DE2405714A1 - Photopolymerisierbare massen - Google Patents
Photopolymerisierbare massenInfo
- Publication number
- DE2405714A1 DE2405714A1 DE19742405714 DE2405714A DE2405714A1 DE 2405714 A1 DE2405714 A1 DE 2405714A1 DE 19742405714 DE19742405714 DE 19742405714 DE 2405714 A DE2405714 A DE 2405714A DE 2405714 A1 DE2405714 A1 DE 2405714A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- anhydride
- group
- carbon atoms
- carboxyl groups
- molecular weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/20—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/112—Cellulosic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/118—Initiator containing with inhibitor or stabilizer
Description
DR. E. WIEGAND DIPL-IinG. VV. NIbMANN
DR. M. KÖHLER DlPL-ING. C. GERNHARDT 2^05714
W 41 921/74 - Ko/DE 6. Februar 1974
Fuji Pb.oto Film Co., Ltd.
Minami Ashigara-shi, Kanagawa /Japan
Photopolymerisierbare Massen
Die Erfindung betrifft photopolymerisierbare Massen für ein Druckrelief oder einen Photowiderstand.
Gemäß der Erfindung wird eine photopolymerisierbare Masse angegeben, welche (a) 80 bis 50 Gew.-^ einer Divinylurethanverbindung
entsprechend der folgenden allgemeinen Formel
R-, 0 R0 0 0 Hx
I 1
R-, 0 R0 0 0 H
IB 1 1 I 1
CH2=C-COCH2CHO-(C-A-COCH2CEO)
worin R1, Rp und R^ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
η die Zahlen 1, 2 oder 3, A den zweiwertigen Rest eines cyclischen Carbonsäureanhydrides mit 4 bis 10 Kohlenstoffatomen, B eine Gruppe -R1- oder -R.KiHCOOR5OOCNHR,-,
worin Ri eine Alkylengruppe mit 4 bis 13 Kohlenstoffatomen,
Cyeloalkylengruppe oder Arylengruppe und R1- eine Alkylenke
tte mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen oder eine Oxyalkylenkette mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen angeben, bedeuten,
(b) 20 bis 50 Gew„~$ eines organischen Polymeren von hohem
Molekulargewicht, das mit der Divinyluretbanverbinaung mischbar ist und Carboxylgruppen an den Seitketten enthält und
409832/1029
eine Säurezahl von 30 oder mehr besitzt, und (c) 0,01
bis 10 Gew.-% eines Lichtsensibilisators, der zur
Initiierung der Photopolymerisation einer äthylenisch
ungesättigten Verbindung bei der Aussetzung an aktive Strahlung fähig ist, enthält.
Es ist bekannt, daß ein Reliefbild für den Druck
oder die Wiedergabe oder für einen Photowiderstand erhalten werden kann, wenn eine äthylenisch ungesättigte
Verbindung, die zur Additionspolymerisation fähig ist, der Einwirkung von aktiver Bestrahlung in Gegenwart
eines optischen Sensibilisators ausgesetzt wird, so daß das Polymere gehärtet wird und dreidimensional und unlöslich
gemacht wird. Solche Massen enthalten eine äthylenisch ungesättigte Verbindung, die zur Additionspolymerisation
fähig ist, und ein organisches lineares Polymeres von hohem Molekulargewicht und werden auf einen
geeigneten Träger bei Raumtemperatur in Form eines Peststoffes oder eines Gels aufgezogen.
Gemäß der Erfindung ergibt sich eine photopolymerisierbare
Masse, welche als äthylenisch ungesättigte Verbindung eine Mvinylurethanverbindung entsprechend der
folgenden allgemeinen Formel
Rn 0 R? 0 0 R, Q
Rn
I
=C -
=C -
.CH2=C - COCH2CKO-(C-A-COCH2CHO-)nCKHjJ2I
enthält, worin R1, R£ und R, ein Wasserstoffatom öder
eine Methylgruppe, η die Zahlen 1, 2 oder 3, A den Rest eines cyclischen Carbonsäureanhydrides mit einer Gesamtzahl
von 4 bis 10 Kohlenstoffatomen, B eine Gruppe -R^-
oder -R.KHCOOR500CNHR.- bedeuten, worin Ri eine Alkylengruppe
mit 4 bis 13 Kohlenstoffatomen, eine Cycloalkylengruppe oder eine Arylengruppe und R,- eine Alkylenkette
mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen oder eine Oxyalkylenkette
409832/1029
mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen darstellen, bedeuten.
