DE1522359A1 - Verfahren zur photochemischen Unloeslichmachung von Polymeren - Google Patents
Verfahren zur photochemischen Unloeslichmachung von PolymerenInfo
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Description
• JU.-i.rfV. ■
Braunschweig, den 24-, Februar 1966 W/Na - G 1534-
AGPA-GEVAERT AG, Leverkusen
Verfahren zur photochemisehen Unlöslichmachung
von Polymeren
Priorität: Großbritannien Nr. 8480/65 v. 26. 2. 1965
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur photochemischen Herabsetzung der Löslichkeit löslicher
Polymere und zur Herstellung von Druckformen sowie die nach diesem Verfahren hergestellten Druckformen.
Die Geschwindigkeit des Unleöslichwerdens von lichtempfindlichen
polymeren Systemen durch Bestrahlung mit aktinischem Licht wird bekanntlich durch Zusatz bestimmter
Aktivatoren, wie z.B. Michlers Keton, zum lichtempfindlichen System beschleunigt.
Es- wurde nun gefunden, dass die Einbringung von Mischungen
bestimmter an und fü-r sich bekannter Aktivatoren in bestimmte
lichtempfindliche polymere Systeme zu einer
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152235S
synergistisehen Verstärkung der Aktivierung^"'4 r'-nng
führt.
Das Verfahren zur Herstellung verbesserter lichtemnflnd
licher Materialien nach vorliegender Erfindung ist gekennzeichnet durch eine homogene Vermischung
A) eines löslichen lichtempfindlichen Polymeren nus
der Gruppe (1) der Polymeren mit äthy!enisch ungesättigten
Seitenketten des Acryl- bzw. Alkylocryl-Typs
und/oder (2) der Polykondensationsprodukte ^1I
aliphatischen oder aromatischen Diolen urd aliphatischen
Dicarbonsäuren mit ungesättigten 3eitanket
ten, mit
B) einem synergp.schen Gemisches von zwei \kt?vptoren,
und zwar einerseits von Benzophenon, β1η°τη ρ,ρ'-Di-11
kylaminoben'zophenon oder Fluorenon, und andrerseits
von einem andersartigen Aktivator aus der Gruppe des Benzoins, Benzoinmethyläthers, Anthrachinons,
2-Methylanthrachinons, Benzophenons, Benzils, X
1,?,5-"T?riacety!benzols, Pluorenons, Fluorene, D
Propiophenons und Benzaldehyds.
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Unter den geeigneten ρ,ρ'-Dialkylaminobenzophenonen
sei vor allem das allgemein als Michlers Keton "bekannte ρ,ρ1-DimethylaminobBnz
opferen hprvorsBhoben.
Die lichtempfindlichen löslichen Polymeren, die photochemisch
unlöslich, gemacht werden können, and auf deren photochemische Unlöslichmachung ein Gemisch von Benzophenon,
ρ,p·-Dialkylaminobenzophenon oder Fluorenon und wenigstens
einer andersartigen obenerwähnten Verbindung einen synerglsch aktivierenden Einfluss ausübt, gehören zu verschiedenen Klassen.
Als ersten seien Polymere erwähnt mit äthylenisch ungesättigten
Seitenketten des Acryl- bzw. Alkylacryl-Typs.
Diese Polymeren lassen sich durch Reaktion von Acrylsäure-
bzw. Alkylacrylsäurechlorid mit Polymeren, die Substituenten
tragen, welche gegenüber Säurechloridradikalen reaktionsfähig
Salcki,
sind, erhalten. Derartige Polymere sind vor allem , die
Hydroxyl- bzw. Thiolgruppen enthalten.
Die mit den erwähnten reaktionsfähigen Gruppen versehenen Polymeren können natürliche Polymeren, chemisch modifizierte
natürliche Polymeren, synthetische Polymeren, Polykondensate oder Polyaddukte sein.
909330/113V
Unter den natürlichen, -wZ& Hydroxylgruppen
Polymeren seien Naturprodukte wie Cellulose, Stärke, Dextrin und dgl.^ sowie deren Teilester bzw. Teiläther erwähnt,
insofern ihre Moleküle eine wesentliche Menge freie, gegenüber Säurechloriden reaktionsfähige Hydroxylgruppen enthalten z.B.
die Oxyäthyl- bzw. Oxypropylderivate der Cellulose und Stärke.
Synthetische Polymerisate, die mit Acrylsäure- bzw. Alkylacrylsäurechlorid nach dem "Verfahren der vorliegenden
Erfindung zur Reaktion^ gebracht werden können, sind z.B. Polyvinylalkohol, teilweise acetylierter bzw. veresterter
Polyvinylalkohol/ und Mischpolymere , deren Molekülketten eine wesentliche Menge Vinylalkoholgruppen enthalten. Das £omonomere
bzw. die Komonomeren können in diesem Falle zwischen Styrol und dessen ringsubstituierten Derivaten, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid,
Vinyleatern, Vinyläthern, Acryl- bzw. Methacrylsäureestern, Acrylnitril, Methacrylnitril, Butadien und dgl.
gewählt werden. Diese iomonomeren werden dem synthetischen
Polymerisationsprodukt einverleibt um den Mischpolymeren eine möglichst hohe Festigkeit und Härte nach der Bestrahlung und
der Verknüpfung zu verleihen.
Ferner kann das Mischpolymere ebenfalls eine bestimmte Menge mehrfach ungesättigter monomerer Gruppen, wie z.B.
Divinylbenzol, Diglyaoldiacrylate, Ν,Ν'-Alkylen-bis-acrylamide,
Ν,Ν'-Alkylen-bis-methacrylamide, N-Allylacrylamid, N-Methallylacrylamid,
Ν,Ν-Diallylacrylamid, Äthylendiacrylat und Triallylcyanurat
enthalten, vorausgesetzt dass die lichtempfindliche Schicht löslich bleibt, solange keine Belichtung mit aktinischem
Licht stattfindet.
909830/1 13!'
Synthetische Polykondensate mit freien Hydroxylgruppen sind z.B. Polyamide mit Oxymethyl- bzw. Oxyäthylsubstituenten/
sowie Epoxyharze, wie die durch Polykondensation von 2,2-Bis-(4-0xyphenyl)-propan
mit Epichlorhydrin erhaltenen Polyäther.
Thiolgruppenhaltige Polymere sind z.B. thiolierte
Gelatine, Polythiolstyrol, Polyvinylmereaptan und das Kondensationsprodukt
aus PolyCisophthalylidenhexamethylendiamin) und Thi oglyc ölsäure.
VQLuUm(&l·* Malts
ieYäthyl enisch ungesättigteftSeitenketten
sind ebenfalls durch die Eeaktion von hydroxylgruppen
haltigen Polymeren mit N-Idethylolacrylamid bzw. N-Methylolalkylacrylamid
zugänglich. Grundsätzlich eignen sich alle obenerwähnten natürlichen Polymeren,, sowie künstliche
Polymerisations-, Polykondensations- bzw. Polyadditionsprodukte
für die erwähnte Reaktion.
Eine weitere Gruppe lichtempfind.lich.er, löslicher Polymerer
die photochemisch unlöslich gemacht werden können, lässt sich
γ" υ
durch Polykondensation -eas- aliphatisch©» bzw. aromatischen
Dioleal -ttftd aliphatischen Dicarbonsäuren mit ungesättigten
Seitenketten herstellen. Geeignete Due sind z.B. die verschiedenen
Glycole, wie Äthylenglycöl usw., aber auch
Bisphenole, wie 2,2-Bis(4~0xyphenyl)-propanx sowie dessen
Homologe und Derivate.
Geeignete aliphatische Dicarbonsäuren mit ungesättigten
Seitenketten sind z.B. Itaconsäure, λ -Methylitaconaäure,
£-Methylitaconsäure,J -Propylitaconsäure, ^-Isopropyiitaconsäure
, ·* -Äthylitaconsäure, fJ ,T-Dimethylitaconsäure , Teracon-
BAD OHiGiNAL
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säure, Propylidenbernsteinsäure, Methylenglutarsäure,
Λ-Äthylidenglutarsäure, <X-Äthylidenadipinsäure, Äthylidenmalonsäure
i Propylidenmalonsäure, Butylidenmalonsäure,
Isobutylidenmalonsäure* asw.
Bei der Polykondensationsreaktion von Diolen and Dicarbonsäuren mit ungesättigten Seitenketten kann, auch eine
gewisse Menge sonstiger DicarbOiisäuren anwe3end sein, z.B.
Terephthalsäure, Isophthalsäure, Stilbendicarbonsäuren,
Benzophenondicarbonsäuren, Diphenyldicarbons/iuren und dgl.
