DE1190287B - Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung - Google Patents
Waessriges Bad fuer die galvanische VernickelungInfo
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
Int. α.:
C23b
Deutsche KL: 48 a-5/08
Nummer:
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Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
1190287
H42365VIb/48a
20. April 1961
!.April 1965
H42365VIb/48a
20. April 1961
!.April 1965
Es ist bekannt, bei der galvanischen Vernickelung neben einem Lenkungsmittel (Sulfonamid, Sulfonimid
oder Sulfonsäure) noch vollständig veresterte aliphatische Ester von ungesättigten aliphatischen Polycarbonsäuren
als Glanzbildner zu verwenden. Diese Zusatzkombination hat den Nachteil, daß man eine
sehr hohe Konzentration benutzen muß und daß der Glanz der Nickelabscheidung nicht so gut ist wie bei
Verwendung des Bades nach der Erfindung. Die mit dieser bekannten Kombination erhaltenen Überzüge
entsprechen in ihrer Qualität etwa den Überzügen, die man bei Verwendung von Cumarin und einem Lenkungsmittel
erhält.
Gleichfalls bekannt ist es, beim galvanischen Abscheiden von Nickel neben einem Lenkungsmittel als
weiteres Zusatzmittel Nitrile, die Sauerstoffatome ätherartig gebunden enthalten, zu verwenden. Versuche
mit solchen Nitrilen wie
Wäßriges Bad für die galvanische Vernickdung
Anmelder:
The Harshaw Chemical Company,
Cleveland, Ohio (V. St. A.)
Vertreter:
Dr.-Ing. W. Abitz, Patentanwalt,
München 27, Pienzenauer Str. 28
Als Erfinder benannt:
Arthur Harry Du Rose, Euclid, Ohio (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 22. April 1960 (23 900)
CH3
1.HCsC-C-O-CH2-CH2-CN
i
CH3
CH3
2. NC —(CH^2-O-CH2-Cs C-CH2-Ο —(CH2J2-CN
CH3
3. C6H5-CH-O-CH2-CH2-CN
ergaben zusammen mit einem Lenkungsmittel jedoch sehr spröde und schlechte Überzüge.
Weiterhin wurden als Glanzgeber auch einfache Nitrile, wobei man verhältnismäßig große Konzentrationen
von 0,1 bis 1 g/l einsetzen muß, verwendet. Bei Verwendung von derartigen einfachen Nitrilen
erhält man nach kurzer Zeit Überzüge, deren Glanz schlecht ist und die spröde werden, da sich im Bad in
größeren Mengen Zersetzungsprodukte der Nitrile bilden. Auch das Einebnungsvermögen dieser Kombination
ist nicht zufriedenstellend.
Gegenstand der Erfindung ist ein wäßriges Bad für die galvanische Vernickelung, das Nickelsulfat und/
oder Nickelchlorid und als zusammenwirkende Glanzbildner mindestens eine Verbindung aus der Klasse der
aromatischen oder ungesättigten aliphatischen Sulfonate, Sulfonamide bzw. Sulfimid in Mengen von 0,05
bis 20 g/l des Bades zusammen mit einem zusätzlichen Glanzbildner enthält, das dadurch gekennzeichnet ist,
daß das Bad als zusätzlichen Glanzbildner 0,0005 bis 0,10 g einer Verbindung der Formel
A — [(CH2)* — X — (CH2),*] — B
in welcher A gleich H, CN —, CN — (CHg)1, — O —
bzw. CN-(CH2)P-X- und B gleich —CN,
CN — (CH2)J, — O — bzw. CN — (CH2)J, — X — ist,
m, η und/» ganze Zahlen von 1 bis 4 bedeuten und X von
45
— S-
Il
ο
bzw. — S —
gebildet wird, je Liter des Bades enthält.
