JP2002148802A - サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム - Google Patents
サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルムInfo
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- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Abstract
(57)【要約】
【課題】安価で、アルカリ現像性に優れ、かつ感度もよ
く、その上密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性が
高く耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや絶縁パ
ターンの微細加工に好適なサンドブラスト用感光性組成
物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。 【解決手段】（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する光
重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、
（Ｂ）アクリル系共重合体及び（Ｃ）光重合開始剤を含
有する感光性組成物において、前記（Ｂ）アクリル系共
重合体が、ベンゼン環又はシクロヘキシル環をもつ共重
合可能なモノマーから選ばれる少なくとも１種をモノマ
ー単位として含むアクリル系共重合体であることを特徴
とするサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた
感光性フィルム。
く、その上密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性が
高く耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや絶縁パ
ターンの微細加工に好適なサンドブラスト用感光性組成
物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。 【解決手段】（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する光
重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、
（Ｂ）アクリル系共重合体及び（Ｃ）光重合開始剤を含
有する感光性組成物において、前記（Ｂ）アクリル系共
重合体が、ベンゼン環又はシクロヘキシル環をもつ共重
合可能なモノマーから選ばれる少なくとも１種をモノマ
ー単位として含むアクリル系共重合体であることを特徴
とするサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた
感光性フィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なサンドブラ
スト用感光性組成物、さらに詳しくは、安価で、アルカ
リ現像性に優れ、かつ感度、基板との密着性及びパター
ニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性に優
れ、微細加工が容易なサンドブラスト用感光性組成物及
びそれを用いた感光性フィルムに関する。
スト用感光性組成物、さらに詳しくは、安価で、アルカ
リ現像性に優れ、かつ感度、基板との密着性及びパター
ニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性に優
れ、微細加工が容易なサンドブラスト用感光性組成物及
びそれを用いた感光性フィルムに関する。
【０００２】従来、ガラス、石材、プラスチック、セラ
ミックス、皮革、木質材等の基板の表面に図柄を形成す
る加工方法の１つとしてサンドブラスト加工法が知られ
ている。サンドブラスト加工法とは基板の表面に、ゴム
板、紙等を貼り付け、切り抜き、パターニングしたのち
研磨材等を吹き付けて選択的に基板を切削する加工法で
あるが、この中でも基板表面にサンドブラスト用感光性
組成物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスクパ
ターンを形成させたのち、研磨材等を吹き付けて選択的
に基板を切削するサンドブラスト加工法（以下ホトリソ
グラフィーによるサンドブラスト加工法という）は作業
効率が高い上に、微細加工ができる利点を有し、例えば
金属パターンと絶縁パターンが混在する回路基板、特に
プラズマディスプレイの金属配線パターンやセラミッ
ク、蛍光体等の絶縁パターンの形成に有効である。
ミックス、皮革、木質材等の基板の表面に図柄を形成す
る加工方法の１つとしてサンドブラスト加工法が知られ
ている。サンドブラスト加工法とは基板の表面に、ゴム
板、紙等を貼り付け、切り抜き、パターニングしたのち
研磨材等を吹き付けて選択的に基板を切削する加工法で
あるが、この中でも基板表面にサンドブラスト用感光性
組成物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスクパ
ターンを形成させたのち、研磨材等を吹き付けて選択的
に基板を切削するサンドブラスト加工法（以下ホトリソ
グラフィーによるサンドブラスト加工法という）は作業
効率が高い上に、微細加工ができる利点を有し、例えば
金属パターンと絶縁パターンが混在する回路基板、特に
プラズマディスプレイの金属配線パターンやセラミッ
ク、蛍光体等の絶縁パターンの形成に有効である。
【０００３】このリソグラフィーによるサンドブラスト
加工法で使用されるサンドブラスト用感光性組成物とし
ては、例えば末端にエチレン性不飽和基を有するウレタ
ンプレポリマーと単官能エチレン性不飽和化合物及び重
合開始剤を含有する感光性組成物（特開昭６０ー１０２
４２号公報）、不飽和ポリエステル、不飽和モノマー及
び光重合開始剤を含有する感光性組成物（特開昭５５−
１０３５５４号公報）、ポリビニルアルコールとジアゾ
樹脂からなる感光性組成物（特開平２−６９７５４号公
報）などが提案されている。しかしながら、前記感光性
組成物は膜厚制御が困難である上に、感度、基板との密
着性及び耐サンドブラスト性が十分でなく、微細加工が
困難であった。
加工法で使用されるサンドブラスト用感光性組成物とし
ては、例えば末端にエチレン性不飽和基を有するウレタ
ンプレポリマーと単官能エチレン性不飽和化合物及び重
合開始剤を含有する感光性組成物（特開昭６０ー１０２
４２号公報）、不飽和ポリエステル、不飽和モノマー及
び光重合開始剤を含有する感光性組成物（特開昭５５−
１０３５５４号公報）、ポリビニルアルコールとジアゾ
樹脂からなる感光性組成物（特開平２−６９７５４号公
報）などが提案されている。しかしながら、前記感光性
組成物は膜厚制御が困難である上に、感度、基板との密
着性及び耐サンドブラスト性が十分でなく、微細加工が
困難であった。
【０００４】上記欠点を改善したサンドブラスト用感光
性組成物として、本出願人は先に末端にエチレン性不飽
和基を有するウレタンオリゴマーを主成分とし、これに
セルロース誘導体及び重合開始剤を含有するサンドブラ
スト用感光性組成物を特開平６−１６１０９８号公報で
提案している。この特開平６−１６１０９８号公報記載
のサンドブラスト用感光性組成物は、アルカリ現像性に
優れている上に、感度、基板との密着性及びパターニン
グ後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性において
従来のものより優れているが、微細加工を実用化できる
点においては未だ十分なものではなかった。その上、ベ
ース樹脂として用いるセルロース樹脂が高価であり、感
光性組成物のコストを高くすることから、より安価なア
クリル樹脂を用い実用化が可能な感光性組成物の開発を
図ったが、アクリル樹脂がウレタンオリゴマー、特にポ
リエーテル構造単位を有するウレタンオリゴマーと相溶
性が悪く、良好なパターンを形成することが困難であっ
た。
性組成物として、本出願人は先に末端にエチレン性不飽
和基を有するウレタンオリゴマーを主成分とし、これに
セルロース誘導体及び重合開始剤を含有するサンドブラ
スト用感光性組成物を特開平６−１６１０９８号公報で
提案している。この特開平６−１６１０９８号公報記載
のサンドブラスト用感光性組成物は、アルカリ現像性に
優れている上に、感度、基板との密着性及びパターニン
グ後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性において
従来のものより優れているが、微細加工を実用化できる
点においては未だ十分なものではなかった。その上、ベ
ース樹脂として用いるセルロース樹脂が高価であり、感
光性組成物のコストを高くすることから、より安価なア
クリル樹脂を用い実用化が可能な感光性組成物の開発を
図ったが、アクリル樹脂がウレタンオリゴマー、特にポ
リエーテル構造単位を有するウレタンオリゴマーと相溶
性が悪く、良好なパターンを形成することが困難であっ
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】こうした現状に鑑み、
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、サンドブラスト用
感光性組成物の成分としてベンゼン環又はシクロヘキシ
ル環をもつ共重合可能なモノマーから選ばれる少なくと
も１種をモノマー単位として含むアクリル系共重合体を
用いることでウレタンオリゴマー、特にポリエーテル構
造単位を有するウレタンオリゴマーとの相溶性が改善さ
れ、安価で、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性
及びパターニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラ
スト性に優れるサンドブラスト用感光性組成物が得られ
ることを見出し、本発明を完成したものである。すなわ
ち、
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、サンドブラスト用
感光性組成物の成分としてベンゼン環又はシクロヘキシ
ル環をもつ共重合可能なモノマーから選ばれる少なくと
も１種をモノマー単位として含むアクリル系共重合体を
用いることでウレタンオリゴマー、特にポリエーテル構
造単位を有するウレタンオリゴマーとの相溶性が改善さ
れ、安価で、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性
及びパターニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラ
スト性に優れるサンドブラスト用感光性組成物が得られ
ることを見出し、本発明を完成したものである。すなわ
ち、
【０００６】本発明は、安価で、アルカリ現像性に優
れ、かつ感度、密着性及びパターニング後の弾性、柔軟
性が高く耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや絶
縁パターンの微細加工を好適に行えるサンドブラスト用
感光性組成物を提供することを目的とする。
れ、かつ感度、密着性及びパターニング後の弾性、柔軟
性が高く耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや絶
縁パターンの微細加工を好適に行えるサンドブラスト用
感光性組成物を提供することを目的とする。
【０００７】また、本発明は、上記サンドブラスト用感
光性組成物を用いた感光性フィルムを提供することを目
的とする。
光性組成物を用いた感光性フィルムを提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明は、（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合
可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、
（Ｂ）アクリル系共重合体及び（Ｃ）光重合開始剤を含
有する感光性組成物において、前記（Ｂ）アクリル系共
重合体が、ベンゼン環又はシクロヘキシル環をもつ共重
合可能なモノマーから選ばれる少なくとも１種をモノマ