Eine weitere G-ruppe lichtempfindlicher, löslicher Polymerer, die photochemisch unlöslich gemacht werden können,wird
durch Polykondensation von Diaminen-t«a4-aliphatischen Dicarbonsäuren
mit ungesättigten Seitenketten hergestellt, -Polyamidefi
mit ungesättigten Seitenketten . Die für diese Reaktion gewählten Dicarbonsäuren sind dieselben wie die
oben für die Reaktion mit Diolen errv^ku-ta^.
Bekanntlich lassen sich bestimmte Polymere durch Belichtung mit aktinischer Strahlung unlöslich machen, &ά& Von
vornherein wäre eine Beschleunigung dieses Vorganges durch Zu
-ZUm Benaophenon, p,p'-Dialkylaminobenzophenon oder
Fluorenon e aa wegen der Erhöhung der Gesamtmenge an vorhandenen Aktivatoren zu erwarten.
Im günstigen Falle dürfte die Gesamtwirkung dar Aktivatore a
demnach ungefähr gleich der Summe der Einzslwirkungen s^in.
Zv war daher s^hr überraschend festzustellen, dass die
Yerknüpfungsg5i;:-:v//;iidig!:eit polymerer Materialien der obenerwähnten
Gruppciii sich weit oberhalb der Summe der üinzel-
_. 5 —
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909830/113 0
Wirkungen sämtlicher Aktivatoren steigern lässt, wenn die
Belichtung dieser polymeren Materialien in Anwesenheit von
Benzophenon, p,p'-Dialkylaminobenzophenon oder Fluorenon
in katalytisch wirksamen Mengen/ sowie von wenigstens einem andersartigen Aktivator aus der Gruppe des Benzoins, Benzoinmethyläthers,
Anthrachinone, 2-Methylanthrachinons, Benzophenons,
Benzils, Xanthone, 1,3,5-Triacetylbenzols, Pluorenons,
Fluorene, Diacetyls, Propiophenons und Benzaldehyds, stattfindet.
Es hat sich aber überraschenderweise gezeigt, dass die
ibt
synergisch aktivierende Wirkung der erfindungsgemässen Mischungen nicht bei allen Polymeren mit ungesättigten Seitenketten zutragetritt. Ein Gemisch von Michlers Keton und Benzoin z.B. übt keine synergisch aktivierende Wirkung auf die nachfolgenden Polymeren aus, ob sie alle in ihren Molekülen äthylenisch ungesättigte Seitenketten aufweisen,
synergisch aktivierende Wirkung der erfindungsgemässen Mischungen nicht bei allen Polymeren mit ungesättigten Seitenketten zutragetritt. Ein Gemisch von Michlers Keton und Benzoin z.B. übt keine synergisch aktivierende Wirkung auf die nachfolgenden Polymeren aus, ob sie alle in ihren Molekülen äthylenisch ungesättigte Seitenketten aufweisen,
heiuJ.*it- situ Cl(UtI f«*·* _ , d?'e „ ^. , _ _
helle Polymere^ a durch die Reaktion des PoIyäthers
von 2,2-Bis(4-0xyphenyl)-propan und Epichlorhydrin mit
(a) Cinnamoylchlorid,
(b) 6-Cumarinsulphonylchlorid,
(c) Styrol-tf-sulphonylchlorid,
(d) Styrol-^-isocyanat, und
(e) Monoäthylfumarylmonochlorid.
Ein weiteres Polymeres, auf das ein Gemisch von Michlers Keton und Benzoin keine synergisch aktivierende Wirkung
ausübt, o es ungesättigte Seitenketten besitzt, ist das Mischpolymere aus Vinylmethyläther und Monoallylmaleat.
lit
Die Wahl der Aktivatorengemische mit synergisch aktivierender
Wirkung auf die Polymeren mit ungesättigten Seiten-
909830/1131^ BAD ORIGINAL
ketten "beschränkt sich demnach auf die in vorliegender
Erfindung beschriebenen und zum Schutz angemeldeten Akt i vat or engemische. Es sei -je-bemerkt, dass die Gemische
von Benzoin und einem der unten" erwähnt en bekannten Aktivatoren
Ut
f
keine synergUsch aktivierende Wirkung auf die Blymeren mit
ungesättigten Seitenketten ausüben :
p-Dimethylaminobenzophenon, p-Diäthylaminobenzaldehyd,
4H-Chinolizin-4-on, 1,3-Eiphenyl-5-(p-iodphenyl)-2-pyrazolin,
1-Methyl-2-benzoylmethylennaphtho-[[i ,2-d]}thiazolin, 3-Oyclohexyl-5
-£ 3-methyl-4,5 -diphenyl- (4-oxazolin-2-yliden) J-rhodanin
oder 1,3-Diäthyl-2-(3,3-dicyanallyliden)-5-chlorbenzimidazol.
In derselben Weise tritt keine synergisch aktivierende
Wirkung der G-emische von Michlers Keton und anderen
Aktivatoren, wie z.B. Acetophenon, di-Acetonaphthon, Diphenylenoxyd,
Naphthalen und Naphthaldehyd, Phenanthren, Pyren oder
Triphenylamin, auf die Polymeren mit ungesättigten Seitenketten
gemäss der vorliegenden Erfindung zutage. Dies gilt ebenfalls für andere Gemische bekannter Aktivatoren, wie z.B. Gemische
von Xanthon mit Fluoren, Benzil, Propiophenon oder 1,3,5-Triacetylbenzol^
oder Gemische von 1,3,5-Triacetylbenzol
mit Benzil oder Propiophenon.
Die Belichtung der lichtempfindlichen Gemische gemäss ^ der vorliegenden Erfindung kann mit aktinischer Strahlung aus
oo einer beliebigen Quelle jeglichen Typs stattfinden. Das
ο erzeugte aktinische Licht enthält vorzugsweise-
^ e eine wirksame Menge ultravioletter Strahlen. o Geeignete Lichtquellen sind z.B. Kohlebogenlampen, Quecksilberdampflampen,
Fluoreszenzleuchten, Argonglühbirnen, photographische Projektionslampen und Wolframlampen.
Die Induktion der photochemisehen Verknüpfung der erwähnten Polymeren erfordert keine äusserst starke Lichtquelle.
SCk On,
Ta den meisten nachfolgenden Beispielen genügt -ja-eine
tu* Quecksilberdampflampe von 80 üfatt, die -ao» ungefähr 15 cm
Entfernung von der zu polymerisierc^len Oberfläche aufgestellt
wird. Stärkere Lichtquellen sind in den meisten Fällen nicht
ctd au-iv
erforderlich, die Geschwindigkeit der photochemischen Verknüpfung nach deni erfindungsgemässen Verfahren bei der Verwendung dieser schwächeren Leuchtstärken
erforderlich, die Geschwindigkeit der photochemischen Verknüpfung nach deni erfindungsgemässen Verfahren bei der Verwendung dieser schwächeren Leuchtstärken
Die photocheiaische Verknüpfung von polymeren Materialien
erfordert keine hohen Temperaturen. Die zu verknüpfende Masse wird zwar durch die starke Belichtung aus ziemlich kurzem
Abstand der Lichtquelle gewissermassen erwärmt, was sich aber
günstig auf die Verknüpfungsgeschwindigkeit auswirkt.
Ss wurde nun gefunden, dass die Gemische von polymeren Materialien und Aktivatoren gemäss der vorliegenden Erfindung /
lichtempfindlich sind , dass sie durch Belichtung unlöslich gemacht werden. Dies bedeutet, dass bei der
photographischen Belichtung einer dünnen Schicht eines derartigen, ursprünglich löslichen, auf einen Träger aufgetragenen,
lichtempfindlichen Gemisches, die belichteten Stellen unlösbar gemacht werden.
Die vorliegende Erfindung betrifft ferner die Herstellung von ausschliesslich aus den erwähnten lichtempfindlichen
Gemischen bestehenden Platten und Filmen^ sowie von auf
beliebige Träger aa einem bekannten Giessverfahren ver-
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- jgr-
gossenen Schichten derartiger Gemische. Geeignete Träger
sind z.B. Metallfolien (Kupfer, Aluminium, Zink usw.), Glasplatten, Celluloseester-Film, Polyvinylacetal-Film,
Polystyrol-Film, Po^ethylenterephthalat-FiIm usw.
Der Träger wird mit einer Lösung des polymeren Materials
in einem geeigneten Lösungsmittel beschichtet, in der
ausserdem ein Gemisch von Benzophenon, einem p,p'-Dialkylaminobenzophenon
oder Fluorenon sowie einem andersartigen Aktivator aus der obenerwähnten Aktivatorengruppe gelöst
bzw. homogen dispergiert ist.. Das Lösungsmittel bzw.
Lösungsmittelgemisch wird dann nach einem geeigneten bekannten
Verfahren, wie Verdampfung, entfernt. Infolgedessen bleibt eine dickere oder dünnere Schicht des erwähnten ^lichtempfindlichen Gemisches auf dem Träger zurück,
Die derart erhaltene, getrocknete, lichtempfindliche Schicht wird darauf mit aktinisehen Lichtstrahlen belichtet.
