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Technisches Gebiet der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Anzeigetechnologien und insbesondere auf eine Anzeigevorrichtung.
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Hintergrund der Erfindung
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Anzeigefelder kommen heute in Telefon-Mobilteilen, Organizern (Personal Digital Assistants, PDAs) und anderen tragbaren elektronischen Produkten verbreitet zum Einsatz, beispielsweise in Form von Dünnschichttransistor-Flüssigkristallanzeigen (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Displays, TFT-LCDs), organischen Leuchtdioden (Organic Light Emitting Diode, OLEDs), Niedrigtemperatur-Polysiliziumanzeigen (Low Temperature Poly-Silicon-Displays, LTPS-Displays) oder Plasma-Anzeigefeldern (Plasma Display Panels, PDPs). Der Wettbewerb auf dem Markt hat zu einer zunehmenden Aufmerksamkeit für portablere Anzeigevorrichtungen geführt, die noch bessere Anzeigeeigenschaften aufweisen und sich zu geringeren Kosten produzieren lassen. In den letzten Jahren wurde die herkömmliche Praxis, ein Pixel über eine externen Gate-Treiberchip anzusteuern, nach und nach von der Praxis abgelöst, eine Gate-Treiberschaltungsstruktur direkt auf einem Anzeigefeld herzustellen, wobei diese Gate-Treiberschaltung als Gate-on-Array-Schaltung (GOA-Schaltung) bezeichnet wird. Der Einsatz der GOA-Technologie kann ein Treiber-IC überflüssig machen, die Helligkeit des Anzeigefeldes erhöhen, die Kosten deutlich senken und die Zuverlässigkeit der Anzeige steigern. Daher ist die GOA-Technologie in den letzten Jahren allmählich zu einem Schwerpunkt der Forschung und Entwicklung geworden.
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Zusammenfassende Beschreibung der Erfindung
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In Anbetracht dessen stellt die vorliegende Erfindung eine Anzeigevorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen der Anzeigevorrichtung zur Verfügung.
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Um das vorgenannte technische Problem zu lösen, stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Anzeigevorrichtung zur Verfügung, beinhaltend ein erstes Substrat, ein gegenüber dem ersten Substrat angeordnetes zweites Substrat und eine Gate-Treiberschaltung mit mindestens einem ersten Kondensator und einem Gate-Ansteuerelement, wobei der erste Kondensator auf dem ersten Substrat und das Gate-Ansteuerelement auf dem zweiten Substrat angeordnet ist.
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Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung zur Verfügung, wobei das Verfahren folgende Schritte beinhaltet: Bereitstellen eines ersten Substrats, beinhaltend mindestens einen ersten Kondensator, Bereitstellen eines zweiten Substrats, beinhaltend ein Gate-Ansteuerelement und Bonden des ersten Substrats in einer Linie mit dem zweiten Substrat.
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Im Vergleich mit dem Stand der Technik ist bei der Anzeigevorrichtung gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung der Kondensator des Gate-Ansteuerelements auf dem ersten Substrat angeordnet, während das andere Gate-Ansteuerelement gegenüber dem zweiten Substrat angeordnet ist, wodurch sich die gesamte Verdrahtungsfläche des Gate-Ansteuerelements verkleinert und eine Rahmenkante der Anzeigevorrichtung schmaler wird.