Gemäß der Erfindung können ausgezeichnet glänzende, duktile und glatte Nickelabscheidungen in
509 537/336
einem breiten Kathodenstromdichtebereich erhalten werden.
Bevorzugt werden die symmetrischen Formen
NC — (CHa)n — X — (CH2),, — CN
NC — (CHa)n — X — (CH2),, — CN
diese Verbindungen können auch als Sulfonylalkylennitrile und Sulfinylalkylennitrile bezeichnet werden.
Typische Glanzbildner gemäß der Erfindung nennt die Tabelle I, ferner den optimalen Mengenbereich, in
dem jeder Glanzbildner in dem Bad gelöst werden sollte, in Gramm Glanzbildner je Liter Bad. Optimale
Ergebnisse werden gewöhnlich mit einer Glanzbildnerkonzentration von etwa 0,005 bis 0,05 g je Liter Bad
erhalten.
Optimaler
Mengenbereich
g/l
(1) Bis-OJ-cyanäthyO-sulfon
Il
NC — CH1- CH, — S-CHj-CH2- CN
O
O
(2) l^Bis-^-cyanäthylsulfonyO-butan
O O
Il Il
NC-CH1-Ch1-S-C4H8-S-CH2-CH2-CN
I Il
ο ο
(3) Bis-(/i-cyanäthyl)-sulfoxyd
NC-CH2-CH2-S-Ch2-CH2-CN
NC-CH2-CH2-S-Ch2-CH2-CN
Il
ο
(4) /J-Cyanäthylpropylsulfoxyd
CHs-CH2-CH2-S-CH2-CH2-CN
CHs-CH2-CH2-S-CH2-CH2-CN
(5) /S-Cyanäthyl-jS-cyanäthoxyäthyl-suhOn
Il
NC-CH2-CH1-O-CH2-CH2-S-CH2-CH2-Cn
Il
(6) Bis-09-cyanäthoxyäthyl)-sulfon
Il
NC-CH1-CH1-O-CH2-CH2-S-CH2-CH2-O-CH2-CH2-Cn
Il
0,005 bis 0,03
0,005 bis 0,03
0,005 bis 0,03
0,008 bis 0,05
0,008 bis 0,05
0,008 bis 0,05
Das zweite Zusatzmittel, das mit dem Glanzbildner in den galvanischen, sauren Nickelbädern zusammenwirkt,
gehört in die Klasse der organischen Sulfonamide, Sulfimide und Sulfonate. Die organischen
Sulfonate, Sulfimide und Sulfonamide gemäß der Erfindung umfassen aromatische und ungesättigte
aliphatische Sulfonate, Sulfonamide und Sulfimide. Zu den »aromatischen und ungesättigten aliphatischen
Sulfonate«, Sutfonamiden und Sulfimiden« gehören die Säuren und deren Salze, wie ihre Natrium-,
Kalium-, Nickel-, Kobalt- und Eisensalze. Speziell gehören zu dieser Klasse Aryl- und ungesättigte Alkylsulfonate,
-sulfimide und -sulfonamide und die vorgenannten Salze derselben, wobei die Kohlenstoffzahl
jedes Arylkerns 6 bis 10 und jeder ungesättigten Alkylgruppe
1 bis 10 beträgt, und die Substitutionsprodukte der vorstehenden Produkte, deren Substituenten Alkylgruppen
mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Chlor, CHO
5 6
bzw. Phenyl sind. Die organischen Sulfonamide, in dem Bad (z. B. in einem Bad aus 240 g NiSO4- 6 H2O,
Sulfimide und Sulfonate werden häufig auf dem 37,5 g NiCl2 · 6H2O, 37,5 g H3BO3, Wasser auf 11) von
Gebiete der galvanischen Vernickelung als »Träger« mindestens 0,05 g/l.
