AT202829B - Verfahren zur Herstellung von galvanischen Metallüberzügen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von galvanischen MetallüberzügenInfo
- Publication number
- AT202829B AT202829B AT25957A AT25957A AT202829B AT 202829 B AT202829 B AT 202829B AT 25957 A AT25957 A AT 25957A AT 25957 A AT25957 A AT 25957A AT 202829 B AT202829 B AT 202829B
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- agents
- compounds
- copper
- sulfonic acid
- production
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 title description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- -1 derivatives of triazine mercapto compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001260 acyclic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-AHCXROLUSA-N copper-60 Chemical compound [60Cu] RYGMFSIKBFXOCR-AHCXROLUSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- MHYFEEDKONKGEB-UHFFFAOYSA-N oxathiane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)CCCCO1 MHYFEEDKONKGEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000008053 sultones Chemical class 0.000 description 2
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- RVJHDCPHSAUCEV-UHFFFAOYSA-N [2-(carbamothioylamino)phenyl]thiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(N)=S RVJHDCPHSAUCEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L cadmium sulfate Chemical compound [Cd+2].[O-]S([O-])(=O)=O QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000331 cadmium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 125000004915 dibutylamino group Chemical group C(CCC)N(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTLDTDOJJJZVBW-UHFFFAOYSA-N zinc cyanide Chemical compound [Zn+2].N#[C-].N#[C-] GTLDTDOJJJZVBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
<Desc/Clms Page number 1>
Verfahren zur Herstellung von galvanischen Metallüberzügen
EMI1.1
vanischer Metallüberzüge unter Verwendung organischer Sutronsäuren der allgemeinen Formel :
EMI1.2
oder ihrer wasserlöslichen Salze als Zusatz zu Gal- vanisierungsbädern. In dieser allgemeinen Formel bedeutet G einen organischen Rest, welcher ein ausschliesslich mit Heteroatomen verbundenes Kohlenstoffatom besitzt, das über ein Schwefelatom an & en Rest-R-SO"H gebunden ist, und R einen zweiwertigen organischen, vorzugsweise aliphatischen Rest, der auch substituiert werden kann.
Es wurde nun in Weiterbildung dieses Verfahrens gefunden, dass man mit besonderem Vorteil solche Verbindungen oder deren wasserlösliche Salze verwenden kann, welche die charakteristische Atomgpuppierung der nach dem Gegenstand des Stammpatentes verwendeten Produkte zwei-oder mehrfach enthalten, d. h. Verbindungen, die wenigstens zwei nur mit Heteroatomen verbundene Kohlenstoffatome enthalten, die über Schwefel gebunden einen zweiwertigen organischen Rest besitzen, der eine Sulfonsäuregruppe trägt.
Verbindungen der hier in Betracht kommenden Art sind beispielsweise Triazinabkömmlinge der nachstehenden allgemeinen Formel :
EMI1.3
oder deren wasserlösliche Salze.
In dieser Formel bedeutet R einen niedermolekularen, vorzugsweise aliphatischen, gegebenenfalls substituierten Kohlenwasserstoffrest, der beispielsweise durch einen Methylen-, Athylen-, Propylen-, Oxypropylen-, Chlorpropylen-u. dgl. Rest vertreten sein kann.
Verbindungen dieser Art erhält man z. B. durch UmwandlungvonCyanurchloridinTrimercapto- cyanursäure, deren Alkalisalze mit organischen säure, 3-'Brompropan-l-sulfonsäure, 3-Qhlor-2-oxy- propan-1-sulfonsäure bzw. den entsprechenden Alkalisalzen oder mit Sultonen, wie Propansulton oder Butansulton in die entsprechenden Sulfonsäuren oder deren Salze weiter umgewandelt werden.
Ausser diesen Verbindungen. kommen auch andere cyclische Verbindungen in Frage, die im Molekül ebenfalls wenigstens zweimal die für die Produkte der Erfindung charakteristische Atomgruppierung enthalten und sich von heterocyclisehen 5-oder 6-Ringen mit wenigstens zwei Stickstoffatomen ableiten. Verbindungen dieser Art sind
EMI1.4
3, 4-Thiadiazol-2, 5-pan-l'-sulfonsäure u. a.
Ausser diesen cyclischen Verbindungen kommen ferner auch nichtcyclische Verbindungen in Betracht, die wenigstens'Zwei, ausschliesslich mit Heteroatomen verbundene Kohlenstoffatome aufweisen, von denen jedes über ein Schwefelatom mit einem zweiwertigen organischen, vorzugsweise aliphatischen, eine Sulfonsäuregruppe tragenden Rest verbunden ist. Verbindungen dieser Art sind beispielsweise die Salze der Dithiobiuret-S, S'-dipro- pansulfonsäure, ferner die Salze von zweibasischen
EMI1.5
Hexamethylen-oder Pheny-lendithioharnstoff mit Propan-oder Butansulton oder den Natriumsalzen von Halogenalkansulfonsäuren entstehen und der allgemeinen Formel :
EMI1.6
entsprechen, in welcher R und R'Kohlenwasserstofrreste bedeuten.