ー単位として含むアクリル系共重合体であることを特徴
とするサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた
感光性フィルムに係る。
発明は、（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合
可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、
（Ｂ）アクリル系共重合体及び（Ｃ）光重合開始剤を含
有する感光性組成物において、前記（Ｂ）アクリル系共
重合体が、ベンゼン環又はシクロヘキシル環をもつ共重
合可能なモノマーから選ばれる少なくとも１種をモノマ
ー単位として含むアクリル系共重合体であることを特徴
とするサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた
感光性フィルムに係る。
【０００９】以下に、本発明を詳細に説明する。 （ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー）本発明
は、上述のとおり（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有す
る光重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマ
ー（以下、（Ａ）成分という）を含有するが、このウレ
タン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、ジオール化
合物とジイソシアネート化合物とが反応して得た末端に
イソシアネート基（−ＮＣＯ基）を有する化合物に、さ
らにヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するアクリ
レート化合物又はメタクリレート化合物を反応した反応
生成物をいう。ここで、ジオール化合物とジイソシアネ
ート化合物との反応生成物はウレタン結合により複数個
が連なったものを包含する。サンドブラスト用感光性組
成物に適用する（Ａ）成分としては露光硬化後の弾性が
必要であることから、その弾性を維持できる範囲で分子
内にウレタン結合を４個以上有する（Ａ）成分が好まし
く、ウレタン結合が４個未満では、耐サンドブラスト性
が極度に低下して好ましくない。
は、上述のとおり（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有す
る光重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマ
ー（以下、（Ａ）成分という）を含有するが、このウレ
タン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、ジオール化
合物とジイソシアネート化合物とが反応して得た末端に
イソシアネート基（−ＮＣＯ基）を有する化合物に、さ
らにヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するアクリ
レート化合物又はメタクリレート化合物を反応した反応
生成物をいう。ここで、ジオール化合物とジイソシアネ
ート化合物との反応生成物はウレタン結合により複数個
が連なったものを包含する。サンドブラスト用感光性組
成物に適用する（Ａ）成分としては露光硬化後の弾性が
必要であることから、その弾性を維持できる範囲で分子
内にウレタン結合を４個以上有する（Ａ）成分が好まし
く、ウレタン結合が４個未満では、耐サンドブラスト性
が極度に低下して好ましくない。
【００１０】上記（Ａ）成分を形成するジオール化合物
としては、末端に水酸基を有するポリエステル類、ポリ
エーテル類等が挙げられる。これらのジオール化合物に
は例えば、ラクトン類が開環重合したポリエステル類、
ポリカーボネート類、アルキレングリコールまたはその
ポリマーとジカルボン酸との縮合反応で得られたジオー
ル化合物等が挙げられる。前記ラクトン類としては、具
体的にδ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、β−
プロピオラクトン、α−メチル−β−プロピオラクト
ン、β−メチル−β−プロピオラクトン、α−メチル−
β−プロピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラク
トン、α，α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β，
β−ジメチル−β−プロピオラクトン等が挙げられる。
また、ポリカーボネート類としては、具体的にビスフェ
ノールＡ、ヒドロキノン、ジヒドロキシシクロヘキサン
等のジオールと、ジフェニルカーボネート、ホスゲン、
無水コハク酸等のカルボニル化合物との反応生成物が挙
げられる。さらに、アルキレングリコールとしては、例
えば具体的にエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール等が
挙げられ、そのポリマーとしては前記アルキレングリコ
ール単独または二種以上が付加重合したポリマーが挙げ
られる。このアルキレングリコールまたはそのポリマー
と反応するジカルボン酸としては、例えば具体的にマレ
イン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸等を挙げる
ことができる。ポリエーテル類としては、具体的にポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコール、ポリペンタメチレングリコ
ール等を挙げることができる。前記ポリエステル及びポ
リエーテルの構成成分として２，２−ビス（ヒドロキシ
メチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシ
エチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシ
プロピル）プロピオン酸、特に２，２−ビス（ヒドロキ
シメチル）プロピオン酸を有するとアルカリ溶液に対す
る溶解性に優れたウレタンオリゴマーが合成でき好まし
い。特に（ポリ）アルキレングリコールモノマー単位を
有するジオールがウレタンオリゴマーの強度を向上せし
めることから好適である。前記ポリエステル類又はポリ
エーテル類は単独でも又２種以上の混合物でも使用でき
る。
としては、末端に水酸基を有するポリエステル類、ポリ
エーテル類等が挙げられる。これらのジオール化合物に
は例えば、ラクトン類が開環重合したポリエステル類、
ポリカーボネート類、アルキレングリコールまたはその
ポリマーとジカルボン酸との縮合反応で得られたジオー
ル化合物等が挙げられる。前記ラクトン類としては、具
体的にδ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、β−
プロピオラクトン、α−メチル−β−プロピオラクト
ン、β−メチル−β−プロピオラクトン、α−メチル−
β−プロピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラク
トン、α，α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β，
β−ジメチル−β−プロピオラクトン等が挙げられる。
また、ポリカーボネート類としては、具体的にビスフェ
ノールＡ、ヒドロキノン、ジヒドロキシシクロヘキサン
等のジオールと、ジフェニルカーボネート、ホスゲン、
無水コハク酸等のカルボニル化合物との反応生成物が挙
げられる。さらに、アルキレングリコールとしては、例
えば具体的にエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール等が
挙げられ、そのポリマーとしては前記アルキレングリコ
ール単独または二種以上が付加重合したポリマーが挙げ
られる。このアルキレングリコールまたはそのポリマー
と反応するジカルボン酸としては、例えば具体的にマレ
イン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸等を挙げる
ことができる。ポリエーテル類としては、具体的にポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコール、ポリペンタメチレングリコ
ール等を挙げることができる。前記ポリエステル及びポ
リエーテルの構成成分として２，２−ビス（ヒドロキシ
メチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシ
エチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシ
プロピル）プロピオン酸、特に２，２−ビス（ヒドロキ
シメチル）プロピオン酸を有するとアルカリ溶液に対す
る溶解性に優れたウレタンオリゴマーが合成でき好まし
い。特に（ポリ）アルキレングリコールモノマー単位を
有するジオールがウレタンオリゴマーの強度を向上せし
めることから好適である。前記ポリエステル類又はポリ
エーテル類は単独でも又２種以上の混合物でも使用でき
る。
【００１１】また、上記ジオール化合物と反応するジイ
ソシアネート化合物としては、具体的にジメチレンジイ
ソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラ
メチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチ
レンジイソシアネート、２，２−ジメチルペンタン−
１，５−ジイソシアネート、オクタメチレンジイソシア
ネート、２，５−ジメチルヘキサン−１，６−ジイソシ
アネート、２，２，４−トリメチルペンタン−１，５−
ジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、
２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアネート、デ
カメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等の脂肪族又は脂環式のジイソシアネート化合物を
挙げることができ、その化合物の単独又は２種以上の混
合物が使用できる。
ソシアネート化合物としては、具体的にジメチレンジイ
ソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラ
メチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチ
レンジイソシアネート、２，２−ジメチルペンタン−
１，５−ジイソシアネート、オクタメチレンジイソシア
ネート、２，５−ジメチルヘキサン−１，６−ジイソシ
アネート、２，２，４−トリメチルペンタン−１，５−
ジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、
２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアネート、デ
カメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等の脂肪族又は脂環式のジイソシアネート化合物を
挙げることができ、その化合物の単独又は２種以上の混
合物が使用できる。
【００１２】さらに、末端イソシアネート基を有する化
合物と反応するヒドロキシル基又はカルボキシル基を有
する（メタ）アクリレート化合物としては、具体的にヒ
ドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタク
リレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、エチレングリコールモノアクリレート、エチレング
リコールモノメタクリレート、グリセロールアクリレー
ト、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリト
ールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモノメ
タクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、フタル酸モ
ノヒドロキシエチルアクリレート、ω−カルボキシポリ
カプロラクトンモノアクリレート等を挙げることがで