Das heißt, gemäß der Erfindung ergeben sich photopolymerisierbare
Massen, die in Form eines Peststoffes oder Gels bei Raumtemperatur (etwa 20 bis 3O0C) vorliegen
und die die vorstehend angegebene Divinylurethanverbindung, ein organisches Polymeres von hohem Molekulargewicht,
das Carboxylgruppen enthält und eine Säurezahl von 30 oder mehr hat, und eine geringe Menge eines Lichtsensibilisators
enthalten. Diese sind für die Herstellung einer Druckplatte für ein Reliefbild mit einer Reliefhb'be
von 0,2 mm oder mehr geeignet. Außerdem sind diese Massen zur Anwendung als lichtempfindliche Schicht für
einen Photowiderstand mit einer Reliefhöhe von 1 bis 10
Mikron geeignet. In diesen Fällen wird ein organisches Polymeres von hohem Molekulargewicht mit Carboxylgruppen
mit einer Säurezahl von 30 oder mehr an den Seitketten verwendet, um eine Masse zu ergeben, durch die die nichtbelichteten
Bereiche in einer wässrigen schwachen alkalischen Lösung oder wässrigen schwachen, ein organisches,
in Wasser lösliches Lösungsmittel enthaltenden Lösung gelöst werden können, was nachfolgend als Entwicklung bezeichnet
wird. Derartige organische Polymere von hohem Molekulargewicht werden nicht als Binder im Gegensatz
zu ihrem allgemein angewandten Gebrauch eingesetzt. Somit wird das organische Polymere von hohem Molekulargewicht
in kleinerer Menge als die Divinylurethanverbindung eingesetzt. Die Divinylurethanverbindung als Härter kann
in relativ großer Menge verwendet werden, da sie eine viskose Flüssigkeit oder ein Peststoff bei Raumtemperatur
ist. Unter Anwendung der Divinylurethanverbindung kann deshalb ein scharfes Reliefbild von hoher Auflösung ohne
den Nachteil des Standes der Technik erhalten werden, daß nämlich ein gehärteter Bereich gequollen und in dem Entwickler
bei der Entwicklung während eines langen Zeitraumes gelöst wird. Palis der Gehalt der Divinylurethanverbindung
80 Gew.-^, bezogen auf das Gesamtgewicht der festen Kompo-
409832/1029
24057U
nenten, überschreitet, wird die Entwicklung mit einem wässrigen schwachen Alkali schwierig, während, falls
weniger als 50 Gew.-^ verwendet werden, die Lichtempfindlichkeit
markant verringert wird und ein gehärteter Bildbereich bei der Entwicklung während eines langen
Zeitraumes gequollen und weggelöst wird.
In der vorstehend angegebenen allgemeinen Formel der Divinylurethanverbindung bedeutet A eine zweiwertige
Einheit, die sich von einem cyclischen Carbonsäureanhydrid mit 4 bis 10 Kohlenstoffatomen ableitet. Erläuternde Beispiele
derartiger cyclischer Carbonsäureanhydride sind Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, HexahydrophthaIsäureanhydrid,
Bernsteinsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, 3,6-Endomethylen-δ -tetrahydrophthalsäureanhydrid,
3,6-Endoxy-A -tetrahydrophthalsäureanhydrid, α-Chlormale ins äureanhydrid, a-PhenyImaIe ins äureanhydrid
und Glutarsäureanhydrid. R. bedeutet eine zweiwertige
Gruppe, die sich von einer Diisocyanatverbindung ableitet, beispielsweise eine der folgenden zweiwertigen Gruppen,
wie
0 MD
CH- , -(CH2)2-OÄCH=CH<5O-(CH2)2- und
COOCK3 ■
409832/1029
Rc bedeutet beispielsweise -CH9CH9-, -(CH9),-, -(CH9),--,
5 CH, ά CHv 4
-QH2CH2-(OCH2CH2)χ-, -CH2CH-(OCH2-(CH)1n- oder
-CH2CH2CH2CH2-(OCH2CH2CH2Ch2)n-, worin 1, m und η die
Zahlen 1 bis 10 bedeuten.
