DE112014007075T5

DE112014007075T5 - Gegenseitig kapazitives OGS-Touchpanel und dessen Herstellungsverfahren

Info

Publication number: DE112014007075T5
Application number: DE112014007075.0T
Authority: DE
Inventors: Xiangyang Xu
Original assignee: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2014-11-14
Filing date: 2014-11-21
Publication date: 2017-08-03
Also published as: GB2547570B; GB2547570A; GB201705939D0; CN104317470A; JP2017534122A; CN104317470B; RU2663326C1; US20160342234A1; WO2016074275A1; US9671909B2; KR20170071603A; KR101910306B1

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein gegenseitig kapazitives OGS-Touchpanel und dessen Herstellungsverfahren. Auf der Isolationsschicht des Touchpanels sind ein erstes Durchgangsloch und ein zweites Durchgangsloch angeordnet, wobei bei der Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster des Touchpanels durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist. Auf diese Weise kann der Verkabelungswiderstand des Übertragungssignals in Elektrodenmuster gesenkt werden und kann die Berührungsempfindlichkeit verbessert werden.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft das technische Gebiet des Touchpanels, insbesondere ein gegenseitig kapazitives OGS(One Glass Solution)-Touchpanel sowie dessen Herstellungsverfahren.
Technischer Hintergrund
Mit der Entwicklung der Touchpanel-Technologie und mit der Erhöhung von Anforderungen des Markts an Leichtigkeit und Dünnheit des Touchpanels ist die Verwendung des gegenseitig kapazitiven OGS-Touchpanels schon die Haupttendenz auf dem technischen Gebiet des Touchpanels geworden wegen seinen Vorteile von hoher Störsicherheit, hoher Sensitivität, Multitouch-Identifizierungsfähigkeit usw.
Das gegenseitig kapazitive OGS-Touchpanel, das sogenannte eingebaute gegenseitig kapazitive Touchpanel, weist ein einziges Glassubstrat auf. Zwischen den Kanten der verschiedenen Elektrodenmuster auf dem Glassubstrat ist die Randfeldkapazität ausgebildet. Bei der Berührung verändert sich die Randfeldkapazität. Durch Detektieren der Übertragungssignale der Induktionsleitung und der Emissionsleitung kann die Koordinate des Berührungspunktes positioniert werden. Jedoch werden die vorhandenen Induktionsleitungen und Emissionsleitungen durch die Verwendung des transparenten leitenden ITO(Indium-Tin Oxide, Indiumzinnoxid)-Materials hergestellt. Der sehr hohe Widerstand des transparenten leitenden ITO-Materials führt sehr leicht zu einer starken Dämpfung und damit einer Verzerrung der Übertragungssignale der Induktionsleitungen und Emissionsleitungen. Dies führt auch dazu, dass sich die Berührungsempfindlichkeit stark reduziert. Obwohl zur Zeit die Berührungsempfindlichkeit durch Erhöhung des Stromes erhöht werden kann, führt die Erhöhung des Stromes zweifellos auch zu einer Erhöhung des Energieverbrauchs.
Inhalt der Erfindung
Vor dieser Hintergrund besteht das von der vorliegenden Erfindung zu lösende technische Problem darin, ein gegenseitig kapazitives OGS-Touchpanel und dessen Herstellungsverfahren bereitzustellen, wobei der Leitungswiderstand des Übertragungssignals in Elektrodenmuster gesenkt werden kann und die Berührungsempfindlichkeit verbessert werden kann.
