その外面だけでなく外周面もエッチングされ
るが、このガラス基板1,2の外周面がエッチングにより
外周シーリング材４の内周面より内側に後退するまで
は、両ガラス基板1,2間へのエッチング液11の侵入が外
周シーリング材４によって阻止されるから、上記のよう
に外周シーリング材４を基板外周縁より僅かに内側に印
刷するとともに、この外周シーリング材４の幅を十分大
きくとっておけば、ガラス基板1,2の外周面がエッチン
グされても何等問題はない。
して両ガラス基板1,2の外面をエッチングすると、この
両ガラス基板1,2の厚さが第３図に鎖線で示した初期の
厚さから実線で示すように薄くなって行く。この両ガラ
ス基板1,2のエッチング時間は、最終的に得ようとする
基板厚さに応じて設定すればよく、このエッチング時間
を制御することにより、両ガラス基板1,2の厚さを0.2mm
〜0.1mmまで薄くすることができる。この場合、両ガラ
ス基板1,2は、エッチング液11中において機械的な力が
かからない状態でエッチングされるため、ガラス基板1,
2に割れが発生することはない。また、ガラス基板1,2の
エッチングは基板外面全体にわたって均等に進行するた
め、ガラス基板1,2をその全体にわたって均一に薄くな
る。また、素子集合体Ａをエッチング液11中に浸漬する
と、エッチング液11が両ガラス基板1,2間にも侵入しよ
うとするが、この製造方法では、素子集合体Ａを組立て
る際に、一対のガラス基板1,2をその各素子区画a,aの全
てを囲む外周シーリング材４を介して接着するととも
に、このシーリング材４の一部に設けた通気口4aを封止
材５で封止し、かつこのシーリング材４と封止材５を、
ガラス基板1,2とのエッチング選択比が高いエポキシ樹
脂系接着材等で形成しているため、両ガラス基板1,2間
へのエッチング液11の侵入は外周シーリング材４によっ
て阻止される。したがって、ガラス基板1,2の外面エッ
チングに際して、各素子区画a,aの内面側、すなわち、
シール材３の外側の電極端子配列部や、シール材３で囲
まれた液晶封入領域ｂが、エッチング雰囲気であるエッ
チング液11にさらされることはない。なお、両ガラス基
板1,2は、その外面だけでなく外周面もエッチングされ
るが、このガラス基板1,2の外周面がエッチングにより
外周シーリング材４の内周面より内側に後退するまで
は、両ガラス基板1,2間へのエッチング液11の侵入が外
周シーリング材４によって阻止されるから、上記のよう
に外周シーリング材４を基板外周縁より僅かに内側に印
刷するとともに、この外周シーリング材４の幅を十分大
きくとっておけば、ガラス基板1,2の外周面がエッチン
グされても何等問題はない。
このように、素子集合体Ａの状態でその両ガラス基板
1,2の外面をエッチングした後は、速やかに素子集合体
Ａを洗浄して付着エッチング液を完全に除去し、この
後、前記素子集合体Ａの両ガラス基板1,2を各素子区画
a,aごとに分断して個々の液晶表示素子に分離する。
1,2の外面をエッチングした後は、速やかに素子集合体
Ａを洗浄して付着エッチング液を完全に除去し、この
後、前記素子集合体Ａの両ガラス基板1,2を各素子区画
a,aごとに分断して個々の液晶表示素子に分離する。
第４図および第５図は分解された液晶表示素子Ｂを示
しており、分離された各液晶表示素子Ｂは、この後、シ
ール材３で囲まれた液晶封入領域ａに、液晶注入口3aか
ら液晶封入領域ｂに真空注入法によって液晶を注入し、
次いで液晶注入口3aを封止して完成される。なお、第４
図および第５図において、1aは一方のガラス基板１の電
極端子配列部、2aは他方のガラス基板２の電極端子配列
部である。
しており、分離された各液晶表示素子Ｂは、この後、シ
ール材３で囲まれた液晶封入領域ａに、液晶注入口3aか
ら液晶封入領域ｂに真空注入法によって液晶を注入し、
次いで液晶注入口3aを封止して完成される。なお、第４
図および第５図において、1aは一方のガラス基板１の電
極端子配列部、2aは他方のガラス基板２の電極端子配列
部である。
すなわち、この実施例の薄型液晶表示素子の製造方法
は、液晶表示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基
板1,2を各素子区画a,aの液晶封入領域ｂをそれぞれ囲む
シール材3,3を介して接着するマルチ製法により素子重
合体Ａを組立て、この素子集合体Ａを個々の液晶表示素
子Ｂに分離する前に、この素子集合体Ａの両ガラス基板
1,2の外面をエッチングして、この両ガラス基板1,2の厚
さを薄くするものであり、このようなエッチングによっ
てガラス基板1,2の厚さを薄くすれば、ガラス基板1,2に
割れを発生させることなくその厚さを薄くすることがで
きるし、またガラス基板1,2のエッチングは基板外面全
体にわたって均一に進行するため、ガラス基板1,2をそ
の全体にわたって均一に薄くすることができる。また、
この場合、上記製造方法では、素子集合体Ａを組立てる
際に、一対のガラス基板1,2をその各素子区画a,aの全て
を囲む外周シーリング材４を介して接着しているため、
ガラス基板1,2の外面エッチングに際して、各素子区画
a,aの内面側がエッチング雰囲気にさらされるのを前記
外周シーリング材４によって阻止することができるか
ら、各素子区画a,aの内面側がエッチングされてダメー
ジを受けることはない。そして、上記製造方法では、素
子集合体Ａの状態でその両ガラス基板1,2の外面をエッ
チングして両ガラス基板1,2の厚さを薄くしているた