oder »Lenkungsmittel« bezeichnet, und diese Bezeich- Typische Verbindungen, welche die Aryl- und unge-
nungen sind dementsprechend auch hier an einigen 5 sättigten Alkylsulfonamide, -sulfimide und -sulfonate
Stellen gebraucht. Diese Träger ergeben auch ohne erläutern, sind in der Tabelle II genannt. In bezug auf
zusammenwirkenden Glanzbildner einen gewissen die aromatischen Sulfonsäuren und Sulfonamide und
Glanzgrad. Sie ergeben jedoch bei alleinigem Einsatz Sulfimide sind in den genannten Formeln verschiedene
als Glanzbildner in sauren Nickelbädern keinen Ringsubstituenten offensichtlich. .
solchen Glanz, daß man die Abscheidung als voll- io Die Menge des in dem sauren Nickelbad gelösten
glänzenden Niederschlag oder Glanzniederschlag be- Trägers reicht von 0,05 bis 20 g/l, wobei man die besten
trachten könnte. Diese Träger, welche diese zweite Ergebnisse mit etwa 2 bis 5 g/l erhält.
Klasse der Zusatzmittel bilden, haben eine Löslichkeit
Klasse der Zusatzmittel bilden, haben eine Löslichkeit
Tabelle II
Aromatische Sulfonamide
Aromatische Sulfonamide
Benzolmonosulfonamid C6H5SO2NH2
Saccharin, Na-SaIz C6H4SO2CONNa
p-Toluolsulfonamid CH3C6H4SO2NH2
Trichlordibenzolsulfonamid Cl2C6H3SO2NHSO2C6H4Cl
Di-ß-naphthalinsulfonamid C10H7SO2NHSO8C10H7
4-Carboxydibenzolsulfonamid C6H5SO2NHSO2C6H4COOH
N,N'-Bis-(phenylsulfonyl)-4,4'-diphenyldisulfonamid C6H5SO2NHSo2C6H4C6H4SO8NHSO8C6H6
p,p'-Oxy-bis-(dibenzolsulfonamid) C6H5SO2NHSo2C6H4OC6H4SO2NHSO2C6H5
p,p'-Methylen-bis-(dibenzolsulfonamid) C6H5SO2NHSO2C6H4CH8C6H4SO2NHSOiCiH6
Aromatische Sulfonate
Benzolmonosulfonsäure C6H5SO3H
Benzoldisulfonsäure C6H4(SO3H)2
Nickelnaphthalindisulfonat C10H6(SO2O)2Ni
Kobaltnaphthalindisulfonat (C6H5SO3)2Co
Nickelbenzolmonosulfonat (CeH5SOs)2Ni
Dichlorbenzoldisulfonsäure Cl2C6H2(SO3H)8
Toluolsulfonsäure CH8C6H4SO8H
Diphenylsulfonsäure C6H5C6H4SO3H
Thiophensulfonsäure C4H3S · SO3H
Diphenylsulfon C6H5SO2C6H8
Naphthalintrisulfonsäure C10H5(SO2OH)3
Ungesättigte aliphatische Sulfonamide und Sulfonsäuren
Natriumvinylsulfonat H2C = CHSO3Na
Natriumallylsulfonat H2C = CHCH2SO3Na
Vinylsulfonamid H2C = CHSO2NH2
Allylsulfonamid H2C = CHCH8SO2NH2
Gegebenenfalls können dem Bad Netzmittel wie Durch Zusatz von Cumarin oder bestimmten
Natriumlaurylsulfat oder das Natriumsulfatderivat des Derivaten desselben zum Bad in Mengen von 0,03 bis
7-Äthyl-2-methyl-undecanol-4 odef der Dihexylester 0,25, insbesondere etwa 0,1 g/l erhält man eingeebnete,
der Natriumsulfobernsteinsäure zur Erzielung beson- glänzende, duktile Nickelniederschläge von hervorders
guter Ergebnisse zugesetzt werden, wenngleich 6o ragender Glätte. So kann man mit substituierten Cuauch
ihre Verwendung nicht entscheidend ist und die marinderivaten arbeiten, deren Substituenten Alkyl-Kraterbildung
auch mit anderen Netzmitteln oder oder Acylgruppen mit nicht mehr als 4 Kohlenstoff-Gemischen
von Netzmitteln gesteuert werden kann. atomen, Halogen, Oxy- oder Carboxygruppen sind.