Ist der Träger der lichtempfindlichen Schicht lichtreflektierend,
so kann er mit einer Schicht versehen sein, die die aktini sehen Strahlen absorbiert, um die
reflektierende Wirkung des Systems auf ein Mindestmass
zu beschränken. Diese lichtabsorbierende Schicht haftet entweder an der Oberfläche des Trägers oder ist mit
BAD OBSGSNAL
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dieser Oberfläche verschmolzen.
Wenn daG erwähnte lichtempfindliche Gemisch wasserlöslich
ist, kann Wasser als Lösungsmittel beim Beschichten des Trägers verwendet werden. Ist das lichtempfindliche
Gremish dagegen wasserunLosllch, müssen organische Lösungsmittel, Mischungen von organischen
Lösungsmitteln oder Mischungen von organischen Lösungsmitteln
und Wasser gewählt werden.
BAD ORIGINAL
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Die gänzlich aas den erwähnten lichtempfindlichen Gemischen bestehenden Platten oder Filme oder die mit derartigen
Gemischen beschichteten Materialien werden in der Photographie, der photomechanischen Reproduktionstechnik, der Lithographie
und dem Tiefdruck verwendet« Anwendungsbeispiele sind u.a. der Offsetdruck, der Siebdruck und die Herstellung von Steindruckplatten,
Reliefdruckplatten und Ätzdruckplatten. Der in den nachstehenden Patentansprüchen gebrauchte Ausdruck "Druckform"
ist ganz allgemein gedacht und umfasst alle möglichen Anwendungen der lichtempfindlichen Materialien gemäss der vorliegenden
.
Eine spezifische Anwendung der Erfindung wird nachstehend durch die Beschreibung der Herstellung einer erfindungsgemässigen
Druckform erläutert. In dem vorliegenden Anwendungsbeispiel wird eine Platte, -- meistens eine Metallfolie,
mit einem erfindungsgemässen lichtempfindlichen Gemisch
beschichtet. Wenn die Platte nicht aus Metall besteht, so kann sie ausschliesslich aus der lichtempfindlichen Zusammensetzung
bestehen, oder sie kann mit einer Schicht davon überzogen werden. In allen diesen Fällen wird die Oberfläche
der derart hergestellten Druckform mit aktinischem Licht durch ein zwischengeschaltetes, die Druckform berührendes Positivoder
Negativbild, das ausschliesslich aus undurchsichtigen Teilen konstanter optischer Schwärzung und durchsichtigen Teilen
besteht, d.h. also eine sogenannte Strichvorlage, belichtet. Das Licht induziert die Reaktion, wodurch die Teile der Oberfläche
der Druckform unter den durchsichtigen Bildteilen, unlöslich
gemacht werden, während die Teile der Druckform unter
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den undurchsichtigen Bildteilen löslich bleiben. Die lösliehen
Teile der Oberfläche der Druckform werden mit einem sogenannten Entwickler entfernt,, -»ad- Öle restlichen,
unlöslichen, erhobenen Teile dienen als Ätzreserve, während die entblössten Trägerteile geätzt werden, so dass man eine
Reliefdruckform erhält, Die derart hergestellte Druckform
lässt sich z.B. einfärben und üblicherweise unmittelbar als eine Tiefdruckform verwenden.
Nach der Entfernung der unbelichteten und deshalb löslich gebliebenen Teile der lichtempfindlichen Schicht,
können die durch das aktinisehe Licht unlöslich gemachten
Teile der Schicht eventuell anderen bekannten Härtungsverfahren unterzogen werden. Das verwendete Härtungsverfahren
hängt natürlich von der Art des der Schicht einverleibten lichtempfindlichen Polymeren ab. Ist das ursprüngliche Polymere
z.B. ein Polyäther von 2,2-Bis(4-0xyphenyl)-propan und
Epichlorhydrin, so lässt sich der nach der Belichtung und
Entwicklung übriggebliebene und unlöslich gemachte Polymerteil der Schicht zusätzlich gemäss für Epoxyharze bekannten Verfahren
härten.
Diese zusätzliche Härtung hat zum Ziel, die Festigkeit der unlöslich gemachten Teile der Polymerschicht möglichst
zu steigern. Eine derartige zusätzliche Härtung ist oft
^ erwünscht, wenn die übriggebliebenen, unlöslich gemachten
ο Polymerteile z.B. als Druckform dienen müssen.
_* Die Dicke der lichtempfindlichen Polymerschicht ist
° direkt abhängig von der erwünschten Dicke des Reliefbildes,
die ihrerseits von der Art des zu reproduzierenden Gegenstandes und insbesondere vom Umfang der nichtdruckenden Bildstellen
BAD ORIGINAL
abhängt. Im Falle von Halbtondruckformen spielt das Raster
ebenfalls eine Rolle. Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht liegt meistens zwischen ungefähr 0,001 and 7 mm.
Schichten mit einer Dicke von ungefähr 0,001 bis 0,70 mm eignen sich vor allem für die Herstellung von Halbtondruckformen«
wÄlupftftd. Schichten mit einer Dicke von ungefähr 0,25 bis
1,50 mmXmeistene für die Herstellung von Buchdruckformen einschliesslich
der Formen für kombinierte Halbton- und Stricharbeit gedacht.-sittdr»
Das Lösungsmittel für das Auswaschen ("Entwickeln") der derart aus dem lichtempfindlichen Material hergestellten
Druclcformen muss mit grosser Sorgfalt gewählt werden. Es muss ja einerseits eine gute lösende Wirkung auf die unbelichteten
Bildteile, aber anderseits eine möglichst schwache Wirkung auf die gehärteten Bildteile, den Träger, die Lichthofschutzschicht
und die Haftschicht, mit der die lichtempfindliche Schicht in dem Träger verankert ist, aufweiaen.
Die photoohemisch verknüpfbaren Materialien gemäss vorliegender
Erfindung eignen sich ausser für die Herstellung der obenbeschriebenen Druckformen noch für andere Zwecke,
z.B. als Ornamentplatten oder zur Erzeugung von Ornamenteffekten,
als Schablonen für automatische Gravurmaschinen, Giessereiformen, Präge- und Stempelformen, Bürostempel, Reliefkarten
für Blindenschrift, als Schnellvulkanisierbeschichtungen
z.B. auf Film oder anderen Trägern, als Tonspuren auf Film, zur Herstellung von gedruckten Schaltungen und anderen
Kunstoffgegenständen.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
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In 20 ml 1,1,2-Trichloräthan werden 0,02 g 2,6-Ditert.butyl-p-kresol
und 1,42 g (0,005 Mol) des durch Polykondensation von 2,2-Bis(4-Oxyphenyl)-propan und Epichlorhydrin
erhaltenen Polyäthers gelöst. Dies Lösung wird mit 1 ml (0,012 Mol) Aorylsäurechlorid versetzt,
und darauf 4 Stunden bei 10O0C erhitzt. Man lässt dann das
Reaktionsgemisch auf Raumtemperatur abkühlen und verdünnt es
mit Methylenchlorid. Das Polymere wird in Methanol gefällt und abgetrennt. Ausbeute : 1,4 g des aus wiederkehrenden
Einheiten untenstehender Formel aufgebauten Polymeren :
CH, ι 3 ,-C-^
ChJ
-0-CH2-CH-CH
0=0
CH
CH2
Es wird eine Anzahl Losungen von je 25 mg des derart
erhaltenen substituierten Polyäthers in 2 ml Methylenchlorid und 1 ml sym. Tetrachloräthan hergestellt. Zu jeder Lösung
wird eine bestimmte Menge eines bzw. mehrerer Aktivatoren gemäss nachstehender Tabelle 1 zugefügt. Die&
Lösungen werden je auf eine Aluminiumfolie gegossen, und zwar derart;, dass nach der Entfernung des Lösungsmittels durch
Verdampfung eine Schicht von 1 α zurückbleibt. Diese Schicht wird durch ein Strichnegativ mit einer Lichtquelle aus 15 cm
Entfernung belichtet. Die Lichtquelle ist eine UV-Strahlen aussendende Quecksilberdampflampe von 80 Watt oder eine gewöhnliche
Cflühbirne von 300 Watt.
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BAD ORIGINAL
Die Schicht wird nach der Belichtung mit einer Mischung gleicher Teile Methylenchlorid und sym. Tetrachloräthan gewaschen,
wodurch die unbelichteten Teile gelöst und entfernt werden. Die für die Herstellung eines einwandfreien Reliefbildes
erforderliche Mindestbelichtungszeit ist für die verschiedenen Fälle aus der folgenden Tabelle 1 zu entnehmen.
