JP2000066391A - サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム - Google Patents
サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性及び
パターニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト
性に優れ、微細加工に好適なサンドブラスト用感光性組
成物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。 【解決手段】少なくとも２個以上のアクリロイル基又は
メタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化
１ で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカ
リ可溶性化合物を含有するサンドブラスト用感光性組成
物及びそれを用いた感光性フィルム。
パターニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト
性に優れ、微細加工に好適なサンドブラスト用感光性組
成物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。 【解決手段】少なくとも２個以上のアクリロイル基又は
メタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化
１ で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカ
リ可溶性化合物を含有するサンドブラスト用感光性組成
物及びそれを用いた感光性フィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なサンドブラ
スト用感光性組成物、さらに詳しくはアルカリ現像性に
優れ、かつ基板との密着性に優れるとともに、感度及び
パターニング後の弾性、柔軟性が高く、耐サンドブラス
ト性が優れ、微細加工が容易なサンドブラスト用感光性
組成物及びそれを用いた感光性フィルムに関する。
スト用感光性組成物、さらに詳しくはアルカリ現像性に
優れ、かつ基板との密着性に優れるとともに、感度及び
パターニング後の弾性、柔軟性が高く、耐サンドブラス
ト性が優れ、微細加工が容易なサンドブラスト用感光性
組成物及びそれを用いた感光性フィルムに関する。
【０００２】
【従来技術】従来、ガラス、石材、プラスチック、セラ
ミックス、皮革、木質材等の基板の表面に図柄を形成す
る加工方法の１つとしてサンドブラスト加工法が知ら
れ、その加工法として基板の表面に、ゴム板、紙等を貼
り付け、カッター等で切り抜き、パターニングしたのち
研磨材等を吹き付けて選択的に基板を除去するサンドブ
ラスト加工法や基板表面にサンドブラスト用感光性組成
物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスクパター
ンを形成させたのち、研磨材等を吹き付けて選択的に基
板を除去するサンドブラスト加工法等が用いられてい
る。ところが、前記ゴム板等を用いたサンドブラスト加
工法は、作業が煩雑で作業能率が上がらない欠点があ
る。これに対し、基板表面にサンドブラスト用感光性樹
脂組成物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスク
パターンを形成するサンドブラスト加工法（以下リソグ
ラフィーによるサンドブラスト加工法という）は、作業
効率が高い上に、微細加工ができる利点を有し、例えば
金属パターンと絶縁パターンが混在する回路基板、特に
プラズマディスプレイの金属配線パターンやセラミッ
ク、蛍光体等の絶縁パターンの形成に有効である。この
リソグラフィーによるサンドブラスト加工法で使用され
るサンドブラスト用感光性組成物としては、例えば末端
にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーと
単官能エチレン不飽和化合物及び重合開始剤を含有する
感光性樹脂組成物（特開昭６０ー１０２４２号公報）、
不飽和ポリエステル、不飽和モノマー及び光重合開始剤
を含有する感光性樹脂組成物（特開昭５５−１０３５５
４号公報）、ポリビニルアルコールとジアゾ樹脂からな
る感光性樹脂組成物（特開平２−６９７５４号公報）な
どが提案されている。
ミックス、皮革、木質材等の基板の表面に図柄を形成す
る加工方法の１つとしてサンドブラスト加工法が知ら
れ、その加工法として基板の表面に、ゴム板、紙等を貼
り付け、カッター等で切り抜き、パターニングしたのち
研磨材等を吹き付けて選択的に基板を除去するサンドブ
ラスト加工法や基板表面にサンドブラスト用感光性組成
物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスクパター
ンを形成させたのち、研磨材等を吹き付けて選択的に基
板を除去するサンドブラスト加工法等が用いられてい
る。ところが、前記ゴム板等を用いたサンドブラスト加
工法は、作業が煩雑で作業能率が上がらない欠点があ
る。これに対し、基板表面にサンドブラスト用感光性樹
脂組成物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスク
パターンを形成するサンドブラスト加工法（以下リソグ
ラフィーによるサンドブラスト加工法という）は、作業
効率が高い上に、微細加工ができる利点を有し、例えば
金属パターンと絶縁パターンが混在する回路基板、特に
プラズマディスプレイの金属配線パターンやセラミッ
ク、蛍光体等の絶縁パターンの形成に有効である。この
リソグラフィーによるサンドブラスト加工法で使用され
るサンドブラスト用感光性組成物としては、例えば末端
にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーと
単官能エチレン不飽和化合物及び重合開始剤を含有する
感光性樹脂組成物（特開昭６０ー１０２４２号公報）、
不飽和ポリエステル、不飽和モノマー及び光重合開始剤
を含有する感光性樹脂組成物（特開昭５５−１０３５５
４号公報）、ポリビニルアルコールとジアゾ樹脂からな
る感光性樹脂組成物（特開平２−６９７５４号公報）な
どが提案されている。
【０００３】しかしながら、上記感光性樹脂組成物は膜
厚制御が困難である上に、感度、基板との密着性及び耐
サンドブラスト性が十分でなく、微細加工が困難であっ
た。この欠点を改善したサンドブラスト用感光性組成物
として、本出願人は末端にエチレン性不飽和基を有する
ウレタンプレポリマーを主成分とし、これにセルロース
誘導体及び重合開始剤を含有するサンドブラスト用感光
性組成物を特開平６−１６１０９８号公報で提案してい
る。前記特開平６−１６１０９８号公報記載のサンドブ
ラスト用感光性組成物は、アルカリ現像性に優れている
上に、感度、基板との密着性及びパターニング後の弾
性、柔軟性が高く、耐サンドブラスト性において従来の
ものより優れているが、微細加工を実用化できる点にお
いては未だ十分でなくより優れた特性を有するサンドブ
ラスト用感光性組成物の出現が強く望まれている。
厚制御が困難である上に、感度、基板との密着性及び耐