き、その単独又は２種以上が混合して使用できる。
合物と反応するヒドロキシル基又はカルボキシル基を有
する（メタ）アクリレート化合物としては、具体的にヒ
ドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタク
リレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、エチレングリコールモノアクリレート、エチレング
リコールモノメタクリレート、グリセロールアクリレー
ト、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリト
ールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモノメ
タクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、フタル酸モ
ノヒドロキシエチルアクリレート、ω−カルボキシポリ
カプロラクトンモノアクリレート等を挙げることがで
き、その単独又は２種以上が混合して使用できる。
【００１３】上記（Ａ）成分は、その平均分子量が１０
００〜３００００の範囲が好ましく、平均分子量が１０
００未満では硬化後の被膜の結合力が大きくなり硬度が
増し、耐サンドブラスト性が低下する。また、平均分子
量が３００００を超えると粘度が上昇し塗膜性が悪くな
り、作業性が悪化する上に、電気絶縁抵抗値も上昇し好
ましくない。
００〜３００００の範囲が好ましく、平均分子量が１０
００未満では硬化後の被膜の結合力が大きくなり硬度が
増し、耐サンドブラスト性が低下する。また、平均分子
量が３００００を超えると粘度が上昇し塗膜性が悪くな
り、作業性が悪化する上に、電気絶縁抵抗値も上昇し好
ましくない。
【００１４】上記（Ａ）成分は、より好ましくは主鎖中
にポリエーテル構造単位を有するウレタン（メタ）アク
リレートオリゴマーを５０質量％以上含むのがよい。こ
れにより強度のあるウレタン（メタ）アクリレートオリ
ゴマーが得られ、耐サンドブラスト性が一段と向上す
る。
にポリエーテル構造単位を有するウレタン（メタ）アク
リレートオリゴマーを５０質量％以上含むのがよい。こ
れにより強度のあるウレタン（メタ）アクリレートオリ
ゴマーが得られ、耐サンドブラスト性が一段と向上す
る。
【００１５】上記（Ａ）成分は、（Ａ）〜（Ｃ）成分の
総和１００質量部中、１０〜９０質量部、好ましくは３
０〜７０質量部の範囲で含有するのがよい。前記含有量
が１０質量部未満では密着性、弾性、柔軟性に欠け耐サ
ンドブラスト性が劣る。また、含有量が９０質量部を超
えると他の成分との相溶性が低下し、保存中に層分離を
起こし好ましくない。
総和１００質量部中、１０〜９０質量部、好ましくは３
０〜７０質量部の範囲で含有するのがよい。前記含有量
が１０質量部未満では密着性、弾性、柔軟性に欠け耐サ
ンドブラスト性が劣る。また、含有量が９０質量部を超
えると他の成分との相溶性が低下し、保存中に層分離を
起こし好ましくない。
【００１６】（アクリル系共重合体）本発明の（Ｂ）ア
クリル系共重合体（以下、（Ｂ）成分という）として
は、上述のとおり耐サンドブラスト性に優れた被膜を形
成でき、かつ現像処理工程において水又はアルカリ水溶
液に可溶な、ベンゼン環又はシクロヘキシル基をもつ共
重合可能なモノマーの少なくとも１種をモノマー単位と
して含むアクリル系共重合体が挙げられる。このベンゼ
ン環又はシクロヘキシル環をもつ共重合可能なモノマー
の少なくとも１種をモノマー単位として含むアクリル系
共重合体を用いることで、（Ａ）成分との相溶性が良好
となり、安価なアクリル系重合体をベース樹脂として使
用でき、（Ａ）成分の使用量を抑えることができ、実用
的なサンドブラスト用感光性組成物を低コストで製造で
きる。この（Ｂ）成分は、前記ベンゼン環又はシクロヘ
キシル基をもつ共重合可能なモノマーと、公知の（メ
タ）アクリル酸エステル、エチレン性不飽和カルボン
酸、他の共重合可能なモノマー等を必要に応じて適宜組
み合わせ、共重合させることで製造できる。前記ベンゼ
ン環又はシクロヘキシル環をもつ共重合可能なモノマー
としては、例えば具体的にはベンジルアクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルアク
リレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキ
シポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポ
リエチレングリコールメタクリレート、スチレン、ノニ
ルフェノキシポリエチレングリコールモノアクリレー
ト、ノニルフェノキシポリエチレングリコールモノメタ
クリレート、ノニルフェノキシポリプロピレンモノアク
リレート、ノニルフェノキシポリプロピレンモノメタク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルア
クリレート、２−アクリロイロキシエチルフタレート、
２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフ
タレート等が挙げられる。そして、このベンゼン環又は
シクロヘキシル基をもつ共重合可能なモノマーの共重合
割合は２〜７０質量％、好ましくは２〜３０質量％の範
囲が良い。共重合割合が２質量部％未満では（Ａ）成分
との相溶性が低下し、保存中に分離を起こし、７０質量
％を超えるとサンドブラスト感光性組成物の現像性が低
下するので好ましくない。
クリル系共重合体（以下、（Ｂ）成分という）として
は、上述のとおり耐サンドブラスト性に優れた被膜を形
成でき、かつ現像処理工程において水又はアルカリ水溶
液に可溶な、ベンゼン環又はシクロヘキシル基をもつ共
重合可能なモノマーの少なくとも１種をモノマー単位と
して含むアクリル系共重合体が挙げられる。このベンゼ
ン環又はシクロヘキシル環をもつ共重合可能なモノマー
の少なくとも１種をモノマー単位として含むアクリル系
共重合体を用いることで、（Ａ）成分との相溶性が良好
となり、安価なアクリル系重合体をベース樹脂として使
用でき、（Ａ）成分の使用量を抑えることができ、実用
的なサンドブラスト用感光性組成物を低コストで製造で
きる。この（Ｂ）成分は、前記ベンゼン環又はシクロヘ
キシル基をもつ共重合可能なモノマーと、公知の（メ
タ）アクリル酸エステル、エチレン性不飽和カルボン
酸、他の共重合可能なモノマー等を必要に応じて適宜組
み合わせ、共重合させることで製造できる。前記ベンゼ
ン環又はシクロヘキシル環をもつ共重合可能なモノマー
としては、例えば具体的にはベンジルアクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルアク
リレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキ
シポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポ
リエチレングリコールメタクリレート、スチレン、ノニ
ルフェノキシポリエチレングリコールモノアクリレー
ト、ノニルフェノキシポリエチレングリコールモノメタ
クリレート、ノニルフェノキシポリプロピレンモノアク
リレート、ノニルフェノキシポリプロピレンモノメタク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルア
クリレート、２−アクリロイロキシエチルフタレート、
２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフ
タレート等が挙げられる。そして、このベンゼン環又は
シクロヘキシル基をもつ共重合可能なモノマーの共重合
割合は２〜７０質量％、好ましくは２〜３０質量％の範
囲が良い。共重合割合が２質量部％未満では（Ａ）成分
との相溶性が低下し、保存中に分離を起こし、７０質量
％を超えるとサンドブラスト感光性組成物の現像性が低
下するので好ましくない。
【００１７】上記（メタ）アクリル酸エステルとして
は、例えば、エステルの炭素数が１〜１０までのアクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類が、具体的に
はメチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルア
クリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｉ−プロピ
ルアクリレート、ｉ−ブロピルメタクリレート、ｎ−ブ
チルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブ
チルアクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ
−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレー
ト、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３
−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、２一ヒドロキシブチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、３−ヒド
ロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルメタ
クリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−
ヒドロキシブチルメタクリレート、３−エチルヘキシル
アクリレート、エチレングリコールモノアクリレート、
エチレングリコールモノメタクリレート、グリセロール
アクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタ
エリトリトールモノアクリレート、ジペンタエリトリト
ールモノメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、ジメチルアミノメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、テトラフルフリルメタクリレ
ートが挙げられる。また、エチレン性不飽和カルボン酸
としては、具体的にアクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水
シトラコン酸等を挙げることができる。中でもアクリル
酸及びメタクリル酸が好適に用いられる。
は、例えば、エステルの炭素数が１〜１０までのアクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類が、具体的に
はメチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルア
クリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｉ−プロピ
ルアクリレート、ｉ−ブロピルメタクリレート、ｎ−ブ
チルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブ
チルアクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ
−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレー
ト、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３
−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、２一ヒドロキシブチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、３−ヒド
ロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルメタ
クリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−
ヒドロキシブチルメタクリレート、３−エチルヘキシル
アクリレート、エチレングリコールモノアクリレート、
エチレングリコールモノメタクリレート、グリセロール
アクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタ
エリトリトールモノアクリレート、ジペンタエリトリト
ールモノメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、ジメチルアミノメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、テトラフルフリルメタクリレ
ートが挙げられる。また、エチレン性不飽和カルボン酸
としては、具体的にアクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水
シトラコン酸等を挙げることができる。中でもアクリル
酸及びメタクリル酸が好適に用いられる。
【００１８】また、他の共重合可能なモノマーとして
は、例えば前記（メタ）アクリル酸エステルとして例示
した化合物をフマレート化に変えたフマル酸エステル
類、マレエート化したマレイン酸エステル類、クロトネ
ート化したクロトン酸エステル類、イタコネート化した
イタコン酸エステル類、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビ
ニルトルエン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレ
ン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−
メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、酢酸ビニ
ル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、イソプレン、クロロプレン、３−ブタジエン
等を挙げることができる。
は、例えば前記（メタ）アクリル酸エステルとして例示
した化合物をフマレート化に変えたフマル酸エステル
類、マレエート化したマレイン酸エステル類、クロトネ
ート化したクロトン酸エステル類、イタコネート化した
イタコン酸エステル類、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビ
ニルトルエン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレ
ン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−
メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、酢酸ビニ
ル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、イソプレン、クロロプレン、３−ブタジエン
等を挙げることができる。
【００１９】上記（Ｂ）成分は、ラジカル共重合反応で
合成するのがよく、使用する重合触媒としては、通常の
ラジカル重合開始剤、例えば２，２′−アゾビスイソブ
チロニトリル、２，２′−アゾビス−（２，４−ジメチ
ルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス−（４−メト
キシ−２−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合
物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、ｔｅｒｔ―ブチルペルオキシピバレート、１，１′
−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサ
ンなどの有機過酸化物および過酸化水素などを挙げるこ
とができる。過酸化物をラジカル重合開始剤に使用する
場合、還元剤を組み合わせたレドックス型の重合開始剤
も使用できる。
合成するのがよく、使用する重合触媒としては、通常の
ラジカル重合開始剤、例えば２，２′−アゾビスイソブ
チロニトリル、２，２′−アゾビス−（２，４−ジメチ
ルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス−（４−メト
キシ−２−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合
物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、ｔｅｒｔ―ブチルペルオキシピバレート、１，１′
−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサ
ンなどの有機過酸化物および過酸化水素などを挙げるこ
とができる。過酸化物をラジカル重合開始剤に使用する
場合、還元剤を組み合わせたレドックス型の重合開始剤
も使用できる。
【００２０】得られた（Ｂ）成分は、その酸価が５０〜
２５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲にあるのが望ましい。前記
酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像処理を行うこと
が難しく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると柔軟性の低
下や現像時の耐水性の低下等の問題が生じる。前記酸価
は、重合体の製造時に重合比を調節することで調製でき
る。
２５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲にあるのが望ましい。前記
酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像処理を行うこと
が難しく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると柔軟性の低
下や現像時の耐水性の低下等の問題が生じる。前記酸価
は、重合体の製造時に重合比を調節することで調製でき
る。
【００２１】また、（Ｂ）成分は、その分子量が重量平
均分子量で５，０００〜２００，０００の範囲、より好
ましくは２０，０００〜１００，０００の範囲がよい。
重量平均分子量が５，０００未満では塗布乾燥によって
フィルム化した際、充分なフィルム形成能が得られな
い。また、重量平均分子量が２００，０００を超えると
充分な現像性が得られず、解像不良の原因となり好まし
くない。前記重量平均分子量は、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算による
重量平均分子量である。
均分子量で５，０００〜２００，０００の範囲、より好
ましくは２０，０００〜１００，０００の範囲がよい。
重量平均分子量が５，０００未満では塗布乾燥によって
フィルム化した際、充分なフィルム形成能が得られな
い。また、重量平均分子量が２００，０００を超えると
充分な現像性が得られず、解像不良の原因となり好まし
くない。前記重量平均分子量は、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算による
重量平均分子量である。
【００２２】さらに、（Ｂ）成分は、（Ａ）〜（Ｃ）成
分の総和１００質量部中、１０〜９０質量部、好ましく
は３０〜７０質量部の範囲で含有されるのがよい。前記
含有量が１０質量部未満では組成物表面に粘着性が生
じ、９０質量部を超えると露光硬化後の耐サンドブラス
ト性や耐薬品性が低下するので好ましくない。
分の総和１００質量部中、１０〜９０質量部、好ましく
は３０〜７０質量部の範囲で含有されるのがよい。前記
含有量が１０質量部未満では組成物表面に粘着性が生
じ、９０質量部を超えると露光硬化後の耐サンドブラス
ト性や耐薬品性が低下するので好ましくない。
【００２３】（光重合開始剤）本発明のサンドブラスト
用感光性組成物が含有する（Ｃ）光重合開始剤（以下
（Ｃ）成分という）としては、１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−
ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン
−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モリフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキシエト
キシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
プロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオ
キサントン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフ
ェノン、ベンゾフェノン、１−クロロ−４−プロポキシ
チオキサントン、１−（４−イソプロピルフェニル）−
２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−
（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチル
ジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４
−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ
安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、
４−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４
−ジメチルアミノ安息香酸−２−イソアミル、２，２−
ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−フ
ェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシ
カルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、４，
４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−
ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチ
ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ｐ−ジメ
チルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリ
クロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロ
アセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサ
ントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾス
ベロン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェ
ノン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９
−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジ
ニル）へプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）
ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパ
ンなどが挙げられる。前記光重合開始剤は単独でもまた
２種以上を組み合わせて用いてもよい。
用感光性組成物が含有する（Ｃ）光重合開始剤（以下
（Ｃ）成分という）としては、１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−
ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン
−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モリフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキシエト
キシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
プロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオ
キサントン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフ
ェノン、ベンゾフェノン、１−クロロ−４−プロポキシ
チオキサントン、１−（４−イソプロピルフェニル）−
２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−
（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチル
ジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４
−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ
安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、
４−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４
−ジメチルアミノ安息香酸−２−イソアミル、２，２−
ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−フ
ェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシ
カルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、４，
４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−
ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチ
ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ｐ−ジメ
チルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリ
クロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロ
アセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサ
ントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾス
ベロン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェ
ノン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９
−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジ
ニル）へプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）
ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパ
ンなどが挙げられる。前記光重合開始剤は単独でもまた
２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２４】上記（Ｃ）成分は、（Ａ）〜（Ｃ）成分の
総和１００質量部中、０．１〜２５質量部、好ましくは
１〜１５質量部の範囲で含有できる。前記含有量が０．
１質量部未満では露光硬化不良を起こし十分な耐エッチ
ング性や耐薬品性を得ることが困難となり、また、２５
質量部を超えると組成物溶液中で析出が起こり好ましく
ない。
総和１００質量部中、０．１〜２５質量部、好ましくは
１〜１５質量部の範囲で含有できる。前記含有量が０．
１質量部未満では露光硬化不良を起こし十分な耐エッチ
ング性や耐薬品性を得ることが困難となり、また、２５
質量部を超えると組成物溶液中で析出が起こり好ましく
ない。
【００２５】（光重合性モノマー）本発明のサンドブラ
スト用感光性組成物は、さらに感度を向上させ、現像時
の膜減りや膨潤を防ぐため必要に応じて光重合性モノマ
ーを含有することができる。前記光重合性モノマーとし
ては、上記の（メタ）アクリル酸エステル、エチレン性
不飽和カルボン酸、他の共重合可能なモノマーとして例
示するモノマーも使用できるが、好ましくは重合可能な
エチレン性不飽和結合を２個以上有するモノマー（以
下、多官能性モノマーという）がよい。前記多官能性モ
ノマーとしては、例えばエチレングリコール、プロピレ
ングリコール等のアルキレングリコールのジアクリレー
ト又はジメタクリレート類、ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコー
ルのジアクリレート又はジメタクリレート類、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
ジペンタエリスリトール等の３価の多価アルコールのポ
リアクリレート又はポリメタクリレート類やそれらのジ
カルボン酸変性物などが挙げられ、具体的にはエチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、テトラメチロールブロパ
ンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテト
ラメタクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ペン
タエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリトリトール
ペンタメタクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ
アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタクリ
レート等が挙げられる。
スト用感光性組成物は、さらに感度を向上させ、現像時
の膜減りや膨潤を防ぐため必要に応じて光重合性モノマ
ーを含有することができる。前記光重合性モノマーとし
ては、上記の（メタ）アクリル酸エステル、エチレン性
不飽和カルボン酸、他の共重合可能なモノマーとして例
示するモノマーも使用できるが、好ましくは重合可能な
エチレン性不飽和結合を２個以上有するモノマー（以
下、多官能性モノマーという）がよい。前記多官能性モ
ノマーとしては、例えばエチレングリコール、プロピレ
ングリコール等のアルキレングリコールのジアクリレー
ト又はジメタクリレート類、ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコー
ルのジアクリレート又はジメタクリレート類、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
ジペンタエリスリトール等の３価の多価アルコールのポ
リアクリレート又はポリメタクリレート類やそれらのジ
カルボン酸変性物などが挙げられ、具体的にはエチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、テトラメチロールブロパ
ンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテト
ラメタクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ペン
タエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリトリトール
ペンタメタクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ
アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサメタクリ
レート等が挙げられる。
【００２６】上記光重合性モノマーは、（Ａ）〜（Ｃ）
成分の総和１００質量部に対し、２０質量部を超えない
範囲で配合するのが良い。配合量が２０質量部を超える
とドライフィルム状としたときにコールドフローが起こ
り易くなるとともに、紫外線照射硬化後の感光性組成物
の弾性が少なくなり耐サンドブラスト性が低下する。
成分の総和１００質量部に対し、２０質量部を超えない
範囲で配合するのが良い。配合量が２０質量部を超える
とドライフィルム状としたときにコールドフローが起こ
り易くなるとともに、紫外線照射硬化後の感光性組成物
の弾性が少なくなり耐サンドブラスト性が低下する。
【００２７】（有機溶剤）本発明のサンドブラスト用感
光性組成物は、その使用にあたって有機溶剤に溶解する
のがよく、使用する溶剤としては、例えばメタノール、
エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコールなどのアルコール類；テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類；エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルなどの多価アルコールのアルキル
エーテル類；２−メトキシブチルアセテート、３−メト
キシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテー
ト、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−
メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−
３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルア
セテート、４−エトキシブチルアセテートなどのアルコ
キシアルキルアセテート類；エチレングリコールエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルア
セテート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチ
ル−２−ペンタノン、ジアセトンアルコールなどのケト
ン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン
酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エ
チル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２
−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエス
テル類が挙げられる。これらのうち、環状エーテル類、
多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコール
のアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル
類などが好ましい。
光性組成物は、その使用にあたって有機溶剤に溶解する
のがよく、使用する溶剤としては、例えばメタノール、
エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコールなどのアルコール類；テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類；エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルなどの多価アルコールのアルキル
エーテル類；２−メトキシブチルアセテート、３−メト
キシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテー
ト、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−
メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−
３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルア
セテート、４−エトキシブチルアセテートなどのアルコ
キシアルキルアセテート類；エチレングリコールエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルア
セテート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチ
ル−２−ペンタノン、ジアセトンアルコールなどのケト
ン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン
酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エ
チル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２
−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエス
テル類が挙げられる。これらのうち、環状エーテル類、
多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコール
のアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル
類などが好ましい。
【００２８】本発明のサンドブラスト用感光性組成物は
用途に応じて、液状のまま基板の上に塗布するか、又は
基板の上にスクリーン印刷するか等の方法で適用される
が、特に電子部品の製造等精密加工を必要とする場合に
はこのサンドブラスト用感光性組成物を可撓性フィルム
上に塗布、乾燥して形成した感光性フィルムを用いるの
がよい。前記感光性フィルムは、例えば膜厚１５〜１２
５μｍのポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル等
の合成樹脂フィルムからなる可撓性フィルムに、溶剤に
溶解したサンドブラスト用感光性組成物溶液をアプリケ
ーター、バーコーター、ロールコーター、カーテンフロ
ーコーター等を用いて乾燥膜厚１０〜１００μｍとなる
ように塗布し、乾燥することで形成できる。また必要に
応じて、未使用時に感光性組成物層を安定に保護するた
め離型フィルムを貼着するのもよい。この離型フィルム
としては、シリコーンをコーティングまたは焼き付けし
た厚さ１５〜１２５μｍ程度のポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレン
フィルム等が好適に使用できる。
用途に応じて、液状のまま基板の上に塗布するか、又は
基板の上にスクリーン印刷するか等の方法で適用される
が、特に電子部品の製造等精密加工を必要とする場合に
はこのサンドブラスト用感光性組成物を可撓性フィルム
上に塗布、乾燥して形成した感光性フィルムを用いるの
がよい。前記感光性フィルムは、例えば膜厚１５〜１２
５μｍのポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル等
の合成樹脂フィルムからなる可撓性フィルムに、溶剤に
溶解したサンドブラスト用感光性組成物溶液をアプリケ
ーター、バーコーター、ロールコーター、カーテンフロ
ーコーター等を用いて乾燥膜厚１０〜１００μｍとなる
ように塗布し、乾燥することで形成できる。また必要に
応じて、未使用時に感光性組成物層を安定に保護するた
め離型フィルムを貼着するのもよい。この離型フィルム
としては、シリコーンをコーティングまたは焼き付けし
た厚さ１５〜１２５μｍ程度のポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレン
フィルム等が好適に使用できる。
【００２９】上記感光性フィルムにおいて、酸素減感作
用を防ぐとともに、露光時に密着されるマスクパターン
の粘着防止のため、可撓性フィルムと感光性組成物層と
の間に水溶性樹脂層を設けることができる。前記水溶性
樹脂層としては、ポリビニルアルコール又は部分けん化
ポリ酢酸ビニルの水溶性ポリマーの５〜２０重量％水溶
液を乾燥膜厚１〜１０μｍに塗布、乾燥した層がよい。
用を防ぐとともに、露光時に密着されるマスクパターン
の粘着防止のため、可撓性フィルムと感光性組成物層と
の間に水溶性樹脂層を設けることができる。前記水溶性
樹脂層としては、ポリビニルアルコール又は部分けん化
ポリ酢酸ビニルの水溶性ポリマーの５〜２０重量％水溶
液を乾燥膜厚１〜１０μｍに塗布、乾燥した層がよい。
【００３０】上記感光性フィルムの使用方法の一例を示
すと、感光性フィルムの離型フィルムを剥がし、露出し
た感光性組成物層を基板上に密着させたのち、可撓性フ
ィルムを剥がし、その露出面に所定のマスクパターンを
備えたマスクを密着させ、その上から露光光線を照射す
る。前記感光性組成物層の基板上への密着に際しては基
板を予め加熱しておき、この上に感光性フィルムを置い
て押圧する、いわゆる熱圧着方式を採るのがよい。ま
た、露光光線としては紫外線の他にエキシマレーザ、Ｘ
線、電子線等が挙げられ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、キセノンランプ等が使用できる。前記露光
光線の照射後、マスクパターンを取り去り、汎用のアル
カリ現像液を用いて現像処理を施し、未照射部を溶解除
去してパターンを形成する。使用する現像液のアルカリ
成分としては、リチウム、ナトリウム、カリウムなどの
アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸
塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブチルアミンなど
の第１級アミン、ジメチルアミン、ジベンジルアミン、
ジエタノールアミン等の第２級アミン、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の第３
級アミン、モルホリン、ピペラジン、ピリジンなどの環
状アミン、エチレンジアミン、ヘキサンメチルジアミン
などのポリアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメ
チルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフ
ェニルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどのアンモ
ニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロ
キシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジ
メチルベンジルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホ
ニウムヒドロキシド類、その他コリン、ケイ酸塩含有緩
衝液などが挙げられる。
すと、感光性フィルムの離型フィルムを剥がし、露出し
た感光性組成物層を基板上に密着させたのち、可撓性フ
ィルムを剥がし、その露出面に所定のマスクパターンを
備えたマスクを密着させ、その上から露光光線を照射す
る。前記感光性組成物層の基板上への密着に際しては基
板を予め加熱しておき、この上に感光性フィルムを置い
て押圧する、いわゆる熱圧着方式を採るのがよい。ま
た、露光光線としては紫外線の他にエキシマレーザ、Ｘ
線、電子線等が挙げられ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、キセノンランプ等が使用できる。前記露光
光線の照射後、マスクパターンを取り去り、汎用のアル
カリ現像液を用いて現像処理を施し、未照射部を溶解除
去してパターンを形成する。使用する現像液のアルカリ
成分としては、リチウム、ナトリウム、カリウムなどの
アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸
塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブチルアミンなど
の第１級アミン、ジメチルアミン、ジベンジルアミン、
ジエタノールアミン等の第２級アミン、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の第３
級アミン、モルホリン、ピペラジン、ピリジンなどの環
状アミン、エチレンジアミン、ヘキサンメチルジアミン
などのポリアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメ
チルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフ
ェニルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどのアンモ
ニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロ
キシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジ
メチルベンジルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホ
ニウムヒドロキシド類、その他コリン、ケイ酸塩含有緩
衝液などが挙げられる。
【００３１】次いで、現像処理した基板にブラスト材を
吹き付け研磨して所望のパターンに形成するが、使用す
るブラスト材としては、２〜５００μｍのガラスビー
ズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯなどの無機微
粒子等が好適である。
吹き付け研磨して所望のパターンに形成するが、使用す
るブラスト材としては、２〜５００μｍのガラスビー
ズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯなどの無機微
粒子等が好適である。
【００３２】
【発明の実施の形態】次に実施例に基づいて本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
【００３３】（実施例１）メチルメタクリレート／ブチ
ルメタクリレート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレ
ートの共重合割合が質量基準で１０／３５／２５／３０
であるアクリル系共重合体（重量平均分子量７０，００
０、酸価１９０）のメチルエチルケトン４０質量％溶液
２５０質量部、主鎖中にポリエーテル構造単位を有する
ウレタンアクリレートオリゴマー（共栄社製、ＳＳＵＡ
８ＡＬ−ＭＨ）４０質量部、ポリエチレングリコールジ
メタクリレート（ｎ＝９）２０質量部を混合し、さら
に、光重合開始剤として２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン２質量部、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミンアルミニウム塩０．０１質量部、マラ
カイトグリーン０．２質量部を加えて攪拌し、サンドブ
ラスト用感光性組成物を調製した。
ルメタクリレート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレ
ートの共重合割合が質量基準で１０／３５／２５／３０
であるアクリル系共重合体（重量平均分子量７０，００
０、酸価１９０）のメチルエチルケトン４０質量％溶液
２５０質量部、主鎖中にポリエーテル構造単位を有する
ウレタンアクリレートオリゴマー（共栄社製、ＳＳＵＡ
８ＡＬ−ＭＨ）４０質量部、ポリエチレングリコールジ
メタクリレート（ｎ＝９）２０質量部を混合し、さら
に、光重合開始剤として２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン２質量部、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミンアルミニウム塩０．０１質量部、マラ
カイトグリーン０．２質量部を加えて攪拌し、サンドブ
ラスト用感光性組成物を調製した。
【００３４】得られたサンドブラスト用感光性組成物溶
液を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように、２０μｍ厚
のポリエチレンテレフタラートフィルム（ＰＥＴフィル
ム）上にアプリケーターを用いて塗布、乾燥して感光性
組成物層を形成した。次いで、前記感光性組成物層の上
に２０μｍのポリエチレンフィルムを気泡が残らないよ
うにゴムローラーで圧着してサンドブラスト用感光性フ
ィルムを作成した。
液を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように、２０μｍ厚
のポリエチレンテレフタラートフィルム（ＰＥＴフィル
