DE2943028C2 - - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
- C25D3/16—Acetylenic compounds
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Description
Die Erfindung betrifft ein wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von
glänzenden und eingeebneten Nickelüberzügen gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 und ein Verfahren
zu seiner Verwendung.
In der Industrie der galvanischen Vernicklung sind bereits verschiedene
Verfahren zur Einsparung von Nickel und zur Verringerung
der Kosten entwickelt worden. Bei einigen dieser Verfahren
wird die Stärke des abgeschiedenen Nickels verringert
oder wird Kobalt anstelle eines Teils oder des gesamten Nickels
eingesetzt, sofern Kobalt billiger und leichter verfügbar ist.
In letzter Zeit ist man auch dazu übergegangen, Nickel/Eisen-,
Kobalt/Eisen- oder Nickel/Kobalt/Eisen-Legierungen galvanisch
abzuscheiden, bei denen bis zu 60% der Abscheidung aus verhältnismäßig
billigem Eisen bestehen können.
Wenn jedoch die Stärke der Abscheidung verringert wird, dann
ist es nötig, kräftigere Glanzzusätze oder höhere Konzentrationen
von Glanzzusätzen zu verwenden, so daß der Grad der Glanzbildung
und Einebnung, an den die galvanische Nickelindustrie gewöhnt
ist, erreicht werden kann. Die kräftigeren Glanzzusätze oder
deren höhere Konzentrationen ergeben zwar die gewünschte Glanzbildung
und Einebnung, können aber unerwünschte Nebeneffekte
mit sich bringen. Die Abscheidungen können sich abschälen oder
hohe Spannungen aufweisen, außerordentlich spröde sein, eine
Verschlechterung einer nachfolgenden Chromabscheidung zur Folge
haben, die Streukraft im Bereich niedriger Stromdichte kann verringert
sein oder bei der Abscheidung ergeben sich Streifen
oder sogar unbeschichtete Bereiche.
Um den schädlichen Wirkungen der kräftigen Glanzzusätze oder
ihrer hohen Konzentrationen zu begegnen, werden in der US-PS
26 54 703 Zusätze verschiedener Sulfinsäuren oder deren Salze
empfohlen. Für den gleichen Zweck werden in der US-PS 36 97 391
organische Hydroxysulfonate genannt.
Leider verringern diese Verbindungen bei den erhaltenen Abscheidungen
den Bereich der Einebnung und Glanzbildung.
Es wurden weitere Versuche unternommen, um die Ergebnisse
im niedrigen Stromdichtebereich zu verbessern, wenn kräftige
Glanzzusätze oder hohe Konzentrationen an Glanzzusätzen verwendet
werden.
Beispiele hierfür sind:
- 1. Die Verwendung von aromatischen Monoaminen, aromatischen Polyaminen und unsubstituierten Polyäthylenpolyaminen (US-PS 36 30 857).
- 2. Die Verwendung von inneren N-(3-Sulfopropyl)-pyridiniumsalzen (US-PS 38 62 019).
- 3. Die Verwendung von N-disubstituiertem Aminopropin oder dessen Hydrochlorid (US-PS 40 54 495).
Zwar verbessern diese Verbindungen die Ergebnisse im Bereich
niedriger Stromdichte, jedoch ergeben auch sie in diesem Bereich
keine Abscheidungen, die vollkommen frei von dunklen bzw. unbeschichteten
Stellen sind.
Aus der US-PS 40 77 855 ist ferner ein wäßriges saures Bad zur
galvanischen Abscheidung von glänzenden und eingeebneten Nickelüberzügen
bekannt, das eine Nickelverbindung, eine dreifach ungesättigte
stickstoffhaltige Verbindung und eine dreifach ungesättigte Sulfoverbindung
sowie ggf. einen primären Glanzzusatz, einen sulfonatfreien
sekundären Glanzzusatz, ein Netzmittel und einen Puffer
enthält. Als dreifach ungesättigte stickstoffhaltige Verbindung
enthalten derartige Bäder Alkinylsubstituenten aufweisende
quaternäre Ammoniumsalze, ggf. mit Betainstruktur. Für die
Mengen derartiger Verbindungen werden Bereiche von 0,01 bis 3,0
g/l empfohlen. Derartige Bäder können außerdem übliche sekundäre
Glanzzusätze in Mengen von 1,0 bis 10,0 g/l enthalten, zu denen
auch dreifach ungesättigte Sulfonate gehören. Weitere an sich
bekannte Glanzzusätze können genau wie Netzmittel und Puffer verwendet
werden. Auch ein solches Bad weist noch Nachteile der für
die vorher erwähnten Bäder genannten Art auf.
Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, ein wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Nickel und ein Verfahren zu seiner Verwendung
zu schaffen, welches für kräftige Glanzzusätze und hohe Konzentrationen
an Glanzzusätzen eine größere Toleranz aufweist, wobei diese
Toleranz ohne Verschlechterung der Einebnungs- und Glanzbildungseigenschaften
und ohne Erzeugung von dunklen und unbeschichteten
Stellen erreicht werden sollte.
Diese Aufgabe wird durch ein wäßriges saures Bad zur galvanischen
Abscheidung von glänzenden und eingeebneten Nickelüberzüge
das durch die Kombination der im Kennzeichen des Anspruchs
1 genannten Verbindungen in den angegebenen Mengen gekennzeichnet
ist, und ein Verfahren zu seiner Verwendung gemäß Anspruch
gelöst.
In einem derartigen Bade bevorzugt zu verwendende
Verbindungen sind in den Ansprüchen 2 und 3 wiedergegeben.
Innerhalb der im Anspruch 1 genannten Mengenbereiche sind dabei die
folgenden Bereiche günstig:
0,01 bis 0,04 g/l für das aliphatische oder aromatische acetylenische Amin oder substituierte acetylenische Amin gemäß (a) und
0,01 bis 0,10 g/l für die sulfonierte acetylenische Verbindung oder ihr Salz gemäß (b).
0,01 bis 0,04 g/l für das aliphatische oder aromatische acetylenische Amin oder substituierte acetylenische Amin gemäß (a) und
0,01 bis 0,10 g/l für die sulfonierte acetylenische Verbindung oder ihr Salz gemäß (b).
Die in den Bädern ggf. zusätzlich anwesenden
primären Glanzzusätze umfassen aromatische Sulfonate, Sulfonamide,
Sulfonimide oder auch aliphatische oder aromatisch-aliphatische
olefinisch ungesättigte Sulfonate, Sulfonamide und Sulfonimide,
wobei im Rahmen der vorliegenden Beschreibung der Ausdruck
"primärer Glanzzusatz" so verwendet wird wie in "Modern Electroplating",
3. Auflage, F. Lowenheim.
Spezielle Beispiele für derartige primäre Glanzzusätze sind:
1. Natrium-o-sulfobenzimid
2. Dinatrium-1,5-naphthalin-disulfonat
3. Trinatrium 1,3,6-naphthalin-trisulfonat
4. Natrium-benzolmonosulfonat
5. Dibenzol-sulfonimid
6. Natrium-3-chlor-2-buten-1-sulfonat
7. Natrium-β-styrolsulfonat
8. Monoallylsulfamid
9. Diallylsulfamid
10. Allylsulfonamid.
1. Natrium-o-sulfobenzimid
2. Dinatrium-1,5-naphthalin-disulfonat
3. Trinatrium 1,3,6-naphthalin-trisulfonat
4. Natrium-benzolmonosulfonat
5. Dibenzol-sulfonimid
6. Natrium-3-chlor-2-buten-1-sulfonat
7. Natrium-β-styrolsulfonat
8. Monoallylsulfamid
9. Diallylsulfamid
10. Allylsulfonamid.
Unter "sulfonatfreie sekundäre Glanzzusätze" sind Reaktionsprodukte
aus Epoxiden mit acetylenischen alpha-Hydroxyalkoholen,
wie z. B. diäthoxyliertes 2-Butin-1,4-diol oder dipropoxyliertes
2-Butin-1,4-diol sowie andere acetylenische
Verbindungen, N-Heterozyklen oder Farbstoffe zu verstehen.