Bei einigen Zwecken ist die Kraterbildung kein Typische Beispiele für substituierte Cumarine sind
Hindernis, und manchmal ist die Kraterbildung sehr 65 4-Methylcumarin, 6-Chlorcumarin, 3-Acetylcumarin,
gering. Cumarin-3-carbonsäure, 4,8-Dimethylcumarin, 7-Oxy-
Erwünscht ist noch als weiterer Badbestandteil ein cumarin, 6-Carboxycumarin, 3-Chlorcumarin, 3-Brom-
Puffer, wie Borsäure, Ameisensäure od. dgl. cumarin und 3-Methylcumarin.
Als Grundbäder sind folgende Bäder geeignet: Sulfatbad
NiSO4 · 7H1O 100 bis 400,
vorzugsweise 200 bis 300 g
Borsäure 0 bis 60,
vorzugsweise 10 bis 40 g
Netzmittel (z. B. Natriumlaurylsulfat) 0 bis 0,5,
vorzugsweise 0,05 bis 0,2 g
I' H1O auf 1000cm3
NiCl1 · 6H1O 50 bis 250,
vorzugsweise 100 bis 200 g
Borsäure 0 bis 60,
vorzugsweise 10 bis 40 g
Netzmittel (z. B. Natriumlaurylsulfat) 0 bis 0,5,
vorzugsweise 0,05 bis 0,2 g
H1O ...,.,...., auf 1000cm3
NiSO4 · 7H1O r;r,.... 100 bis 400 g,
vorzugsweise 200 bis 300 g
NiQ1-OH1O . Λ'. 10 bis 60,
: ■ vorzugsweise 25 bis 40 g
Borsäure..' J.:....:... Obis 50;
vorzugsweise 15 bis 40 g
Netzmittel (z. B. Natriumsulfatderivat von
7-Äthyl-2-methylundecanol-4) Obis 0,5,
vorzugsweise 0,025 bis 0,2 g
H1O auf 1000 cm8
Die Bäder können bei den herkömmlichen Bedingungen in bezug auf pH, Temperatur und Kathodenstrom-
dichte betrieben werden. Typische Arbeitsbedingungen für die Grundbäder sind:
pH
Temperatur,
0C
Kathodenstromdichte, A/dm*
Sulfatbad
3 bis 4,5 49 bis
2,2 bis 4,3
Chloridbad
2.4 bis 4,5 38 bis
6.5 bis 21,5
Wattsches Bad
3 bis 4,5
43 bis
3,2 bis 7,5 Die Tabelle III erläutert spezielle Beispiele für
galvanische Bäder, die verschiedene zusammenwirkende Glanzbildner und Träger enthalten, zusammen
mit den Arbeitsbedingungen für die Erzielung von duktilen Glanznickelniederschlägen. In jedem Falle
wird ein Glanznickelniederschlag von 0,0013 bis etwa 0,025 mm oder größerer Dicke erhalten, wenn man in
dem Bad eine Kathode aus geschwabbeltem Messing einsetzt. Ähnliche Ergebnisse können mit anderen
Kathodenarten erhalten werden, wie man sie in herkömmlicher Weise bei der sauren Vernickelung unter
Verwendung von Bädern der genannten Art einsetzt.
Allylsulfonsäure, g/l..