め、この後に素子集合体Ａを分断して個々に分離される
各液晶表示素子Ｂは、その全てが、既に両ガラス基板1,
2の厚さを薄くされた素子であり、したがって、ガラス
基板1,2の厚さをその全体にわたって均一に薄くした薄
型液晶表示素子Ｂを、マルチ製法を利用して能率的にか
つ歩留よく製造することができる。
は、液晶表示素子複数個分の面積をもつ一対のガラス基
板1,2を各素子区画a,aの液晶封入領域ｂをそれぞれ囲む
シール材3,3を介して接着するマルチ製法により素子重
合体Ａを組立て、この素子集合体Ａを個々の液晶表示素
子Ｂに分離する前に、この素子集合体Ａの両ガラス基板
1,2の外面をエッチングして、この両ガラス基板1,2の厚
さを薄くするものであり、このようなエッチングによっ
てガラス基板1,2の厚さを薄くすれば、ガラス基板1,2に
割れを発生させることなくその厚さを薄くすることがで
きるし、またガラス基板1,2のエッチングは基板外面全
体にわたって均一に進行するため、ガラス基板1,2をそ
の全体にわたって均一に薄くすることができる。また、
この場合、上記製造方法では、素子集合体Ａを組立てる
際に、一対のガラス基板1,2をその各素子区画a,aの全て
を囲む外周シーリング材４を介して接着しているため、
ガラス基板1,2の外面エッチングに際して、各素子区画
a,aの内面側がエッチング雰囲気にさらされるのを前記
外周シーリング材４によって阻止することができるか
ら、各素子区画a,aの内面側がエッチングされてダメー
ジを受けることはない。そして、上記製造方法では、素
子集合体Ａの状態でその両ガラス基板1,2の外面をエッ
チングして両ガラス基板1,2の厚さを薄くしているた
め、この後に素子集合体Ａを分断して個々に分離される
各液晶表示素子Ｂは、その全てが、既に両ガラス基板1,
2の厚さを薄くされた素子であり、したがって、ガラス
基板1,2の厚さをその全体にわたって均一に薄くした薄
型液晶表示素子Ｂを、マルチ製法を利用して能率的にか
つ歩留よく製造することができる。
なお、上記実施例では、素子集合体Ａの両ガラス基板
1,2の外面エッチングを、素子集合体Ａをエッチング液1
1中に浸漬して行なっているが、このガラス基板1,2の外
面エッチングは、素子集合体Ａにエッチング液を散布し
て行なっても、またドライエッチングによって行なって
もよい。また、上記実施例では、素子集合体Ａを個々の
液晶表示素子Ｂに分離した後に、各液晶表示素子Ｂに液
晶を注入しているが、この液晶は、一対のガラス基板1,
2を接着して素子集合体Ａを組立てる前に、一方のガラ
ス基板の各素子区画a,aの液晶封入領域ｂにディスペン
サ等によって滴下供給してもよく、その場合は、各素子
区画a,aの液相封入領域ｂを囲むシール材３に液晶注入
口3aを設けておく必要はない。
1,2の外面エッチングを、素子集合体Ａをエッチング液1
1中に浸漬して行なっているが、このガラス基板1,2の外
面エッチングは、素子集合体Ａにエッチング液を散布し
て行なっても、またドライエッチングによって行なって
もよい。また、上記実施例では、素子集合体Ａを個々の
液晶表示素子Ｂに分離した後に、各液晶表示素子Ｂに液
晶を注入しているが、この液晶は、一対のガラス基板1,
2を接着して素子集合体Ａを組立てる前に、一方のガラ
ス基板の各素子区画a,aの液晶封入領域ｂにディスペン
サ等によって滴下供給してもよく、その場合は、各素子
区画a,aの液相封入領域ｂを囲むシール材３に液晶注入
口3aを設けておく必要はない。
〔発明の効果〕 本発明の薄型液晶表示素子の製造方法は、液相表示素
子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素
子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシーリング材を介
して接着して素子集合体を組立てた後、この素子集合体
の状態で、前記各素子区画に対応する前記ガラス基板の
外面に、前記ガラス基板の厚さを薄くするエッチング処
理を施したから、基板の厚さをその全体にわたって均一
に薄くした薄型液晶表示素子を、マルチ製法を利用して
能率的にかつ歩留よく製造することができる。
子複数個分の面積をもつ一対のガラス基板を、その各素
子区画の液晶封入領域をそれぞれ囲むシーリング材を介
して接着して素子集合体を組立てた後、この素子集合体
の状態で、前記各素子区画に対応する前記ガラス基板の
外面に、前記ガラス基板の厚さを薄くするエッチング処
理を施したから、基板の厚さをその全体にわたって均一
に薄くした薄型液晶表示素子を、マルチ製法を利用して
能率的にかつ歩留よく製造することができる。
第１図〜第５図は本発明の一実施例を示したもので、第
１図および第２図は組立てられた素子集合体の一部切開
正面図および縦断側面図、第３図はガラス基板のエッチ
ング状態図、第４図および第５図は分離された液晶表示
素子の一部切開正面図および縦断側面図である。 Ａ……素子集合体、1,2……ガラス基板、ａ……素子区
画、ｂ……液晶封入領域、３……シール材、3a……液晶
注入口、４……外周シーリング材、4a……通気口、５…
…封止材、11……エッチング液、Ｂ……液晶表示素子。
１図および第２図は組立てられた素子集合体の一部切開
正面図および縦断側面図、第３図はガラス基板のエッチ
ング状態図、第４図および第５図は分離された液晶表示
素子の一部切開正面図および縦断側面図である。 Ａ……素子集合体、1,2……ガラス基板、ａ……素子区
画、ｂ……液晶封入領域、３……シール材、3a……液晶