Um das obergenannte technische Problem zu lösen, verwendet die vorliegende Erfindung die technische Lösung, ein Touchpanel bereitzustellen, das ein Substrat, ein erstes Elektrodenmuster, eine Isolierschicht und ein zweites Elektrodenmuster umfasst, wobei das erste Elektrodenmuster, die Isolierschicht und das zweite Elektrodenmuster nacheinander auf dem Substrat laminiert sind, wobei das erste Elektrodenmuster ein erstes Subelektrodenmuster und ein zweites Subelektrodenmuster, die auf dem Substrat synchronisiert ausgebildet sind und abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst, wobei das zweite Elektrodenmuster ein drittes Subelektrodenmuster und ein viertes Subelektrodenmuster, die auf der Isolierschicht synchronisiert ausgebildet sind und abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst. Das erste Subelektrodenmuster ist entlang einer ersten Richtung erstreckend angeordnet und das dritte Subelektrodenmuster ist entlang einer zweiten Richtung erstreckend angeordnet, wobei die erste Richtung und die zweite Richtung senkrecht zueinander stehen. Das erste Subelektrodenmuster und das dritte Subelektrodenmuster sind sich überkreuzend angeordnet, wobei auf der Isolationsschicht ein erstes Durchgangsloch und ein zweites Durchgangsloch angeordnet sind, wobei bei einer Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist; wobei das erste Subelektrodenmuster ein streifenförmiges fünftes Subelektrodenmuster und ein sechstes Subelektrodenmuster, das mit dem fünften Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, wobei das dritte Subelektrodenmuster ein streifenförmiges siebtes Subelektrodenmuster und ein achtes Subelektrodenmuster, das mit dem siebten Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, wobei das sechste Subelektrodenmuster und das achte Subelektrodenmuster abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei bei der Berührungserkennung das sechste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das achte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Das zweite Subelektrodenmuster, das vierte Subelektrodenmuster, das sechste und achte Subelektrodenmuster sind rauteförmig, wobei die gegenüberliegenden Ecke des sechsten Subelektrodenmusters sich auf dem fünften Subelektrodenmuster befinden und wobei die gegenüberliegenden Ecke des achten Subelektrodenmusters sich auf dem siebten Subelektrodenmuster befinden.
Die Fläche des zweiten Subelektrodenmusters ist kleiner als die Fläche des achten Subelektrodenmusters und die Fläche des vierten Subelektrodenmusters ist kleiner als die Fläche des sechsten Subelektrodenmusters.
Auf der Innenwand des ersten Durchgangslochs und des zweiten Durchgangslochs eine konkave und konvexe Struktur vorgesehen ist, wobei das Elektrodenmaterial beim Bilden des zweiten Elektrodenmusters durch Sputtern an die konkave und konvexe Struktur haftet.
Um das obengenannte technische Problem zu lösen, verwendet die vorliegende Erfindung eine andere technische Lösung darin, ein Touchpanel bereitzustellen, das ein Substrat, ein erstes Elektrodenmuster, eine Isolierschicht und ein zweites Elektrodenmuster umfasst, wobei das ersten Elektrodenmuster, die Isolierschicht und das zweite Elektrodenmuster nacheinander auf dem Substrat laminiert sind, wobei das erste Elektrodenmuster ein erstes Subelektrodenmuster und ein zweites Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst, und das zweite Elektrodenmuster ein drittes Subelektrodenmuster und ein viertes Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst, und das erste Subelektrodenmuster und das dritte Subelektrodenmuster sich überkreuzend angeordnet sind, wobei auf der Isolationsschicht ein erstes Durchgangsloch und ein zweites Durchgangsloch angeordnet sind, wobei bei einer Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist;
Das erste Subelektrodenmuster umfasst ein streifenförmiges fünftes Subelektrodenmuster und ein sechstes Subelektrodenmuster, das mit dem fünften Subelektrodenmuster verbunden ist, und das dritte Subelektrodenmuster umfasst ein streifenförmiges siebtes Subelektrodenmuster und ein achtes Unterelektrodenmuster, das mit dem siebten Subelektrodenmuster verbunden ist, wobei das sechste Subelektrodenmuster und das achte Subelektrodenmuster abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei bei der Berührungserkennung das sechste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das achte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Das zweite Subelektrodenmuster, das vierte Subelektrodenmuster, das sechste und achte Subelektrodenmuster sind rauteförmig, wobei die gegenüberliegenden Ecke des sechsten Subelektrodenmusters sich auf dem fünften Subelektrodenmuster befinden und wobei die gegenüberliegenden Ecke des achten Subelektrodenmusters sich auf dem siebten Subelektrodenmuster befinden.
Die Fläche des zweiten Subelektrodenmusters ist kleiner als die Fläche des achtes Subelektrodenmusters und die Fläche des vierten Subelektrodenmusters ist kleiner als die Fläche des sechsten Subelektrodenmusters.
Das erste Subelektrodenmuster ist entlang einer ersten Richtung erstreckend angeordnet. Das dritte Subelektrodenmuster ist entlang einer zweiten Richtung erstreckend angeordnet, wobei die erste Richtung und die zweite Richtung senkrecht zueinander stehen.
Das erste Subelektrodenmuster und das zweite Subelektrodenmuster sind synchronisiert auf dem Substrat aus gebildet. Das dritte Subelektrodenmuster und das vierte Subelektrodenmuster sind synchronisiert auf der Isolierschicht ausgebildet.
