DE1913133C3 - Verfahren zur Herstellung eines Elektrolytkondensators mit einer Mangandioxidschicht - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Elektrolytkondensators mit einer MangandioxidschichtInfo
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Description
Verfahren zur Herstellung eines Elektrolytkondensators,
bei dem eine mit einer Oxidschicht versehene Anode aus Ventilmetall mit einer Permanganatlösung
getränkt und diese thermisch in Mangandioxid umgewandelt wird.
Bei bekannten Kondensatoren dieser Art besteht die Anode aus einem filmbildenden Metall, auf dem
die dielektrische Oxidschicht elektrolytisch, chemisch oder physikalisch gebildet wird. Das die Oxidschicht
bildende Metall kann aus dem Grundmetall oder einem oder mehreren Fremdmetallen bestehen. Die
metallische Gegenelektrode wird mit der auf der Anode befindlichen Dielektrikumsschicht durch eine
feste halbleitende Metalloxidschicht, die durch Umsetzung eines höherwenigen Metallsalzes gebildet
wird, verbunden.
ScJche Kondensatoren besitzen eine Metallanode,
wie man sie durch Pressen und Sintern von pulverisiertem,
anodisch formierbarem Metall herstellen kznn. Die Elektroden können aber auch als gewikkelte
Foüea aus Ventilmetall vorliegen, bei denen Abstandshalter aus isolierei-dem Material, meistens
aus Glasfaserband, dazwischenliegen. Die Elektroden können ferner auch in Drahtform ausgebildet sein.
Die verwendeten Elektroden können aus Tantal, Niob, Vanadium, Aluminium und deren Legierungen
bestehen.
Die Anoden dieser Kondensatoren werden bekanntlich an ihren Oberflächen mit einer meistens
aus einem Oxid des Grundmetalls bestehenden Schicht durch elektrolytische oder thermische Oxidation
in Luft oder reinem Sauerstoff überzogen. Die anodisch behandelte Metallelektrode wird anschließend
mit einer festen Halbleiterschicht überzogen, die den nötigen Kontakt zwischen Anode und
Kathode herstellt. Dies geschieht meistens dadurch, daß man sie mit einer wäßrigen Mangannitratlösung
imprägniert und zusammen mit der absorbierten Lösung erhitzt, um das Mangannitrat pyrolytisch in
festes Mangandioxid überzuführen. Wenn man eine Halbleiterschicht von ausreichender Dicke und genügender
Dichte aufbauen will, muß man die Imprägnierung und pyrolytische Zersetzung mehrmals
durchführen.
Das Verfahren zum Aufbringen des halbleitenden Metalloxids ist mit einer hohen Unsicherheit verbunden.
Der Prozentsatz der unbrauchbaren Kondensatoren ist sehr hoch, da die Streuungen der elektrischen
Werte sehr groß sind. Man kann zwar durch Modifizierung des Verfahrens kleinere Verbesserungen
in bezug auf die elektrischen Eigenschaften der Kondensatoren erreichen, aber sie führt nicht zu den
erwünschten Eigenschaften.
Das Hauptziel bei der Herstellung dieser Kondensatoren ist die Erzielung eines möglichst hohen
Wertes für das Produkt: Kapazität mal Nennspannung pro Volumeneinheit. Sehr wichtig sind außerdem
die erreichbare Höhe der Arbeitsspannung und der Arbeitstemperatur. Man will beispielsweise pro
Volumeneinheit ein möglichst großes CU-Produkt erhalten. Wenn man jedoch die Imprägnierung mit
Mangannitrat und die anschließende pyrolytische Zersetzung nur wenige Male wiederholt, bleibt die
Kapazität klein und der Verlustfaktor hoch. Führt man dagegen die Imprägnierung und Pyrolyse mehrmals
durch, dann wird zwar die Kapazität höher, aber der Reststrom nimmt zu. Das bedeutet mit
anderen Worten eine Verminderung der Betriebsspannung, so daß schließlich das CU-Produkt klein
bleibt. Eine andere Möglichkeit besteht darin, daß man die Anode auf ein Mehrfaches der vorgesehenen
Betriebsspannung formiert. Der Verlustfaktor wird aber dadurch vergrößert und die bei einem gegebenen
Volumen erreichbare Kapazität vermindert.