Die Divinylurethanverbindung kann durch Umsetzung einer Monohydroxyverbindung entsprechend der folgenden
allgemeinen Formel
R-, RO O O R,
|1 2 π 13
)_((J-A-COCK5CI
CH2=CCOOCH2CHo-(C-A-COCK2CHO)n~H .
bei einer Temperatur von etwa 20 bis 12O0C, vorzugsweise
60 bis 9O0C, worin R1, R2 und R^, η und A die gleichen Bedeutungen
wie vorstehend besitzen, mit einer Diisocyanatverbindung mit 2 Isocyanatgruppen in einem Molekül in
einem Molarverhältnis von etwa 2:1 der Verbindung der allgemeinen Formel zu dem Isocyanat, gewünschtenfalls in
Gegenwart eines geeigneten Katalysators, wie einem tertiären Amin oder einem Metallsalz, hergestellt werden. Das Verfahren
kann günstigerweise in Abwesenheit eines Lösungsmittels
oder in Gegenwart eines inerten Lösungsmittels und, falls gegenüber Luft offen, günstigerweise in Gegenwart
einer geringen Menge eines Polymerisationsinhibitors ausgeführt werden. Da die Divinylurethanverbindung, worin
ein aromatischer Ring wie R. direkt mit der benachbarten
Urethangruppe verbunden ist, insbesondere wo ein aromatischer Ring direkt mit zwei Urethangruppen verbunden ist,
von selbst im Ultraviolettbereich entsprechend dem empfindlichen Bereich des Photopolymerisationsinitiators absorbiert,
fehlt einer lichtempfindlichen Platte bei Anwendung der Divinylurethanverbindung die Härtung der
unteren Schichten der lichtempfindlichen Schichten derselben und es findet eine Seitätzung statt. Deshalb tritt
409832/1029
keine Gefahr im EaIl der Anwendung derselben für Photowiderstände
mit einer Reliefhöhe von 1 bis 10 Mikron
auf. Jedoch im Fall der Anwendung derselben für die Herstellung von Druckplatten für den Reliefdruck mit
einer Relief höhe von 0,2 mm oder mehr ist es günstig, eine Divinylurethanverbindung zu wählen, worin R.
nicht von einer Resonanzstruktur mit der benachbarten
ürethangruppe ist, beispielsweise worin R, nicht von
der Struktur
, die zweiwertige, sich von Toluoldiisocyanat und Naphthalindiisocyanat
ableitende Gruppen darstellen, ist, welche ein Reliefbild von ausgezeichneter Lichtempfindlichkeit und frei
von Seitätzung ergeben-Geeignete organische Polymere von hohem Molekulargewicht,
die mit der Divinylurethanverbindung gemäß der Erfindung sowie mit den Carboxylgruppen mit einer Säurezahl
von 50 oder mehr, beispielsweise bis zu etwa 400, in den Seitketten verträglich sind und welche verwendet
werden können, sind saure Cellulosederivate mit Carboxylgruppen an den Seitenketten, wie Celluloseacetatphthalat,
Hydroxypropylmethylcellulosephthalat und Hydroxypropylmethylcelluloseacetathexahydrophthalat,
saure Polyvinylalkoholderivate mit Carboxylgruppen an den Seitketten, die durch umsetzung eines Polyvinylalkoho!derivates mit
einem cyclischen Säureanhydrid hergestellt wurden, Acrylsäure copolymere, Methacrylsäurecopolymere, Itaconsäurecopolymere,
Crotonsäurecopolymere und MaIeinsäureanhydridcopolymere,
die teilweise mit einem Alkohol, beispielsweise mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, wie Methylalkohol, Äthylalkohol,
Butylalkohol, Benzylalkohol, laurylalkohol verestert
sind. Beispiele für geeignete Copolymere sind Methylmethacrylat/Methacry!säure
in einem Terhältnis von 90/10 Gew.-#, Me thylmethacrylat/Acrylnitril/AcryIsäure in einem
409832/1029
24057U
Verhältnis von 75/15/10 Gew.-#, Styrol/ltaconsäure in
einem Verhältnis von 90/10 Gew.-$, Vinylacetat/Crotonsäure in einem Verhältnis von 93/7 Gew.-%, Styrol-Maleinsäureanhydrid
in einem Verhältnis von 50/50 Mol-#, die mit einem der vorstehend angegebenen Alkohol verestert
sind. Von diesen Materialien werden solche mit Carboxylgruppen mit einer Säurezahl von 100 oder mehr
bevorzugt zur Herstellung von Druckplatten zum Reliefdruck mit einer Reliefhöhe von 0,2 mm oder mehr bevorzugt,
da die Entwicklung hiermit wirksam ausgeführt werden kann. Ein geeignetes Molekulargewicht des organischen
Materials von hohem Molekulargewicht liegt im Bereich von etwa 1000 und darüber und die geeignete Menge des
organischen Polymermaterials von hohem Molekulargewicht in der Masse kann im Bereich von etwa 20 bis 50 $, vorzugsweise
30 bis 40 Gew.-# liegen.