Auf der Innenwand des ersten Durchgangslochs und des zweiten Durchgangslochs ist eine konkave und konvexe Struktur vorgesehen, wobei das Elektrodenmaterial beim Bilden des zweiten Elektrodenmusters durch Sputtern an die konkave und konvexe Struktur haftet.
Um das obengenannte technische Problem zu lösen, verwendet die vorliegende Erfindung eine andere technische Lösung, ein Verfahren zur Herstellung des Touchpanels bereitzustellen. Das Verfaren umfasst: Bilden einer ersten Elektrodenschicht auf einem Substrat; erstes Ätzen der ersten Elektrodenschicht zum Bilden eines ersten Elektrodenmusters, wobei das erste Elektrodenmuster ein erstes Subelektrodenmuster und ein zweites Subelektrodenmuster umfasst, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind; Bilden einer Isolierschicht auf dem Substrat, auf dem ein erstes Elektrodenmuster gebildet ist; zweites Ätzen der Isolierschicht zum Bilden eines ersten Durchgangslochs und einese zweiten Durchgangslochs; Bilden der zweiten Elektrodenschicht auf der Isolationsschicht; drittes Ätzen der zweiten Elektrodenschicht zum Bilden eines zweiten Elektrodenmusters, wobei das zweite Elektrodenmuster ein drittes Subelektrodenmuster und ein viertes Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst; wobei das erste Subelektrodenmuster und das dritte Subelektrodenmuster sich überkreuzend angeordnet sind, wobei bei einer Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Das erste Subelektrodenmuster umfasst ein streifenförmiges fünftes Subelektrodenmuster und ein sechstes Subelektrodenmuster, das mit dem fünften Subelektrodenmuster verbunden ist. Das dritte Subelektrodenmuster umfasst ein streifenförmiges siebtes Subelektrodenmuster und ein achtes Subelektrodenmuste, das mit dem siebten Subelektrodenmuster verbunden ist, wobei das sechste Subelektrodenmuster und das achte Subelektrodenmuster abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei bei der Berührungserkennung das sechste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das achte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Das zweite Subelektrodenmuster, das vierte Subelektrodenmuster, das sechste und achte Subelektrodenmuster sind rauteförmig, wobei die gegenüberliegenden Ecke des sechsten Subelektrodenmusters sich auf dem fünften Subelektrodenmuster befinden und wobei die gegenüberliegenden Ecke des achten Subelektrodenmusters sich auf dem siebten Subelektrodenmuster befinden.
Die Fläche des zweiten Subelektrodenmusters ist kleiner als die Fläche des achtes Subelektrodenmusters und die Fläche des vierten Subelektrodenmusters ist kleiner als die Fläche des sechsten Subelektrodenmusters.
Das erste Subelektrodenmuster ist entlang einer ersten Richtung erstreckend angeordnet und das dritte Subelektrodenmuster ist entlang einer zweiten Richtung erstreckend angeordnet, wobei die erste Richtung und die zweite Richtung senkrecht zueinander stehen.
Die erste Elektrodenschicht, die Isolierschicht und die zweite Elektrodenschicht sind durch Sputtern gebildet.
Durch die obengenannten technischen Lösungen hat die vorliegenden Erfindung die folgenden vorteilhaften Wirkungen: Gemäß dem Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung sind das erste Durchgangsloch und das zweite Durchgangsloch auf der Isolierschicht angeordnet. Dadurch ist bei der Berühungserkennung das auf dem Substrat angeordnete erste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden und ist das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist. Die Anordnung des ersten Durchgangslochs mit dem vierten Subelektrodenmusters ist damit korrespondierend, dass eine Schicht von Leitungen der Übertragungssignale für das erste Subelektrodenmuster hinzugefügt wird. Und die Anordnung des zweiten Durchgangslochs mit dem zweiten Subelektrodenmuster ist damit korrespondierend, dass eine Schicht von Leitungen der Übertragungssignale für das dritten Subelektrodenmuster hinzugefügt wird. Somit wird der Leitungswiderstand des Emissionsübertragungssignals und des Induktionsübertragungssignals in Elektrodenmuster gesenkt und die Berührungsempfindlichkeit verbessert.