Dibenzolsulfonamid
(Ni-SaIz), g/l
disulfonat, g/l
Allylsulf onamid, g/l.. Bi-dibenzolsulfon-
amid, g/l
800 00 ro co ro |
300 38 38 |
SOO OO ro ro ro |
SOO OO co co co |
8 00 00 co co co |
OJ
OJ OJ Q OO 00 © |
8 00 00 co co co |
800 00 co co ro |
SOO 00 ro ro ro |
3 | ||||||||
2 | 2 | 2 | 2 | |||||
3 | 3 | 3 | 3 | 3 |
10
300
38
Tabellen! (Fortsetzxmg)
Dibenzolsulfon-
amidäther, g/l. Saccharin
(Na-SaIz), g/l.. Toluolsulfonamid, g/l Bis-(ß-cyanäthyl)-
sulfon, g/l
1,4-Bis-(|8-cyanäthyl-
sulfonyl)-butan, g/l. Bis-(/S-cyanäthyl>
sulfoxyd, g/l
ß-Cyanäthylpropyl-
sulfoxyd, g/l
ß-Cyanäthyl-zS-cyanäthoxy-äthyl-
sulfon, g/l
Bis-(j3-cyanäthoxyäthyl)-sulfon, g/l...
Cumarin, g/l
Kathodenstromdichte, A/dm2
Temperatur, 0C
Bewegung*)
*)KS = Kathodenstab
3 | 3 | 0,01 | 3 | 0,005 | 0,015 | 0,01 | 0,01 | |
1 | ||||||||
0,01 | 0,0075 | |||||||
5,4 60 KS |
||||||||
5,4 60 KS |
||||||||
0,010 | 0,05 | 5,4 60 KS |
||||||
5,4 60 KS |
0,015 | 10,8 66 Luft |
||||||
0,1 | ||||||||
5,4 60 KS |
5,4 60 KS |
10,8 71 Luft |
5,4 60 KS |
|||||
Tabelle III, 2. Teil
3 2
0,015
10,8 60 KS
Nickelsulfat, g/l | 10 | 300 | 300 | 300 | 300 | 300 | 300 | 300 | 300 | 300 |
Nickelchlorid, g/l | 300 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 |
Borsäure, g/l | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 | 38 |
Allylsulfonsäure, g/l.. | 1 | 1 | ||||||||
Dibenzolsulfonamid | ||||||||||
(Ni-SaIz), g/l | ||||||||||
Naphthalin- | ||||||||||
disulfonat, g/l | 1 | 1 | ||||||||
Allylsulfonamid, g/l.. | 1 | |||||||||
Bi-dibenzol- | ||||||||||
sulfonamid, g/l | 2 | 3 | 3 | 3 | ||||||
Dibenzolsulfon- | ||||||||||
amidäther, g/l | 3 | 3 | 3 | 3 | ||||||
Saccharin | ||||||||||
(Na-SaIz), s/l | 2 | |||||||||
Toluolsulfonamid, g/l | ||||||||||
Bis-(/S-cyanäthyl> | ||||||||||
sulfon, k/1 | 0,01 | 0,01 | ||||||||
l,4-Bis-(/?-cyanäthyl- | ||||||||||
sulfonyl)-butan, g/l | 0,005 | 0,01 | ||||||||
Bis-dß-cyanäthyl)- | ||||||||||
sulfoxyd, ε/1 | 0,0075 | 0,01 | ||||||||
/3-Cyanäthylpropyl- | ||||||||||
sulfoxyd, g/l | 0,015 | |||||||||
/J-Cyanäthyl-ß-cyan- | ||||||||||
äthoxy-äthyl- | ||||||||||
sulfon 2.11 . | 0,02 | |||||||||
Bis-(/?-cyanäthoxy- | ||||||||||
äthyl)-sulfon, g/l... | 0,02 | 0,015 | ||||||||
Cumarin, g/l | 0,05 | 0,05 | ||||||||
Kathodenstrom- | ||||||||||
dichte, A/dm2 | 16,2 | 5,4 | 5,4 | 5,4 | 5,4 | 5,4 | 5,4 | 5,4 | 5,4 | 5,4 |
Temperatur, c C | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 | 60 |
Bewegung*) | Luft | KS | KS | Luft | KS | KS | KS | KS | KS | KS |
*)KS = Kathodenstab
51» 537/336
Claims (3)
1. Wäßriges Bad für die galvanische Vernickelung, das als Nickelelektrolyt Nickelsulfat und/oder
Nickelchlorid und als zusammenwirkende Glanzbildner mindestens eine Verbindung aus der Klasse
der aromatischen oder ungesättigten aliphatischen Sulfonate, Sulfonamide bzw. Sulfimid in Mengen
von 0,05 bis 20 g/l des Bades zusammen mit einem zusätzlichen Glanzbildner enthält, dadurch
