DE1190287B - Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung - Google Patents

Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung

Info

Publication number
DE1190287B
DE1190287B DEH42365A DEH0042365A DE1190287B DE 1190287 B DE1190287 B DE 1190287B DE H42365 A DEH42365 A DE H42365A DE H0042365 A DEH0042365 A DE H0042365A DE 1190287 B DE1190287 B DE 1190287B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bath
nickel
brightener
nickel plating
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEH42365A
Other languages
English (en)
Inventor
Arthur Harry Du Rose
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Harshaw Chemical Co
Original Assignee
Harshaw Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Harshaw Chemical Co filed Critical Harshaw Chemical Co
Publication of DE1190287B publication Critical patent/DE1190287B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. α.:
C23b
Deutsche KL: 48 a-5/08
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
1190287
H42365VIb/48a
20. April 1961
!.April 1965
Es ist bekannt, bei der galvanischen Vernickelung neben einem Lenkungsmittel (Sulfonamid, Sulfonimid oder Sulfonsäure) noch vollständig veresterte aliphatische Ester von ungesättigten aliphatischen Polycarbonsäuren als Glanzbildner zu verwenden. Diese Zusatzkombination hat den Nachteil, daß man eine sehr hohe Konzentration benutzen muß und daß der Glanz der Nickelabscheidung nicht so gut ist wie bei Verwendung des Bades nach der Erfindung. Die mit dieser bekannten Kombination erhaltenen Überzüge entsprechen in ihrer Qualität etwa den Überzügen, die man bei Verwendung von Cumarin und einem Lenkungsmittel erhält.
Gleichfalls bekannt ist es, beim galvanischen Abscheiden von Nickel neben einem Lenkungsmittel als weiteres Zusatzmittel Nitrile, die Sauerstoffatome ätherartig gebunden enthalten, zu verwenden. Versuche mit solchen Nitrilen wie
Wäßriges Bad für die galvanische Vernickdung
Anmelder:
The Harshaw Chemical Company,
Cleveland, Ohio (V. St. A.)
Vertreter:
Dr.-Ing. W. Abitz, Patentanwalt,
München 27, Pienzenauer Str. 28
Als Erfinder benannt:
Arthur Harry Du Rose, Euclid, Ohio (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 22. April 1960 (23 900)
CH3
1.HCsC-C-O-CH2-CH2-CN
i
CH3
2. NC —(CH^2-O-CH2-Cs C-CH2-Ο —(CH2J2-CN
CH3
3. C6H5-CH-O-CH2-CH2-CN
ergaben zusammen mit einem Lenkungsmittel jedoch sehr spröde und schlechte Überzüge.
Weiterhin wurden als Glanzgeber auch einfache Nitrile, wobei man verhältnismäßig große Konzentrationen von 0,1 bis 1 g/l einsetzen muß, verwendet. Bei Verwendung von derartigen einfachen Nitrilen erhält man nach kurzer Zeit Überzüge, deren Glanz schlecht ist und die spröde werden, da sich im Bad in größeren Mengen Zersetzungsprodukte der Nitrile bilden. Auch das Einebnungsvermögen dieser Kombination ist nicht zufriedenstellend.
Gegenstand der Erfindung ist ein wäßriges Bad für die galvanische Vernickelung, das Nickelsulfat und/ oder Nickelchlorid und als zusammenwirkende Glanzbildner mindestens eine Verbindung aus der Klasse der aromatischen oder ungesättigten aliphatischen Sulfonate, Sulfonamide bzw. Sulfimid in Mengen von 0,05 bis 20 g/l des Bades zusammen mit einem zusätzlichen Glanzbildner enthält, das dadurch gekennzeichnet ist, daß das Bad als zusätzlichen Glanzbildner 0,0005 bis 0,10 g einer Verbindung der Formel