サンドブラスト性が十分でなく、微細加工が困難であっ
た。この欠点を改善したサンドブラスト用感光性組成物
として、本出願人は末端にエチレン性不飽和基を有する
ウレタンプレポリマーを主成分とし、これにセルロース
誘導体及び重合開始剤を含有するサンドブラスト用感光
性組成物を特開平６−１６１０９８号公報で提案してい
る。前記特開平６−１６１０９８号公報記載のサンドブ
ラスト用感光性組成物は、アルカリ現像性に優れている
上に、感度、基板との密着性及びパターニング後の弾
性、柔軟性が高く、耐サンドブラスト性において従来の
ものより優れているが、微細加工を実用化できる点にお
いては未だ十分でなくより優れた特性を有するサンドブ
ラスト用感光性組成物の出現が強く望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】こうした現状に鑑み、
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、サンドブラスト用
感光性組成物の成分としてジイソシアネート化合物と
１，４−ブタンジオールとの反応生成物を必須の構造単
位として含有する光重合可能なウレタン（メタ）アクリ
レートオリゴマーを用いることで上記欠点のない微細加
工が可能なサンドブラスト用感光性組成物が得られるこ
とを見出して本発明を完成したものである。
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、サンドブラスト用
感光性組成物の成分としてジイソシアネート化合物と
１，４−ブタンジオールとの反応生成物を必須の構造単
位として含有する光重合可能なウレタン（メタ）アクリ
レートオリゴマーを用いることで上記欠点のない微細加
工が可能なサンドブラスト用感光性組成物が得られるこ
とを見出して本発明を完成したものである。
【０００５】すなわち、本発明は、アルカリ現像性に優
れ、かつ感度、密着性及びパターニング後の弾性、柔軟
性が高く、耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや
絶縁パターンの微細加工に好適なサンドブラスト用感光
性組成物を提供することを目的とする。
れ、かつ感度、密着性及びパターニング後の弾性、柔軟
性が高く、耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや
絶縁パターンの微細加工に好適なサンドブラスト用感光
性組成物を提供することを目的とする。
【０００６】また、本発明は、上記サンドブラスト用感
光性組成物を用いた感光性フィルムを提供することを目
的とする。
光性組成物を用いた感光性フィルムを提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、少なくとも２個以上のアクリロイル基又はメタク
リロイル基を有するとともに、構造中に一般式化２
明は、少なくとも２個以上のアクリロイル基又はメタク
リロイル基を有するとともに、構造中に一般式化２
【０００８】
【化２】 で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカ
リ可溶性化合物を含有するサンドブラスト用感光性組成
物及びそれを用いた感光性フィルムに係る。
タ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカ
リ可溶性化合物を含有するサンドブラスト用感光性組成
物及びそれを用いた感光性フィルムに係る。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
サンドブラスト用感光性組成物、少なくとも２個以上の
アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するととも
に、構造中に一般式化３
サンドブラスト用感光性組成物、少なくとも２個以上の
アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するととも
に、構造中に一般式化３
【０００１０】
【化３】 で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマーを用いることを特徴とする
が、このウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーはジ
イソシアネート化合物と１，４−ブタンジオールとの反
応生成物を必須の構造単位として含有し、これにさらに
ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する（メタ）ア
クリレート化合物とを反応して得られるウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマーである。このようにジイソ
シアネート化合物と１，４−ブタンジオールとの反応生
成物を必須の構造単位として含有ことで、本発明のサン
ドブラスト用感光性組成物は、基板との密着性及び耐サ
ンドブラスト性が一段と向上し、金属配線パターンや絶
縁パターン等の微細加工、特にプラズマディスプレイの
金属配線パターンやセラミック、蛍光体等の絶縁パター
ンを正確に形成することができる。中でも、分子内にウ
レタン結合を４個有するウレタン（メタ）アクリレート
オリゴマーが好適で、それ未満のウレタン結合を有する
場合には、耐サンドブラスト性が極度に低下して好まし
くない。前記ジイソシアネート化合物としては、例えば
ジメチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシア
ネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ヘプタメチレンジイソシアネート、２，２−ジメチ
ルペンタン−１，５−ジイソシアネート、オクタメチレ
ンジイソシアネート、２，５−ジメチルヘキサン−１，
６−ジイソシアネート、２，２，４−トリメチルペンタ
ン−１，５−ジイソシアネート、ノナメチレンジイソシ
アネート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシア
ネート、デカメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート等の脂肪族又は脂環式のジイソシアネー
ト化合物を挙げることができ、これらは単独でも２種以
上組み合わせても使用することができる。また、１，４
−ブタンジオール以外のジオール化合物としては、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール等のアルキレングリコ
ール、これらのアルキレングリコールとマレイン酸、フ
マル酸、グルタル酸、アジピン酸、δ−バレロラクト
ン、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、α−
メチル−β−プ−ロピオラクトン、β−メチル−β−プ
ロピオラクトン、α−メチル−β−プロピオラクトン、
β−メチル−β−プロピオラクトン、α，α−ジメチル
−β−プロピオラクトン、β，β−ジメチル−β−プロ
ピオラクトン、ビスフェノールＡ、ヒドロキノン、ジヒ
ドロキシシクロヘキサン、ジフェニルカーボネート、ホ