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Kurzbeschreibung der Zeichnungen
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Um die technischen Lösungen in den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung deutlicher zu beschreiben, werden die in einer Beschreibung der Ausführungsformen zu verwendenden Zeichnungen nachstehend kurz vorgestellt, wobei die nachstehend zu beschreibenden Zeichnungen offensichtlich nur einige der Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wiedergeben und der Fachmann aus diesen Zeichnungen ohne erfinderischen Aufwand andere Zeichnungen ableiten kann. Die Zeichnungen zeigen Folgendes:
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1A ist ein Prinzipschaltbild einer Gate-Ansteuerschaltung nach dem Stand der Technik;
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1B ist eine Schnittdarstellung eines Kondensators der Gate-Ansteuerschaltung nach dem Stand der Technik;
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1C ist eine Draufsicht auf den Kondensator der Gate-Ansteuerschaltung nach dem Stand der Technik;
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2 ist eine Schnittdarstellung einer Anzeigevorrichtung, die durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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3 ist eine Draufsicht auf ein erstes Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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4 ist eine Draufsicht auf ein zweites Substrat der Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
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5a ist eine Schnittdarstellung entlang einer Schnittlinie A-A' in 3;
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5b ist eine weitere Schnittdarstellung eines ersten Kondensators des ersten Substrats, der durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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5c ist eine weitere Schnittdarstellung des ersten Kondensators des ersten Substrats, der durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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6 ist eine weitere Draufsicht auf das erste Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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7 ist eine weitere Draufsicht auf das zweite Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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8 ist eine Draufsicht auf ein erstes Substrat einer Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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9 ist eine Schnittdarstellung entlang einer Schnittlinie B-B' in 8;
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10 ist eine weitere Draufsicht auf das erste Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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11 ist eine Draufsicht auf ein erstes Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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12 ist eine weitere Draufsicht auf das erste Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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13 ist eine Draufsicht auf ein erstes Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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14 ist eine weitere Draufsicht auf ein erstes Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird;
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15 ist eine Schnittdarstellung entlang der Schnittlinie C-C' in 14; und
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16 ist ein schematisches Ablaufdiagramm zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird.
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Ausführliche Beschreibung der Ausführungsformen
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Die technischen Lösungen gemäß den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen in den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung deutlich und vollständig beschrieben. Offensichtlich bilden die beschriebenen Ausführungsformen nur einen Teil der Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung und nicht die Gesamtheit aller Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Basierend auf den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung, fallen alle anderen vom Fachmann ohne erfinderischen Aufwand abgeleiteten Ausführungsformen in den Geltungsbereich der vorliegenden Erfindung.
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1A ist ein Prinzipschaltbild einer Gate-Ansteuerschaltung nach dem Stand der Technik. Wie in 1A veranschaulicht, besteht die Funktion der Gate-Ansteuerschaltung darin, einen Impuls mit einer festen zeitlichen Abfolge zu erzeugen, wobei der Impuls zu einem Dünnschichttransistor-Anzeigefeld übertragen wird, um einen Dünnschichttransistor in einem Pixel so zu steuern, dass dieser ein- und ausgeschaltet wird. Die Gate-Ansteuerschaltung beinhaltet allgemein mehrere Signalleitungen, mehrere Dünnschichttransistoren, einen Kondensator und einen Draht. Die GOA-Schaltung ist in einem Nichtanzeigebereich am Rand der Anzeigevorrichtung angeordnet, und um die Verzögerung des Signals zu verringern, ist eine breitere Verdrahtung und möglicherweise auch ein Kondensatorbauelement vorgesehen, um einen Schwellenspannungs-Offset und andere Probleme abzumildern, so dass die Anzeigeleistung der Anzeigevorrichtung verbessert wird. Wie in 1B veranschaulicht, wird das Kondensatorbauelement typisch auf einem Glasträger 100 aus einem Datenleitungs-Metallmuster 102 und einem Gate-Metallmuster 101 mit einer zwischen ihnen liegenden Isolationsschicht 104 hergestellt, so dass die GOA-Schaltung ein großes Stück Metall enthält. Wenn ein Dichtmittel, das einem Bereich der GOA-Schaltung entspricht, durch UV-Bestrahlung aushärtet, muss das Kondensatorbauelement, damit eine hinreichende Aushärtung des Dichtmittels erfolgt, auf einer Schicht der GOA-Schaltung typischerweise Ausnehmungen im Metall 103 aufweisen, wie in 1C veranschaulicht, um dadurch eine ausreichende Transmissivität im UV-Aushärtungsprozess des Dichtmittels zu erzielen, aber diese Ausgestaltung kann in einer Vergrößerung der Breite der Schicht der GOA-Schaltung und einer weiteren Vergrößerung der Breite der Rahmenkante resultieren, so dass die Rahmenkante nicht schmaler wird.
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Nach dem Stand der Technik weist die Gate-Ansteuerschaltung eine breite Verdrahtung auf, und das Kondensatorbauelement an der Schicht der Gate-Ansteuerschaltung ist typischerweise hohl ausgestaltet, aber diese Ausgestaltung kann in einer Vergrößerung der Breite der Schaltungsschicht resultieren, so dass die Rahmenkante nicht schmaler wird.