A — [(CH2)* — X — (CH2),*] — B
in welcher A gleich H, CN —, CN — (CHg)1, — O —
bzw. CN-(CH2)P-X- und B gleich —CN,
CN — (CH2)J, — O — bzw. CN — (CH2)J, — X — ist,
m, η und/» ganze Zahlen von 1 bis 4 bedeuten und X von
45
— S-
Il ο
bzw. — S —
gebildet wird, je Liter des Bades enthält.
Gemäß der Erfindung können ausgezeichnet glänzende, duktile und glatte Nickelabscheidungen in
509 537/336
einem breiten Kathodenstromdichtebereich erhalten werden.
Bevorzugt werden die symmetrischen Formen
NC — (CHa)n — X — (CH2),, — CN
diese Verbindungen können auch als Sulfonylalkylennitrile und Sulfinylalkylennitrile bezeichnet werden.
Typische Glanzbildner gemäß der Erfindung nennt die Tabelle I, ferner den optimalen Mengenbereich, in dem jeder Glanzbildner in dem Bad gelöst werden sollte, in Gramm Glanzbildner je Liter Bad. Optimale Ergebnisse werden gewöhnlich mit einer Glanzbildnerkonzentration von etwa 0,005 bis 0,05 g je Liter Bad erhalten.
Tabelle I
Optimaler
Mengenbereich
g/l
(1) Bis-OJ-cyanäthyO-sulfon
Il
NC — CH1- CH, — S-CHj-CH2- CN
O
(2) l^Bis-^-cyanäthylsulfonyO-butan
O O
Il Il
NC-CH1-Ch1-S-C4H8-S-CH2-CH2-CN
I Il
ο ο
(3) Bis-(/i-cyanäthyl)-sulfoxyd
NC-CH2-CH2-S-Ch2-CH2-CN
Il ο
(4) /J-Cyanäthylpropylsulfoxyd
CHs-CH2-CH2-S-CH2-CH2-CN
(5) /S-Cyanäthyl-jS-cyanäthoxyäthyl-suhOn
Il
NC-CH2-CH1-O-CH2-CH2-S-CH2-CH2-Cn
Il
(6) Bis-09-cyanäthoxyäthyl)-sulfon
Il
NC-CH1-CH1-O-CH2-CH2-S-CH2-CH2-O-CH2-CH2-Cn
Il
0,005 bis 0,03
0,005 bis 0,03
0,005 bis 0,03
0,008 bis 0,05
0,008 bis 0,05
0,008 bis 0,05
Das zweite Zusatzmittel, das mit dem Glanzbildner in den galvanischen, sauren Nickelbädern zusammenwirkt, gehört in die Klasse der organischen Sulfonamide, Sulfimide und Sulfonate. Die organischen Sulfonate, Sulfimide und Sulfonamide gemäß der Erfindung umfassen aromatische und ungesättigte aliphatische Sulfonate, Sulfonamide und Sulfimide. Zu den »aromatischen und ungesättigten aliphatischen Sulfonate«, Sutfonamiden und Sulfimiden« gehören die Säuren und deren Salze, wie ihre Natrium-, Kalium-, Nickel-, Kobalt- und Eisensalze. Speziell gehören zu dieser Klasse Aryl- und ungesättigte Alkylsulfonate, -sulfimide und -sulfonamide und die vorgenannten Salze derselben, wobei die Kohlenstoffzahl jedes Arylkerns 6 bis 10 und jeder ungesättigten Alkylgruppe 1 bis 10 beträgt, und die Substitutionsprodukte der vorstehenden Produkte, deren Substituenten Alkylgruppen mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Chlor, CHO
5 6
bzw. Phenyl sind. Die organischen Sulfonamide, in dem Bad (z. B. in einem Bad aus 240 g NiSO4- 6 H2O,
Sulfimide und Sulfonate werden häufig auf dem 37,5 g NiCl2 · 6H2O, 37,5 g H3BO3, Wasser auf 11) von
Gebiete der galvanischen Vernickelung als »Träger« mindestens 0,05 g/l.
oder »Lenkungsmittel« bezeichnet, und diese Bezeich- Typische Verbindungen, welche die Aryl- und unge-
nungen sind dementsprechend auch hier an einigen 5 sättigten Alkylsulfonamide, -sulfimide und -sulfonate
Stellen gebraucht. Diese Träger ergeben auch ohne erläutern, sind in der Tabelle II genannt. In bezug auf
zusammenwirkenden Glanzbildner einen gewissen die aromatischen Sulfonsäuren und Sulfonamide und