Diese Nachteile werden bei der Zersetzung von Mangannitrat durch frei werdende feuchte nitrose
Gase verursacht, die bei den hohen Zersetzungstemperaturen von 200 bis 450° C sehr stark korrodierend
wirken. Selbstverständlich wird Aluminium, das viel unedler als Tantal oder Niob ist, besonders stark
angegriffen.
Aus der DT-AS 11 94 060 ist ein Verfahren zur
Herstellung einer Mangandioxidschicht für elektrische Kondensatoren bekannt, bei dem die Mangandioxidschicht
durch thermische Zersetzung von Manganheptoxid oder Übermangansäure hergestellt wird. Dieses bekannte Verfahren hat zahlreiche
Nachteile und läßt sich nicht großtechnisch durchführen. Die dabei zur Verwendung kommenden Ausgangssubstanzen,
nämlich die Übermangansäure bzw. das Manganheptoxid, sind sehr leicht zersetzlich und
auch gefährliche Substanzen. Die Übermangansäure i«
kann in höchstens 20%iger Lösung angewendet werden, weil sich bei höherer Konzentration die Substanz
zersetzt. Abgesehen von der sehr leichten Zersetzlichkeit der Lösung, die eine Vorratshaltung unmöglich
macht, lassen sich infolge der geringen möglichen Konzentration nur verhältnismäßig dünne Schichten
herstellen, so daß eine oftmalige Wiederholung dieses Verfahrens erforderlich ist. Die Übermangansäure
greift auch die dielektrische Oxidschicht an, insbesondere die Aluminiumoxidschicht bei Anoden aus »°
Aluminium. Außerdem ist hierbei eine Erhitzung auf Temperaturen bis 200° C erforderlich.
Das Manganheptoxid ist eine ölige Flüssigkeit, die bereits bei 40 bis 50° C verpufft und mit organischen
Stoffen sehr leicht entzündlich ist. Sie ist außerdem »5 sehr schlagempfindlich, so daß eine großtechnische
Anwendung nicht in Frage kommt. Das Manganheptoxid kann auch nicht direkt in Form einer
Schicht auf die formierte Anode aufgebracht werden, sondern diese kann nur den Dämpfen von Manganheptoxid
ausgesetzt werden, wodurch sich eine sehr lange Einwirkungszeit zur Erzeugung einer geringen
Schichtdicke ergibt. Abgesehen von den obengenannten Nachteilen ist dies eine technisch untragbar lange
Zeit. Nach dem Ausführungsbeispiel 2 der DT-AS 11 94 060 ist immer noch eine Zeit von 10 Stunden
bei 20 bis 30° C erforderlich, allerdings muß dann der Anodenkörper noch auf eine Temperatur von
170° C erhitzt werden, so daß also auch hier eine hohe Temperatur zur Behandlung erforderlich ist.
Durch die Anwendung von Manganheptoxid in Dampfform ergibt sich noch der weitere Nachteil,
daß sich die Mangandioxidschicht auch auf den Wänden des Gefäßes niederschlägt, was zu weiteren
Schwierigkeiten infolge der Verunreinigung der Gefäße führt und einen unnötigen Substanzverbrauch
bedeutet.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Mangandioxidschicht
auf einer dielektrischen Oxidschicht anzugeben, bei dem die dielektrische Oxidschicht weder
angegriffen noch zerstört wird.
Diese Aufgabe wird bei dem Verfahren der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß auf der
Oxidschicht eine Ammoniumpermangan atschicht erzeugt und diese bei einer Temperatur von höchstens
1100C in eine Mangandioxidschicht umgewandelt
wird.
Das Ammoniumpermanganat kann in Form einer wäßrigen Lösung auf die formierten Anoden aufgebracht
werden, so daß dort im Gegensatz zu den bekannten Verfahren eine definierte Schicht der zu
zersetzenden Substanz erzeugt werden kann. Die Mangandioxidschicht wird auch nur auf der formierten
Anode gebildet und nicht auf den Gefäßwänden wie bei dem bekannten Verfahren. Bei Ammoniumpermanganat
handelt es sich um eine vollkommen ungefährliche Substanz, die leicht zu handhaben ist.