ム）上にアプリケーターを用いて塗布、乾燥して感光性
組成物層を形成した。次いで、前記感光性組成物層の上
に２０μｍのポリエチレンフィルムを気泡が残らないよ
うにゴムローラーで圧着してサンドブラスト用感光性フ
ィルムを作成した。
【００３５】この感光性フィルムのポリエチレンフィル
ムを剥がし、表出した感光性組成物層を８０℃に加熱し
たガラス面にゴムローラーを用いてラミネートし、試験
用パターンマスクを密着させた後、超高圧水銀灯により
１５０ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線露光を行った。続
いて液温３０℃の１％炭酸水素ナトリウム水溶液を用い
て１．４７×１０5Ｐａ（１．５ｋｇｆ／ｃｍ2）の噴射
圧で３０秒間のスプレー現像を行い、パターンを形成し
た。
ムを剥がし、表出した感光性組成物層を８０℃に加熱し
たガラス面にゴムローラーを用いてラミネートし、試験
用パターンマスクを密着させた後、超高圧水銀灯により
１５０ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線露光を行った。続
いて液温３０℃の１％炭酸水素ナトリウム水溶液を用い
て１．４７×１０5Ｐａ（１．５ｋｇｆ／ｃｍ2）の噴射
圧で３０秒間のスプレー現像を行い、パターンを形成し
た。
【００３６】得られた感光性樹脂パターンは矩形で、テ
ストマスク寸法との差が０．５μｍのシャープ性に優
れ、精度の高いパターンであった。
ストマスク寸法との差が０．５μｍのシャープ性に優
れ、精度の高いパターンであった。
【００３７】次に耐サンドブラスト性を評価するため、
感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、表出
した感光性組成物層を８０℃に加熱したガラス面にゴム
ローラーを用いてラミネートし、ＰＥＴフィルムを剥が
し、超高圧水銀灯により１５０ｍＪ／ｃｍ2の照射量で
前面露光し、これをガラスビーズ＃８００（アルプスエ
ンジニアリング製）研磨剤を使用して、ノズル距離８０
ｍｍ、ブラスト圧１．９６×１０5Ｐａ（２．０ｋｇｆ
／ｃｍ2）でサンドブラストして感光性組成物層が磨耗
して消失するまでの時間を測定した。その結果は１５０
秒であり、耐サンドブラスト性は良好であった。
感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、表出
した感光性組成物層を８０℃に加熱したガラス面にゴム
ローラーを用いてラミネートし、ＰＥＴフィルムを剥が
し、超高圧水銀灯により１５０ｍＪ／ｃｍ2の照射量で
前面露光し、これをガラスビーズ＃８００（アルプスエ
ンジニアリング製）研磨剤を使用して、ノズル距離８０
ｍｍ、ブラスト圧１．９６×１０5Ｐａ（２．０ｋｇｆ
／ｃｍ2）でサンドブラストして感光性組成物層が磨耗
して消失するまでの時間を測定した。その結果は１５０
秒であり、耐サンドブラスト性は良好であった。
【００３８】（実施例２）実施例１で使用したアクリル
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレートの共重合
割合が質量基準で１８／５５／２５／２のアクリル系共
重合体（重量平均分子量７０，０００、酸価１６０）に
代えた以外は実施例１と同様の操作により感光性フィル
ムを作成した。
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレートの共重合
割合が質量基準で１８／５５／２５／２のアクリル系共
重合体（重量平均分子量７０，０００、酸価１６０）に
代えた以外は実施例１と同様の操作により感光性フィル
ムを作成した。
【００３９】次いで、実施例１と同様の操作によりパタ
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは矩形
で、テストマスク寸法との差が０．５μｍのシャープ性
に優れ、精度の高いパターンであった。耐サンドブラス
ト性を実施例１と同様の操作で評価したところ、感光性
組成物層が磨耗して消失するまでの時間は１４５秒であ
り、耐サンドブラスト性は良好であった。
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは矩形
で、テストマスク寸法との差が０．５μｍのシャープ性
に優れ、精度の高いパターンであった。耐サンドブラス
ト性を実施例１と同様の操作で評価したところ、感光性
組成物層が磨耗して消失するまでの時間は１４５秒であ
り、耐サンドブラスト性は良好であった。
【００４０】（実施例３）実施例１で使用したアクリル
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸／スチレンの共重合割合を質量基準
で１５／５５／２５／５のアクリル共重合体（重量平均
分子量８５，０００、酸価１６５）に代えた以外は実施
例１と同様の操作により感光性フィルムを作成した。
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸／スチレンの共重合割合を質量基準
で１５／５５／２５／５のアクリル共重合体（重量平均
分子量８５，０００、酸価１６５）に代えた以外は実施
例１と同様の操作により感光性フィルムを作成した。
【００４１】次いで、実施例１と同様の操作によりパタ
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは矩形
で、テストマスク寸法との差が０．６μｍのシャープ性
に優れ、精度の高いパターンであった。耐サンドブラス
ト性も実施例１と同様の操作で評価したところ、感光性
組成物層が磨耗して消失するまでの時間は１４０秒であ
り、耐サンドブラスト性は良好であった。
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは矩形
で、テストマスク寸法との差が０．６μｍのシャープ性
に優れ、精度の高いパターンであった。耐サンドブラス
ト性も実施例１と同様の操作で評価したところ、感光性
組成物層が磨耗して消失するまでの時間は１４０秒であ
り、耐サンドブラスト性は良好であった。
【００４２】（比較例１）実施例１で使用したアクリル
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸の共重合割合を質量基準で２０／５
５／２５のアクリル系共重合体（重量平均分子量７５，
０００、酸価１６０）に代えた以外は実施例１と同様の
操作により感光性フィルムを作成した。
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸の共重合割合を質量基準で２０／５
５／２５のアクリル系共重合体（重量平均分子量７５，
０００、酸価１６０）に代えた以外は実施例１と同様の
操作により感光性フィルムを作成した。
【００４３】次いで、実施例１と同様の操作によりパタ
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは直線性
に乏しく表面が大きく荒れていた。また、テストマスク
寸法との差が１０μｍのシャープ性に乏しいものであっ
た。耐サンドブラスト性も実施例１と同様の操作で評価
したところ、感光性組成物層が磨耗して消失するまでの
時間は５０秒であった。
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは直線性
に乏しく表面が大きく荒れていた。また、テストマスク
寸法との差が１０μｍのシャープ性に乏しいものであっ
た。耐サンドブラスト性も実施例１と同様の操作で評価
したところ、感光性組成物層が磨耗して消失するまでの
時間は５０秒であった。
【００４４】（比較例２）実施例１で使用したアクリル
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレートの共重合
割合を質量基準で１９／５５／２５／１であるアクリル
系共重合体（重量平均分子量７３，０００、酸価１６
３）に代えた以外は実施例１と同様の操作により感光性
フィルムを作成した。
系共重合体をメチルメタクリレート／ブチルメタクリレ
ート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレートの共重合
割合を質量基準で１９／５５／２５／１であるアクリル
系共重合体（重量平均分子量７３，０００、酸価１６
３）に代えた以外は実施例１と同様の操作により感光性
フィルムを作成した。
【００４５】次いで、実施例１と同様の操作によりパタ
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは直線性
に乏しく表面が大きく荒れていた。また、テストマスク
寸法との差が８μｍのシャープ性に乏しいものであっ
た。耐サンドブラスト性も実施例１と同様の操作で評価
したところ、感光性組成物層が磨耗して消失するまでの
時間は１００秒であった。
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは直線性
に乏しく表面が大きく荒れていた。また、テストマスク
寸法との差が８μｍのシャープ性に乏しいものであっ
た。耐サンドブラスト性も実施例１と同様の操作で評価
したところ、感光性組成物層が磨耗して消失するまでの
時間は１００秒であった。
【００４６】（比較例３）実施例１で使用したウレタン
アクリレートオリゴマーを主鎖中にポリエーテル構造単
位を持たないウレタンアクリレートオリゴマー（共栄社
製、ＳＳＵＡ１９Ｍ）に代えた以外は実施例１と同様の
操作により感光性フィルムを作成した。
アクリレートオリゴマーを主鎖中にポリエーテル構造単
位を持たないウレタンアクリレートオリゴマー（共栄社
製、ＳＳＵＡ１９Ｍ）に代えた以外は実施例１と同様の
操作により感光性フィルムを作成した。
【００４７】次いで、実施例１と同様の操作によりパタ
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは矩形
で、テストマスク寸法との差が０．５μｍのシャープ性
に優れ、精度の高いパターンであった。しかし、耐サン
ドブラスト性の評価を実施例１と同様の操作で行ったと
ころ、感光性組成物層が磨耗して消失するまでの時間は
４５秒であり、耐サンドブラスト性に乏しい組成物であ
った。
ーンを形成した。得られた感光性樹脂パターンは矩形
で、テストマスク寸法との差が０．５μｍのシャープ性
に優れ、精度の高いパターンであった。しかし、耐サン
ドブラスト性の評価を実施例１と同様の操作で行ったと
ころ、感光性組成物層が磨耗して消失するまでの時間は
４５秒であり、耐サンドブラスト性に乏しい組成物であ
った。
【００４８】
【発明の効果】本発明のサンドブラスト用感光性組成物
は、安価で、アルカリ現像性に優れ、かつ高感度で、基
板との密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性に優れ
耐サンドブラスト性が高く金属パターンや絶縁パターン
等の微細加工に好適である。特に感光性フィルムに成形
することで、電子部品等の微細加工が良好に行える。
は、安価で、アルカリ現像性に優れ、かつ高感度で、基
板との密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性に優れ
耐サンドブラスト性が高く金属パターンや絶縁パターン
等の微細加工に好適である。特に感光性フィルムに成形
することで、電子部品等の微細加工が良好に行える。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中里 俊二 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 (72)発明者 帯谷 洋之 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AB15 AB17 AC01 AD01 BC14 BC65 BC66 CA00 CB14 4J002 BG04X BG05X BG07X CK04W EE036 EN066 ES016 EV046 EV316 EW146 FD156 GP03
Claims (6)
- 【請求項１】（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する光
重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、