注入口、４……外周シーリング材、4a……通気口、５…
…封止材、11……エッチング液、Ｂ……液晶表示素子。
Claims (3)
- 【請求項１】液晶表示素子複数個分の面積をもつ一対の
ガラス基板を、その各素子区画の液晶封入領域をそれぞ
れ囲むシーリング材とを介して接着して素子集合体を組
立てた後、この素子集合体の状態で前記各素子区画に対
応する前記ガラス基板の外面に、前記ガラス基板の厚さ
を薄くするエッチング処理を施すことを特徴とする薄型
液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２】エッチング処理は、複数個分の各素子区画
を囲んで前記一対の基板を接合する外周シーリング材を
形成した後に、施されることを特徴とする請求項１に記
載の薄型液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項３】素子集合体は、シーリング材と、複数個分
の各素子区画のすべてを囲む外周シーリング材とを介し
て一対のガラス基板が接着されてなることを特徴とする
請求項１に記載の薄型液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2237657A JP2722798B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 薄型液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2237657A JP2722798B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 薄型液晶表示素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04116619A JPH04116619A (ja) | 1992-04-17 |
| JP2722798B2 true JP2722798B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=17018576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2237657A Expired - Lifetime JP2722798B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 薄型液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2722798B2 (ja) |
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| US7823595B2 (en) | 2006-07-04 | 2010-11-02 | Nec Corporation | Apparatus for etching substrate and method of fabricating thin-glass substrate |
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| KR100595303B1 (ko) | 2001-09-25 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 식각장치용 버블판 및 그를 이용한 식각장치 |
| KR100771949B1 (ko) | 2001-11-07 | 2007-10-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 초박형 액정표시장치용 씰패턴 |
| KR100809938B1 (ko) | 2001-12-06 | 2008-03-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시 장치의 제조 방법 |
| KR100672633B1 (ko) | 2001-12-18 | 2007-01-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 제조방법 |
| KR100672634B1 (ko) | 2001-12-19 | 2007-02-09 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 기판 반송 장치 및 방법 |
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-
1990
- 1990-09-07 JP JP2237657A patent/JP2722798B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US8409451B2 (en) | 2006-07-04 | 2013-04-02 | Nec Corporation | Apparatus for etching substrate and method of fabricating thin-glass substrate |
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|---|---|
| JPH04116619A (ja) | 1992-04-17 |
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