Glanzgrad. Sie ergeben jedoch bei alleinigem Einsatz Sulfimide sind in den genannten Formeln verschiedene
als Glanzbildner in sauren Nickelbädern keinen Ringsubstituenten offensichtlich. .
solchen Glanz, daß man die Abscheidung als voll- io Die Menge des in dem sauren Nickelbad gelösten
glänzenden Niederschlag oder Glanzniederschlag be- Trägers reicht von 0,05 bis 20 g/l, wobei man die besten
trachten könnte. Diese Träger, welche diese zweite Ergebnisse mit etwa 2 bis 5 g/l erhält.
Klasse der Zusatzmittel bilden, haben eine Löslichkeit
Tabelle II
Aromatische Sulfonamide
Benzolmonosulfonamid C6H5SO2NH2
Saccharin, Na-SaIz C6H4SO2CONNa
p-Toluolsulfonamid CH3C6H4SO2NH2
Trichlordibenzolsulfonamid Cl2C6H3SO2NHSO2C6H4Cl
Di-ß-naphthalinsulfonamid C10H7SO2NHSO8C10H7
4-Carboxydibenzolsulfonamid C6H5SO2NHSO2C6H4COOH
N,N'-Bis-(phenylsulfonyl)-4,4'-diphenyldisulfonamid C6H5SO2NHSo2C6H4C6H4SO8NHSO8C6H6
p,p'-Oxy-bis-(dibenzolsulfonamid) C6H5SO2NHSo2C6H4OC6H4SO2NHSO2C6H5
p,p'-Methylen-bis-(dibenzolsulfonamid) C6H5SO2NHSO2C6H4CH8C6H4SO2NHSOiCiH6
Aromatische Sulfonate
Benzolmonosulfonsäure C6H5SO3H
Benzoldisulfonsäure C6H4(SO3H)2
Nickelnaphthalindisulfonat C10H6(SO2O)2Ni
Kobaltnaphthalindisulfonat (C6H5SO3)2Co
Nickelbenzolmonosulfonat (CeH5SOs)2Ni
Dichlorbenzoldisulfonsäure Cl2C6H2(SO3H)8
Toluolsulfonsäure CH8C6H4SO8H
Diphenylsulfonsäure C6H5C6H4SO3H
Thiophensulfonsäure C4H3S · SO3H
Diphenylsulfon C6H5SO2C6H8
Naphthalintrisulfonsäure C10H5(SO2OH)3
Ungesättigte aliphatische Sulfonamide und Sulfonsäuren
Natriumvinylsulfonat H2C = CHSO3Na
Natriumallylsulfonat H2C = CHCH2SO3Na
Vinylsulfonamid H2C = CHSO2NH2
Allylsulfonamid H2C = CHCH8SO2NH2
Gegebenenfalls können dem Bad Netzmittel wie Durch Zusatz von Cumarin oder bestimmten Natriumlaurylsulfat oder das Natriumsulfatderivat des Derivaten desselben zum Bad in Mengen von 0,03 bis 7-Äthyl-2-methyl-undecanol-4 odef der Dihexylester 0,25, insbesondere etwa 0,1 g/l erhält man eingeebnete, der Natriumsulfobernsteinsäure zur Erzielung beson- glänzende, duktile Nickelniederschläge von hervorders guter Ergebnisse zugesetzt werden, wenngleich 6o ragender Glätte. So kann man mit substituierten Cuauch ihre Verwendung nicht entscheidend ist und die marinderivaten arbeiten, deren Substituenten Alkyl-Kraterbildung auch mit anderen Netzmitteln oder oder Acylgruppen mit nicht mehr als 4 Kohlenstoff-Gemischen von Netzmitteln gesteuert werden kann. atomen, Halogen, Oxy- oder Carboxygruppen sind. Bei einigen Zwecken ist die Kraterbildung kein Typische Beispiele für substituierte Cumarine sind Hindernis, und manchmal ist die Kraterbildung sehr 65 4-Methylcumarin, 6-Chlorcumarin, 3-Acetylcumarin, gering. Cumarin-3-carbonsäure, 4,8-Dimethylcumarin, 7-Oxy-
Erwünscht ist noch als weiterer Badbestandteil ein cumarin, 6-Carboxycumarin, 3-Chlorcumarin, 3-Brom-
Puffer, wie Borsäure, Ameisensäure od. dgl. cumarin und 3-Methylcumarin.
Als Grundbäder sind folgende Bäder geeignet: Sulfatbad
NiSO4 · 7H1O 100 bis 400,
vorzugsweise 200 bis 300 g
Borsäure 0 bis 60,
vorzugsweise 10 bis 40 g
Netzmittel (z. B. Natriumlaurylsulfat) 0 bis 0,5,
vorzugsweise 0,05 bis 0,2 g
I' H1O auf 1000cm3
Chloridbad
NiCl1 · 6H1O 50 bis 250,
vorzugsweise 100 bis 200 g
Borsäure 0 bis 60,
vorzugsweise 10 bis 40 g
Netzmittel (z. B. Natriumlaurylsulfat) 0 bis 0,5,
