DE1414631A1 - Halbleiteranordnung - Google Patents
HalbleiteranordnungInfo
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Description
U14631
SIEMEifS-SCHUCKERTWERKE Erlangen, den * 8*
Aktiengesellschaft Werner-von-Siemens-Str. 50
PLA 61/H81
Halbleiteranordnung Zusatz zu PLA 59/1537 (S 64 465 VIIIc/21g)
Dae Hauptpatent (Patentanmeldung S 64 465 VIIIc/2ig; PLA 59/1537)
.beateht eioh auf Halbleiteranordnungen, bei denen der Halbleiter
TV Vt T V VT
ein Mischkristall au β einer A B- und aus einer ABC J
, dung ist. ■
ist bekannt, daß die A B -Verbindungen» insbesondere das PbTe,
gut aur technischen Außnutzung des Peltier-Effektes zur Kälteer-
Η14631
PLA 61/1481
zeugung geeignet sind. Andererseits sind in der letzten Zeit ter- '
näre Verbindungen der Art A B C ί (z-B. AgSbTep) gefunden und untersucht
worden. Es zeigte sich bei diesen Verbindungen eine gewisse Verwendbarkeit für thermoelektrische Probleme.
Durch Mischkristallbildung lassen sich die Eigenschaften der beiden
erwähnten Verbindungsgruppen kombinieren und dadurch u.a. die Wärmeleitfähigkeit
im günstigen Sinne beeinflussen, d.h. weiter herabsetzen, insbesondere dann, wenn durch weitere Mischkristallbildung die
einzelnen Komponenten teilweise durch Komponenten aus derselben Gruppe des Periodischen Systems ersetzt werden (Patentanspruch 2).
Im allgemeinen Falle lautet die Formel eines solchen Mischkristalles:
xy/2 Bx/2(1-y)KC(1-x)z D(i-x)(1-z)}(Ext/2
mit 0 1 (y,z,t,u) - 1 und 0< χ
< 1.
ΓπνΐτϊνΙ1
\Gu H1-ul
Gegenstand der Erfindung ist eine Halbleiteranordnung, bei der ala
IV VI Halbleiterkörper ein Mischkristall aus zwei AB -Verbindungen
und einer A B c¥> -Verbindung der allgemeinen Form >
(Ax/2 BO-x)(i-y)c(T-x)y Dx/2} ^ mit 0<
x*y< 1 vorßesehen iBt
IV VI Die Verwendung zweier Verbindungen vom Typ AB entspricht -der
weiteren Miechkristallbildung durch ganzen oder teilweisen Ereata .
der Elemente der IV. und VI. Gruppe durch Elemente derselben Gruppe
des Periodischen Systems entsprechend Anspruoh 2 dee Vjur^patentee·
909804/016' ^a.G^AL inspected -/
HH631
PLA 61/1481
Ale Beispiel für einen Mischkristall der oben genannten Form wird
der Mischkristall
(Agx/2 P^(L1)(Ly) Ged-x)y s\/2^ Te mit o<x,y<
1 angegeben.
Halbleiteranordnungen gemäß der Erfindung lassen sich besonders vorteilhaft
als thermoelektrische Anordnung ausbilden, derart, d-aß im Sinne einer hohen spezifischen elektrischen Leistung bei kleiner
Wärmeleitung ein Schenkel aus einem p-leitenden Mischkristall
(Agx/2 Pb(Lx)(Ly) Ge(1-x)y Sbx/2) Te mit 0<
X' besteht.
Leistungsthermogeneratoren erfordern Halbleiter, die hohe spezifische
elektrische Leistung bei kleiner Wärmeleitung in einem großen Temperaturbereich oberhalb 20° C. abgeben.
Die Mischkristalle gemäß der Erfindung sind hinsichtlich ihrer mittleren thermoelektrischen Effektivität
•im Temperaturbereich von 20 bis 500° C, bei linearem Temperatürabfal
den bisher bekannten Mischkristallen überlegen.
Es bedeuten:<tfm = mittlere differentielle Thermokraft
H\. . 6~m = mittlere elektrische Leitfähigkeit
90980A/0161
- 3 -. Wb/Do
61/1481
K m = mittlere Wärmeleitfähigkeit
Überraschender Weise hat sich gezeigt, daß Mischkristalle aus den
halbleitenden Mischkristallen.(Ag3^2 plDi-x sbx/2^ Te mit 0<χ<ί
und (AgxZ2 Gei-x Sbx/2^ Te mit-°<x<1 in dem oloen genannten Temperaturbereich
höhere mittlere thermoelektrische Effektivitäten besitzen als die Ausgangsmischkristalle.
ί.