Für die Zwecke der Erfindung sind schliesslich auch drei und mehrwertige S-alkansulfonsäuren verwendbar, die sich aus Polythioharnstoffen durch Umsetzung mit Halogen-
<Desc/Clms Page number 2>
alkansulfonsäuren oder Sultonen nach dem obigen Prinzip erhalten lassen.
EMI2.1
ken, ferner auch zur Herstellung galvanischer Kadmium-, Bronze- oder Messingüberzüge. Man kann die Mittel auch in Verbindung mit anderen bekannten Glanzmitteln, sowie mit Einebnungmitteln, Porenverhütungsmitteln, Härtebindungs- mitteln, Inhibitoren, anionaktiven, kationaktiven r) der elektroneutralen oberHächenaktiiVen Mitteln, Leitsalzen usw. anwenden. Als zusätzliche Galvanisierungsmittel kommen z. B. die Galvanisierungsmittel gemäss dem Hauptpatent in Betracht.
Unter Härtebindungsmittel werden Produkte verstanden, welche in Verbindung mit Hochglanzmitteln angewendet werden, um diese gegen die Härtebildner des Gebrauchswassers und die technischen Verunreinigungen der angewendeten Metallsalze unempfindlich zu machen. Produkte dieser Art sind beispielsweise Gegenstand der deutschen Auslegeschrift Nr. 1, 000. 204, der deutschen Patentschrift Nr. 934508 und eines an anderer Stelle erstatteten, unveröffentlichten Vorschlages der Patentinhaberin.
Die Mengen, in denen man die erfindungsgemäss- ssen Mittel in den Bädern einsetzt, liegen bei etwa 0, 01#20 g/l Badflüssigkeit. Im allgemeinen wird bei Stromdichten zwischen 0, 5-12A/dm2 gearbeitet, und man kann bei Temperaturen bis 60'C galvanisieren. Der Stromdichtebereich optimaler
EMI2.2
hoher Glanzwirkung verbreitert werden. Besonders ist hervorzuheben, dass mit den erfindungsgemässen Mitteln innerhalb eines Temperaturbereiches von 15 bis 60 C mit vollem Spiegelglanzerrekt gearbei- tet werden kann.
Durch Anwendung höherer Temperaturen als Raumtemperaturen wird einerseits der Stromdichtebereich beträchtlich in Richtung hoher Stromdichten verschoben (bis zirka 15 A/dn2) und anderseits die Anwendung des Verfahrens auch auf solche technische Kupferbäder ausgedehnt, die sich auf Grund ihrer hohen Strombelastung und des hiemit verknüpften Auftretens beträchtlicher Joule'scher Wärme bis 400 C,
EMI2.3
alle üblichen, für diese Zwecke bisher verwendeten Metallarten dienen, wie z. IB. Eisen, Stahl, Zink und sonstige unedle Metalle oder Metallegierungen.
Erforderlichenfalls wird bei der galvanischen Verkupferung unedler Metalle wie üblich zunächst in dünner Schicht cyankalisch vorverkupfert, man kann die Mittel jedoch mit Erfolg auch bei der sauren Direktverkupferung gemäss einem an anderer Stelle erstatteten, unveröffentlichten Vor-
EMI2.4
tverwenden.vanisierungsmitteln Metallüberzüge, die einen hervorragenden Spiegelglanz besitzen, der das Nachpolieren der galvanischen Gegenstände entbehrlich macht.
Beispiele :
1. In ein saures Kupfersulfatbad, welches 220 g/l kristallisiertes Kupfersulfat und 60 g/I Schwefelsäure enthält, löst man 0, 3-1, 5 g/l des Natriumsalzes der 1, 3, 5-Triazin-2, 4, 6-trimercapto- propan-1'-sulfonsäure der Formel
EMI2.5
Verkupfert man in diesem Bad Messing- oder Eisenbleche bei Zimmertemperatur oder auch bei höheren Temperaturen im Stromdichtebereich von
EMI2.6
5ferniederschläge.
2. Ähnliche Glanzeffekte wie in Beispiel 1 werden erhalten, wenn man 0, 2-1, 5 g/l des Natriumsalzes der 1, 3, 5-Triazin-2, 4, 6-tri-mercaptopropan- 2'-oxy-l'-sulfonsäure von der Formel
EMI2.7
<Desc/Clms Page number 3>
oder auch gleiche Mengen des Natriumsalzes der 1,3,5-Triazin-2,4,6-tri-mercaptoäthan-1'-sulfonsäure der Formel
EMI3.1
anwendet und unter den im Beispiel 1 angegebenen Bedingungen Messing- oder eisengegenstände galvanisiert.