スゲン、無水コハク酸等とを反応させて得られる両末端
にＯＨ基を有する化合物を挙げることができ、その単独
又は２種以上を１，４−ブタンジオールと組み合わせて
使用することができる。
タ）アクリレートオリゴマーを用いることを特徴とする
が、このウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーはジ
イソシアネート化合物と１，４−ブタンジオールとの反
応生成物を必須の構造単位として含有し、これにさらに
ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する（メタ）ア
クリレート化合物とを反応して得られるウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマーである。このようにジイソ
シアネート化合物と１，４−ブタンジオールとの反応生
成物を必須の構造単位として含有ことで、本発明のサン
ドブラスト用感光性組成物は、基板との密着性及び耐サ
ンドブラスト性が一段と向上し、金属配線パターンや絶
縁パターン等の微細加工、特にプラズマディスプレイの
金属配線パターンやセラミック、蛍光体等の絶縁パター
ンを正確に形成することができる。中でも、分子内にウ
レタン結合を４個有するウレタン（メタ）アクリレート
オリゴマーが好適で、それ未満のウレタン結合を有する
場合には、耐サンドブラスト性が極度に低下して好まし
くない。前記ジイソシアネート化合物としては、例えば
ジメチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシア
ネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ヘプタメチレンジイソシアネート、２，２−ジメチ
ルペンタン−１，５−ジイソシアネート、オクタメチレ
ンジイソシアネート、２，５−ジメチルヘキサン−１，
６−ジイソシアネート、２，２，４−トリメチルペンタ
ン−１，５−ジイソシアネート、ノナメチレンジイソシ
アネート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシア
ネート、デカメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート等の脂肪族又は脂環式のジイソシアネー
ト化合物を挙げることができ、これらは単独でも２種以
上組み合わせても使用することができる。また、１，４
−ブタンジオール以外のジオール化合物としては、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール等のアルキレングリコ
ール、これらのアルキレングリコールとマレイン酸、フ
マル酸、グルタル酸、アジピン酸、δ−バレロラクト
ン、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、α−
メチル−β−プ−ロピオラクトン、β−メチル−β−プ
ロピオラクトン、α−メチル−β−プロピオラクトン、
β−メチル−β−プロピオラクトン、α，α−ジメチル
−β−プロピオラクトン、β，β−ジメチル−β−プロ
ピオラクトン、ビスフェノールＡ、ヒドロキノン、ジヒ
ドロキシシクロヘキサン、ジフェニルカーボネート、ホ
スゲン、無水コハク酸等とを反応させて得られる両末端
にＯＨ基を有する化合物を挙げることができ、その単独
又は２種以上を１，４−ブタンジオールと組み合わせて
使用することができる。
【００１１】さらに、ヒドロキシル基又はカルボキシル
基を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例え
ばヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、エチレングリコールモノアクリレート、エチレ
ングリコールモノメタクリレート、グリセロールアクリ
レート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリト
リトールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモ
ノメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、フタル
酸モノヒドロキシエチルアクリレート、ω−カルボキシ
ポリカプロラクトンモノアクリレート等を挙げることが
でき、その単独又は２種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。
基を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例え
ばヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、エチレングリコールモノアクリレート、エチレ
ングリコールモノメタクリレート、グリセロールアクリ
レート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリト
リトールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモ
ノメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、フタル
酸モノヒドロキシエチルアクリレート、ω−カルボキシ
ポリカプロラクトンモノアクリレート等を挙げることが
でき、その単独又は２種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。
【００１２】上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴ
マーの平均分子量は１０００〜３００００の範囲が好ま
しい。平均分子量が１０００未満では硬化後の被膜の結
合力が大きくなり硬度が増し、耐サンドブラスト性が低
下する。また平均分子量が３００００を超えると粘度が
上昇し塗膜性が悪くなり、作業性が悪化する上に、電気
絶縁抵抗値も上昇し好ましくない。
マーの平均分子量は１０００〜３００００の範囲が好ま
しい。平均分子量が１０００未満では硬化後の被膜の結
合力が大きくなり硬度が増し、耐サンドブラスト性が低
下する。また平均分子量が３００００を超えると粘度が
上昇し塗膜性が悪くなり、作業性が悪化する上に、電気
絶縁抵抗値も上昇し好ましくない。
【００１３】本発明のサンドブラスト用感光性組成物
は、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーに加
えてアルカリ可溶性化合物を含有する。このアルカリ可
溶性化合物としては、例えばヒドロキシプロピルセルロ
ース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロースアセテートフタレートなどのセル
ロース誘導体、アクリル酸又はメタクリル酸共重合体、
この場合共重合体の共重合成分としては、フマル酸、マ
レイン酸、クロトン酸、ケイ皮酸、アクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アク
リル酸イソブチル、メタクリル酸イソブチル、フマル酸
モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピ
ル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノプロピル、ソルビン酸、ヒドロキシメチル
アクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
メタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレン
グリコールモノアクリレート、エチレングリコールモノ
メタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロ
ールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノアク
リレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレー
ト、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、メタク
リル酸ジメチルアミノエチルエステル、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル等を挙げることが
できる。これらのアルカリ可溶性化合物の含有量はウレ
タン（メタ）アクリレートオリゴマー１００重量部に対
して１０〜１００重量部の範囲が好ましい。
は、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーに加
えてアルカリ可溶性化合物を含有する。このアルカリ可
溶性化合物としては、例えばヒドロキシプロピルセルロ
ース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロースアセテートフタレートなどのセル
ロース誘導体、アクリル酸又はメタクリル酸共重合体、
この場合共重合体の共重合成分としては、フマル酸、マ
レイン酸、クロトン酸、ケイ皮酸、アクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アク
リル酸イソブチル、メタクリル酸イソブチル、フマル酸
モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピ
ル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノプロピル、ソルビン酸、ヒドロキシメチル
アクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
メタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレン
グリコールモノアクリレート、エチレングリコールモノ
メタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロ
ールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノアク
リレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレー
ト、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、メタク
リル酸ジメチルアミノエチルエステル、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル等を挙げることが
できる。これらのアルカリ可溶性化合物の含有量はウレ
タン（メタ）アクリレートオリゴマー１００重量部に対
して１０〜１００重量部の範囲が好ましい。
【００１４】さらに、本発明のサンドブラスト用感光性
組成物は光重合開始剤を含有するが、該光重合開始剤と
しては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−
１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モリフォリノ
フェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］
−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オ
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオ
キサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、３，３
−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェ
ノン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、１
−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２
−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェ
ニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィ
ド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ
安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、
４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミ
ノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４−ジメチルアミノ
安息香酸−２−イソアミル、２，２−ジエトキシアセト
フェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−
メトキシエチルアセタール、１−フェニル−１，２−プ
ロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−ジメチ
ルアミノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエチルア
ミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノ
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテル、ｐ−ジメチルアミノアセトフ
ェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノ
ン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジロロアセトフェノン、チオ
キサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロ
ピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α，α−ジク
ロロ−４−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−４−