Als Sensibilisatoren können gemäß der Erfindung sämtliche der bekannten Sensibilisatoren eingesetzt werden.
Insbesondere werden thermisch stabile Sensibilisatoren bevorzugt verwendet, beispielsweise Benzoin, Benzoinalky
läther wie Benzoinmethyläther und Benzoinäthyläther,
Anthraehinonderivate wie 2-Äthylanthrachinon und 2-tert.-Butylanthrachinon,
Benzyl, Dicarbonylverbindungen wie 4,4'-Oxydibenzyl und Biacetyl, Carbony!verbindungen wie
Benzophenon, Michler's Keton, Xanthon, 2-Chlorxanthon,
Triacetylbenzol und Anthron, 9-Phenylacridin und 3-Methyl-2-benzoylmethylennaphtho-(1,2-a)-thiazol.
Ein oder mehrere dieser lichtempfindlichen Sensibilisatoren können eingesetzt werden. Die geeignete Menge des Sensibilisators
liegt im Bereich von etwa 0,01 bis 10, vorzugsweise 0,5 bis 2 Gew.-#.
409832/1029
Als Entwickler für die photopolymerisierbaren Massen
gemäß der Erfindung wird bevorzugt eine wässrige lösung mit 0,1 bis 2 Gew.-^ an Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid,
Monoäthanolamin, Diäthanolamin, Triäthanolamin
oder Ammoniak bevorzugt eingesetzt, jedoch können 0,1 bis 10 Gew.-^ eines wasserlöslichen organischen Lösungsmittels,
wie Isopropylalkohol, n-Propylalkohol,
Benzylalkohol, Äthylenglykolraonoäthylather, A'thylenglykolmonobutylather
und dergleichen oder oberflächenaktive Mittel zusätzlich verwendet werden und werden bevorzugt
zugesetzt, um weiterhin die Entwicklungseigenschaften
derselben zu erhöhen.
Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung im einzelnen, ohne diese zu begrenzen.
Falls nichts anderes angegeben ist, sind sämtliche Teile und Prozentsätze auf das Gewicht bezogen.
398 g (1,0 Mol) Hydroxyäthylphthaly!methacrylate
entsprechend der Formel
CH-, O /7~\\ O
ι3 H f y Ii
CHP=C-C00CH„CHo0-(C—-^=^-COCH~CH^O)n . -H
(OH-Zahl 141, Durchschnittsmolekulargewicht 398), 94 g
(0,5 Mol) Xylylendiisocyanat, 1,5 g Benzoesäure als Katalysator und 0,25 g 2,6-Di-tert.-butylcresol als Polymerisationsinhibitor
wurden vermischt und bei 800C während 7 Stunden unter Einblasen von Luft durch das Gemisch umgesetzt
und eine Divinylurethanverbindung I mit einer verbliebenen
Isocyanatzahl von 5,2 erhalten. .
A09832/1029
24057H
Zu 60 Teilen dieser Divinylurethanverbindung wurden 30 Teile an Hydroxypropylmethylcellulosehydrogenphtbalat
(HP-55* Produkt der Shinetsu Chemical Industry Co., Säurezahl
127), 10 Teile eines partiell mit einem niederen Alkohol veresterten Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymeren
(Styrite CM-2L, Produkt der Daido Kogyo K.E.)» 1 Teil Bensoinäthylather als Sensibilisator, 0,05 Teile 4,4'-Thiobis-(3-methyl-6-tert.-butylphenol)
als thermischer Polymerisationsinhibitor und 40 Teile Aceton und 17 Teile
Methanol als lösungsmittel zugesetzt, gelöst und bei 4O0C
während 24 Stunden zur Entschäumung des Gemisches stehengelassen. Die auf diese Weise entschäumte lichtempfindliche
Flüssigkeit wurde auf einen Polyesterfilm einer Stärke
von 100 Mikron zu einer Filmstärke von 0,6 mm auf Trockenbasis
unter Anwendung eines Aufstreichblattes während eines
Tages und in Heißluft von 500C während eines Tages getrocknet.
Der getrocknete Bogen wurde bei 800C auf eine gekörnte Aluminiumplatte mit einer Stärke von 0,3 mm aufgeschichtet.