3. Löst man in einem sauren Kupferbad, welches 200 g/l kristallisiertes Kupfersulfat und 60 g/l Schwefelsäure enthält, als glanzgebende Substanz 0, 5-1, 0 g/l des Natriumsalzes der 1, 3, 4-Thiadiazol-2,5-di-mercaptopropan-1'-sulfonsäure, so erhält man in diesem Bad bei der Galvanisierung von Gegenständen aus Messing oder Eisen glänzende Kupferülberzüge. Die Galvanisierumg kann im Stromdichtebereich von 2 bis 10 A/dm sowohl bei Zimmertemperatur als auch'bei Temperaturen bis 45 ausgeführt werden.
4. Löst man in dem in Beispiel 3 beschriebenen Grundkupferbad anstelle der dort angewandten
EMI3.2
fonsäure, so kann die galvanische Kupferabscheidung bei Stromdichten von 1-11 A/dm2 vorge- nommen werden. Man erhält einen einwandfreien Spiegelglanz. Die Temperaturtoleranz reicht hinsichtlich des Glanzeffektes von Zimmertemperatur bis ca. 500 C.
5. Ein ganz vorzüglicher Glanzeffekt lässt sich erzielen, wenn dem Grundkupferbad ausser l, 2 gel des Natriumsalzes der 1, 3, 5-Triazin-2, 4, 6-tri-mercaptopropan-2'-oxy-1'-sulfonsäure noch 0, 8-1, 2 g/l 1,3-Bis-(dibutylamino)-propanol-2 (gemäss der deutschen Auslegeschrift Nr. 1, 000. 204) zugesetzt werden. Der Stromdichtebereich erstreckt sich bei dieser Badzusammensetzung bei sehr kleinen Stromdichten beginnend (cjO A/dm') bis 15 A/dm2.
Die Temperatur kann ohne Beeinträchtigung des Spiegelglanzeffektes von Zimmertemperatur bis 60 C variiert werden.
6. Galvanisiert man in einem sauren Zinkbad, welches 200 g/l kristallisiertes Zinksulfat, 1 g/l Eisessig oder 1 g/l Zitronensäure und als glanzgebende Komponente 1-5 g/l des Ammoniumsalzes der 1,3,5-Triazin-2,4,6-trimercaptopropan- 2'-oxy-l'-sulfonsäure enthält, eiserne oder Messinggegenstände, so werden bei Zimmertemperatur oder auch im Bereich bis 35 C bei Stromdichten von 3-12 A/dm2 weiche, glänzende Zinknieder-
EMI3.3
7.
Löst man in einem cyanidischen Zinkbad mit 57 g/l Zinkcyanid, 72 g/l Natriumhydroxyd und 40 g/l Natriumcyanid 0, 5-1, 5 g/1 des Natriumsalzes der 1,3,4-Thiadiazol-2,5-di-mercapto-propan- l'-sulfonsäure, so erhält man'bei der Galvanisierung von Stahlblechen im Stromdichtelbereich von 1-10 A/dm2 hochglänzende Zinkniederschläge. Die Temperatur darf hiebei zwischen Zimmertem- peratur und zirka 400 C variieren.
8. Beschickt man ein cyanidisches Kadmiumbad, welches 125 g ! l Kadmiumsulfat, 140 g/l Natriumcyanid und 72 g/l Natriumhydroxyd enthält, mit 1-2 g/l des Natriumsalzes der N, N'-methylen-di-
EMI3.4
wird.
9. In ein saures Kupferbad, das 220 g/l Kupfersulfat krist. und 60 g/l Schwefelsäure enthält,
EMI3.5
0 g/l des. Natriumsatzesester-sulfonsaulies Natrium und 1, 2 g/l 1, 3-Bis- (diäthylamino)-propanol-2 gegeben, sowie 0, 5 g/1 des Natriumsalzes eines sauren Schwefelsäureestergemisches äthoxylierter Fettalkohole mit Alkylresten C12-C18'Eisengegenstände werden in die- sem Bad bei 40 C in einem Stromdichtebereich von 5-12 A/dnr galvanisiert. Man erhält ohne cyanidische Vojcverkupfenmg hochglänzende, fest-
EMI3.6
PATENTANSPRÜCHE :
1.
Verfahren zur Herstellung galvanischer Me- tallüberzüge nach Stammpatent Nr. 199449, dadurch gekennzeichnet, dass man organische Sulfonsäuren oder deren wasserlösliche Salze verwendet, die im, Molekül wenigstens zwei nur mit Heteroatomen verbundene Kohlenstoffatome enthalten, die über Schwefel an einen niedermolekularen or- ganischen, vorzugsweise aliphatisehen Rest gebunden sind, der eine Sulfonsäuregruppe trägt.
