DE1121736B - Halbleiteranordnung - Google Patents
HalbleiteranordnungInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 25
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- 230000005679 Peltier effect Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000005169 Debye-Scherrer Methods 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003337 fertilizer Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/46—Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/80—Constructional details
- H10N10/85—Thermoelectric active materials
- H10N10/851—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
- H10N10/852—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising tellurium, selenium or sulfur
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/80—Constructional details
- H10N10/85—Thermoelectric active materials
- H10N10/851—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
- H10N10/853—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising arsenic, antimony or bismuth
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S420/00—Alloys or metallic compositions
- Y10S420/903—Semiconductive
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
S 64465 Vine/21g
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UNDAUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT: 11. J A N U A R 1962
Es sind Halbleiteranordnungen bekanntgeworden, bei denen als Halbleiterkörper eine halbleitende Verbindung
vom Typ AmBv vorgesehen ist (deutsches
Patent 970 420).
Weiterhin sind Halbleiteranordnungen bekannt (deutsche Auslegeschrift 1044980), die mit Halbleiterkörpern
versehen sind, die es ermöglichen, die Eigenschaftsbereiche der Elemente der IV. Gruppe und der
AmBv-Verbindung noch stetiger zu überbrücken. Es
handelt sich hierbei um sogenannte Nachbildungen der halbleitenden Verbindungen vom Typ A111 Bv, bei
denen je 2 Atome mindestens eines der beiden Am- bzw. Bv-Elemente durch je 1 Atom eines Elementes
aus der links und 1 Atom eines Elementes aus der rechts benachbarten Gruppe des Periodischen Systems
der Elemente ersetzt sind.
Ferner ist ein Halbleitergerät bekannt, bei dem als Halbleiterkörper ein Mischkristall aus A111 Bv-Verbindungen
verwendet ist (österreichische Patentschrift 194 489).
Weiterhin sind Halbleiteranordnungen vorgeschlagen worden, bei denen als Halbleiterkörper ein Mischkristall
aus einer A111 Bv-Verbindung und aus einer
»Nachbildung« dieser A111 Bv-Verbindung vorgesehen
ist. Durch die Mischkristallbildung kann die Wärmeleitfähigkeit der Kristalle sehr gering gehalten werden,
bei nur geringer Beeinträchtigung der elektrischen Eigenschaften. Die Mischkristalle sind als Thermoelementschenkel
zur Erzeugung elektrischer Energie bzw. zur Erzeugung von Kälte (Peltier-Effekt) besonders
geeignet.
Gegenstand der Erfindung ist eine Halbleiteranordnung, bei der als Halbleiterkörper ein Mischkristall
aus einer AIV BVI-Verbindung und aus einer A1BVC"-Verbindung
vorgesehen ist.
Es ist bekannt, daß die AIVBVI-Verbindungen, insbesondere
das PbTe, gut zur technischen Ausnutzung des Peltier-Effektes zur Kälteerzeugung geeignet sind.
Andererseits sind in der letzten Zeit ternäre Verbin-Halbleiteranordnung
A1 B1
CI
DI
Anmelder:
Siemens-Schuckertwerke Aktiengesellschaft,
Berlin und Erlangen, Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Dr. Otto-Gert Folberth, Böblingen (Württ.), ist als Erfinder genannt worden
düngen der Art A1BVCJ1 (z. B. AgSbTe2) gefunden
und untersucht worden. Es zeigte sich bei diesen Verbindungen eine gewisse Verwendbarkeit für thermoelektrische
Probleme.
Der Erfindungsgedanke besteht darin, die Eigenschaften der beiden erwähnten Verbindungsgruppen zu
kombinieren und dabei gleichzeitig durch Mischkristallbildung die Wärmeleitfähigkeit zusätzlich im
günstigen Sinne zu beeinflussen, also weiter herabzusetzen. In weiterer Ausbildung der Erfindung werden
Mischkristalle der Art
A1, B'
D mit O < χ < 1
mit O <Ξ (y, z, t, u) 5Ξ 1 und mit O
< χ < 1.
Diese Mischkristalle kristallisieren, wie hergestellte Debye-Scherrer-Aufnahmen zeigen, im NaCl-Gitter
oder einem Gitter, das einem leicht verzerrten NaCl-Gitter entspricht, und jeweils die Komponenten in
einer der eckigen Klammern [] sich statistisch über eines der beiden kubisch-flächenzentrierten Teilgitter
des NaCl-Gitters verteilen.