vorzugsweise 0,05 bis 0,2 g
H1O ...,.,...., auf 1000cm3
Sulfat-Chlorid-Bad (Wattsches Bad)
NiSO4 · 7H1O r;r,.... 100 bis 400 g,
vorzugsweise 200 bis 300 g
NiQ1-OH1O . Λ'. 10 bis 60,
: ■ vorzugsweise 25 bis 40 g
Borsäure..' J.:....:... Obis 50;
vorzugsweise 15 bis 40 g
Netzmittel (z. B. Natriumsulfatderivat von
7-Äthyl-2-methylundecanol-4) Obis 0,5,
vorzugsweise 0,025 bis 0,2 g
H1O auf 1000 cm8
Die Bäder können bei den herkömmlichen Bedingungen in bezug auf pH, Temperatur und Kathodenstrom- dichte betrieben werden. Typische Arbeitsbedingungen für die Grundbäder sind:
pH
Temperatur, 0C
Kathodenstromdichte, A/dm*
Sulfatbad
3 bis 4,5 49 bis
2,2 bis 4,3
Chloridbad
2.4 bis 4,5 38 bis
6.5 bis 21,5
Wattsches Bad
3 bis 4,5
43 bis
3,2 bis 7,5 Die Tabelle III erläutert spezielle Beispiele für galvanische Bäder, die verschiedene zusammenwirkende Glanzbildner und Träger enthalten, zusammen mit den Arbeitsbedingungen für die Erzielung von duktilen Glanznickelniederschlägen. In jedem Falle wird ein Glanznickelniederschlag von 0,0013 bis etwa 0,025 mm oder größerer Dicke erhalten, wenn man in dem Bad eine Kathode aus geschwabbeltem Messing einsetzt. Ähnliche Ergebnisse können mit anderen Kathodenarten erhalten werden, wie man sie in herkömmlicher Weise bei der sauren Vernickelung unter Verwendung von Bädern der genannten Art einsetzt.
Tabelle III Nickelsulfat, g/l Nickelchlorid, g/l.... Borsäure, g/l
Allylsulfonsäure, g/l.. Dibenzolsulfonamid
(Ni-SaIz), g/l
Naphthalin-
disulfonat, g/l
Allylsulf onamid, g/l.. Bi-dibenzolsulfon-
amid, g/l
800 00
ro co
ro
300
38
38
SOO OO
ro ro
ro
SOO OO
co co
co
8 00 00
co co
co
OJ
OJ OJ Q
OO 00 ©
8 00 00
co co
co
800 00
co co
ro
SOO 00
ro ro
ro
3
2 2 2 2
3 3 3 3 3
10 300
38
Tabellen! (Fortsetzxmg)
Dibenzolsulfon-
amidäther, g/l. Saccharin
(Na-SaIz), g/l.. Toluolsulfonamid, g/l Bis-(ß-cyanäthyl)-
sulfon, g/l
1,4-Bis-(|8-cyanäthyl-
sulfonyl)-butan, g/l. Bis-(/S-cyanäthyl>
sulfoxyd, g/l
ß-Cyanäthylpropyl-
sulfoxyd, g/l
ß-Cyanäthyl-zS-cyanäthoxy-äthyl-
sulfon, g/l
Bis-(j3-cyanäthoxyäthyl)-sulfon, g/l...
Cumarin, g/l
Kathodenstromdichte, A/dm2
Temperatur, 0C
Bewegung*)
*)KS = Kathodenstab
3 3 0,01 3 0,005 0,015 0,01 0,01
1
0,01 0,0075
5,4
60
KS
5,4
60
KS
0,010 0,05 5,4
60
KS
5,4
60
KS
0,015 10,8
66
Luft
0,1
5,4
60
KS
5,4
60
KS
10,8
71
Luft
5,4
60
KS
Tabelle III, 2. Teil
3 2
0,015
10,8 60 KS
Nickelsulfat, g/l 10 300 300 300 300 300 300 300 300 300
Nickelchlorid, g/l 300 38 38 38 38 38 38 38 38 38
Borsäure, g/l 38 38 38 38 38 38 38 38 38 38
Allylsulfonsäure, g/l.. 1 1
Dibenzolsulfonamid
(Ni-SaIz), g/l
Naphthalin-
disulfonat, g/l 1 1
Allylsulfonamid, g/l.. 1
Bi-dibenzol-
sulfonamid, g/l 2 3 3 3
Dibenzolsulfon-
amidäther, g/l 3 3 3 3
Saccharin
(Na-SaIz), s/l 2
Toluolsulfonamid, g/l
Bis-(/S-cyanäthyl>
sulfon, k/1 0,01 0,01
l,4-Bis-(/?-cyanäthyl-
sulfonyl)-butan, g/l 0,005 0,01
Bis-dß-cyanäthyl)-
sulfoxyd, ε/1 0,0075 0,01
/3-Cyanäthylpropyl-
sulfoxyd, g/l 0,015
/J-Cyanäthyl-ß-cyan-
äthoxy-äthyl-
sulfon 2.11 . 0,02
Bis-(/?-cyanäthoxy-
äthyl)-sulfon, g/l... 0,02 0,015
Cumarin, g/l 0,05 0,05
Kathodenstrom-
dichte, A/dm2 16,2 5,4 5,4 5,4 5,4 5,4 5,4 5,4 5,4 5,4
Temperatur, c C 60 60 60 60 60 60 60 60 60 60
Bewegung*) Luft KS KS Luft KS KS KS KS KS KS
*)KS = Kathodenstab
51» 537/336