Nachdem der Polyesterfilm von 100 Mikron von der beschichteten lichtempfindlichen Platte abgestreift war, wurde
ein photographischer Negativfilm mit alphabetischen Bezeichnungen mit der lichtempfindlichen Platte kontaktiert
und während 10 Minuten unter Anwendung eines Vakuurodruckgerätes, worin chemische I1Iuoreszenzlampen von 20 V/,
Flr^OBL (Produkt der Toshiba Electric Co.) in einem Abstand
von 6 cm angebracht waren, belichtet. Nach der Belichtung wurde der nicht belichtete Bereich mit einer
schwachen wässrigen Alkalilösung gelöst, welche 5 $ Is 0-propylalkohol
und 0,2 # Natriumhydroxid enthielt, so daß ein scharfes Reliefbild erhalten wurde.
409832/1029
24057H - ίο -
384 g (1,0 Mol) Hydroxyathylphthalylacrylat entsprechend
der Struktur
CH2=CECCOCH2Ch2O-(
(OH-Zahl 147, Durchschnittsmolekulargewicht 384), 94 g
(0,5 Mol) Xylylendiisocyanat und 0,25 g 2,6-Di-tert.-butyleres
öl als Polymerisationsinhibitor wurden vermischt
und bei 800C während 8 Stunden unter Einblasen von Luft
durch das Gemisch umgesetzt, wodurch die Divinylurethanverbindung
II mit einer verbliebenen Isocyanatzahl von 4,7 erhalten wurde.
Zu 60 Teilen dieser Divinylurethanverbindung wurden 40 Teile des Hydroxypropylmethylcellulosephthalats nach
Beispiel 1, 1 Teil Benzoyläthyläther, 0,05 Teile 4,4'-Thiobis-(3-metbyl-6-tert.-buty!phenol)
und 40 Teile Aceton und 25 Teile Methanol zugesetzt, gelöst und bei 400C
während 24 Stunden zur Entschäumung des Gemisches stehengelassen. Die entschäumte lichtempfindliche Flüssigkeit
wurde auf einen Polyesterfilm in ähnlicher Weise wie in Beispiel 1 aufgezogen und dabei eine lichtempfindliche
Platte mit einer lichtempfindlichen Schicht von einer Stärke von 0,6 mm erhalten. Nachdem der Polyesterfilm
von 100 Mikron von der lichtempfindlichen Platte abgestreift war, wurde ein photographischer Negativfilm mit
alphabetischen Bezeichnungen mit der lichtempfindlichen Platte kontaktiert und während 7 Minuten unter Anwendung
eines Vakuumdruckes, worin chemische lampen von 20 W,
PL-20 BL (Produkt der Toshiba Electric Co.) in einem Abstand
von 6 cm angeordnet waren, belichtet.
409832/1029
24057U
Nach der Belichtung wurde die Entwicklung mit einer wässrigen alkalischen lösung, welche 0,5 $ Benzylalkohol
und 0,5 i° Natriumhydroxid enthielt, durchgeführt und ein
scharfes Reliefbild erhalten.
197 g (1»05 Mol) Xylylendiisocyanat wurden zu 53 g
(0,5 Mol) Diäthylenglykol zugegeben und bei 800C während
2 Stunden umgesetzt. Anschließend wurden 390 g (1,0 Mol) Hydroxyäthyltetrahydrophthalylacrylat (OH-Zahl 146,
Durchschnittsmolekulargewicht 390) entsprechend der Struktur
0 0
Il Il
CH2=CHCOOCH2Ch2O- ( C ■>,—^C-OCH2CH2O ) ± .-H
und 0,30 g 2,6-Di-tert.-butylcresol hierzu zugegeben und
bei 800C während 8 Stunden unter Einblasen von Luft durch
das Gemisch umgesetzt und die Divinylurethanverbindung III
mit einer verbliebenen Isocyanatzahl von 4,8 erhalten.
Zu 60 Teilen dieser Divinylurethanverbindung III wurden
40 Teile Celluloseacetathydrogenphthalat mit einem Phthalsäuregehalt von 32 Gew.-^ (CAP, Produkt der Wako
Junyaku K.K.), 1 Teil Benzoinäthylather als Sensibilisator,
0,05 Teile 4,4l-Thiobis-(3~methyl-6-tert."Lbutylphenol) als
thermischer Polymerisationsinhibitor, 0,025 Teile Methylenblau
als Bildfärbungsmittel und 40 Teile Aceton und 30 Teile Methanol als Lösungsmittel zugesetzt, gelöst und bei
400C während 24 Stunden zur Entschäumung des Gemisches stehengelassen.