Der Vorteil bei der Verwendung der genannten verwendet. Weiterhin werden, gegebenenfalls durch
eine weitere Mischkristallbildung, die einzelnen Komponenten des vorhin angegebenen Mischkristalles teilweise
durch Komponenten aus derselben Gruppe des Periodischen Systems ersetzt.
Im allgemeinsten Falle lautet die Formel eines solchen Mischkristalls:
K, K
2 2
Mischkristalle liegt — neben den schon erwähnten Gründen — darin, daß auch so schwere Elemente wie
Pb und Bi als Komponenten geeignet sind. Bekanntlich ist die Verwendung schwerer Elemente eine weitere
Möglichkeit, die Wärmeleitfähigkeit herabzusetzen. Ein weiterer Vorteil besteht darin, daß sich ein Teil
der genannten Verbindungen, nämlich diejenigen, die als Element der VI. Gruppe hauptsächlich Te enthalten,
sehr einfach durch Zusammenschmelzen in einem offe-
109 759/350
nen System herstellen lassen. Die übrigen Verbindungen lassen sich nach einem der vorgeschlagenen Ver
fahren herstellen, insbesondere durch das sogenannte »Zwei-Temperatur-Verfahren«, siehe z. B. die deutschen
Patentschriften 960 268 und 1 029 803.
Die folgenden Elemente werden als Beispiele zur Bildung von Mischkristallen für die Halbleiterkörper
von Halbleiteranordnungen gemäß der Erfindung genannt:
Elemente der I. Gruppe: Cu, Ag, Au,
Elemente der IV. Gruppe: Si, Ge, Sn, Pb,
Elemente der V. Gruppe: P, As, Sb, Bi,
Elemente der VI. Gruppe: S, Se, Te.
Elemente der IV. Gruppe: Si, Ge, Sn, Pb,
Elemente der V. Gruppe: P, As, Sb, Bi,
Elemente der VI. Gruppe: S, Se, Te.
Als besondere Beispiele für solche Mischkristalle werden genannt:
/Ag* Sn0 _„ Sb Λ Te mit O
< χ < 1
und ,*, Bi*\Te mit O
< χ < 1
Pb
n
_x}
(Ag*
Te mit O < χ < 1
Te mit O < χ < 1
mit O <Ξ (y, ζ, t, u) <Ξ 1 und mit O
< χ < 1.
Weiterhin können die in der Halbleitertechnik übliehen
Verfahren zur Herstellung von pn-Übergängen, wie Legieren, Diffundieren usw., auf die genannten
Mischkristalle angewendet werden, insbesondere auch die bei den AIVBVI-Verbindungen übliche Methode
des Dotierens mit Hilfe geringer Abweichungen von der Stöchiometrie.
Ebenso sind die bekannten Verfahren zum Schmelzen, Reinigen, Einkristallziehen und Homogenisieren
verwendbar.
Claims (10)
1. Halbleiteranordnung, dadurch gekennzeichnet,
daß als Halbleiterkörper ein Mischkristall aus einer Aiv βVi.Verbindung und aus einer A1BVC^-Verbindung
vorgesehen ist.
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Atome der beiden
Verbindungen teilweise durch Elemente derselben Gruppe des Periodischen Systems ersetzt sind.
3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall aus
SnTe und AgSbTe2 besteht und von der Form
45
4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Mischkristall aus SnTe und AgBiTe2 besteht und von der Form
Sn
11 _ ,,Bi,1)
2/
Te
mit O < χ < 1 ist.
5. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall aus
PbTe und AgBiTe2 besteht und von der Form
t>o_„Bi,\Te
mit O < .ν < 1 ist.
mit O < χ < 1 ist.
6. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall aus
PbTe und AgSbTe2 besteht und von der Form
/Ag, Pb0_„Sb,jTe
mit O < χ < 1 ist.
7. Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall von
der Form
Ag,
mit O <[ (y, z, t, u)
<Ξ 1 und mit O < χ < 1 ist.
8. Verfahren zum Herstellen eines Mischkristalls für den Halbleiterkörper der Halbleiteranordnung
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall in an
sich bekannter Weise, z. B. in einem offenen System oder in einem geschlossenen System mit
zwei Temperaturen (Zwei-Temperatur-Verfahren), aus den Elementen erschmolzen wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall in an sich bekannter
1 eu
Weise als Einkristall aus der Schmelze gezogen wird.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall in an sich
bekannter Weise zonengeschmolzen wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Französische Patentschrift Nr. 1 129 505;
USA.-Patentschrift Nr. 2 882 468;
österreichische Patentschrift Nr. 194 489;
Physica, Bd. 20, 1954, S. 893 bis 909;
HeIv. Phys. Acta, Bd. 26, 1953, Heft 6, S. 578 bis 583.