Folge nummer |
Michlers Keton fo |
Zweiter Aktivator | Name | 2-Methylanthra- chinon |
Menge (*) |
Erforderliche Belichtungszeit |
mit ge wöhnlichem Licht |
1 · |
der Ver suche |
— | - | mit UV- Licht |
5'30" | 1 · | |||
1 | 10 | Benzoin | 10 | 45" | - | 1 · | ||
2 | - | Benzoin | 10 | 5' | 1' | |||
3 | 10 | Benzoinmethyläther | 10 | 12"(25") | - | |||
4 | - | Benzoinmethyläther | 10 | 3'45" | 1 ■ | |||
5 | 10 | Benzophenon | 10 | 7 "(15") | 5'3O" | |||
6 | - | Benzophenon | 10 | 7'3O" | IV) | |||
7 | 10 | Benzil | 10 | 10"(30") | ||||
8 | 10 | 10 Anthrachinon | 10 | 7 " (15 ") | ||||
9 | 10 | 10 | 15" | |||||
10 | 20" |
Die in der obenstehenden Tabelle sowie in den nachstehenden
Tabellen erwähnte Prozentualmenge der Aktivatoren ist in Bezug auf die Gesamtmenge des lichtempfindlichen
Polymeren im Gemisch berechnet.
Die Spalten "erforderliche Belichtungszeit" geben in
verschiedenen Fällen eine zweite, eingeklammerte Belichtungszeit. Ss handelt sich dabei um den durch Bestimmung der Ein-
909830/113 0
-H-
-H-
BAD ORIGINAL
zelbelichtungszeiten mit verschiedenen Aktivatoren and durch Berechnung der zu erwartenden Belichtungszeit im Falle
des kombinierten Gebrauches beider Aktivatoren erhaltenen Wert. Dies führt -β«, ei
einer %ipfindlirhVpitasteiger^nr; des PolHn=en
g
Der Supersensibilisierungseffekt tritt deutlich beim Vergleich der eingeklammerten Werte und der in allen Fallen bedeutend kleineren nicht eingeklammerten Werte hervor.
Der Supersensibilisierungseffekt tritt deutlich beim Vergleich der eingeklammerten Werte und der in allen Fallen bedeutend kleineren nicht eingeklammerten Werte hervor.
Man wiederholt das Befiel 1, verwendet aber sym.
Tetrachloräthan als Lösungsmittel bei der Reaktion von
Acrylsäurechlorid mit dem Polyäther von 2»2-Bis(4—Öxyphenyl)-propan
und Bpichlorhydrin. Der Einfluss verschiedener Mengen
Michlers Keton hinsichtlich der Benzoinmenge auf die Lichtempfindlichkeit des Polymeren wurde in einer Versuchsreihe,
ähnlich der Versuchsreihe des Beispiels 1, studiert. Die folgende Tabelle 2 gibt die für die Herstellung einer guten
Reliefdruckform erforderliche Mindesbelichtungszeit.
Folgenummer der Versuche |
Michlera Keton i* |
0 | Benzoin | Erforderliche Be lichtungszeit mit UV-Licht |
11 | 10 | - | 45" | |
12 | 10 | 10 | 13" | |
13 | 5 | - , | 11 | |
14 | 5 | 5 | 15" | |
15 | 5 | 7.5 | 12" | |
909830/113 | - 15 - | BAD ORIGINAL |
16 | 5 | 10 | 12" |
17 | 2.5 | - | 1 ' |
18 | 2.5 | 0.5 | 1· |
19 | 2.5 | 1 | 45" |
20 | 2.5 | 2.5 | 30" |
21 | 2.5 | 4 | 30" |
22 | 2.5 | 10 | 22.5" |
In 10 ml Pyridin werden 2 g eines niedrigvisko"sen,
40 $> Vinylacetatgruppen enthaltenden Mischpolymerisats aus
Vinylacetat und Vinylalkohol gelöst. Diesee ee
Lösung wird mit 0,02 g 2,6-Di-tert.butyl-p-kresol und 5 ml
Methacrylsäurechiorid versetzt und darauf 5 Stunden "bei 1000C
auf einem Ölbad erhitzt.
Das Reaktionsgemiseh wird nach Beendigung der Reaktion mit 50 ml Methanol verdünnt, filtriert^ und in Wasser gegossen.
Die dadurch gefällte Substanz wird abgetrennt und unter ermässigtem Druck getrocknet. Ausbeute : 2,5 g des aus
wiederkehrenden Einheiten folgender Formel aufgebauten Polymeren :
co
ι
CH.
CH.
CO
CH
Es wird eine Anzahl Lösungen hergestellt von je
25 mg des derart erhaltenen substituierten Polymeren in einer Mischung von 2 ml Methylenchlorid und 1 ml sym. Tetrachloräthan.
909830/ 1 130
- 16 -
- 16 -
Zu jeder Lösung wird eine bestimmte Menge eines bzw. mehrerer Aktivatoren gemäss folgender Tabelle 3 zugefügt. Die&a
Lösungen werden wie im obigen Beispiel 1 verarbeitet. Die jeweilige zur Erhaltung eines guten Reliefbildes
erforderliche Belichtungszeit ist der Tabelle 3 zu entnehmen.
Michlers Keton (*) |
\ | Zweiter Name |
Aktivator Menge(^) |
Erforderl lichtungs UV-Licht |
.iche Be- zeit mit gewöhn lichem Licht |
|
Folge nummer der Ver suche |
10 10 |
Benzoin Benzoin |
10 10 |
90" 11' 30"(1') |
7'3O" 1' |
|
23 24 25 |
||||||
Beispiel > |
In 25 ml Pyridin werden 0,02 g 2,6-Di-tert.butyl-pkresol
und 1,72 g eines 60 $ Vinylacetatgruppen enthaltenden
Mischpolymerisats aus Vinylacetat und Vinylalkohol gelöst. I)ieq^er€b3?t--ei?feai-;te?ie Lösung wird mit 3 ml Methaerylsäureanhydrid
versetzt^, und darauf 4 Stunden auf einem Ölbad bei 1000C erhitzt. Das Reaktionsgemisch wird nach Beendigung der
Reaktion mit Aceton verdünnt und'in Wasser gegossen # ■«»-
e . Das gefällte Polymere wird schliesslich vom Gemisch getrennt und getrocknet. Ausbeute :
1,5g des aus wiederkehrenden Einheiten folgender Strukturformel
aufgebauten Polymeren :
BAD ORIGINAL
909830/113Π
- 17 -
- 17 -
(CH2
co
C-CH, U 3
CO CH.
Es werden zwei gleiche Lösungen hergestellt von Je 25 mg des derart erhaltenen modifizierten Mischpolymerisats
in 3 ml einer Mischung von Methylenchlorid und sym. Tetrachlor'athan (2:1). Zu beiden Lösungen werden 2,5 mg
Michlers Keton und zur zweiten Lösung ausserdem 2,5 mg Benzoin zugegeben. Jede Lösung wird darauf derart auf eine
Aluminiumfolie vergossen, dass nach der Verdampfung der Lösungsmittel eine ungefähr 1 u dicke Schicht zurückbleibt.
Die hergestellten Schichten werden durch eine Strichvorlage mit einer Quecksilberdampflampe von 80 Watt oder einer
gewöhnlichen Glühbirne von 300 Watt aus 15 cm Entfernung belichtet. Die unbelichteten Teile werden nach der Belichtung
mit Methanol weggewaschen. Die folgende Tabelle 4 gibt die jeweils zur Erhaltung eines guten Reliefbildes erforderliche
Mindestbelichtungszeit.
Michlers Keton f* |
5 | Tabelle | 4 | Erforderliche mit UV-Licht |
Belichtungszeit mit gewöhnlichem Licht |
|
10 10 |
15" 1.5" |
31 23" |
||||
Folge nummer der Ver suche |
Benzoin i<> | |||||
26 27 |
10 | |||||
Beispiel | ||||||
Zu 10 ml mit Salzsäure gesättigten symm.Tetrachloräthan
903830/113 0
-1R-
(pH =2) werden 15 ml einer 10 $>
igen Lösung des durch Polykondensation von 2,2-Bis(4-öxyphenyl)-propan und
Epichlorhydrin erhaltenen Polymeren in sym. Tetrachloräthan zugegeben. Diese Lösung wird mit 1gN-fcdethylolacrylamid
und 0,05 g 2,6-Di-tert.butyl-p-kresol versetzt^-
und 3 Stunden auf einem Ölbad bei 400O erwärmt. Das
Reaktionsgemisch wird nach der Beendigung der Reaktion mit 10 ml Methylenchlorid verdünnt, anechliessend filtriert+,
und in Methanol gegossen. Das gefällte modifizierte Polymere wird abgetrennt^ und unter ermässigtem Druck getrocknet.