Weiterhin ist es überraschend, daß Miscjakristalle gemäß der Erfindung
außer einer besonders günstigen mittleren Effektivität Z^,
die die technische Anwendbarkeit als Thermogenerator im Temperaturbereich
von 20 bis 500° C bestimmt, durch Verändern der Zusammensetzung gegenüber dem Mischkristall (AgxZ2 ^i-3C stx/2^ Τβ
höhere elektrische Leitfähigkeit haben
IV VT Beim Herstellen von Mischkristallen aus einer A B -Verbindung und
T v VT
einer A B C «-Verbindung treten beim Zonenschmelzen gewisse Schwierigkeiten
auf. Wider Erwarten sind diese Schwierigkeiten beim Herstellen von Mischkristallen gemäß der Erfindung erheblich geringer, obwohl
TV VT
die Mischkristalle geMäß der Erfindung aus zwei A B -Verbindungen
τ y yj
und einer A B C ^-Verbindung aufgebaut sind. Außerdem laieen sich
die erfindungsgemäßen Mischkristalle überraschender Weise leichter homogenisieren. Die Fremdphaseneinschlüsse sind geringer als bei den
bekannten Mischkristallen.
Die Mischkristalle gemäß der Erfindung lassen sich in an sich bekannter
Weise z.B. in einem geschlossenen System aus den Elementen erschmelzen. - -f Q.9 8 0A AO 1 6 1
Wb/Do
H14631
PLA 61/1481
. Mischkristalle* nachstehender Zusammensetzung haben sich für die Verwendung
in thermoelektrischen Halbleiteranordnungen als besondere vorteilhaft erwiesen·
1. (Αβχ/2 Pb(1_x)(1.y)
Sbx/2) Te mit 0,35 ± x * 0,75
und 0,2 ί y ^ 0,8
y * 0,518
W) Ge(1-x)y
Ge
(1-x)y
y =0,556
mit X = °'42
°'526
= °'64
Hand der naohfolgenden Beispiele sei die Erfindung noch näher
erläutert:
(x « 0,42 und y = 0,518)
Die für 50g berechnete Einwaage beträgt für:
' · . - 5 409804/0161
Wb/Do
U14631
PLA 61/1481
Ag = 4,4311g Pb = 11,3480g Sb = 5,0012g
Ge = 4,2600g Te = 24,9595g
Die Verbindung wird aus den reinen Elementen (99,99 #) in einer auf
Torr evakuierten Quarzampulle bei 900 C erschmolzen. Anschließend wird die Probe je einmal in gegenläufiger Richtung in
der evakuierten und abgeschmolzenen Quarzampulle zonengeschmolzen· Die Zonentemperatur beträgt 800° C und die Ziehgeschwindigkeit
cm/h. Der Mischkristall ist rund mit einem Durchmesser von 10 mm·
(x= 0,526 und y = 0,525)
Die für 50g berechnete Einwaage beträgt für:
Ag = 5,5958g Pb = 9,2303g Sb = 6,3158g Ge = 3,5933g Te = 25,2645g
Die Verbindung wird aus den reinen Elementen (99,99 Jt) zusammengeschmolzen. Das Zusammenschmelzen erfolgt in einer auf "fO~* Torr
evakuierten Quarzampulle bei 9000^C. Anschließend wird je einmal
909804/0161
- - 6 - ' Wb/Do
,.-'' ' PLA 61/1481
in gegenläufiger Richtung in der evakuierten und abgeschmolzenen Quarzampulle zonengeschmolzen. Die Zonentemperatur beträgt 750° C
und die Ziehgeschwindigkeit 6 cm/h.
Beispiel III (x = 0,64 und y = 0,556)
Die für 50g berechnete Einwaage beträgt für:
Ag = 6,9384g Pb = 6,6638g Sb = 7,8311g Ge = 2,9183g
Te = 25,6481g
Das Zusammenschmelzen erfolgt in der gleichen Apparatur beim gleichen
Druck und gleicher Temperatur wie in den Beispielen I und II angegeben ist. Die Zonentemperatur beträgt 750° C und die Ziehgeschwindigkeit
6 cm/h.