ジメチルアミノベンゾエート等を挙げることができる。
この光重合開始剤は単独でも又は２種以上を混合して用
いることができ、その含有量は感光性組成物固形分１０
０重量部中に、０．１〜２０重量部の範囲が好ましい。
組成物は光重合開始剤を含有するが、該光重合開始剤と
しては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−
１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モリフォリノ
フェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］
−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オ
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオ
キサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、３，３
−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェ
ノン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、１
−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２
−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェ
ニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィ
ド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ
安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、
４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミ
ノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４−ジメチルアミノ
安息香酸−２−イソアミル、２，２−ジエトキシアセト
フェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−
メトキシエチルアセタール、１−フェニル−１，２−プ
ロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−ジメチ
ルアミノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエチルア
ミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノ
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテル、ｐ−ジメチルアミノアセトフ
ェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノ
ン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジロロアセトフェノン、チオ
キサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロ
ピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α，α−ジク
ロロ−４−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−４−
ジメチルアミノベンゾエート等を挙げることができる。
この光重合開始剤は単独でも又は２種以上を混合して用
いることができ、その含有量は感光性組成物固形分１０
０重量部中に、０．１〜２０重量部の範囲が好ましい。
【００１５】本発明のサンドブラスト用感光性組成物
は、感度を向上させ、現像時の膜減りや膨潤を防ぐため
必要に応じてアクリル酸、メタクリル酸、２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、エチレングリコールモノメチル
エーテルアクリレートなどのアクリル系単官能モノマー
やトリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメ
チロールプロパンテトラアクリレートなどのアクリル系
多官能モノマーなどの光重合性単量体を含有することが
できる。これらの光重合性単量体は、ウレタン（メタ）
アクリレートオリゴマー１００重量部に対し、２０重量
部を超えない範囲で配合するのが良い。
は、感度を向上させ、現像時の膜減りや膨潤を防ぐため
必要に応じてアクリル酸、メタクリル酸、２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、エチレングリコールモノメチル
エーテルアクリレートなどのアクリル系単官能モノマー
やトリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメ
チロールプロパンテトラアクリレートなどのアクリル系
多官能モノマーなどの光重合性単量体を含有することが
できる。これらの光重合性単量体は、ウレタン（メタ）
アクリレートオリゴマー１００重量部に対し、２０重量
部を超えない範囲で配合するのが良い。
【００１６】本発明のサンドブラスト用感光性組成物の
使用に当っては、該組成物を有機溶剤に溶解して使用す
るが、かかる有機溶剤としては、例えばエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
２−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルア
セテート、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル
−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メ
トキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブ
チルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−
エトキシブチルアセテート等を挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。
使用に当っては、該組成物を有機溶剤に溶解して使用す
るが、かかる有機溶剤としては、例えばエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
２−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルア
セテート、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル
−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メ
トキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブ
チルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−
エトキシブチルアセテート等を挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。
【００１７】本発明のサンドブラスト用感光性組成物は
用途に応じて、液状のまま基板の上に塗布するか、又は
基板の上にスクリーン印刷するか等の方法で適用される
が、特に電子部品の製造等精密加工を必要とする場合に
はこのサンドブラスト用感光性組成物を可撓性フィルム
上に塗布、乾燥して形成した感光性フィルムを用いるの
がよい。
用途に応じて、液状のまま基板の上に塗布するか、又は
基板の上にスクリーン印刷するか等の方法で適用される
が、特に電子部品の製造等精密加工を必要とする場合に
はこのサンドブラスト用感光性組成物を可撓性フィルム
上に塗布、乾燥して形成した感光性フィルムを用いるの
がよい。
【００１８】上記感光性フィルムは、例えば膜厚１５〜
１２５μｍのポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ル等の合成樹脂フィルムからなる可撓性フィルムに、溶
剤に溶解したサンドブラスト用感光性樹脂組成物溶液を
アプリケーター、バーコーター、ロールコーター、カー
テンフローコーター等を用いて乾燥膜厚１０〜１００μ
ｍとなるように塗布し、乾燥することで形成できる。ま
た必要に応じて、未使用時に感光性組成物層を安定に保
護するため離型フィルムを貼着するのもよい。この離型
フィルムとしては、シリコーンをコーティングまたは焼
き付けした厚さ１５〜１２５μｍ程度のポリエチレンテ
レフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプ
ロピレンフィルム等が好適に使用できる。
１２５μｍのポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ル等の合成樹脂フィルムからなる可撓性フィルムに、溶
剤に溶解したサンドブラスト用感光性樹脂組成物溶液を
アプリケーター、バーコーター、ロールコーター、カー
テンフローコーター等を用いて乾燥膜厚１０〜１００μ
ｍとなるように塗布し、乾燥することで形成できる。ま
た必要に応じて、未使用時に感光性組成物層を安定に保
護するため離型フィルムを貼着するのもよい。この離型
フィルムとしては、シリコーンをコーティングまたは焼
き付けした厚さ１５〜１２５μｍ程度のポリエチレンテ
レフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプ
ロピレンフィルム等が好適に使用できる。
【００１９】上記感光性フィルムにおいて、酸素減感作
用を防ぐとともに、露光時に密着されるマスクパターン
の粘着防止のため、可撓性フィルムと感光性樹脂組成物
層との間に水溶性樹脂層を設けることができる。前記水
溶性樹脂層としては、ポリビニルアルコール又は部分け
ん化ポリ酢酸ビニルの水溶性ポリマーの５〜２０重量％
水溶液を乾燥膜厚１〜１０μｍに塗布、乾燥した層がよ
い。
用を防ぐとともに、露光時に密着されるマスクパターン
の粘着防止のため、可撓性フィルムと感光性樹脂組成物
層との間に水溶性樹脂層を設けることができる。前記水
溶性樹脂層としては、ポリビニルアルコール又は部分け
ん化ポリ酢酸ビニルの水溶性ポリマーの５〜２０重量％
水溶液を乾燥膜厚１〜１０μｍに塗布、乾燥した層がよ
い。
【００２０】上記感光性フィルムの使用方法の１例を示
すと、上記製造方法で得られた感光性フィルムの離型フ
ィルムを剥がし、露出した感光性組成物層を基板上に密
着させたのち、可撓性フィルムを剥がし、その露出面に
所定のマスクパターンを備えたマスクを密着させ、その
上から露光光線を照射する。前記感光性組成物層の基板
上への密着に際しては基板を予め加熱しておき、この上
に感光性フィルムを置いて押圧する、いわゆる熱圧着方
式を採るのがよい。また、露光光線としては紫外線の他
にエキシマレーザ、Ｘ線、電子線等が挙げられ、低圧水
銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ等が
使用できる。前記露光光線の照射後、マスクパターンを
取り去り、汎用のアルカリ現像液を用いて現像処理を施
し、未照射部を溶解除去してパターンを形成する。使用
する現像液のアルカリ成分としては、リチウム、ナトリ
ウム、カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、炭酸
塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミ
ン、ブチルアミンなどの第１級アミン、ジメチルアミ
ン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミン等の第２級
アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエ
タノールアミン等の第３級アミン、モルホリン、ピペラ
ジン、ピリジンなどの環状アミン、エチレンジアミン、
ヘキサンメチルジアミンなどのポリアミン、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウ
ムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒ
ドロキシドなどのアンモニウムヒドロキシド類、トリメ
チルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホ
ニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒ
ドロキシドなどのスルホニウムヒドロキシド類、その他
コリン、ケイ酸塩含有緩衝液などが挙げられる。
すと、上記製造方法で得られた感光性フィルムの離型フ
ィルムを剥がし、露出した感光性組成物層を基板上に密
着させたのち、可撓性フィルムを剥がし、その露出面に
所定のマスクパターンを備えたマスクを密着させ、その
上から露光光線を照射する。前記感光性組成物層の基板
上への密着に際しては基板を予め加熱しておき、この上
に感光性フィルムを置いて押圧する、いわゆる熱圧着方
式を採るのがよい。また、露光光線としては紫外線の他
にエキシマレーザ、Ｘ線、電子線等が挙げられ、低圧水
銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ等が
使用できる。前記露光光線の照射後、マスクパターンを
取り去り、汎用のアルカリ現像液を用いて現像処理を施
し、未照射部を溶解除去してパターンを形成する。使用
する現像液のアルカリ成分としては、リチウム、ナトリ
ウム、カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、炭酸
塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミ
ン、ブチルアミンなどの第１級アミン、ジメチルアミ
ン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミン等の第２級
アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエ
タノールアミン等の第３級アミン、モルホリン、ピペラ
ジン、ピリジンなどの環状アミン、エチレンジアミン、
ヘキサンメチルジアミンなどのポリアミン、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウ
ムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒ
ドロキシドなどのアンモニウムヒドロキシド類、トリメ
チルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホ
ニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒ
ドロキシドなどのスルホニウムヒドロキシド類、その他
コリン、ケイ酸塩含有緩衝液などが挙げられる。
【００２１】次いで、現像処理した基板にブラスト材を
吹き付け研磨して所望のパターンに形成する。使用する
ブラスト材としては、２〜５００μｍのガラスビーズ、
ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯなどの無機微
粒子等が好適である。
吹き付け研磨して所望のパターンに形成する。使用する
ブラスト材としては、２〜５００μｍのガラスビーズ、
ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯなどの無機微
粒子等が好適である。
【００２２】
【発明の実施の形態】次に実施例に基づいて本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
【００２３】実施例 ジイソシアネート化合物と１，４−ブタンジオールとの
反応生成物を構造単位として有するカルボキシル基含有
ウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製、商品名
「ＵＶ−９５１０ＥＡ」；重量平均分子量１万、酸価２
０、酢酸エチルの２０重量％溶液）５０重量部に、ヒド
ロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチ
ルエチルケトン２５重量％溶液（信越化学工業社製、商
品名「ＨＰＭＣＡＰ」）６０重量部を混合し、さらに
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミ
ニウム塩０．００５重量部 マラカイトグリーン（保土
谷化学社製）０．１重量部及びメチルエチルケトン２０
重量部を加えてかきまぜ、サンドブラスト用感光性組成
物を調製した。
反応生成物を構造単位として有するカルボキシル基含有
ウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製、商品名
「ＵＶ−９５１０ＥＡ」；重量平均分子量１万、酸価２
０、酢酸エチルの２０重量％溶液）５０重量部に、ヒド
ロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチ
ルエチルケトン２５重量％溶液（信越化学工業社製、商
品名「ＨＰＭＣＡＰ」）６０重量部を混合し、さらに
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミ
ニウム塩０．００５重量部 マラカイトグリーン（保土
谷化学社製）０．１重量部及びメチルエチルケトン２０
重量部を加えてかきまぜ、サンドブラスト用感光性組成
物を調製した。
【００２４】得られたサンドブラスト用感光性組成物溶
液を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように、２０μｍ厚
のポリエチレンテレフタレートフィルム（以下ＰＥＴフ
ィルムという）上にアプリケーターを用いて塗布、乾燥
して感光性組成物層を形成した。次いで前記感光性組成
物層の上に２０μｍのポリエチレンフィルムを気泡が残
らないようにゴムローラーで被着して感光性フィルムを
作成した。この感光性フィルムのポリエチレンフィルム
を剥がし、表出した感光性組成物層を８０℃に暖めたガ
ラス面にゴムローラーを用いてラミネートし、ＰＥＴフ
ィルムを剥がし、試験用パターンマスクを密着させたの
ち、超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で
紫外線露光を行った。続いて液温３０℃の０．２％炭酸
ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ2の噴射圧
で、３０秒間のスプレー現像を行いパターンを形成し
た。
液を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように、２０μｍ厚
のポリエチレンテレフタレートフィルム（以下ＰＥＴフ
ィルムという）上にアプリケーターを用いて塗布、乾燥
して感光性組成物層を形成した。次いで前記感光性組成
物層の上に２０μｍのポリエチレンフィルムを気泡が残
らないようにゴムローラーで被着して感光性フィルムを
作成した。この感光性フィルムのポリエチレンフィルム
を剥がし、表出した感光性組成物層を８０℃に暖めたガ
ラス面にゴムローラーを用いてラミネートし、ＰＥＴフ
ィルムを剥がし、試験用パターンマスクを密着させたの
ち、超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で
紫外線露光を行った。続いて液温３０℃の０．２％炭酸
ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ2の噴射圧
で、３０秒間のスプレー現像を行いパターンを形成し
た。
【００２５】得られたパターンについて密着性を評価し
たところ、残ったパターンの最小線幅は２５μｍであっ
た。また、ストファ２１段ステップタブレットによる感
度測定をしたところ、６段であった。
たところ、残ったパターンの最小線幅は２５μｍであっ
た。また、ストファ２１段ステップタブレットによる感
度測定をしたところ、６段であった。
【００２６】次に、耐サンドブラスト性を評価するた
め、感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、
表出した感光性組成物層を８０℃に暖めたガラス面にゴ
ムローラーを用いてラミネートしたのちＰＥＴフィルム
を剥がして感光性組成物層を露出させ、２００ｍＪ／ｃ
ｍで全面露光し、これをガラスビーズ＃８００（不二製
作所社製）研磨材を使用して、ノズル距離８０ｍｍ、ブ
ラスト圧２ｋｇ／ｃｍ2でサンドブラストして感光性組
成物層が摩耗して消失するまでの時間を測定した。その
結果は２００秒であった。
め、感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、
表出した感光性組成物層を８０℃に暖めたガラス面にゴ
ムローラーを用いてラミネートしたのちＰＥＴフィルム
を剥がして感光性組成物層を露出させ、２００ｍＪ／ｃ
ｍで全面露光し、これをガラスビーズ＃８００（不二製
作所社製）研磨材を使用して、ノズル距離８０ｍｍ、ブ
ラスト圧２ｋｇ／ｃｍ2でサンドブラストして感光性組
成物層が摩耗して消失するまでの時間を測定した。その
結果は２００秒であった。