Ausbeute : 1,3g des aus wiederkehrenden Einheiten folgender
Strukturformel aufgebauten Polymeren :
-C - *r-\ -0-CH9-CH-CH0-0
CH2 JiHCO-CH=CH2
Es werden drei gleiche Lösungen .^. von je
25 mg des erhaltenen substituierten Polymeren in einer Mischung von 2 ml Methylenchlorid und 1 ml sym.Tetrachloräthanv
Diese Lösungen werden mit verschiedenen Aktivatormengen gemäss nachstehender Tabelle 5 versetzt.*, und derart
auf Aluminiumfolien vergossen, dass jeweils nach der Verdampfung der Lösungsmittel eine ungefähr 1 μ dicke Schicht
zurückbleibt. Die5e Schichten werden durch eine Strichvorlage mit einer Quecksilberdampflampe von 80
Watt oder einer gewöhnlichen Glühbirne von 300 Watt aus 15 cm Entfernung belichtet. Die unbelichteten Teile werden nach
der Belichtung mit einer Mischung vong^e^hsn Teilen Methylen-
909830/1 130
chlorid und sym. Tetrachloräthan weggewaschen. Die nachstehende
Tabelle 5 gibt die jeweils zum Erhaltung- eines
tadellosen Reliefbildes erforderliche Mindestbelichtungszeit.
Michlers Keton $ |
Tabelle 5 | Erforderlich lichtungszei mit UV-licht |
e Be- t mit gewöhn lichem licht |
Beispiel 6 | |
10 10 |
30" 3 · 45 " 3"(5H) |
3'45" 12" |
|||
Folgenummer der Ver suche |
Benzoin $ | ||||
28 29 30 |
10 10 |
||||
In einem Kolben werden 0,15 Mol Dimethylterephthalat, 0,15 Mol Dimethylitaconat, 10 mg Zinkacetat, 20 mg Antimon
(Ill)-oxyd und 0,6 Mol Äthylenglykol miteinander gemischt.
Das erhaltene Gemisch wird zwecks Umesterung erst 2 Stunden bei 19T0C unter Durchblasen eines langsamen Stickstoffstromes
erhitzt. Die geschmolzene Masse wird -etarauf eine halbe Stunde mit einem starken Stickstoffstrom gerührt. Die Polykondensationsreaktion
erfolgt nachfolgend bei 1970C erst 2 Stunden
unter einem Druck von 4 mm Hg und darauf 1 Stunde unter einem Druck von 1 mm Hg.
Das enthaltene Polykondensationsprodukt ist aus gleichen Mengen nahstehender wiederkehrender Einheiten
aufgebaut :
-CH2-CHg-O-OC-
und -*-—0-CH^-CH0-O-OC-C-CH0-CO-
Cd \\ £
CH0
S D 9 3 3 0 / η 3 0
BAD ORIGINAL
Das Polymere wird wie in Beispiel 1 in einer Mischung
von Methylencalorid und sym. Tetrachlorättian gelöst. Zwei
gleiche Teile der erhaltenen Lösung werden mit einem bzw. zwei Aktivatoren versetzt und darauf auf Aluminiumfolieη vergossen.
Diese Schichten werden durch eine Strichvorlage mit UV-Licht belichtet. Die nachstehende Tabelle 6 gibt die jeweils
zuiriErhalt|*ftgf eines tadellosen Reliefbildes erforderliche Mindestbelichtungszeit.
Folgenummer der Versuche |
Michlers Keton fo |
Benzoin fo | Erforderliche Belichtungs zeit mit UV-Licht |
31 32 |
10 10 |
10 | 30" 12" |
In einem mit einem Kühler und Calciumchloridrohr versehenen
Kolben werden 2,84 g des Polyäthers von 2,2-Bis(4-Oxyphenyl)-propan
und Epichlorhydrin in 20 cm Pyridine gelöst. Nach Zu· von 2 ml Methacrylsäurechiorid wird das
Gemisch 4 Stunden auf einem Ölbad bei 1000C erhitzt. Das
Reaktionsgemisch wird darauf langsam gekühlt, mit Methylenchlorid verdünnt, filtriert und in Methanol gegossen. Der
dadurch gefällte modifizierte Polyäther wird abgetrennt und unter ermässigten Druck getrocknet. Ausbeute : 2,4 g
eines aus wiederkehrenden Einheiten nachstehender Formel aufgebauten Polymeren :
- 21 -
909830/1 130
BAD ORIGINAL
CH3
-C -
-C -
-O-C H
8 η
Es werden drei gleiche Lösungen von je 25 mg des
erhaltenen substituierten Polyethers in einer Mischung von 2 ml Methylenchlorid und 1 ml sym. Tetrachloräthan hergestellt,
Diese Lösungen werden mit Aktivatoren gemäss der nachstehenden Tabelle 7 versetzt^, und wie in den vorigen
Beispielen auf einen geeigneten Träger vergossen. Die derart hergestellten Schichten werden wie im Beispiel 1
belichtet, wobei die jeweils zur Herstellung eines tadellosen Reliefbildes erforderliche Mindestbelichtungszeit aus der
nachstehenden Tabelle 7 zu entnehmen ist.
Michlers Keton fo |
Tabelle 7 | Erforderlich« zeit mit UV-Licht |
3 Belichtungs- mit gewöhn lichem Lic-ht |
|
10 10 |
45" 2 «45" 10" |
7'3O" 30" |
||
Folgenummer der Versuche |
Benzoin fo | |||
33 34 35 |
10 10 |
|||
Wird in der obenerwähnten Reaktion das Methacrylsäurechlorid
durch Äthacrylsäurechlorid ersetzt, so wird im Polymeren die Methylgruppe in der ^Stellung des Acryl substituenten
durch eine Äthylgruppe ersetzt. Das derart modifizierte Polymere eignet sich ebensogut für die
leb
synerglsche Aktivierung wie das oben hergestellte.
synerglsche Aktivierung wie das oben hergestellte.
909830/1130
B-eispiel 8
5,68 g des Polyäthers von 2,2-Βίθ(4—Oxyphenyl)-propan
und Epichlorhydrin werden in einem Kolben in 50 ml sym.
Tetrachloräthan gelbst. Die erhaltene Lösung wird mit 0,03 g
2,6-Di-tert.butyl-p-kresol, 1 g Maleinsäureanhydrid und 2 ml
Acrylsäurechlorid versetzt. Bin Kühler wird auf den Kolben montiert^, und letzterer mit einem Calciumchloridrohr
verschlossen. Das Reaktionsgemisch wird unter starkem Rühren 5 Stunden auf einem Ölbad bei 110-1200C erhitzt.
Es wird darauf nach der Kühlung mit Methylenchlorid verdünnt und in Methanol gegossen. Das gefällte Polymere wird
abgetrennt und unter ermässigtem Druck getrocknet. Ausbeute : 8 g eines aus folgenden wiederkehrenden Einheiten aufgebauten
Polymeren :
CH.
-A-
co
OH=CH2
(80 Mol
-C-
CH
0-CH2 -CH-CH
JO JH=CH-COOH
(20 Mol
Dieses Polymere wird wie im Beispiel 1 in einer Mischung von Methylenchlorid und sym. Tetrachloräthan gelöst,
mit einem oder mehreren Aktivatoren versetzt, in der Form einer dünnen Schicht auf eine Aluminiumfolie vergossen^, und
unter einer Strichvorlage mit UV-Licht bzw. gewöhnlichem
909830/1130
9b
Licht belichtet. Die jeweils z\njiErhalt£&g eines tadellosen
Reliefbildes erforderliche Mindestbelichtungszeit ist der nachstehenden Tabelle 8 zu entnehmen.
Michlers Keton io |
Benzoin ft | Erforderlich zeit mit UV-Licht |
e Beliohtungs- mit gewöhn lichem Licht |
|
Folgenummer der Versuche |
10 10 |
10 10 |
30" 11· 15 "(30") |
3Ί5" 1' |
36 37 38 |
||||
Beispiel 9 |
5,68 g des Polyäthers von 2,2-Bis(4-öxyphenyl)-propan
und Epichlorhydrin werden in 50 ml sym.Tetrachloräthan gelöst. Die erhaltene Lösung wird darauf mit 0,03 g 2,6-Ditert.butyl-p-kresol,
2 ml Acrylsäurechlorid und 1,5 g Phthalsäureanhydrid versetzt. Das Reaktionsgemisch wird 5
Stunden auf einem Ölbad bei 110-1200C erhitzt,-aad-nach der
Beendigung der Reaktion gekühlt, mit Methylenchlorid verdünnt, filtriert und in Methanol gegossen. Das gefällte
Polymere wird abgetrennt und unter ermässigtem Druck getrocknet. Ausbeute : 9 g des modifizierten Polyäthers der
Strukturformel t
,-CH-CH0-0
CO
CO
CH.
CH
Ii
CH.