pie mittleren thermoelektri sehen Daten sind für die Mischkristalle
gemäß Beispiel I bis III im Temperat der nachstehenden Tabelle aufgeführt:
gemäß Beispiel I bis III im Temperaturbereich 20 bis 500° C in
9098W161 . wb/Do
UI463 T
PLA 61/1481
I | t II |
0,47. 10~? * » |
III | 238 | |
Mittlere different ie lie oCm |/UV/°G j Thermokraft |
225 φ |
235 | 2,9 . 10""' | 4j6·.* ΙΟ"' | |
Mittlerer epez. elek.S^ Jiicm j Widerstand |
t 3,6 . 10~3 ' ' 4,0, 10"3 t f t |
0,43 . 10"2 | |||
Mittlere Wärmelei t- h\ l^cm . Grad I fähigkeit . |
■ 0,5 . 10~2 |
2,8 . 10"' | |||
Mittlere thermoelek. Z J Grad" Effektivität |
2,8 . tr3 i ί I |
||||
Diese über den oben genannten Temperaturbereioh gemittelten Werte sind für die technische Anwendung günstiger als die bisher bekannten
besten mittleren Effektivitäten:
Zm = 2,6 . Kr'JGrad"1! für den Mischkristftll
Pb0,2 Sb0,4>
Te
Zm = 1,2 . 10"5|Grad"1J für die Mischkristalle
90980Α/016Τχ/2 ι-χ χ/
Te mit °»1- x -
Claims (1)
- PLA 61/1481PatentansprücheΊ,]Halbleiteranordnung, bei der als Halbleiterkörper ein Mischkristall der allgemeinen formI ι IV IV /V V ι Bx/2(1-x)'(C(1-x)z D(1-x)(i-z))(Ext/2 Fx/2(1-t)}■ Γ VT VT ΛI &JH( I-11)I mit O i (y,z,t,u) - 1 und 0< x< 1vorgesehen ist, naoh Patent (Patentanmeldung S 64 465VIIl0/21g (Patentanspruch 2), PLA 59/1537), dadurch gekenn-se^chnet, dafl als Halbleiterkörper ein Mischkristall aus zwei'TV VT I V VIA B -Verbindungen und einer AB G i-Verbindung der allgemei-neu formt.j' <^/z B(i-x)d-y) °U-x)yvorgesehen ist.2· Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß al» Halbleiterkörper der Mischkristall(Agx/2 Fb(l_i)(1_y) Ge(1-X)y Sbx/2) Te mit 0,35 ^ x ± 0,75und 0,2 - y ^ 0,8 Torgeeehen ist.' 3· Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daßals Halbleiterkörper der Mischkristall- 9 - Wb/Doon Qftru/ni6iUI 463 tPLA 61/1481i-x)(i-y) Ge(i-x)y Sbx/2> Te mit vorgesehen ist.4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Halbleiterkörper der MischkristallPb(1_x)(1_y) Ge(1_x)y Sbx/2) Te mit χ = 0,526und y = 0,525
vorgesehen ist.5* Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dafl als Halbleiterkörper der Mischkristall(Agx/2 Pb(1.x)(1„y) Ge(1_x)y Sbx/2) Te mit χ = 0,64 und y = 0,556vorgesehen ist.6. Verfahren zum Herstellen eines*MischkriStalles für die Halbleiteranordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall in an sich bekannter Weise in einem geschlossenen System aus den Elementen erschmolzen wird.7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischkristall in an sich bekannter Weise zonengeschmolzen wird."- 10 - Wb/Do909804/0161AA 141463?PLA 61/H818. Halbleiteranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß sie als thermoelektrische Anordnung ausgebildet ist, derart, daß im Sinne einer hohen spezifischen elek-• trischen Leistung bei kleiner Wärmeleitung ein Schenkel aus einem p-leitenden Mischkristall(Agx/2 Pb(i_x)(1_y) Ge(i_x)y Sbx/2) Te mit 0<x,y<1 vorgesehen ist.909 804/0161 ^ ,^^;- 11 - Wb/Do
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3303005A (en) * | 1962-12-03 | 1967-02-07 | Ibm | Ternary semiconductor compounds and method of preparation |
US3485757A (en) * | 1964-11-23 | 1969-12-23 | Atomic Energy Commission | Thermoelectric composition comprising doped bismuth telluride,silicon and boron |
US3945855A (en) * | 1965-11-24 | 1976-03-23 | Teledyne, Inc. | Thermoelectric device including an alloy of GeTe and AgSbTe as the P-type element |
US3460996A (en) * | 1968-04-02 | 1969-08-12 | Rca Corp | Thermoelectric lead telluride base compositions and devices utilizing them |
SU519042A1 (ru) * | 1974-05-21 | 1978-07-25 | Предприятие П/Я М-5273 | Фотоэлектрический эмиттер |
US4447277A (en) * | 1982-01-22 | 1984-05-08 | Energy Conversion Devices, Inc. | Multiphase thermoelectric alloys and method of making same |
US6312617B1 (en) * | 1998-10-13 | 2001-11-06 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Conductive isostructural compounds |
US7592535B2 (en) * | 2003-09-12 | 2009-09-22 | Board Of Trustees Operating Michingan State University | Silver-containing thermoelectric compounds |
US8481843B2 (en) * | 2003-09-12 | 2013-07-09 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Silver-containing p-type semiconductor |
CN111710775A (zh) * | 2020-07-22 | 2020-09-25 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种硒化锡基热电材料、其制备方法及应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL168491B (de) * | 1951-11-16 | Roussel-Uclaf, Societe Anonyme Te Parijs. | ||
FR1129505A (fr) * | 1954-04-01 | 1957-01-22 | Philips Nv | Procédé de fabrication de corps semi-conducteurs |
US2858275A (en) * | 1954-12-23 | 1958-10-28 | Siemens Ag | Mixed-crystal semiconductor devices |
AT194489B (de) * | 1954-12-23 | 1958-01-10 | Siemens Ag | Halbleitergerät |
DE1044980B (de) * | 1955-11-14 | 1958-11-27 | Siemens Ag | Halbleiteranordnung mit mehreren Elektroden und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US2882195A (en) * | 1957-05-10 | 1959-04-14 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconducting materials and devices made therefrom |
US2882468A (en) * | 1957-05-10 | 1959-04-14 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconducting materials and devices made therefrom |
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1962
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