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2 veranschaulicht eine Schnittdarstellung einer Anzeigevorrichtung, die durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird. Wie in 2 veranschaulicht, beinhaltet die Anzeigevorrichtung ein erstes Substrat 11, ein gegenüber dem ersten Substrat 11 angeordnetes zweites Substrat 12 und eine Gate-Treiberschaltung, beinhaltend mindestens einen ersten Kondensator 13 und ein Gate-Ansteuerelement 14, wobei der erste Kondensator 13 auf dem ersten Substrat 11 und das Gate-Ansteuerelement 14 auf dem zweiten Substrat 12 angeordnet ist. In einer Ausführungsform sind sowohl der erste Kondensator 13 als auch das Gate-Ansteuerelement 14 in einem Nichtanzeigebereich angeordnet und entsprechen einander in Bezug auf ihre Anordnung, und daher sind im Vergleich zum Stand der Technik der erste Kondensator und das Gate-Ansteuerelement im selben Substrat angeordnet, was somit einen räumlich belegten Bereich, d. h. den gesamten zum Verdrahten der Gate-Ansteuerschaltung auf dem zweiten Substrat belegten Bereich, verkleinert, um eine Rahmenkante der Anzeigevorrichtung schmaler zu machen. Eine Dünnschichttransistor-Ansteuerschicht 17 ist ferner auf dem ersten Substrat 11 angeordnet. Ein elektrisch leitendes Dichtmittel 15 ist ferner zwischen dem ersten Substrat 11 und dem zweiten Substrat 12 vorgesehen, wobei das elektrisch leitende Dichtmittel 15 im Nichtanzeigebereich und insbesondere zwischen dem ersten Kondensator 13 und dem Gate-Ansteuerelement 14 angeordnet ist. Das elektrisch leitende Dichtmittel 15 ist elektrisch leitend, und aufgrund der elektrisch leitenden Goldkugeln 16, mit denen das elektrisch leitende Dichtmittel 15 dotiert ist, werden die darin befindlichen elektrisch leitenden Goldkugeln 16, wenn das erste Substrat 11 in einer Linie mit dem zweiten Substrat 12 gebondet wird, durch Druck in Kontakt miteinander gebracht, um den ersten Kondensator 13 elektrisch mit dem Gate-Ansteuerelement 14 zu verbinden. Eine Schwarzmatrixschicht und eine Farbresistschicht (in der Figur nicht dargestellt) sind ferner auf dem ersten Substrat 11 angeordnet, um die Anzeigevorrichtung farbig zu machen.
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3 ist eine Draufsicht auf das erste Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird. Wie in 3 veranschaulicht, beinhaltet das erste Substrat 11 einen Anzeigebereich 110 und einen Nichtanzeigebereich 111, wobei mindestens ein erster Kondensator 13 im Nichtanzeigebereich 111 angeordnet ist. Der erste Kondensator 13 beinhaltet eine erste Polplatte 130 und eine zweite Polplatte 131, die einander gegenüberliegend angeordnet sind, sowie eine erste (in der Figur nicht dargestellte) Isolationsschicht, die zwischen der ersten Polplatte 130 und der zweiten Polplatte 131 angeordnet ist, und beinhaltet ferner eine erste Kontaktfläche 132 und eine zweite Kontaktfläche 133, die beide in derselben Schicht wie die zweite Polplatte 131 angeordnet sind, und eine Kondensator-Verbindungsleitung 134 ist in derselben Schicht wie die erste Polplatte 130 angeordnet. Die erste Kontaktfläche 132 ist elektrisch über ein erstes Verbindungsloch 135 mit der Kondensator-Verbindungsleitung 134 verbunden, die Kondensator-Verbindungsleitung 134 ist elektrisch mit der ersten Polplatte 130 verbunden, und die zweite Kontaktfläche 133 ist elektrisch mit der zweiten Polplatte 131 verbunden. Der Anzeigebereich 110 des ersten Substrats 11 beinhaltet ferner eine Schwarzmatrixschicht und eine Farbresistschicht (in der Figur nicht dargestellt).