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Wäßriges Bad für die galvanische Vernickelung, das als Nickelelektrolyt Nickelsulfat und/oder Nickelchlorid und als zusammenwirkende Glanzbildner mindestens eine Verbindung aus der Klasse der aromatischen oder ungesättigten aliphatischen Sulfonate, Sulfonamide bzw. Sulfimid in Mengen von 0,05 bis 20 g/l des Bades zusammen mit einem zusätzlichen Glanzbildner enthält, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad als zusätzlichen Glanzbildner 0,0005 bis 0,10 g einer Verbindung der Formel
io
i5
in welcher A gleich H, CN —, CN — (CH^—O— bzw. CN — (CH2),, — X — und B gleich — CN, CN — (CH2)P — O — bzw. CN — (CH2)P — X — ist, m, η und ρ ganze Zahlen von 1 bis 4 bedeuten so und X von
bzw.
gebildet wird, je Liter des Bades enthält.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als zusätzlichen Glanzbildner eine solche Verbindung enthält, bei der A und B das Radikal — CN bedeuten.
3. Bad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich Netzmittel und/oder als Einebnungsmittel Cumarin bzw. Cumarindeiivate in einer Menge von 0,03 bis 0,25 g/l, insbesondere 0,1 g/l, enthält.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 900 037.
509 537/336 3.65 © Bundesdruckerei Berlin
DEH42365A 1960-04-22 1961-04-20 Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung Pending DE1190287B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US23900A US2994648A (en) 1960-04-22 1960-04-22 Nickel plating additives