【００２７】比較例 ジイソシアネート化合物とエチレングリコール及びネオ
ペンチルグリコールとの反応生成物を構造単位として有
するカルボキシル基含有ウレタンアクリレート（日本合
成化学工業社製、商品名「ＵＶ−９５３２ＥＡ」；重量
平均分子量１万、酸価２２、酢酸エチルの２０重量％溶
液）５０重量部に、ヒドロキシプロピルセルロースアセ
テートフタレートのメチルエチルケトン２５重量％溶液
６０重量部を混合し、さらに２，２−ジメトキシ−２−
フェニルアセトフェノン１重量部、Ｎ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩０．００５重量
部、マラカイトグリーン０．１重量部及びメチルエチル
ケトン２０重量部を加えてかきまぜ、サンドブラスト用
感光性組成物を調製した。
ペンチルグリコールとの反応生成物を構造単位として有
するカルボキシル基含有ウレタンアクリレート（日本合
成化学工業社製、商品名「ＵＶ−９５３２ＥＡ」；重量
平均分子量１万、酸価２２、酢酸エチルの２０重量％溶
液）５０重量部に、ヒドロキシプロピルセルロースアセ
テートフタレートのメチルエチルケトン２５重量％溶液
６０重量部を混合し、さらに２，２−ジメトキシ−２−
フェニルアセトフェノン１重量部、Ｎ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩０．００５重量
部、マラカイトグリーン０．１重量部及びメチルエチル
ケトン２０重量部を加えてかきまぜ、サンドブラスト用
感光性組成物を調製した。
【００２８】得られたサンドブラスト用感光性組成物溶
液を用いて、実施例と同様に感光性フィルムを作成し、
実施例と同様にしてパターンを形成した。得られたパタ
ーンについて密着性を評価したところ、残ったパターン
の最小線幅は３５μｍであった。また、ストファ２１段
ステップタブレットによる感度測定をしたところ、６段
であった。
液を用いて、実施例と同様に感光性フィルムを作成し、
実施例と同様にしてパターンを形成した。得られたパタ
ーンについて密着性を評価したところ、残ったパターン
の最小線幅は３５μｍであった。また、ストファ２１段
ステップタブレットによる感度測定をしたところ、６段
であった。
【００２９】次に、耐サンドブラスト性を実施例と同様
に評価したところ、サンドブラストによって、この感光
性組成物層が摩耗して消失するまでの時間は９０秒であ
った。
に評価したところ、サンドブラストによって、この感光
性組成物層が摩耗して消失するまでの時間は９０秒であ
った。
【００３０】
【発明の効果】本発明のサンドブラスト用感光性組成物
は、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性及びパタ
ーニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性に
優れ、金属パターンや絶縁パターン等の微細加工に好適
である。特にこのサンドブラスト用感光性組成物を積層
して得た感光性フィルムは、位置合わせが容易であると
ころから電子部品等の超微細加工に好ましく使用され
る。
は、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性及びパタ
ーニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性に
優れ、金属パターンや絶縁パターン等の微細加工に好適
である。特にこのサンドブラスト用感光性組成物を積層
して得た感光性フィルムは、位置合わせが容易であると
ころから電子部品等の超微細加工に好ましく使用され
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ 175/16 175/16 Ｇ０３Ｆ 7/40 ５２１ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５２１ (72)発明者 中里 俊二 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 (72)発明者 帯谷 洋之 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】少なくとも２個以上のアクリロイル基又は
メタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化
１ 【０００６】 【化１】 で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカ
リ可溶性化合物を含有することを特徴とするサンドブラ
スト用感光性組成物。 - 【請求項２】ジイソシアネート化合物と１，４−ブタン
ジオールを必須成分とするジオール化合物との反応生成
物に、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する（メ
タ）アクリレート化合物を反応させて得たウレタン（メ
タ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカ
リ可溶性化合物を含有することを特徴とするサンドブラ
スト用感光性組成物。 - 【請求項３】アルカリ可溶性化合物が、セルロース誘導
体であることを特徴とする請求項１又は２記載のサンド
ブラスト用感光性組成物。 - 【請求項４】可撓性フィルム上に請求項１又は２記載の
サンドブラスト用感光性組成物層を設け、その上に離型
フィルムを積層したことを特徴とするサンドブラスト用
感光性フィルム。
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| JP24655198A JP2000066391A (ja) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
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| JP24655198A JP2000066391A (ja) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
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- 1998-08-17 JP JP24655198A patent/JP2000066391A/ja active Pending
-
1999
- 1999-08-13 US US09/374,162 patent/US6322947B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-08-13 KR KR1019990033270A patent/KR100584793B1/ko not_active IP Right Cessation
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- 1999-08-17 CN CNB991181050A patent/CN100380232C/zh not_active Expired - Fee Related
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