Die entschäumte Lösung wurde auf eine gekörnte Aluminiumplatte mit einer Stärke von 0,3 mm aufgezogen, so
daß eine Filmstärke der lichtempfindlichen Schicht von 0,6 mm in ähnlicher Weise wie in Beispiel 1 erhalten wurde. Diese
409832/1029
lichtempfindliche Platte wurde während 7 Minuten unter Anwendung des gleichen Belichtungsgerätes wie in Beispiel
1 belichtet und dann mit einer wässrigen lösung von 0,5 1° Triäthanolamin entwickelt, wobei ein scharfes
Reliefbild mit einem gehärteten Bereich erhalten wurde,
welcher ziemlich flexibel war.
384 g (1,0 Mol) Hydroxyäthylphthaly.lacrylat (OH-Zahl
147» Durchschnittsmolekulargewicht 384) entsprechend der Struktur
CH2=CHCOCCH2Ck2O- (C
87 g (0,5 Mol) Toluoldiisocyanat und 0,25 g 2,6-Di-tert.-butyleres
öl als Polymerisationsinhibitor wurden vermischt und bei 8O0C während 2 Stunden unter Einblasen von Luft
durch das Gemisch umgesetzt, wozu 1,5 g Triäthylamin als
Katalysator dann zugesetzt wurden und das Gemisch während 6 Stunden umgesetzt, so daß die Divinylurethanverbindung
17 mit einer verbliebenen Isocyanatzahl von 3,6 erhalten
wurde.
Zu 7 g dieser Divinylurethanverbindung IV wurden 3 g
eines PolymethyImethacrylat/Methacrylsäure-Copolymeren
(Gewichtsverhältnis 9:1; Eigenviskosität 0,115 bei 300C
in Methyläthylketon als Lösungsmittel), 0,1 g 3-Methyl-2-benzoylmethylennaphtho-(1,2-<x)-thiazol
als Sensibilisator und 90 g Methylcellosolveacetat zur Herstellung der
lichtempfindlichen Flüssigkeit zugesetzt. Die lichtempfindliche Flüssigkeit wurde auf eine gekörnte und silicatbehandelte
Aluminiumplatte in einer Stärke von 0,3 mm aufgezogen und bei 1000C während 2 Minuten getrocknet, so
daß eine lichtempfindliche Platte für den lithographischen
409832/1029
2A057H
Druck mit einem Überzugsgewicht τοη 2,52 g/m erhalten
wurde. Ein Negativfilm mit alphabetischen Bezeichnungen wurde mit dieser lichtempfindlichen Platte kontaktiert
und an eine Kohlenbogenlampe von 3 A in einem Abstand von 70 cm ausgesetzt. Nach der Belichtung wurde die
Entwicklung mit einer schwachen wässrigen Alkalilösung, welche 1 % ITatriumsilicat und 1 % Monogen Y-100 (Natriumlaurylsulfat,
Produkt der Daiichi Kogyo Yakuhin K.E.) als oberflächenaktives Mittel enthielt, durchgeführt,
wobei eine lithographische Druckplatte von hervorragender Reproduzierbarkeit erhalten wurde.
Im vorstehenden wurde die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß sie hierauf
begrenzt ist.
409 83 2/1029
Claims (3)
- PatentansprüchePhotopolymerisierbare Masse, bestehend aus (a) 80 bis 50 Gew.-% einer Divinylurethanverbindung entspre chend der folgenden allgemeinen FormelR1 O R~ O O R, O1 -I 1 Κ H i3 Il=C - COCB5CHO-(C-A-COCK0CEo) -CM·f— C- Il •worin IL, Rp und R~ ein'Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, η die Zahlen 1, 2 oder 3, A einen zweiwertigen Rest eines cyclischen Carbonsäureanhydrides mit 4 bis 10 Kohlenstoffatomen, B-eine Gruppe -R,- oder -R4NHCOORcOOCIiHR,-wobei R- eine Alkylengruppe mit 4 bis 13 Kohlenstoffatomen, ^ eine Cyeloalkylengruppe oder Arylengruppe und R1- eine Alkylenkette mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen oder eine Oxyalkylenkette mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen darstellen, bedeuten, (b) 20 bis 50 Gew.-^ eines mit der Divinylurethanverbindung mischbaren organischen Polymeren von hohem Molekulargewicht mit Carboxylgruppen an den Seitketten und einer Säurezahl von 30 oder mehr und (c) 0,01 bis 10 Gew.-^ eines Mchtsensibilisators, welcher zur Initiierung der Photopolymerisation einer äthylenisch ungesättigten Verbindung bei Aussetzung an aktive Strahlung geeignet ist.