Figuren
1 stellt ein Ablaufschaubild des Verfahrens zur Herstellung des Touchpanels gemäß dem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung dar;
2 stellt ein Diagramm zum Bilden des ersten Elektrodenmusters in dem Herstellungsverfahren nach 1 dar;
3 stellt ein Diagramm zum Bilden des ersten Durchgangslochs und des zweiten Durchgangslochs in dem Herstellungsverfahren nach 1 dar;
4 stellt ein Diagramm zum Bilden des zweiten Elektrodenmusters in dem Herstellungsverfahren nach 1 dar;
5 stellt eine Draufsicht des Elektrodenmusters des Touchpanels gemäß dem bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung dar.
Konkrete Ausführungsformen
Im Folgenden werden die technischen Lösungen der vorliegenden Erfindung anhand von den Figuren in den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung deutlich und vollständig beschrieben. Offensichtlich stellen die unten beschriebenen Ausführungsbeispiele nur einen Teil von Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung dar, aber nicht alle Ausführungsbeispiele. Die Ausführungsbeispiele in der vorliegenden Erfindung sowie die anderen Ausführungsbeispiele, die von einen Fachmann auf dem einschlägigen technischen Gebiet durch keine kreative Arbeit erhalten sind, gehören zu dem Schutzbereich der vorliegenden Erfindung.
1 stellt Ablaufschaubild des Herstellungsverfahrens des Touchpanels gemäß dem bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung dar. Wie in 1 gezeigt umfasst das Herstellungsverfahren des vorliegenden Ausführungsbeispiels:
Schritt S11: Bilden der ersten Elektrodenschicht auf dem Substrat.
Das Substrat kann ein durchsichtiges Glassubstrat, Kunststoffsubstrat oder flexibles Substrat sein, wobei die erste Elektrodenschicht ITO-Glasschicht aus Indiumzinnoxid sein kann und auch Siliziumoxidmaterial und andere Materialien verwendet werden kann. Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbiespiel verwendet die erste Elektrodenschicht bevorzugt das Herstellungsmaterial mit kleinerem Widerstand.
Schritt S12: erstes Ätzen der ersten Elektrodenschicht zum Bilden des ersten Elektrodenmusters, wobei das erste Elektrodenmuster ein erstes Subelektrodenmuster und ein zweites Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst.
Der erste Ätzprozess kann das Folgendes sind und jedoch nicht darauf beschränkt sein:
Zuerst wird auf der ersten Elektrodenschicht eine Photoresistschicht beschichtet; anschließend kann für die Photoresistschicht die auf Maskenplatte (allgemein als Fotomaske bekannt) basierend Belichtungstechnik zum Durchführen des ersten Fotomaskenprozesses verwendet werden, um die erforderlichen belichteten Teile und unbelichteten Teile für dem Fotomaskenprozess zu bilden; zuletzt wird die Photoresistschicht als Ätzmaske verwendet und wird durch das Ätzen die erste Elektrodenschicht der belichteten Teile entfernt, wodurch das erste Elektrodenmuster erhalten werden kann.
Gemäß der 2 entspricht das gebildete erste Elektrodenmuster 20 dem unbelichteten Teil. Das erste Elektrodenmuster 20 umfasst das erste Subelektrodenmuster 21 und das zweite Subelektrodenmuster 22, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind. Der Abstandbereich zwischen dem ersten Subelektrodenmuster 21 und dem zweiten Subelektrodenmuster 22 entspricht dem belichteten Teil. Das erste Subelektrodenmuster 21 umfasst das streifenförmige fünfte Subelektrodenmuster 211 und das sechste Subelektrodenmuster 212, dass mit dem fünften Subelektrodenmuster 211 verbunden ist. Bevorzugt sind das zweite Subelektrodenmuster 22 und das sechste Subelektrodenmuster 212 in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel rauteförmig, wobei die gegenüberliegenden Ecke des sechsten Subelektrodenmusters 212 sich auf dem fünften Subelektrodenmuster 22 befinden, und wobei das sechste Subelektrodenmuster 212 und das zweite Subelektrodenmuster 22 in einer Matrixform und abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei die Abstände von jedem zweiten Subelektrodenmuster 22 zu dem benachbarten sechsten Subelektrodenmuster 212 gleich sind.
Schritt S13: Bilden der Isolierschicht auf dem Substrat, auf dem das erste Elektrodenmuster gebildet ist.
Die Isolierschicht 113 kann aus Siliziumnitridschicht, Siliziumoxidschicht oder Siliziumoxinitrid und anderen dielektrischen Materialien ausgebildet werden und durch chemische Gasphasenabscheidung, Sputtern und andere Dünnfilm-Abscheidungstechniken ausgebildet werden.