0
CO
CO
-COOH
- 24 909830/1 130
Dieses Polymere wird wie im Beispiel 1 in einer Mischung
von Methylenchlorid und sym. Tetrachloräthan gelöst^, und mit
einem oder mehreren Aktivatoren versetzt. Das erhaltene Gemisch wird auf Aluminiumfolien vergossen.*, und unter einer
Halbtonstrichvorlage mit UV-Licht bzw. gewöhnlichem Licht belichtet. Die nachstehende Tabelle 9 gibt die jeweils
zumErhaltttftg- eines tadellosen Reliefbildes erforderliche
Belichtungszeit.
Folgenummer der Versuche |
Michlers Keton $> |
Benzoin ft | Erforderliche Belich tungszeit mit gewöhn lichem Licht |
39 40 |
10 10 |
10 | 2· 15" |
Es wird eine Anzahl gleicher Lösungen von je 25 mg des
gemäss dem Beispiel 1 erhaltenen substituierten Polyäthers in einer Mischung von 2 ml Methylenchlorid und 1 ml sym. Tetrachloräthan
hergestellt. Zu diesen Lösungen werden 1 oder 2 Aktivatoren gemäss der nachstehenden Tabelle 10 zugefügt, und
zwar in einer Gesamtmenge von 10 # in Bezug auf die Menge des lichtempfindlichen Polymeren. Die erhaltenen Lösungen werden
dann derart auf Aluminiumfolien vergossen, dass jeweils nach der
Verdampfung der Lösungsmittel eine ungefähr 1 u dicke Schicht zurückbleibt. Die hergestellten Schichten werden mit einer
UV-Lampe, and zwar mit einer Quecksilberdampflampe von 80 Watt,
aas 15 cm Entfernung unter einer Halbtonstrichvorlage belichtet. Die Schichten werden nach der Belichtung mit einer Mischung
von gleichen Teilen Kethylenchlorid and sym. Tetrachloräthan
909830/1130 BAD 0RIGINAL
- 25 -
zwecks Lösung und Entfernung der unbelichteten Bildteile gewaschen.
Die nachstehende Tabelle 10 gibt die jeweils zum Erhaltung- eines guten Reliefbildes erforderliche Mindestbelichtungszeit
.
Folgenummer der Versuche |
Erster Aktivator | Zweiter Aktivator | Erforderliche Belichtungs- z art |
41 | Michlers Keton | - | 45" |
42 | Michlers Keton | Propiophenon | 15"(3O") |
43 | - | Xanthon | 51 |
44 | Michlers Keton | Xanthon | 3"(7") |
45 | Michlers Keton | 1,3,5-Triacetyl- benzol |
3"(3O") |
46 | Michlers Keton | Benzaldehyd | 12"(3O") |
47 | - | Fluorenon | >15! |
48 | Michlers Keton | Fluorenon | 7 "(22") |
49 | Michlers Keton | Fluoren | 15 "(30") |
50 | Michlers Keton | Diacetyl | 15"(30") |
51 | Benzil | — | 11» |
52 | Benzil | Fluorenon | 60"(7') . |
53 | Benzophenon | - | 5f |
54 | Benzophenon | Benzoin | 45"(2') |
55 | Benzophenon | Anthrachinon | 2'45"(7f) |
56 | Benzophenon | Benzil | 1'3O"(3'45") |
909830/1130
- 26 -
- 26 -
Claims (16)
1. Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen
Materials, dadurch gekennzeichnet, dass
A) ein lösliches lichtempfindliches Polymere aus
der Gruppe (1) der Polymeren mit äthylenisch ungesättigten Seitenketten des Acryl- bzw. Alkyl- \
acryltyps und/oder (2) der Polykondensationsprodukte aus aliphatischen oder aromatischen
Diolen und aliphatischen Dicarbonsäuren mit ungesättigten
Seitenketten, mit
B) einem synergistisch aktivierenden Gemisch von zwei Aktivatoren, von denen das eine Benzophenon, ein
ρ,ρ'-Dialkylaminobenzophenon oder Fluorenon und
das andere ein andersartiger Aktivator aus der Gruppe des Benzoins, Benzoinmethyläthers, Anthrachinone,
2-Methy1anthrachinone, Benzophenons,
Benzils, Xanthone, 1,3,5-Triacetylbenzols, Fluorenons,
Fluorene, Diacetyls, Propiophenons und Benzaldehyde ist, homog-en vermischt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass das lösliche, lichtempfindliche Polymere mit äthylenisch ungesättigten Seitenketten des Acryl-
9098.30/1130
bzw. Alkylacryltyps durch die Reaktion von Acrylsäure Chlorid bzw. Alkylacrylsäurechlorid mit einem
Polymeren, das gegenüber Saurechioridgruppen reaktionsfähige
Substituenten trägt, hergestellt wird.
3. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass das lösliche lichtempfindliche Polymere
mit äthylenisch ungesättigten Seitenketten des Acryl- bzw. Alkylacryltyps durch die Reaktion
von Acrylsäure- bzw. AlkylacrylsäureChlorid mit
dem Polyäther aus 2,2-Bis(-4-<fcryphenyl)-propan und
Epichlorhydrin hergestellt wird.
4·. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
(jst
gekennzeichnet, dass das synergjLsche Aktivatorengemisch
aus Michlers Keton einerseits und 1,3*5-Triacetylbenzol, Fluorenon oder Benzophenon andrerseits
besteht.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch
gekennzeichnet, dass das synergische Aktivatorengemisch
aus Benz8il einerseits und Pluorenon oder Benzophenon andrerseits besteht.
909830/1 130
6. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass daö lösliche lichtempfindliche Polymere
mit äthylenisch ungesättigten Seitenketten des Acryl- bzw. Alkylacryltyps durch die Reaktion von
Acrylsäure- bzw. Alkylacrylsäurechlorid mit einem Mischpolymerisat aus Vinylacetat und Vinylalkohol
hergestellt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das lösliche lichtempfindliche Polymere mit
äthylenisch ungesättigten Seitenketten des Acryl- bzw. Alkylacryltyps durch die Reaktion von N-ifethylolacrylamid
bzw. N-Jethylolakylacrylamid und Polymeren
mit freien Hydroxylsubstituenten hergestellt wird.
8. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 7i dadurch gekennzeichnet,
dass das erwähnte lösliche lichtempfindliche Polymere mit äthylenisch ungesättigten Seitenketten
des Acryl- bzw. Alkylacryltyps durch die Reaktion von N-rifethylolacrylamid bzw. N-j(|fethylolalkylacrylamid
mit dem Polyäther von 2,2-Bis(4— oxyphenyl)-propan und Bpichlorhydrin hergestellt wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6,7 oder 8, dadurch
909830/1130
gekennzeichnet, dass das synergißtische Aktivatorengemisch
aus Michlers Keton und Benzoin besteht.
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das lösliche lichtempfindliche Polymere mit
äthylenisch ungesättigten Seitenketten des Acryl- bzw. Alkylacryltyps ein Polykondensationsprodukt
aus einem aliphatischen oder aromatischen Diol und einer aliphatischen Dicarbonsäure mit ungesättigten
Seitenketten ist.
11. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 10, dadurch gekennzeichnet, dass das lösliche lichtempfindliche
Polymere mit äthylenisch ungesättigten Seilienketten
des Acryl- bzw. Alkylacryltyps durch die Polykondensationsreaktion
von Äthylenglykol und 'Itaconsäure hergestellt wird.
12. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 10, dadurch gekennzeichnet, dass das erwähnte lösliche lichtempfindliche
Polymere durch die Polykondensationsreaktion von Äthylenglykol und einer Mischung von
Itaconsäure und Terephthalsäure hergestellt wird.
909830/1130
13· Verfahren zur photochemischen Vernetzung von Polymeren, dadurch gekennzeichnet, dass lichtempfindliche
Polymere, hergestellt nach irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, der Einwirkung aktinischen
Lichtes ausgesetzt werden.
14-. Registrierverfahren, dadurch gekennzeichnet, dass
ein Registriermaterial, das eine lichtempfindliche Schicht enthält oder daraus besteht, die ein nach
irgendeinem der Ansprüche 1 bis 13 hergestelltes lichtempfindliches Polymeres enthält, mit aktinischem
Licht bildmässig nach einer zu reproduzierenden Vorlage belichtet und infolgedessen die Schicht
selektiv bzw. differenziert unlöslich gemacht wird.
15. Verfahren zur Herstellung einer photographischen
Ätzreserve durch photochemische Vernetzung eines nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 12 hergestellten
lichtempfindlichen Polymeren, dadurch gekennzeichnet, dass ein photographisches Material hinter einer durchsichtigen
Vorlage aktinischer Strahlung ausgesetzt wird, wobei das photographische Material aus einem
Träger und einer Schicht dieses lichtempfindlichen Polymeren besteht, wodurch das lichtempfindliche
909830/1130
3V
Polymere an den belichteten Stellen bis zur Unlöslichkeit
vernetzt und das lösliche Polymere von den unbelichteten Stellen entfernt wird, so dass eine
photographische Ätzreserve zustandekommt.