- 2. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß A den zweiwertigen Rest eines cyclischen Carbonsäureanhydrides aus der Gruppe von Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, 3,6-Endomethylen-A -tetrahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-A -tetrahydrophthalsäureanhydrid, a-Chlormaleinsäureanhydrid, a-Phenylmaleinsäureanhydrid, oder Glutarsäureanhydrid besteht und R. eine der Gruppierungen409832/102924057U-CH;oocH3CH,^—C οϊ π '-CH- - , -(CHP)P-OCCH=CHCO-(CHp)- oderund R1- eine der Gruppierungen -CHpCHp-, -(CHo)/-, (CHp)g-,5 CH3CH2CH2-(OCH2CH2 )1-, -CH2CH-(OCH2-CH)1n-, oder -CH2CH2CH2CH2-(OCH2CH2Ch2CH2) -, worin lt in und η jeweils Zahlen von 1 bis 10 darstellen, bedeuten.
- 3. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Polymere von hohem Molekulargewicht aus einem-Cellulosederivat mit Carboxylgruppen an den Seitketten, einem sauren Polyvinylalkohole rivat mit Carboxylgruppen an den Seitketten, einem Acrylsäurecopolymeren, einem Methacrylsäurecopolymeren, einem Itaconsäurecopolymeren, einem Crotonsäurecopolymeren oder einem teilweise mit einem Alkohol veresterten Maleinsäureanhydridcopolymeren besteht.409832/1029
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP48014805A JPS5834488B2 (ja) | 1973-02-07 | 1973-02-07 | ヒカリジユウゴウセイソセイブツ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2405714A1 true DE2405714A1 (de) | 1974-08-08 |
Family
ID=11871245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19742405714 Pending DE2405714A1 (de) | 1973-02-07 | 1974-02-06 | Photopolymerisierbare massen |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3907574A (de) |
JP (1) | JPS5834488B2 (de) |
DE (1) | DE2405714A1 (de) |
GB (1) | GB1447315A (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0002837A2 (de) * | 1977-12-29 | 1979-07-11 | Gaf Corporation | Durch Strahlung härtbare Beschichtungszusammensetzungen enthaltend ein Oligomer und ein ultraviolettstrahlenabsorbierendes Mittel |
FR2453871A1 (fr) * | 1979-04-11 | 1980-11-07 | Minnesota Mining & Mfg | Polyetherurethane-acrylates fluorocarbyl-substitues durcissables par des radiations et melanges polymerisables en renfermant |
EP0026820A1 (de) * | 1979-08-21 | 1981-04-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung hochwärmebeständiger Reliefstrukturen, danach hergestellte Reliefstrukturen und deren Verwendung |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49121829A (de) * | 1973-03-26 | 1974-11-21 | ||
AU507014B2 (en) * | 1975-11-05 | 1980-01-31 | Hercules Inc. | Photopolymer compositions |
US4174218A (en) * | 1975-11-05 | 1979-11-13 | Hercules Incorporated | Relief plates from polymer with terminal unsaturation |
US4092173A (en) * | 1976-11-01 | 1978-05-30 | Eastman Kodak Company | Photographic elements coated with protective overcoats |
US4171979A (en) * | 1976-11-01 | 1979-10-23 | Eastman Kodak Company | Method of treating scratched or abraded photographic elements with radiation-curable compositions comprising an acrylated urethane, an aliphatic ethylenically-unsaturated carboxylic acid and a multifunctional acrylate |
DE2823914A1 (de) * | 1978-05-04 | 1979-11-15 | Eastman Kodak Co | Verwendung einer beschichtungsmasse zur beseitigung von kratzspuren auf photographischen materialien |
DE2822190A1 (de) * | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
US4296196A (en) * | 1978-05-20 | 1981-10-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture in a transfer element |
FR2440588A1 (fr) * | 1978-11-02 | 1980-05-30 | Minnesota Mining & Mfg | Materiau pour etiquettes en matiere plastique |
US4228232A (en) * | 1979-02-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing ethylenically unsaturated oligomers |
US4245030A (en) * | 1979-05-23 | 1981-01-13 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture containing improved plasticizer |
US4248958A (en) * | 1979-05-23 | 1981-02-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture containing polyurethanes |
US4985473A (en) * | 1980-05-20 | 1991-01-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compositions for providing abherent coatings |
US4322490A (en) * | 1980-11-17 | 1982-03-30 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring improved monomers |
US5436112A (en) * | 1994-04-01 | 1995-07-25 | Hoechst Celanese Corporation | Method for producing a negative image with color proofing element containing a urethane monomer |
JP3641116B2 (ja) * | 1997-10-14 | 2005-04-20 | 東京応化工業株式会社 | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