Schritt S14: zweites Ätzen der Isolierschicht zum Bilden des ersten Durchgangslochs und des zweiten Durchgangslochs.
Bezüglich des Prinzips des zweiten Ätzens kann auf das Prinzip des ersten Ätzens verwiesen werden. Hier gibt es keine weiteren Worte mehr.
Des Weiteren wird in der 3 gezeigt, dass das erste Durchgangsloch 31 in der Blickrichtung senkrecht zum Touchpanels dem sechsten Subelektrodenmuster 212 und entspricht das zweite Durchgangsloch 32 dem zweiten Subelektrodenmuster 22.
Schritt S15: Bilden der zweiten Elektrodenschicht auf der Isolationsschicht.
Das Material der zweiten Elektrodenschicht 114 und das Material der ersten Elektrodenschicht 112 können gleich oder unterschiedlich sein. Das heißt, dass das Material ITO-Glasschicht aus Indiumzinnoxid oder Siliziumoxid und andere Materialien sein kann. Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel verwendet die zweite Elektrodenschicht bevorzugt das Herstellungsmaterial mit kleinerem Widerstand.
Schritt S16: drittes Ätzen der zweiten Elektrodenschicht zum Bilden des zweiten Elektrodenmusters, wobei das zweite Elektrodenmuster ein drittes Subelektrodenmuster und ein viertes Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst.
Bezüglich des Prinzips des dritten Ätzens kann auf das Prinzip des ersten oder des zweiten Ätzens verwiesen werden. Hier gibt es keine weiteren Worte mehr.
Vgl. 4 umfasst das zweite Elektrodenmuster 40 ein drittes Subelektrodenmuster 41 und ein viertes Subelektrodenmuster 42, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei das dritte Subelektrodenmuster 41 das streifenförmige siebte Subelektrodenmuster 411 und das achte Unterelektrodenmuster 412, das mit dem siebten Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst. Bevorzugt sind das vierte Subelektrodenmuster 42 und das achte Subelektrodenmuster 412 in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel rauteförmig, wobei die gegenüberliegenden Ecke des achten Subelektrodenmusters 412 sich auf dem siebten Subelektrodenmuster 411 befinden und das achte Subelektrodenmuster 412 und das vierte Subelektrodenmuster 42 in einer Matrix angeordnet und abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei die Abstände von jedem vierten Subelektrodenmuster 42 zu dem benachbarten achten Subelektrodenmuster 412 gleich sind.
Gemäß dem 3, 4 und 5 entspricht das erste Durchgangsloch 31 in der Blickrichtung senkrecht zum Touchpanel dem sechsten Subelektrodenmuster 212 und dem vierten Subelektrodenmuster 42, und entspricht das zweite Durchgangsloch 32 dem zweiten Subelektrodenmuster 22 und dem achten Subelektrodenmuster 412, wobei das fünfte Subelektrodenmuster 211 und das siebte Subelektrodenmuster 411 sich überkreuzend angeordnet sind.
Bei der Berührungserkennung ist das sechste Subelektrodenmuster 212 durch das erste Durchgangsloch 31 mit dem vierten Subelektrodenmuster 42 elektrisch verbunden. Das achte Subelektrodenmuster 212 ist durch das zweite Durchgangsloch 32 mit dem zweiten Subelektrodenmuster 22 elektrisch verbunden. Dadurch kann die elektrische Verbindung des ersten Subelektrodenmusters 21 mit dem vierten Subelektrodenmuster 42 durch das erste Durchgangsloch 31 sowie die elektrische Verbindung des dritten Subelektrodenmusters 41 mit dem zweiten Subelektrodenmuster 22 durch das zweite Durchgangsloch 32 erzielt werden.
In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel kann das erste Subelektrodenmuster 21 als Emissionsleitung des gegenseitig kapazitiven OGS-Touchpanels betracht werden und kann das dritte Subelektrodenmuster 41 als Induktionsleitung des gegenseitig kapazitiven OGS-Touchpanels betrachtet werden. Inzwischen ist die Anordnung des ersten Durchgangslochs 31 mit dem vierten Subelektrodenmusters 42 damit korrespondierend, dass eine Schicht von Leitungen der Übertragungssignale für das erste Subelektrodenmuster 21 (das erste Elektrodenmuster 20) hinzugefügt wird. Die Anordnung des zweiten Durchgangslochs 32 mit dem zweiten Subelektrodenmusters 22 ist damit korrespondierend, dass eine Schicht von Leitungen der Übertragungssignale für das dritte Subelektrodenmuster 41 (das zweite Elektrodenmuster 20) hinzugefügt wird. Somit wird der Leitungswiderstand des Emissionsübertragungssignals und des Induktionsübertragungssignals gesenkt und die Berührungsempfindlichkeit verbessert.