16. Verfahren zur Herstellung einer photographischen Druckform durch photochemische "Vernetzung eines
nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 12 hergestellten lichtempfindlichen Polymeren, dadurch gekennzeichnet,
dass ein photographisches Material hinter einer durchsichtigen Vorlage aktinischer Strahlung
ausgesetzt wird, wobei das photographische Material aus einem Träger und eimer Schicht dieses lichtempfindlichen
Polymeren besteht, wodurch das lichtempfindliche Polymere an den belichteten Stellen
bis zur Unlöslichkeit vernetzt und das lösliche Polymere von den unbelichteten Stellen entfernt
wird, so dass eine photographische Druckform zustandekommt.
909830/1130
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8480/65A GB1090142A (en) | 1965-02-26 | 1965-02-26 | Photochemical insolubilisation of polymers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1522359A1 true DE1522359A1 (de) | 1969-07-24 |
Family
ID=9853276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19661522359 Pending DE1522359A1 (de) | 1965-02-26 | 1966-02-25 | Verfahren zur photochemischen Unloeslichmachung von Polymeren |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3427161A (de) |
BE (1) | BE677091A (de) |
DE (1) | DE1522359A1 (de) |
GB (1) | GB1090142A (de) |
NL (1) | NL6602332A (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2251048A1 (de) | 1971-10-18 | 1973-05-10 | Ici Ltd | Photopolymerisierbare masse |
DE2730898A1 (de) * | 1977-07-08 | 1979-01-25 | Basf Ag | Photopolymerisierbare bindemittel |
EP0079514A2 (de) * | 1981-11-12 | 1983-05-25 | BASF Aktiengesellschaft | Zur Herstellung von Druck- und Reliefformen geeignetes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Druck- und Reliefformen mittels dieses Aufzeichnungsmaterials |
US4935330A (en) * | 1986-02-26 | 1990-06-19 | Basf Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture, photosensitive recording element containing this mixture, and the production of lithographic printing plate using this photosensitive recording element |
Families Citing this family (106)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1231183A (de) * | 1967-05-12 | 1971-05-12 | ||
US3537853A (en) * | 1968-02-21 | 1970-11-03 | Grace W R & Co | Process of forming printing plates,including the step of subjecting the mounted transparency to a surface static electricity eliminator |
US3645730A (en) * | 1968-10-11 | 1972-02-29 | Grace W R & Co | Reproduction of images using light sensitive curable liquid polymers |
US3560465A (en) * | 1969-04-01 | 1971-02-02 | Eastman Kodak Co | Preparation of soluble poly(vinyl esters) from high molecular weight acid chlorides |
US3650746A (en) * | 1969-06-16 | 1972-03-21 | Grace W R & Co | Dual image formation on separate supports of photocurable composition |
US3658528A (en) * | 1969-09-22 | 1972-04-25 | Itek Corp | Photochemical figuring of optical elements |
US3652272A (en) * | 1969-10-31 | 1972-03-28 | Lithoplate Inc | Phenoxy photopolymer having no epoxy groups, and article made therefrom |
US3661576A (en) * | 1970-02-09 | 1972-05-09 | Brady Co W H | Photopolymerizable compositions and articles |
US4001016A (en) * | 1971-05-25 | 1977-01-04 | Agfa-Gevaert, A.G. | Polymers which can be cross-linked by photopolymerization |
USRE28789E (en) * | 1972-01-25 | 1976-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing cyclic cis-α-dicarbonyl compounds and selected sensitizers |
US3787212A (en) * | 1972-08-04 | 1974-01-22 | Monsanto Co | Polymeric photosensitive compositions and methods using same |
US4069123A (en) * | 1972-10-24 | 1978-01-17 | National Starch & Chemical Corporation | Crosslinked pressure sensitive adhesive compositions |
US3961961A (en) * | 1972-11-20 | 1976-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive or negative developable photosensitive composition |
US3847771A (en) * | 1973-03-30 | 1974-11-12 | Scm Corp | Uv and laser curing of pigmented polymerizable binders |
JPS5337902B2 (de) * | 1973-09-04 | 1978-10-12 | ||
US4017652A (en) * | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
JPS5276397A (en) * | 1975-12-22 | 1977-06-27 | Tokyo Ouka Kougiyou Kk | Method of making aquaous sensitivs resin |
US4070500A (en) * | 1976-01-21 | 1978-01-24 | Millmaster Onyx Corporation | Radiation-curable compositions and method of coating therewith |
JPS51134208A (en) * | 1976-03-09 | 1976-11-20 | Toyo Ink Mfg Co | Composition of photosensitive coating |
DE2625538C2 (de) * | 1976-06-05 | 1984-03-22 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbare Überzugsmassen |
JPS5994B2 (ja) * | 1976-09-14 | 1984-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
EP0002321B1 (de) * | 1977-11-29 | 1981-10-28 | Bexford Limited | Photopolymerisierbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckplatten davon |
GB2029423A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-19 | Agfa Gevaert Nv | Photo-polymerisable materials and recording method |
US4282309A (en) * | 1979-01-24 | 1981-08-04 | Agfa-Gevaert, N.V. | Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer |
DE3167493D1 (en) * | 1980-11-05 | 1985-01-10 | Akzo Nv | Photopolymerizable composition, photoinitiator mixture and curing process |
US4460427A (en) * | 1981-09-21 | 1984-07-17 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Process for the preparation of flexible circuits |
DE3322993A1 (de) * | 1983-06-25 | 1985-01-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur acylierung von polyvinylalkoholen und so acylierte produkte enthaltende photopolymerisierbare und/oder photovernetzbare mischungen |
DE3322994A1 (de) * | 1983-06-25 | 1985-01-10 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Lichtempfindliches, wasserentwickelbares aufzeichnungsmaterial fuer die herstellung von druck-, reliefformen oder resistmustern |
JPS6063532A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
US4592816A (en) | 1984-09-26 | 1986-06-03 | Rohm And Haas Company | Electrophoretic deposition process |
DE3681366D1 (de) | 1985-07-31 | 1991-10-17 | Du Pont | Optische beschichtungszusammensetzung. |
DE3541162A1 (de) * | 1985-11-21 | 1987-05-27 | Basf Ag | Photoempfindliche aufzeichnungsmaterialien mit elastomeren pfropfcopolymerisat-bindemitteln sowie reliefformen daraus |
CA1323949C (en) * | 1987-04-02 | 1993-11-02 | Michael C. Palazzotto | Ternary photoinitiator system for addition polymerization |
US4828583A (en) * | 1987-04-02 | 1989-05-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive binder containing ternary photoinitiator system |
DE3717034A1 (de) * | 1987-05-21 | 1988-12-08 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien, sowie neue chinazolon-4-verbindungen |
DE3717036A1 (de) * | 1987-05-21 | 1988-12-08 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien |
DE3717038A1 (de) * | 1987-05-21 | 1988-12-08 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien |
DE3717037A1 (de) * | 1987-05-21 | 1988-12-08 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien |
US5153323A (en) * | 1988-09-07 | 1992-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a photoinitiator moiety |
DE3843505A1 (de) * | 1988-12-23 | 1990-07-05 | Hoechst Ag | Carbonsaeureester von hydroxylgruppenhaltigen pfropfpolymerisaten und verfahren zu ihrer herstellung |
DE3924811A1 (de) * | 1989-07-27 | 1991-01-31 | Hoechst Ag | Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5709548A (en) * | 1990-02-23 | 1998-01-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental crown liner composition and methods of preparing provisional applications |
US5066231A (en) * | 1990-02-23 | 1991-11-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental impression process using polycaprolactone molding composition |
ES2060075T3 (es) * | 1990-02-23 | 1994-11-16 | Minnesota Mining & Mfg | Composicion semi-termoplastica para moldeo que tiene memoria de forma "a la medida", termicamente estable. |
DE4102173A1 (de) * | 1991-01-25 | 1992-07-30 | Basf Ag | Lagerstabile loesung eines carboxylgruppenhaltigen copolymerisats sowie verfahren zur herstellung von photoempfindlichen lacken und offsetdruckplatten |
US5683837A (en) * | 1994-11-18 | 1997-11-04 | Napp Systems, Inc. | Water-soluble compositions for preparation of durable, high-resolution printing plates |
US5874197A (en) * | 1997-09-18 | 1999-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thermal assisted photosensitive composition and method thereof |
US7344970B2 (en) | 2002-04-11 | 2008-03-18 | Shipley Company, L.L.C. | Plating method |
US7303854B2 (en) * | 2003-02-14 | 2007-12-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode-forming composition for field emission type of display device, and method using such a composition |
US20050037278A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-17 | Jun Koishikawa | Photosensitive thick-film paste materials for forming light-transmitting electromagnetic shields, light-transmitting electromagnetic shields formed using the same, and method of manufacture thereof |
US7105588B2 (en) * | 2003-10-10 | 2006-09-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Screen printable hydrogel for medical applications |
US7683107B2 (en) * | 2004-02-09 | 2010-03-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet printable thick film compositions and processes |
US20050176246A1 (en) * | 2004-02-09 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
US20050173680A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
DE102004030019A1 (de) * | 2004-06-22 | 2006-01-19 | Xetos Ag | Photopolymerisierbare Zusammensetzung |
US20060027307A1 (en) * | 2004-08-03 | 2006-02-09 | Bidwell Larry A | Method of application of a dielectric sheet and photosensitive dielectric composition(s) and tape(s) used therein |