Spezielle Beispiele für solche Badzusätze sind:
1. 1,4-Di-(β-hydroxyäthoxy)-2-butin
2. 1,4-Di-(β-hydroxy-γ-chlorpropoxy)-2-butin
3. 1,4-Di-(β,γ-epoxypropoxy)-2-butin
4. 1,4-Di-(β-hydroxy-γ-butenoxy)-2-butin
5. 1,4-Di-(2′-hydroxy-4′-oxa-6′-heptenoxy)-2-butin
6. N-(2,3-Dichlor-2-propenyl)-pyridinium-chlorid
7. 2,4,6-Trimethyl-N-propargyl-pyridinium-bromid
8. N-Allylchinaldinium-bromid
9. 2-Butin-1,4-diol
10. Propargylalkohol
11. 2-Methyl-3-butin-2-ol
12. Chinaldyl-N-propansulfonsäure-betain
13. Chinaldin-dimethyl-sulfat
14. N-Allylpyridinium-bromid
15. Isochinaldyl-N-propansulfsäure-betain
16. Isochinaldin-dimethyl-sulfat
17. N-Allylisochinaldin-bromid
18. 1,4-di-(β-sulfoäthoxy)-2-butin
19. 3-(b-Hydroxyäthoxy)-propin
20. 3-(β-Hydroxypropoxy)-propin
21. 3-(β-Sulfoäthoxy)-propin
22. Phenosafranin
23. Fuchsin
1. 1,4-Di-(β-hydroxyäthoxy)-2-butin
2. 1,4-Di-(β-hydroxy-γ-chlorpropoxy)-2-butin
3. 1,4-Di-(β,γ-epoxypropoxy)-2-butin
4. 1,4-Di-(β-hydroxy-γ-butenoxy)-2-butin
5. 1,4-Di-(2′-hydroxy-4′-oxa-6′-heptenoxy)-2-butin
6. N-(2,3-Dichlor-2-propenyl)-pyridinium-chlorid
7. 2,4,6-Trimethyl-N-propargyl-pyridinium-bromid
8. N-Allylchinaldinium-bromid
9. 2-Butin-1,4-diol
10. Propargylalkohol
11. 2-Methyl-3-butin-2-ol
12. Chinaldyl-N-propansulfonsäure-betain
13. Chinaldin-dimethyl-sulfat
14. N-Allylpyridinium-bromid
15. Isochinaldyl-N-propansulfsäure-betain
16. Isochinaldin-dimethyl-sulfat
17. N-Allylisochinaldin-bromid
18. 1,4-di-(β-sulfoäthoxy)-2-butin
19. 3-(b-Hydroxyäthoxy)-propin
20. 3-(β-Hydroxypropoxy)-propin
21. 3-(β-Sulfoäthoxy)-propin
22. Phenosafranin
23. Fuchsin
Wenn einer oder mehrere sekundäre Glanzzusätze innerhalb der
Mengen von 0,005 bis 1,0 g/l zugesetzt werden, dann kann es
sein, daß kein an der Abscheidung visuell erkennbarer Effekt oder
ein halbglänzender, feinkörniger Belag erhalten wird; die besten
Resultate werden jedoch erhalten, wenn sekundäre und primäre Glanzzusätze
gemeinsam verwendet werden, wobei eine Abscheidung mit
optimalem Glanz, eine optimale Glanzbildung und eine hohe Einebnung
erhalten werden.
Mit dem Ausdruck "Netzmittel" werden Stoffe bezeichnet, die das
Anhaften von Gasblasen und damit eine Lunkerbildung verhindern.
Derartige Netzmittel, deren Verwendungsmengen im Bereich von 0,05
bis 1 g/l liegen, können auch so wirken, daß sie die Bäder gegenüber
Verunreinigungen, wie z. B. Öl oder Fett verträglicher machen,
indem sie diese Verunreinigungen emulgieren, dispergieren oder auflösen
und dabei fehlerfreiere Abscheidungen liefern. Geeignete
Netzmittel sind Natriumlaurylsulfat, Natriumlauryläthersulfat und
Natriumdialkylsulfosuccinate.
Die Nickelverbindungen werden den Bädern typischerweise als
Sulfat-, Chlorid-, Sulfamat- oder Fluoroboratsalze zugesetzt, wobei die
in den Bädern im Bereich
von 10 bis 150 g/l liegen.
Die Bäder können günstigerweise
45 g/l Borsäure oder andere Puffer enthalten, um den pH-Wert
günstigerweise auf 4,0 einzuregeln
und ein Verbrennen im Bereich hoher Stromdichte zu vermeiden.
Um das "Verbrennen" im Bereich hoher Stromdichte zu vermeiden
und um eine gleichmäßigere Badtemperatur zu erhalten,
können die Bäder
gerührt werden. Luftrühren, mechanisches Rühren, Pumpen, Bewegen
des Wertstückes sind Beispiele für derartige Maßnahmen.
Günstigerweise liegt die Badtemperatur im Bereich von
50 bis 62°C, und Stromdichte
im Bereich von 3 bis
6 A/dm².
Typische wäßrige saure Bäder zur galvanischen Nickelabscheidung,
die in Kombination mit den genannten Zusätzen
verwendet werden können, sind die folgenden, worin alle Konzentrationen
in g/l angegeben sind.
Während des Betriebs des Bads hat der pH-Wert normalerweise eine
Tendenz zum Ansteigen. Er kann mit Säuren, wie z. B. Salz- oder
Schwefelsäure, nachgestellt werden.