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1190287B true DE1190287B (de) 1965-04-01

Family

ID=21817827

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEH42365A Pending DE1190287B (de) 1960-04-22 1961-04-20 Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US2994648A (de)
DE (1) DE1190287B (de)
GB (1) GB898774A (de)
NL (2) NL263657A (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3254007A (en) * 1963-02-05 1966-05-31 Hanson Van Winkle Munning Co Electrodeposition of nickel
US3417005A (en) * 1965-12-27 1968-12-17 Gen Motors Corp Neutral nickel-plating process and bath therefor
US4053373A (en) * 1975-07-09 1977-10-11 M & T Chemicals Inc. Electroplating of nickel, cobalt, nickel-cobalt, nickel-iron, cobalt-iron and nickel-iron-cobalt deposits
US4046647A (en) * 1976-06-17 1977-09-06 M&T Chemicals Inc. Additive for improved electroplating process
JP4906957B1 (ja) * 2010-12-07 2012-03-28 日本特殊陶業株式会社 スパークプラグ

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE900037C (de) * 1950-08-16 1953-12-17 Udylite Corp Galvanische Vernicklung

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2467580A (en) * 1943-08-21 1949-04-19 Udylite Corp Electrodeposition of nickel
DE1071439B (de) * 1957-09-23 1959-12-17 The Udylite Research Corporation, Detroit, Mich. (V. St. A.) Saures Bad zum galvanischen Abscheiden von Nickelüberzügen

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE900037C (de) * 1950-08-16 1953-12-17 Udylite Corp Galvanische Vernicklung

Also Published As

Publication number Publication date
NL263657A (de)
GB898774A (en) 1962-06-14
US2994648A (en) 1961-08-01
NL126849C (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2837472A (en) Brighteners for electroplating baths
DE1053274B (de) Bad zur Herstellung von galvanischen Metallueberzuegen
DE1771228C3 (de) Galvanische Kupfer-Pyrophosphatbäder
DE1007592B (de) Bad zur Herstellung von galvanischen Metallueberzuegen
DE69917620T2 (de) Ductilität verbessernde additive für nickel-wolframlegierungen
DE2630980A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen abscheidung einer eisenlegierung
DE1190287B (de) Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung
DE2537065C2 (de)
DE1106139B (de) Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Nickelueberzuegen
DE1133208B (de) Saures galvanisches Nickelbad
DE2366419C2 (de)
US3220940A (en) Electrodeposition of nickel
DE2541304A1 (de) Verfahren und bad zur galvanischen abscheidung von eisenlegierungen
DE1496919C3 (de) Wäßriges galvanisches Nickelbad
US3401097A (en) Electrodeposition of nickel
DE1496817B1 (de) Galvanisches Nickelbad
DE971335C (de) Glanzvernickelung
EP0163944A2 (de) Wässrige, saure, Nickel- und Cobalt-Ionen enthaltende Elektrolyte zur galvanischen Abscheidung von harten, anlaufbeständigen, weiss glänzenden Legierungsüberzügen
US3429789A (en) Carbamate containing acid nickel plating bath
DE2943028C2 (de)
AT202829B (de) Verfahren zur Herstellung von galvanischen Metallüberzügen
US2839456A (en) Electroplating
DE1496827B1 (de) Verbunderzeugnis aus einem metallischen Grundkoerper und drei galvanisch abgeschiedenen Nickelschichten
JPS6252035B2 (de)
DE2740592B1 (de) Galvanisches Zinkbad