Die Zersetzung wird bei Temperaturen von höchstens 1100C vorgenommen, so daß schon aus diesem
Grunde die nachteiligen Einwirkungen auf die dielektrische Oxidschicht minimal sind. Außerdem bilden
sich bei der thermischen Zersetzung von Ammoniumpermanganat keine aggressiven Bestandteile, die
die dielektrische Oxidschicht nachteilig beeinflussen würden. Deshalb eignet sich das Verfahren gemäß
der Erfindung auch zur Herstellung von Kondensatoren mit einer dielektrischen Aluminiumoxidschicht.
Ammoniumpermanganat zersetzt sich ähnlich wie Kaliumpermanganat zu halbleitendem Mangandioxid,
jedoch ohne korrodierende Nebenprodukte und bereits bei besonders niedrigen Temperaturen. Vollkommen
trockenes Ammoniumpermanganat zersetzt sich bei einer Temperatur von 1100C, in feuchtem
Zustand sogar schon bei 90° C zu hochleitfähigeni Mangandioxid.
Bei Verwendung von gepreßten Metallkörpern wird dann die Halbleiterschicht vorzugsweise mit
einer flüssigen Suspension leitfähiger Teilchen überzogen und anschließend die Flüssigkeit verdampft,
so daß die leitfähigen Teilchen eine zusammenhängende leitfähige Schicht bilden. Man kann noch
die Außenfläche dieser Schicht mit einem gegenüber der Anode isolierten Metallüberzug durch Aufspritzen
eines Metalls oder durch Tauchen in eine Silber enthaltende Paste versehen.
Nach dem Verfahren gemäß der Erfindung hergestellte Kondensatoren sind den bekannten Kondensatoren
überlegen. Die Erfindung ermöglicht, die Kondensatoren kleiner herzustellen und mit höheren
Spannungen zu belasten, die in der Nähe der Werte der Formierspannungen liegen. Ferner weisen die
gemäß der Erfindung hergestellten Kondensatoren bis zur Formierspannung der Elektrode kleinere
Restströme auf.
Bei einem bevorzugten Herstellungsverfahren wird der Kondensatorwickel, der aus einer Anoden- und
Kathodenfolie sowie einem dazwischenliegenden Glasfaserband als Abstandhalter besteht, in einem
gebräuchlichen Formierelektrolyten, wie z. B. in einer 10%>igen wäßrigen Borsäurelösung, auf die
vorgesehene, anderthalbfache Aibeitsspannung formiert.
Die Stromstärke soll 0,5 A/dm2 Anodenfläche nicht überschreiten, während die Spannung stetig
gesteigert wird. Nachdem die maximale Formierspannung erreicht ist, wird die anodische Formierung
noch so lange fortgesetzt, bis der Strom konstant bleibt. Dann wird der Elektrolyt aus den formierten
Wickeln ausgewaschen und diese daraufhin getrocknet.
Die Wickel werden nun bis zur Sättigung mit einer wäßrigen Ammoniumpermanganatlösung imprägniert
und diese bei einer Ofentemperatur von 90° C zersetzt. Die Imprägnierung und Zersetzung wird so oft
wiederholt, bis die Hohlräume zwischen den Kondensatorelektroden ausgefüllt und die berechneten
Kapazitätswerte annähernd erreicht sind.
Bei den bekannten Kondensatoren wird eine Formierspannung verwendet, die bis zu zehnmal
größer ist wie die vorgesehene Arbeitsspannung. Hat ein Kondensator eine Nennspannung von 10 Volt,
so wird daher eine Formierspannung bis zu 100 Volt verwendet. Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung
benötigt man zur Herstellung von Festelektrolytkondensatoren mit einer Nennspannung von 10 Volt nur
noch eine maximale Formierspannung von 15 bis
20 Volt. Dadurch wird aber die Dicke der aus Metalloxid bestehenden Dielektrikumsschicht vermindert.
Die Verminderung der Schichtdicke ist proportional der Zunahme der Kapazität bei gegebener
Anodengröße und der Verminderung des Verlustfaktors.
In Fortführung der Erfindung kann m^n das Verfahren
so modifizieren, daß nach der Manganisierung mit Äinmoniumpermanganat die weitere Manganisierung
mit Mangannitrat fortgesetzt wird, da die zuerst schonend aufgebrachte Mangandioxidschicht
einen weitgehenden Schutz der Dielektrikumsschicht gegenüber korrodierenden Einflüssen der feuchten,
nitrosen Gase gewährleistet.
Zur näheren Erläuterung der Erfindung diene das folgende Ausführungsbeispiel.