JP2000066391A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
US6244274B1 (en) | 1999-07-30 | 2001-06-12 | Opi Products, Inc. | Thixotropic polymerizable nail sculpting compositions |
US6841336B2 (en) | 2000-10-16 | 2005-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate-making method of lithographic printing plate |
CN104496853B (zh) * | 2015-01-10 | 2017-03-29 | 中山市博海精细化工有限公司 | 一种uv固化可剥胶树脂及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3677920A (en) * | 1968-07-06 | 1972-07-18 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable diisocyanate modified unsaturated polyester containing acrylic monomers |
JPS5034964B1 (de) * | 1970-03-30 | 1975-11-12 | ||
DE2035848A1 (de) * | 1970-07-18 | 1972-01-27 | Badische Anilin- & Soda-Fabrik Ag, 6700 Ludwigshafen | Photosensible Gemische zur Herstellung von Druckplatten |
-
1973
- 1973-02-07 JP JP48014805A patent/JPS5834488B2/ja not_active Expired
-
1974
- 1974-02-06 DE DE19742405714 patent/DE2405714A1/de active Pending
- 1974-02-07 US US440609A patent/US3907574A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-02-07 GB GB577674A patent/GB1447315A/en not_active Expired
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0002837A2 (de) * | 1977-12-29 | 1979-07-11 | Gaf Corporation | Durch Strahlung härtbare Beschichtungszusammensetzungen enthaltend ein Oligomer und ein ultraviolettstrahlenabsorbierendes Mittel |
EP0002837A3 (de) * | 1977-12-29 | 1979-07-25 | Gaf Corporation | Durch Strahlung härtbare Beschichtungszusammensetzungen enthaltend ein Oligomer und ein ultraviolettstrahlenabsorbierendes Mittel |
FR2453871A1 (fr) * | 1979-04-11 | 1980-11-07 | Minnesota Mining & Mfg | Polyetherurethane-acrylates fluorocarbyl-substitues durcissables par des radiations et melanges polymerisables en renfermant |
EP0026820A1 (de) * | 1979-08-21 | 1981-04-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung hochwärmebeständiger Reliefstrukturen, danach hergestellte Reliefstrukturen und deren Verwendung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5834488B2 (ja) | 1983-07-27 |
JPS49105847A (de) | 1974-10-07 |
US3907574A (en) | 1975-09-23 |
GB1447315A (en) | 1976-08-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2405714A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
DE2064079C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
DE2802440C2 (de) | ||
DE1522362C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch sowie Verfahren zur Herstellung eines photopolymerisierbaien Aufzeichnungsttiaterials | |
EP0342498B1 (de) | Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern | |
DE2127767C3 (de) | Fotopolymerisierbares Aufzeichnungs material und Verfahren zu dessen Her Stellung | |
EP0342495B1 (de) | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern | |
EP0342496B1 (de) | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern | |
DE3008657A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
DE1522359A1 (de) | Verfahren zur photochemischen Unloeslichmachung von Polymeren | |
DE2207209B2 (de) | Neue photopolymerisierbare Gemische fur lichtempfindliche, Rehefbilder liefern de Aufzeichnungsschichten | |
DE3048502A1 (de) | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial | |
EP0380007A2 (de) | Strahlungsempfindliche Polymere | |
DE1917543A1 (de) | Aromatische polycyclische Verbindungen als Sensibilisierungsmittel fuer photolysierbare organische Halogenverbindungen | |
DE1925551A1 (de) | Lichtempfindliche Polymere | |
CH644211A5 (de) | Verfahren zur herstellung von lichtempfindlichem material fuer die gerbende entwicklung. | |
DE2230936C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE2915154A1 (de) | Lichtempfindliche zusammensetzung | |
DE3812325A1 (de) | Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien und verfahren zur herstellung von reliefmustern und reliefbildern | |
DE2203732A1 (de) | Lichtempfindliche mischpolymerisate und diese enthaltende kopiermassen | |
DE2733005C3 (de) | Lichtempfindliche Masse | |
DE4126409A1 (de) | Strahlungsempfindliches gemisch mit einem polymeren bindemittel mit einheiten aus (alpha)-(beta)-ungesaettigten carbonsaeuren | |
DE2356149A1 (de) | Verfahren zur herstellung von druckplatten, insbesondere lithographischen platten, und nach dem verfahren hergestellte druckplatten | |
DE2043901A1 (de) | Photopolymerisation athylemsch unge sattigter organischer Verbindungen | |
DE1597784A1 (de) | Druckplatte mit photoaktiver Schicht |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHN | Withdrawal |