Claims (1)
- 2. Verfahren nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, dass man Sulfonsäuren cyclischer Verbindungen oder deren wasserlösliche Salze verwendet.3. Verfahren nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass man Sulfonsäuren acyclischer Verbindungen oder deren wasserlösliche Salze verwendet.4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, da- <Desc/Clms Page number 4> durch gekennzeichnet, dass man Abkömmlinge von Triazinmercaptoverbindungen verwendet, die wenigstens zwei Mercaptogruppen enthalten, welche am Schwefel durch einen gegebenenfalls substituierten, niedermolekularen organischen, vorzugsweise aliphatischen Rest substituiert sind, der eine Sulfonsäuregruppe trägt.5. Verfahren nach den Ansprüchen l bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass man andere Glanzmittel, bekannte Porenverhütungsmittel, Inhibitoren und/oder Netzmittel mitverwendet.6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass man Glanzmittel nach dem Verfahren des Stammpatentes mitverwendet.7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass man Härtebindungsmittel gemäss der deutschen Auslegeschrift Nr. 1, 000. 204 mitverwendet.8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 8, zur Herstellung von Kupferüberzügen, dadurch gekennzeichnet, dass ohne cyanidische Vorverkupferung gearbeitet wird.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE202829T | 1956-06-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| AT202829B true AT202829B (de) | 1959-04-10 |
Family
ID=29591812
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT199449D AT199449B (de) | 1956-06-15 | 1954-11-18 | Verfahren zur Herstellung von galvanischen Metallüberzügen |
| AT25957A AT202829B (de) | 1956-06-15 | 1957-01-14 | Verfahren zur Herstellung von galvanischen Metallüberzügen |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT199449D AT199449B (de) | 1956-06-15 | 1954-11-18 | Verfahren zur Herstellung von galvanischen Metallüberzügen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (2) | AT199449B (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL3015571T3 (pl) | 2014-10-27 | 2018-10-31 | Atotech Deutschland Gmbh | Kwasowa kompozycja kąpieli galwanicznej do powlekania cynkiem i stopem cynkowo- niklowym oraz sposób powlekania galwanicznego |
-
1954
- 1954-11-18 AT AT199449D patent/AT199449B/de active
-
1957
- 1957-01-14 AT AT25957A patent/AT202829B/de active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AT199449B (de) | 1958-09-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1053274B (de) | Bad zur Herstellung von galvanischen Metallueberzuegen | |
| DE69808415T2 (de) | Elektroplattierung von nickel-phosphor-legierungsbeschichtungen | |
| DE1075398B (de) | Bad zur galvanischen Herstellung von Metallüberzügen | |
| DE1207177B (de) | Verfahren zur Herstellung glaenzender galvanischer Metallueberzuege | |
| DE2028803C3 (de) | Polymere Phenazoniumverbindungen | |
| US2842488A (en) | Process for the production of metal electrodeposits | |
| DE69917620T2 (de) | Ductilität verbessernde additive für nickel-wolframlegierungen | |
| DE19741990C1 (de) | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von spannungsarmen, rißfesten Rutheniumschichten, Verfahren zur Herstellung und Verwendung | |
| DE888493C (de) | Verfahren zur Herstellung festhaftender und glaenzender galvanischer Kupferueberzuege | |
| DE1184172B (de) | Verfahren zum galvanischen Abscheiden festhaftender und hochglaenzender Kupferueberzuege | |
| DE2231988C2 (de) | Galvanisches Bad für die Abscheidung von glänzendem Zinn | |
| AT202829B (de) | Verfahren zur Herstellung von galvanischen Metallüberzügen | |
| DE2326300A1 (de) | Waessriges saures zinkgalvanisierungsbad und -verfahren | |
| DE1168208B (de) | Galvanische Metallbaeder | |
| DE924489C (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Metallen | |
| DE1793558C3 (de) | Cumarinderivate und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE3317669C2 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von glänzenden Zinküberzügen | |
| DE1086508B (de) | Saures galvanisches Kupferbad | |
| DE871392C (de) | Verfahren zur Erzeugung festhaftender und glaenzender galvanischer Metallueberzuege | |
| WO1993009275A1 (de) | Verfahren zur herstellung vernickelter formteile | |
| DE1621157A1 (de) | Saures galvanisches Nickelbad | |
| DE1621117A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Nickelueberzuegen | |
| DE69030176T2 (de) | Schutz von bleienthaltenden anoden während der elektrobeschichtung mit chrom | |
| DE2450527C2 (de) | Wäßriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von halbglänzenden Nickelüberzügen | |
| DE2333096A1 (de) | Elektroplattierung aus nickel und eisen |