gekennzeichnet, daß das Bad als zusätzlichen Glanzbildner 0,0005 bis 0,10 g einer Verbindung
der Formel
io
i5
in welcher A gleich H, CN —, CN — (CH^—O—
bzw. CN — (CH2),, — X — und B gleich — CN,
CN — (CH2)P — O — bzw. CN — (CH2)P — X —
ist, m, η und ρ ganze Zahlen von 1 bis 4 bedeuten so
und X von
bzw.
gebildet wird, je Liter des Bades enthält.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als zusätzlichen Glanzbildner eine
solche Verbindung enthält, bei der A und B das Radikal — CN bedeuten.
3. Bad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich Netzmittel und/oder als
Einebnungsmittel Cumarin bzw. Cumarindeiivate in einer Menge von 0,03 bis 0,25 g/l, insbesondere
0,1 g/l, enthält.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 900 037.
Deutsche Patentschrift Nr. 900 037.
509 537/336 3.65 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US23900A US2994648A (en) | 1960-04-22 | 1960-04-22 | Nickel plating additives |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1190287B true DE1190287B (de) | 1965-04-01 |
Family
ID=21817827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (4)
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DE (1) | DE1190287B (de) |
GB (1) | GB898774A (de) |
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Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3254007A (en) * | 1963-02-05 | 1966-05-31 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
US3417005A (en) * | 1965-12-27 | 1968-12-17 | Gen Motors Corp | Neutral nickel-plating process and bath therefor |
US4053373A (en) * | 1975-07-09 | 1977-10-11 | M & T Chemicals Inc. | Electroplating of nickel, cobalt, nickel-cobalt, nickel-iron, cobalt-iron and nickel-iron-cobalt deposits |
US4046647A (en) * | 1976-06-17 | 1977-09-06 | M&T Chemicals Inc. | Additive for improved electroplating process |
JP4906957B1 (ja) * | 2010-12-07 | 2012-03-28 | 日本特殊陶業株式会社 | スパークプラグ |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE900037C (de) * | 1950-08-16 | 1953-12-17 | Udylite Corp | Galvanische Vernicklung |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2467580A (en) * | 1943-08-21 | 1949-04-19 | Udylite Corp | Electrodeposition of nickel |
DE1071439B (de) * | 1957-09-23 | 1959-12-17 | The Udylite Research Corporation, Detroit, Mich. (V. St. A.) | Saures Bad zum galvanischen Abscheiden von Nickelüberzügen |
-
0
- NL NL126849D patent/NL126849C/xx active
- NL NL263657D patent/NL263657A/xx unknown
-
1960
- 1960-04-22 US US23900A patent/US2994648A/en not_active Expired - Lifetime
-
1961
- 1961-04-04 GB GB12042/61A patent/GB898774A/en not_active Expired
- 1961-04-20 DE DEH42365A patent/DE1190287B/de active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE900037C (de) * | 1950-08-16 | 1953-12-17 | Udylite Corp | Galvanische Vernicklung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL263657A (de) | |
GB898774A (en) | 1962-06-14 |
US2994648A (en) | 1961-08-01 |
NL126849C (de) |
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