Die vorliegende Erfindung stellt noch ein gegenseitig kapazitives OGS-Touchpanel dar, das ein Substrat, ein erstes Elektrodenmuster, eine Isolierschicht und ein zweites Elektrodenmuster umfasst, wobei das erste Elektrodenmuster, die Isolierschicht und das zweite Elektrodenmuster nacheinander auf dem Substrat laminiert sind, wobei die erste Elektrodenschicht das in 2 gezeigte erste Elektrodenmuster 20 aufweist, die Isolierschicht in das 3 gezeigte erste Durchgangsloch 31 und das zweite Loch 32 aufweist und die zweite Elektrodenschicht das in 4 gezeigte zweite Elektrodenmuster 40 aufweist.
Es sollte klar sein, dass der Hauptzweck der vorliegenden Erfindung darin besteht, dass auf der Isolationsschicht des Touchpanels das erste Durchgangsloch 31 und das zweite Durchgangsloch 32 angeordnet sind, wobei bei der Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster 21 des Touchpanels durch das erste Durchgangsloch 31 mit dem vierten Subelektrodenmuster 42 elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster 41 durch das zweite Durchgangsloch 32 mit dem zweiten Subelektrodenmuster 22 elektrisch verbunden ist, damit der Leitungswiderstand des Übertragungssignals in Elektrodenmuster gesenkt wird und die Berührungsempfindlichkeit verbessert wird. Deswegen kann das Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung noch andere Einstellungen aufweisen. Zum Beispiel:
Bevorzugt ist die Fläche des zweiten Subelektrodenmusters 22 kleiner als die Fläche des achtes Subelektrodenmusters 412 und bevorzugt ist die Fläche des vierten Subelektrodenmusters 42 kleiner als die Fläche des sechsten Subelektrodenmusters 212. Oder ist das erste Subelektrodenmuster 21 entlang der ersten Richtung erstreckend angeordnet und ist das dritte Subelektrodenmuster 41 entlang der zweiten Richtung erstreckend angeordnet, wobei die erste Richtung und die zweite Richtung senkrecht zueinander stehen. Oder können das erste Subelektrodenmuster 21 und das zweite Subelektrodenmuster 22 synchronisiert oder auch nicht synchronisiert auf dem Substrat ausgebildet werden, und können das dritte Subelektrodenmuster 41 und das vierte Subelektrodenmuster 42 synchronisiert oder auch nicht synchronisiert auf der Isolierschicht ausgebildet werden. Und des Weiteren ist auf der Innenwand des ersten Durchgangslochs 31 und des zweiten Durchgangslochs 32 eine konkave und konvexe Struktur vorgesehen, wobei das Elektrodenmaterial beim Bilden des zweiten Elektrodenmusters 40 durch Sputtern an die konkave und konvexe Struktur haftet, um die Fläche der Leitungen des Übertragungssignals in Elektrodenmuster zu erhöhen und damit den Leitungswiderstand zu senken. Durch Sputtern ist beliebig eine von der ersten Elektrodenschicht, der Isolierschicht und der zweiten Elektrodenschicht ausgebildet.
Es wird wieder erläutert, dass die obengenannten Ausführungsbeispiele nur die Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung sind. Jedoch ist der Schutzbereich der vorliegenden Erfindung nicht darauf beschränkt. Alle Transformationen der äquivalenten Strukturen oder äquivalenten Prozessen, die mittels des Inhalts der Beschreibung und der Figuren der vorliegenden Erfindung geschaffen werden, beispielsweise die Kombination der technischen Merkmale von den jeweils Ausführungsbeispielen oder die unmittelbare und mittelbare Verwendung auf die anderen betreffenden technischen Gebiete, gehören aus ähnlichen Gründen zum Schutzbereich der vorliegenden Erfindung.