（Ｂ）アクリル系共重合体及び（Ｃ）光重合開始剤を含
有する感光性組成物において、前記（Ｂ）アクリル系共
重合体が、ベンゼン環又はシクロヘキシル環をもつ共重
合可能なモノマーから選ばれる少なくとも１種をモノマ
ー単位として含むアクリル系共重合体であることを特徴
とするサンドブラスト用感光性組成物。 - 【請求項２】（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する光
重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー
が、主鎖中にポリエーテル構造単位を有するウレタン
（メタ）アクリレートオリゴマーを５０質量％以上含む
ことを特徴とする請求項１記載のサンドブラスト用感光
性組成物。 - 【請求項３】（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有する光
重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー
が、末端に水酸基を有するポリエーテル化合物とジイソ
シアネート化合物とが反応して得た末端イソシアネート
基を有する化合物に、さらにヒドロキシル基又はカルボ
キシル基を有する（メタ）アクリレート化合物が反応し
た反応生成物を含むことを特徴とする請求項１記載のサ
ンドブラスト用感光性組成物。 - 【請求項４】末端に水酸基を有するポリエーテル化合物
が、（ポリ）アルキレングリコールを必須成分として含
むことを特徴とする請求項３記載のサンドブラスト用感
光性組成物。 - 【請求項５】（Ｂ）アクリル系共重合体中のベンゼン環
又はシクロヘキシル環をもつ共重合可能なモノマーの共
重合割合が２〜７０質量％であることを特徴とする請求
項１記載のサンドブラスト用感光性組成物。 - 【請求項６】可撓性フィルム上に請求項１乃至５のいず
れか１項に記載のサンドブラスト用感光性組成物から成
る層を設け、その上に離型フィルムを積層したことを特
徴とする感光性フィルム。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000338460A JP2002148802A (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
| KR10-2001-0068750A KR100519032B1 (ko) | 2000-11-07 | 2001-11-06 | 샌드블래스팅용 감광성 조성물 및 이를 사용한 감광성 필름 |
| US09/993,090 US20020076652A1 (en) | 2000-11-07 | 2001-11-06 | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film using the same |
| EP01309406A EP1205803A1 (en) | 2000-11-07 | 2001-11-06 | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film using the same |
| TW90127662A TW573221B (en) | 2000-11-07 | 2001-11-07 | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film using the same |
| CNB011378794A CN1183422C (zh) | 2000-11-07 | 2001-11-07 | 用于砂磨的光敏组合物以及使用该组合物的光敏膜 |
| US10/801,449 US6897011B2 (en) | 2000-11-07 | 2004-03-16 | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000338460A JP2002148802A (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002148802A true JP2002148802A (ja) | 2002-05-22 |
Family
ID=18813667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000338460A Pending JP2002148802A (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20020076652A1 (ja) |
| EP (1) | EP1205803A1 (ja) |
| JP (1) | JP2002148802A (ja) |
| KR (1) | KR100519032B1 (ja) |
| CN (1) | CN1183422C (ja) |
| TW (1) | TW573221B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2005241931A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Toray Ind Inc | 感光性セラミックス組成物 |
| JP2015161723A (ja) * | 2014-02-26 | 2015-09-07 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100521999B1 (ko) * | 2002-09-03 | 2005-10-18 | 주식회사 코오롱 | 샌드블래스트 레지스트용 감광성수지 조성물 |
| DE10261911A1 (de) | 2002-12-30 | 2004-07-29 | Volkswagen Ag | Verfahren zur Steuerung der Temperatur eines Katalysators sowie Mehrzylindermotor mit lambdasplitfähiger Abgasreinigungsanlage |
| JP4509638B2 (ja) * | 2004-04-26 | 2010-07-21 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性ドライフィルム |
| US7288345B2 (en) * | 2005-03-31 | 2007-10-30 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Photosensitive colored composition and color filter |
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| CN103064253B (zh) * | 2012-12-05 | 2015-04-08 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种含有吖啶类氧化物的感光性组合物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US3469982A (en) * | 1968-09-11 | 1969-09-30 | Jack Richard Celeste | Process for making photoresists |
| JPS55103554A (en) | 1979-02-02 | 1980-08-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
| US4245030A (en) * | 1979-05-23 | 1981-01-13 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture containing improved plasticizer |
| JPS6010242A (ja) | 1983-06-30 | 1985-01-19 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 固体粒子による食刻に耐える光硬化性樹脂組成物 |
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| JP2562954B2 (ja) | 1988-09-06 | 1996-12-11 | アイセロ化学 株式会社 | 彫食刻マスク用感光性積層フイルム |
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| JP3167812B2 (ja) * | 1992-11-20 | 2001-05-21 | 東京応化工業株式会社 | サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層フィルム |
| JPH06161098A (ja) * | 1992-11-20 | 1994-06-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム |
| JP3638660B2 (ja) * | 1995-05-01 | 2005-04-13 | 松下電器産業株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを用いたサンドブラスト用感光性ドライフィルム及びそれを用いた食刻方法 |
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| JP3846958B2 (ja) * | 1997-03-03 | 2006-11-15 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びその用途 |
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-
2000
- 2000-11-07 JP JP2000338460A patent/JP2002148802A/ja active Pending
-
2001
- 2001-11-06 US US09/993,090 patent/US20020076652A1/en not_active Abandoned
- 2001-11-06 EP EP01309406A patent/EP1205803A1/en not_active Withdrawn
- 2001-11-06 KR KR10-2001-0068750A patent/KR100519032B1/ko active IP Right Grant
- 2001-11-07 TW TW90127662A patent/TW573221B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-11-07 CN CNB011378794A patent/CN1183422C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-03-16 US US10/801,449 patent/US6897011B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20020035756A (ko) | 2002-05-15 |
| CN1183422C (zh) | 2005-01-05 |
| CN1353140A (zh) | 2002-06-12 |
| EP1205803A1 (en) | 2002-05-15 |
| TW573221B (en) | 2004-01-21 |
| US20020076652A1 (en) | 2002-06-20 |
| KR100519032B1 (ko) | 2005-10-05 |
| US6897011B2 (en) | 2005-05-24 |
| US20040175659A1 (en) | 2004-09-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040702 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050510 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050926 |