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5a eine Schnittdarstellung entlang einer Schnittlinie A-A' in 3, und wie sowohl aus 3 als auch aus 5a ersichtlich ist, ist die Schwarzmatrix 112 auf dem ersten Substrat 11 angeordnet, wobei der erste Kondensator 13 auf der Schwarzmatrix 112 ausgeformt ist, der erste Kondensator 13 die erste Polplatte 130 und die dieser gegenüberliegend angeordnete zweite Polplatte 131 beinhaltet, und die erste Isolationsschicht 113, die eine Farbresistschicht sein kann, zwischen der ersten Polplatte 130 und der zweiten Polplatte 131 angeordnet ist, wobei die Kondensator-Verbindungsleitung 134 in 5a gestrichelt dargestellt ist. Die erste Polplatte 130 überlappt sich vollständig mit der zweiten Polplatte 131, wobei die erste Polplatte 130 und die zweite Polplatte 131 aus transparenten Elektrodenschichten bestehen und die erste Polplatte 130, die so angeordnet ist, dass sie sich vollständig mit der zweiten Polplatte 131 überlappt, den Kapazitätswert des ersten Kondensators 13 erhöhen kann.
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Es sei angemerkt, dass sich die erste Polplatte 130 je nach Bedarf für eine praktische Anzeigefeld-Ausführung alternativ auch mit einem Teil der zweiten Polplatte 131 überlappen kann. Die erste Polplatte 130 und die zweite Polplatte 131 können aus jedem beliebig gewählten Elektrodenschichtmaterial bestehen; so besteht beispielsweise die erste Polplatte 130 aus einer transparenten Elektrodenschicht, und die zweite Polplatte 131 besteht aus einer nichttransparenten Elektrodenschicht, oder die erste Polplatte 130 besteht aus einer nichttransparenten Elektrodenschicht, und die zweite Polplatte 131 besteht aus einer transparenten Elektrodenschicht oder einer nichttransparenten Elektrodenschicht. Das Material der transparenten Elektrodenschicht ist Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO) usw., und das Material der nichttransparenten Elektrodenschicht kann Silber (Ag), Gold (Au), Wolfram (W), Titani (Ti), Molybdän (Mo) usw. sein. Die erste Polplatte und/oder die zweite Polplatte, die aus der transparenten Elektrodenschicht bestehen, können im selben Prozess hergestellt werden wie die transparente Elektrodenschicht des Anzeigebereichs, um dadurch die Zahl der Schritte im Herstellungsprozess zu verringern, Materialien einzusparen und Kosten zu senken, und die erste Polplatte und/oder die zweite Polplatte, die aus der nichttransparenten Elektrodenschicht bestehen, können beispielsweise aus Metall bestehen, um dadurch die elektrische Leitfähigkeit der Polplatte(n) zu erhöhen.
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Die vorgenannte Ausführungsform ist lediglich eine von mehreren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung, und 5b veranschaulicht eine alternative Struktur, in welcher die Schwarzmatrix 112 auf dem ersten Substrat 11 hohl um den Anzeigebereich herum angeordnet sein kann, d. h. die Schwarzmatrix im Anzeigebereich befindet sich in einem Abstand von der Schwarzmatrix im Nichtanzeigebereich. Wie ebenfalls in 3 veranschaulicht, ist die erste Polplatte 130 im Nichtanzeigebereich 111 so auf der Schwarzmatrix 112 des Nichtanzeigebereichs angeordnet, dass sie sich mit einem Teil der zweiten Polplatte 131 überlappt, und eine solche hohle Ausgestaltung der Schwarzmatrix am Rand eines Bildschirms kann Schutz gegen elektrostatische Aufladung bieten.
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5c veranschaulicht eine andere Realisierung einer Ausführungsform, wobei eine vierte Isolationsschicht 114 so zwischen der Schwarzmatrix 112 und der ersten Polplatte 130 angeordnet sein kann, dass sie die Schwarzmatrix 112 gleichmäßig überlagert, und wobei die vierte Isolationsschicht 114 gegen elektrische Leitfähigkeit schützen kann, und eine Isolationsschicht oder ein Ausrichtungsfilm (in der Figur nicht dargestellt) kann ferner über der zweiten Polplatte 131 angeordnet sein, wobei die Kondensator-Verbindungsleitung 134 in 5c gestrichelt dargestellt ist.