Claims

Ein Touchpanel, wobei das Touchpanel ein Substrat, ein erstes Elektrodenmuster, eine Isolierschicht und ein zweites Elektrodenmuster umfasst, wobei das erste Elektrodenmuster, die Isolierschicht und das zweite Elektrodenmuster nacheinander auf dem Substrat laminiert sind, wobei das erste Elektrodenmuster ein erstes Subelektrodenmuster und ein zweites Subelektrodenmuster, die auf dem Substrat synchronisiert ausgebildet sind und abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst, und das zweite Elektrodenmuster ein drittes Subelektrodenmuster und ein viertes Subelektrodenmuster, die auf der Isolierschicht synchronisiert ausgebildet sind und abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst, wobei das erste Subelektrodenmuster entlang einer ersten Richtung erstreckend angeordnet ist und das dritte Subelektrodenmuster entlang einer zweiten Richtung erstreckend angeordnet ist, wobei die erste Richtung und die zweite Richtung senkrecht zu einander stehen, wobei das erste Subelektrodenmuster und das dritte Subelektrodenmuster sich überkreuzend angeordnet sind, wobei auf der Isolationsschicht ein erstes Durchgangsloch und ein zweites Durchgangsloch angeordnet sind, wobei bei einer Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist; wobei das erste Subelektrodenmuster ein streifenförmiges fünftes Subelektrodenmuster und ein sechstes Subelektrodenmuster, das mit dem fünften Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, wobei das dritte Subelektrodenmuster ein streifenförmiges siebtes Subelektrodenmuster und ein achtes Subelektrodenmuster, das mit dem siebten Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, wobei das sechste Subelektrodenmuster und das achte Subelektrodenmuster abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei bei der Berührungserkennung das sechste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das achte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Touchpanel nach dem Anspruch 1, wobei das zweite Subelektrodenmuster, das vierte Subelektrodenmuster, das sechste und achte Subelektrodenmuster rauteförmig sind, wobei die gegenüberliegenden Ecke des sechsten Subelektrodenmusters sich auf dem fünften Subelektrodenmuster befinden und wobei die gegenüberliegenden Ecke des achten Subelektrodenmusters sich auf dem siebten Subelektrodenmuster befinden.
Touchpanel nach dem Anspruch 2, wobei die Fläche des zweiten Subelektrodenmusters kleiner als die Fläche des achten Subelektrodenmusters ist und die Fläche des vierten Subelektrodenmusters kleiner als die Fläche des sechsten Subelektrodenmusters ist.
Touchpanel nach dem Anspruch 1, wobei auf der Innenwand des ersten Durchgangslochs und des zweiten Durchgangslochs eine konkave und konvexe Struktur vorgesehen ist, wobei das Elektrodenmaterial beim Bilden des zweiten Elektrodenmusters durch Sputtern an die konkave und konvexe Struktur haftet.
Ein Touchpanel, wobei das Touchpanel ein Substrat, ein erstes Elektrodenmuster, eine Isolierschicht und ein zweites Elektrodenmuster umfasst, wobei das erste Elektrodenmuster, die Isolierschicht und das zweite Elektrodenmuster nacheinander auf dem Substrat laminiert sind, wobei das erste Elektrodenmuster ein erstes Subelektrodenmuster und ein zweites Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst und das zweite Elektrodenmuster ein drittes Subelektrodenmuster und ein viertes Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst, und wobei das erste Subelektrodenmuster und das dritte Subelektrodenmuster sich überkreuzend angeordnet sind, wobei auf der Isolationsschicht ein erstes Durchgangsloch und ein zweites Durchgangsloch angeordnet sind, wobei bei einer Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Touchpanel nach dem Anspruch 5, wobei das erste Subelektrodenmuster ein streifenförmiges fünftes Subelektrodenmuster und ein sechstes Subelektrodenmuster, das mit dem fünften Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, und das dritte Subelektrodenmuster ein streifenförmiges siebtes Subelektrodenmuster und ein achtes Subelektrodenmuster, das mit dem siebten Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, wobei das sechste Subelektrodenmuster und das achte Subelektrodenmuster abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei bei der Berührungserkennung das sechste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das achte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Touchpanel nach dem Anspruch 6, wobei das zweite Subelektrodenmuster, das vierte Subelektrodenmuster, das sechste und achte Subelektrodenmuster rauteförmig sind, wobei die gegenüberliegende Ecke des sechsten Subelektrodenmusters sich auf dem fünften Subelektrodenmuster befinden und wobei die gegenüberliegenden Ecke des achten Subelektrodenmusters sich auf dem siebten Subelektrodenmuster befinden.