Für die Versuche wurden 10 Stück Aluminiumwickelkondensatoren mit Glasfaserband als Abstandhalter
verwendet. Die Vorformierspannung der Anode lag bei 18VoIt; die Messungen wurden bei *°
10 Volt und 50 Hz durchgeführt.
Die trockenen Wickel wurden mit gesättigter wäßriger Ammoniumpermanganatlösung im mit einer
Wasserstrahlpumpe erzeugten Vakuum imprägniert und in einem Ofen bei 90° C zersetzt. Nach fünfmaliger
Wiederholung der genannten Imprägnierung und Zersetzung wurden die Wickel in lO°/oiger Borsäurelösung
mit 18 Volt nachformiert. Nach der Formierung wurde die Elektrolytlösung mitteis
destilliertem Wasser aus den Kondensatoren entfernt diese schonend getrocknet und nach dem Abkühlen
auf Zimmertemperatur die folgenden elektrischen Werte gemessen.
Ausgangswerte
Nach 5 Imprägnierungen
und Zersetzungen
Nach der Formierung
Nach lOImrägnierungen
und Zersetzungen
Nach der Formierung
Nach 5 Imprägnierungen
und Zersetzungen
Nach der Formierung
Nach lOImrägnierungen
und Zersetzungen
Nach der Formierung
C | tgd | h |
(μΡ) | (Ve) | (μ.Α) |
68,5 | 6,8 | 2,2 |
42,3 | 17,2 | 146,0 |
47,2 | 16,5 | 6,1 |
61,7 | 7,2 | 164,0 |
62,3 7,1
8,4
Zu ähnlichen Ergebnissen gelangt man auch, wenn vor der Zersetzung das Wasser entfernt oder im
heißen Luft- oder Sauerstoffstrom die Zersetzung durchgeführt wird.
Wenn man zuerst mit Ammoniumpermanganat und nachträglich mit Mangannitrat manganisiert,
erhält man mit weniger Stufen die vorgesehene Kapazität, aber die Beschädigung des Oxidfilms ist
etwas größer.
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung eines Elektrolytkondensators,
bei dem eine mii einer Oxidschicht S versehene Anode aus Ventilmetall mit einer
Permanganailösung getränkt und diese thermisch
in Mangandioxid umgewandelt wird, dadurch
gekennzeichnet, daß auf der Oxidschicht eine Ammoniumpermanganatschicht erzeugt und ">
diese bei einer Temperatur von höchstens 110G C
in eine Mangandioxidschicht umgewandelt wird.
2. Verfahren nach Anspruch \, dadurch gekennzeichnet,
daß das Ammoniumpermanganat im feuchten Zustand bei Temperaturen von 80 bis 90° C zu Mangandioxid zersetzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet,
daß die Anode mit gesättigter wäßriger Ammoniumpennanganatlösung gelränkt,
dann das Wasser entfernt und das trockene «> Ammoniumpermanganat bei Temperaturen über
80D C zu Mangandioxid zersetzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Zersetzung
im Vakuum vorgenommen wird. as
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß
nach dem Tränken der Anode mit Ammoniumpennanganatlösung und deren Zersetzung die
Anode nachformiert wird.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß
Tränkung, Pyrolyse und Nachformierung mehrmals wiederholt werden.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß
auf der aus Ammoniumpermanganat erzeugten Halbleiterschicht aus Mangandioxid weitere
solche Schichten gebildet werden, indem mehrmals zunächst eine Schicht von Ammoniumpermanganat
hergestellt und dieses dann zu Mangandioxid zersetzt wird oder die darauf folgenden
Schichten in an sich bekannter Weise aus Mangannitrat durch Tränken und Zersetzen erzeugt
werden, und daß jedesmal nach der Zersetzung die Anode nachformiert wird.
8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß
die Halbleiterschicht auf einer Elektrode aus Aluminium erzeugt wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH447568 | 1968-03-26 | ||
CH447568A CH500579A (de) | 1968-03-26 | 1968-03-26 | Verfahren zur Herstellung eines Elektrolyt-Kondensators |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1913133A1 DE1913133A1 (de) | 1969-11-13 |
DE1913133B2 DE1913133B2 (de) | 1975-08-21 |
DE1913133C3 true DE1913133C3 (de) | 1976-03-25 |
Family
ID=
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