US7135267B2 (en) * | 2004-08-06 | 2006-11-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods |
US7371335B2 (en) | 2004-10-21 | 2008-05-13 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Curable thick film compositions for use in moisture control |
US20060154180A1 (en) | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Kannurpatti Anandkumar R | Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element |
US7569165B2 (en) | 2005-03-09 | 2009-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7381353B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-03 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7384577B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7326370B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-02-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7579134B2 (en) * | 2005-03-15 | 2009-08-25 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Polyimide composite coverlays and methods and compositions relating thereto |
US20060223690A1 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-05 | Tsutomu Mutoh | Photosensitive thick-film dielectric paste composition and method for making an insulating layer using same |
EP1739688A1 (de) | 2005-06-29 | 2007-01-03 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen Zusammensetzung und eines rückseitigen Trägers einer Plasmaanzeige |
JP2007012371A (ja) | 2005-06-29 | 2007-01-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | 導電組成物およびプラズマディスプレイの背面基板の製造方法 |
US20070023388A1 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-01 | Nair Kumaran M | Conductor composition for use in LTCC photosensitive tape on substrate applications |
US7291292B2 (en) * | 2005-08-26 | 2007-11-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of silver particles using thermomorphic polymers |
US20070059459A1 (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-15 | Haixin Yang | Ink jet printable hydrogel for sensor electrode applications |
US7666328B2 (en) * | 2005-11-22 | 2010-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film conductor composition(s) and processing technology thereof for use in multilayer electronic circuits and devices |
US7618766B2 (en) * | 2005-12-21 | 2009-11-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flame retardant photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto |
US7645564B2 (en) * | 2006-03-03 | 2010-01-12 | Haixin Yang | Polymer solutions, aqueous developable thick film compositions, processes of making and electrodes formed thereof |
US20070238036A1 (en) * | 2006-03-22 | 2007-10-11 | Keiichiro Hayakawa | Dielectric, display equipped with dielectric, and method for manufacturing said dielectric |
US7678457B2 (en) * | 2006-03-23 | 2010-03-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Dielectric and display device having a dielectric and dielectric manufacturing method |
US7678296B2 (en) * | 2006-05-04 | 2010-03-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
GB2439746A (en) * | 2006-07-03 | 2008-01-09 | Dublin Inst Of Technology | A holographic method and sensor |
US7655864B2 (en) * | 2006-07-13 | 2010-02-02 | E.I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive conductive paste for electrode formation and electrode |
US7608784B2 (en) * | 2006-07-13 | 2009-10-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive conductive paste for electrode formation and electrode |
US7527915B2 (en) * | 2006-07-19 | 2009-05-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flame retardant multi-layer photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto |
JP5303127B2 (ja) * | 2007-08-03 | 2013-10-02 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 黒色バス電極用導電組成物およびプラズマディスプレイパネルの前面板 |
US20090039781A1 (en) * | 2007-08-08 | 2009-02-12 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Electrode paste for plasma display panel and black bus electrode for plasma display panel |
US7648655B2 (en) * | 2007-10-30 | 2010-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Conductive composition for black bus electrode, and front panel of plasma display panel |
US8193707B2 (en) * | 2007-11-06 | 2012-06-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Conductive composition for black bus electrode, and front panel of plasma display panel |
US8002603B2 (en) * | 2008-05-19 | 2011-08-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Co-processable photoimageable silver and corbon nanotube compositions and method for field emission devices |
US7887992B2 (en) * | 2008-12-23 | 2011-02-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive paste and process for production of pattern using the same |
US20100167032A1 (en) * | 2008-12-29 | 2010-07-01 | E.I.Du Pont De Nemours And Company | Front electrode for pdp |
US8129088B2 (en) | 2009-07-02 | 2012-03-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode and method for manufacturing the same |
US20110083874A1 (en) | 2009-10-09 | 2011-04-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode and method for manufacturing the same |
US8962779B2 (en) | 2013-07-16 | 2015-02-24 | Dow Global Technologies Llc | Method of forming polyaryl polymers |
US9063420B2 (en) | 2013-07-16 | 2015-06-23 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoresist composition, coated substrate, and method of forming electronic device |
US9410016B2 (en) | 2013-07-16 | 2016-08-09 | Dow Global Technologies Llc | Aromatic polyacetals and articles comprising them |
US8933239B1 (en) | 2013-07-16 | 2015-01-13 | Dow Global Technologies Llc | Bis(aryl)acetal compounds |
US9182669B2 (en) | 2013-12-19 | 2015-11-10 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Copolymer with acid-labile group, photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device |
US9229319B2 (en) | 2013-12-19 | 2016-01-05 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating copolymer and associated photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device |
US9581901B2 (en) | 2013-12-19 | 2017-02-28 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating copolymer and associated photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device |
US9957339B2 (en) | 2015-08-07 | 2018-05-01 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Copolymer and associated layered article, and device-forming method |
US9815930B2 (en) | 2015-08-07 | 2017-11-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Block copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device |
US9758610B2 (en) | 2015-12-18 | 2017-09-12 | Dow Global Technologies Llc | Acid-labile hyperbranched copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device |
US11613519B2 (en) | 2016-02-29 | 2023-03-28 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating monomer, polymer derived therefrom, photoresist composition including the polymer, and method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition |
US9921475B1 (en) | 2016-08-31 | 2018-03-20 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating compound, polymer derived therefrom, photoresist composition including the photoacid-generating compound or polymer, and method of forming a photoresist relief image |
US10088749B2 (en) | 2016-09-30 | 2018-10-02 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid-generating compound and associated polymer, photoresist composition, and method of forming a photoresist relief image |
ES2959027T3 (es) | 2021-02-11 | 2024-02-19 | Xetos Ag | Blanqueamiento mejorado |
EP4043961B1 (de) | 2021-02-11 | 2023-08-16 | Xetos AG | 2k-system |
EP4043962B1 (de) | 2021-02-11 | 2023-06-07 | Xetos AG | Photopolymerisierbare zusammensetzung |
EP4043502B1 (de) | 2021-02-11 | 2023-10-04 | Xetos AG | Photopolymerisierbare hoe-zusammensetzung |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL97697C (de) * | 1956-06-06 | |||
US2949361A (en) * | 1956-08-13 | 1960-08-16 | Gen Electric | Photosensitive compositions |
US3326710A (en) * | 1964-04-16 | 1967-06-20 | Sherwin Williams Co | Method of curing polyester compositions and coatings containing synergistic combination of photosensitizers and compositions thereof |
-
1965
- 1965-02-26 GB GB8480/65A patent/GB1090142A/en not_active Expired
-
1966
- 1966-02-23 NL NL6602332A patent/NL6602332A/xx unknown
- 1966-02-25 DE DE19661522359 patent/DE1522359A1/de active Pending
- 1966-02-25 US US529943A patent/US3427161A/en not_active Expired - Lifetime
- 1966-02-28 BE BE677091D patent/BE677091A/xx unknown
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2251048A1 (de) | 1971-10-18 | 1973-05-10 | Ici Ltd | Photopolymerisierbare masse |
DE2266023C2 (de) * | 1971-10-18 | 1989-07-20 | Imperial Chemical Industries Plc, London, Gb | |
DE2730898A1 (de) * | 1977-07-08 | 1979-01-25 | Basf Ag | Photopolymerisierbare bindemittel |
EP0079514A2 (de) * | 1981-11-12 | 1983-05-25 | BASF Aktiengesellschaft | Zur Herstellung von Druck- und Reliefformen geeignetes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Druck- und Reliefformen mittels dieses Aufzeichnungsmaterials |
EP0079514A3 (en) * | 1981-11-12 | 1983-06-22 | Basf Aktiengesellschaft | Light-sensitive recording material useful in the production of printing and relief forms, and process for the production of printing and relief forms by means of this recording material |
US4935330A (en) * | 1986-02-26 | 1990-06-19 | Basf Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture, photosensitive recording element containing this mixture, and the production of lithographic printing plate using this photosensitive recording element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE677091A (de) | 1966-07-18 |
US3427161A (en) | 1969-02-11 |
NL6602332A (de) | 1966-05-25 |
GB1090142A (en) | 1967-11-08 |
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DE2733912C2 (de) | ||
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