Die in den vorgenannten Bädern zwingend verwendeten
beiden Verbindungstypen arbeiten synergistisch zusammen, wobei
sie auch in niederen Stromdichtebereichen fehlerfreien Abscheidungen
ergeben, die frei von dunklen Stellen, Streifen und blanken Stellen
sind, ohne daß die Einebnung oder der Glanzbereich der Abscheidung
in Gegenwart von kräftigen sekundären Glanzzusätzen oder von hohen
Konzentrationen derartiger Glanzzusätze leidet. Wenn man diese Verbindungen
jeweils allein in Gegenwart von kräftigen sekundären Glanzzusätzen
oder von hohen Konzentrationen derartiger Glanzzusätze
verwendet, dann entstehen Abscheidungen, die nach wie vor einen
der erwähnten Nachteile aufweisen.
Die Erfindung wird an Hand der folgenden Beispiele näher erläutert.
Es wurden die folgenden Bäder verwendet:
In diesen Bädern wurden Platten wie folgt beschichtet:
Eine mit Zink beschichtete Stahlplatte wurde in 50% Salzsäure
eingetaucht, gespült und dann mit einem Schmirgelpapier der Korngröße
4/0 und der Korngröße 2 in horizontaler Richtung jeweils
mit einem Strich verkratzt. Die gesäuberte Platte wurde dann in
einer Hull-Zelle mit einem Fassungsvermögen von 267 ml beschichtet,
wobei die oben erwähnten Bäder 10 Minuten lang bei 2 A Zellenstrom
zum Einsatz kamen. Die Platte wurde dabei zum Zwecke des
Rührens hin- und herbewegt.
Platte 1 - duktile Abscheidung mit gutem Glanz und guter Einebnung,
Dunkelheit im Bereich niedriger Stromdichte,
blanken Stellen, Schleierbildung im Bereich von
2-4 A/dm² und dünnem Niederschlag im Bereich von
0-1 ½ A/dm² (Vergleich).
Platte 2 - glänzende gut eingeebnete und duktile Abscheidung, die frei von Fehlern im Bereich niedriger Stromdichte ist und einen gleichförmigen Glanz aufweist.
Platte 3 - duktile Abscheidung mit gutem Glanz und guter Einebnung, vorzüglichem Glanzbereich, Fehlen von Dunkelheit und blanken Stellen im Bereich niedriger Stromdichte.
Platte 4 - duktile Abscheidung mit gutem Glanz und guter Einebnung, gutem Glanzbereich, Fehlen von Dunkelheit und blanken Stellen im Bereich niedriger Stromdichte.
Platte 5 - duktile Abscheidung mit gutem Glanz und guter Einebnung, gleichförmigem Glanz und Fehlen von Defekten im Bereich niedriger Stromdichte.
Platte 2 - glänzende gut eingeebnete und duktile Abscheidung, die frei von Fehlern im Bereich niedriger Stromdichte ist und einen gleichförmigen Glanz aufweist.
Platte 3 - duktile Abscheidung mit gutem Glanz und guter Einebnung, vorzüglichem Glanzbereich, Fehlen von Dunkelheit und blanken Stellen im Bereich niedriger Stromdichte.
Platte 4 - duktile Abscheidung mit gutem Glanz und guter Einebnung, gutem Glanzbereich, Fehlen von Dunkelheit und blanken Stellen im Bereich niedriger Stromdichte.
Platte 5 - duktile Abscheidung mit gutem Glanz und guter Einebnung, gleichförmigem Glanz und Fehlen von Defekten im Bereich niedriger Stromdichte.
Claims (5)
1. Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden
und eingeebneten Nickelüberzügen, das eine Nickelverbindung,
eine dreifach ungesättigte stickstoffhaltige Verbindung und
eine dreifach ungesättigte Sulfoverbindung sowie gegebenenfalls
einen primären Glanzzusatz, einen sulfonatfreien sekundären
Glanzzusatz, ein Netzmittel und einen Puffer enthält, dadurch
gekennzeichnet, daß es
- a) als dreifach ungesättigte stickstoffhaltige Verbindung 0,005 bis 0,1 g/l eines aliphatischen oder aromatischen acetylenischen oder substituierten acetylenischen Amins und
- b) als dreifach ungesättigte Sulfoverbindung 0,005 bis 0,25 g/l einer sulfonierten acetylenischen Verbindung oder eines Salzes derselben, worin die acetylenische Bindung und der Sulfonatrest durch eine Kohlenstoffkette mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen verbunden sind,
sowie gegebenenfalls 0,5 bis 10 g/l primären Glanzzusatz, 0,005 bis
1 g/l sulfonatfreien sekundären Glanzzusatz und 30 bis 60 g/l Puffer
enthält.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das acetylenische
Amin aus 4-Diäthylamino-2-butin-1-ol, 1,6-Bis-(diäthylamino)
-2-hexin, 1-Dimethylamino-2-propin, N-Methylpropargylamin,
Propargylamin, 1-Diäthylamino-2-propin, 5-Dimethylamino-2-methyl-
3-pentin-2-ol, 1-Dimethylamino-2-pentin, 3-Methylamino-1-butin,
1-Dimethylamino-2-hexin, 1-Dimethylamino-2-butin, 1-Diäthylamino-
2-butin, 1-Diäthylamino-2-hexin, 4-Diäthylamino-1-butin,
4-Diäthylamino-2-pentin-4-ol, 1,6-Bis(morpholino)-2-hexin oder
6-Diäthylamino-1-piperidino-2-hexin besteht.
3. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die sulfonierte
acetylenische Verbindung aus 2-Butin-1,4-disulfonsäure,
2-Butinsulfonsäure, Propargylsulfonsäure, 1-Butinsulfonsäure
oder 1-Pentinsulfonsäure besteht.
4. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und
eingeebneten Nickelüberzügen unter Verwendung eines Bades
nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das
Bad bei Stromdichten im Bereich von 0,5 bis 12 A/dm², einem
pH-Wert im Bereich von 3,5 bis 4,5 und bei einer Badtemperatur
im Bereich von 40 bis 70°C betrieben wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US95674178A | 1978-11-01 | 1978-11-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2943028A1 DE2943028A1 (de) | 1980-05-08 |
DE2943028C2 true DE2943028C2 (de) | 1989-02-23 |
Family
ID=25498639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19792943028 Granted DE2943028A1 (de) | 1978-11-01 | 1979-10-24 | Galvanisches nickelbad |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5569286A (de) |
AU (1) | AU534916B2 (de) |
BR (1) | BR7907042A (de) |
CA (1) | CA1148496A (de) |
DE (1) | DE2943028A1 (de) |
FR (1) | FR2440420A1 (de) |
GB (1) | GB2036800B (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3108467C2 (de) * | 1981-03-06 | 1983-05-26 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss | Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
CN113557325A (zh) * | 2019-03-12 | 2021-10-26 | 株式会社杰希优 | 微孔镀液及使用了该镀液的对被镀物的微孔镀敷方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2654703A (en) * | 1950-09-09 | 1953-10-06 | Udylite Corp | Electrodeposition of bright nickel, cobalt, and alloys thereof |
BE645198A (de) * | 1963-03-14 | |||
US3630857A (en) * | 1967-02-28 | 1971-12-28 | Kewanee Oil Co | Bright nickel electroplating bath containing sulfo-oxygen control agent nitrogen-containing brightener and minor concentration of terminal acetylenic alcohol or derivative |
US3697391A (en) * | 1970-07-17 | 1972-10-10 | M & T Chemicals Inc | Electroplating processes and compositions |
US3862019A (en) * | 1974-04-26 | 1975-01-21 | R O Hull & Company Inc | Composition of electroplating bath for the electrodeposition of bright nickel |
GB1485665A (en) * | 1975-03-27 | 1977-09-14 | Permalite Chem Ltd | Nickel electroplating |
US4077855A (en) * | 1976-05-04 | 1978-03-07 | Francine Popescu | Bright nickel electroplating bath and process |
-
1979
- 1979-10-24 DE DE19792943028 patent/DE2943028A1/de active Granted
- 1979-10-25 FR FR7926537A patent/FR2440420A1/fr active Pending
- 1979-10-30 GB GB7937506A patent/GB2036800B/en not_active Expired
- 1979-10-30 BR BR7907042A patent/BR7907042A/pt not_active IP Right Cessation
- 1979-10-31 AU AU52352/79A patent/AU534916B2/en not_active Expired
- 1979-10-31 CA CA000338854A patent/CA1148496A/en not_active Expired
- 1979-11-01 JP JP14192479A patent/JPS5569286A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6231076B2 (de) | 1987-07-06 |
BR7907042A (pt) | 1980-06-24 |
JPS5569286A (en) | 1980-05-24 |
FR2440420A1 (fr) | 1980-05-30 |
DE2943028A1 (de) | 1980-05-08 |
GB2036800B (en) | 1983-04-13 |
GB2036800A (en) | 1980-07-02 |
CA1148496A (en) | 1983-06-21 |
AU534916B2 (en) | 1984-02-23 |
AU5235279A (en) | 1980-05-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8331 | Complete revocation |