Französische Patentschrift Nr. 1 129 505;
USA.-Patentschrift Nr. 2 882 468;
österreichische Patentschrift Nr. 194 489;
Physica, Bd. 20, 1954, S. 893 bis 909;
HeIv. Phys. Acta, Bd. 26, 1953, Heft 6, S. 578 bis 583.
© 109 759/350 1.62
Priority Applications (19)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH566462A CH441508A (de) | 1958-11-28 | Halbleiteranordnung | |
NL280217D NL280217A (de) | 1958-11-28 | ||
NL245568D NL245568A (de) | 1958-11-28 | ||
CH7995559A CH441507A (de) | 1958-11-28 | Halbleitergerät mit einem Mischkristall als Halbleiterkörper | |
NL245969D NL245969A (de) | 1958-11-28 | ||
DES60756A DE1121225B (de) | 1958-11-28 | 1958-11-28 | Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DES64465A DE1121736B (de) | 1958-11-28 | 1959-08-17 | Halbleiteranordnung |
FR806955A FR1238050A (fr) | 1958-11-28 | 1959-10-07 | Dispositif semiconducteur |
GB34887/59A GB933211A (en) | 1958-11-28 | 1959-10-14 | Improvements in or relating to semi-conductor devices |
CH7968359A CH411136A (de) | 1958-11-28 | 1959-10-21 | Halbleitergerät und Verfahren zur Herstellung desselben |
GB36426/59A GB933212A (en) | 1958-11-28 | 1959-10-27 | Improvements in or relating to semi-conductor devices |
FR808852A FR76972E (fr) | 1958-11-28 | 1959-10-29 | Dispositif semi-conducteur |
US856087A US3140998A (en) | 1958-11-28 | 1959-11-30 | Mixed-crystal semiconductor devices |
DE19611414632 DE1414632A1 (de) | 1958-11-28 | 1961-07-29 | Halbleiteranordnung |
DE19611414631 DE1414631B2 (de) | 1958-11-28 | 1961-07-29 | Thermoelektrische anordnung mit einem mischkristall als thermoelementschenkel |
US212412A US3211655A (en) | 1958-11-28 | 1962-07-25 | Mixed-crystal thermoelectric compositions |
US212411A US3211656A (en) | 1958-11-28 | 1962-07-25 | Mixed-crystal thermoelectric composition |
GB29005/62A GB974601A (en) | 1958-11-28 | 1962-07-27 | Semi-conductor arrangement |
FR905375A FR84006E (fr) | 1958-11-28 | 1962-07-27 | Dispositif semi-conducteur |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES60756A DE1121225B (de) | 1958-11-28 | 1958-11-28 | Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DES64465A DE1121736B (de) | 1958-11-28 | 1959-08-17 | Halbleiteranordnung |
DES0075091 | 1961-07-29 | ||
DES0075092 | 1961-07-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1121736B true DE1121736B (de) | 1962-01-11 |
Family
ID=27437499
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES60756A Pending DE1121225B (de) | 1958-11-28 | 1958-11-28 | Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DES64465A Pending DE1121736B (de) | 1958-11-28 | 1959-08-17 | Halbleiteranordnung |
DE19611414631 Pending DE1414631B2 (de) | 1958-11-28 | 1961-07-29 | Thermoelektrische anordnung mit einem mischkristall als thermoelementschenkel |
DE19611414632 Pending DE1414632A1 (de) | 1958-11-28 | 1961-07-29 | Halbleiteranordnung |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES60756A Pending DE1121225B (de) | 1958-11-28 | 1958-11-28 | Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19611414631 Pending DE1414631B2 (de) | 1958-11-28 | 1961-07-29 | Thermoelektrische anordnung mit einem mischkristall als thermoelementschenkel |
DE19611414632 Pending DE1414632A1 (de) | 1958-11-28 | 1961-07-29 | Halbleiteranordnung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US3140998A (de) |
CH (3) | CH411136A (de) |
DE (4) | DE1121225B (de) |
FR (2) | FR1238050A (de) |
GB (3) | GB933211A (de) |
NL (3) | NL280217A (de) |
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-
0
- CH CH566462A patent/CH441508A/de unknown
- NL NL245969D patent/NL245969A/xx unknown
- CH CH7995559A patent/CH441507A/de unknown
- NL NL245568D patent/NL245568A/xx unknown
- NL NL280217D patent/NL280217A/xx unknown
-
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- 1961-07-29 DE DE19611414631 patent/DE1414631B2/de active Pending
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-
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