Touchpanel nach dem Anspruch 7, wobei die Fläche des zweiten Subelektrodenmusters kleiner als die Fläche des achten Subelektrodenmusters ist und die Fläche des vierten Subelektrodenmusters kleiner als die Fläche des sechsten Subelektrodenmusters ist.
Touchpanel nach dem Anspruch 5 oder 6, wobei das erste Subelektrodenmuster entlang einer ersten Richtung erstreckend angeordnet ist und das dritte Subelektrodenmuster entlang einer zweiten Richtung erstreckend angeordnet ist, wobei die erste Richtung und die zweite Richtung senkrecht zueinander stehen.
Touchpanel nach dem Anspruch 5, wobei das erste Subelektrodenmuster und das zweite Subelektrodenmuster synchronisiert auf dem Substrat ausgebildet sind und das dritte Subelektrodenmuster und das vierte Subelektrodenmuster synchronisiert auf der Isolierschicht ausgebildet sind.
Touchpanel nach dem Anspruch 5, wobei auf der Innenwand des ersten Durchgangslochs und des zweiten Durchgangslochs eine konkave und konvexe Struktur vorgesehen ist, wobei das Elektrodenmaterial beim Bilden des zweiten Elektrodenmusters durch Sputtern an die konkave und konvexe Struktur haftet.
Ein Verfahren zur Herstellung eines Touchpanels, wobei das Herstellungsverfahren umfasst: Bilden einer ersten Elektrodenschicht auf einem Substrat; erstes Ätzen der ersten Elektrodenschicht zum Bilden eines ersten Elektrodenmusters, wobei das erste Elektrodenmuster ein erstes Subelektrodenmuster und ein zweites Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst; Bilden einer Isolierschicht auf dem Substrat, auf dem ein erstes Elektrodenmuster gebildet ist; zweites Ätzen der Isolierschicht zum Bilden eines ersten Durchgangslochs und eines zweiten Durchgangslochs; Bilden einer zweiten Elektrodenschicht auf der Isolationsschicht; drittes Ätzen der zweiten Elektrodenschicht zum Bilden eines zweiten Elektrodenmusters, wobei das zweite Elektrodenmuster ein drittes Subelektrodenmuster und ein viertes Subelektrodenmuster, die abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, umfasst; wobei das erste Subelektrodenmuster und das dritte Subelektrodenmuster sich überkreuzend angeordnet sind, wobei bei einer Berührungserkennung das erste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das dritte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Verfahren nach dem Anspruch 12, wobei das erste Subelektrodenmuster ein streifenförmiges fünftes Subelektrodenmuster und ein sechstes Subelektrodenmuster, das mit dem fünften Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, und das dritte Subelektrodenmuster ein streifenförmiges siebtes Subelektrodenmuster und ein achtes Subelektrodenmuster, das mit dem siebten Subelektrodenmuster verbunden ist, umfasst, wobei das sechste Subelektrodenmuster und das achte Subelektrodenmuster abwechselnd und voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei bei der Berührungserkennung das sechste Subelektrodenmuster durch das erste Durchgangsloch mit dem vierten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist und das achte Subelektrodenmuster durch das zweite Durchgangsloch mit dem zweiten Subelektrodenmuster elektrisch verbunden ist.
Verfahren nach dem Anspruch 13, wobei das zweite Subelektrodenmuster, das vierte Subelektrodenmuster, das sechste und achte Subelektrodenmuster rauteförmig sind, wobei die gegenüberliegenden Ecke des sechsten Subelektrodenmusters sich auf dem fünften Subelektrodenmuster befinden und wobei die gegenüberliegenden Ecke des achten Subelektrodenmusters sich auf dem siebten Subelektrodenmuster befinden.
Verfahren nach dem Anspruch 14, wobei die Fläche des zweiten Subelektrodenmusters kleiner als die Fläche des achten Subelektrodenmusters ist und die Fläche des vierten Subelektrodenmusters kleiner als die Fläche des sechsten Subelektrodenmusters ist.
Verfahren nach dem Anspruch 12 oder 13, wobei das erste Subelektrodenmuster entlang einer ersten Richtung erstreckend angeordnet ist und das dritte Subelektrodenmuster entlang einer zweiten Richtung erstreckend angeordnet ist, wobei die erste Richtung und die zweite Richtung senkrecht zueinander stehen.
Verfahren nach dem Anspruch 12, wobei die erste Elektrodenschicht, die Isolierschicht und die zweite Elektrodenschicht durch Sputtern gebildet sind.