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Wie in 3 veranschaulicht, ist in dieser Ausführungsform mindestens ein erster Kondensator 13 im Nichtanzeigebereich 111 auf einer Seite des Anzeigebereichs 110 des ersten Substrats der Anzeigevorrichtung angeordnet. Wie in 6 veranschaulicht, kann mindestens ein erster Kondensator 13 ferner im Nichtanzeigebereich 111 auf beiden Seiten des Anzeigebereichs 110 des ersten Substrats 11 angeordnet sein.
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4 ist eine Draufsicht auf das zweite Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird. Wie in 4 veranschaulicht, beinhaltet das zweite Substrat 12 in Übereinstimmung mit dem ersten Substrat 11 ebenfalls den Anzeigebereich 110 und den Nichtanzeigebereich 111, wobei das Gate-Ansteuerelement 14 und eine dritte Kontaktfläche 140 im Anzeigebereich 111 angeordnet sind und die dritte Kontaktfläche 140 über ein zweites Verbindungsloch 141 elektrisch mit dem Gate-Ansteuerelement 14 verbunden ist. Das Gate-Ansteuerelement 14 beinhaltet mehrere Dünnschichttransistoren und Schaltungs-Verbindungsleitungen (in der Figur nicht dargestellt). Eine Dünnschichttransistor-Ansteuerschicht 17 (in der Figur nicht dargestellt) ist im Anzeigebereich 110 angeordnet, wobei die Dünnschichttransistor-Ansteuerschicht 17 Dünnschichttransistoren, Datenleitungen, Scan-Leitungen und andere Elemente beinhaltet. Das Gate-Ansteuerelement 14 kann im selben Prozess hergestellt werden und aus demselben Material bestehen wie die Dünnschichttransistor-Ansteuerschicht 17.
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In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung entspricht die Position der dritten Kontaktfläche 140 des Gate-Ansteuerelements auf dem zweiten Substrat 12 den Positionen der ersten Kontaktfläche 132 und der zweiten Kontaktfläche 133 auf dem ersten Substrat 11, und die dritte Kontaktfläche 140 des Gate-Ansteuerelements auf dem zweiten Substrat 12 ist über das Dichtmittel 15 elektrisch mit der ersten Kontaktfläche 132 und der zweiten Kontaktfläche 133 auf dem ersten Substrat 11 verbunden. Wenn die Anzeigevorrichtung in Betrieb ist, ist der erste Kondensator 13 mit der Schaltungs-Verbindungsleitung des Gate-Ansteuerelements 14 verbunden, um die für die Gate-Ansteuerschaltung benötigte Kapazität zur Verfügung zu stellen.
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Wie in 4 veranschaulicht, ist in einer Ausführungsform das Gate-Ansteuerelement 14 im Nichtanzeigebereich 111 auf einer Seite des Anzeigebereichs 110 des zweiten Substrats 12 der Anzeigevorrichtung angeordnet. Zudem kann das Gate-Ansteuerelement 14, wie in 7 veranschaulicht, ferner im Nichtanzeigebereich 111 auf beiden Seiten des Anzeigebereichs 110 des zweiten Substrats 12 der Anzeigevorrichtung angeordnet sein.
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Die Materialien des Gate-Ansteuerelements und der Dünnschichttransistor-Ansteuerschicht sind nicht auf Oxidhalbleiter, Niedrigtemperatur-Polysilizium, amorphes Silizium oder andere Halbleiter beschränkt. Überdies ist eine Anwendung der Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform nicht auf organische Leuchtdioden (Organic Light Emitting Diodes, OLEDs), Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen, Electronic-Paper-Displays (E-Paper-Displays) usw. beschränkt.
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8 ist eine Draufsicht auf ein erstes Substrat einer Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird, und 9 zeigt eine Schnittdarstellung entlang der Linie B-B' in 8. Wie sowohl aus 8 als auch aus 9 ersichtlich, unterscheidet sich die Ausführungsform insofern von der in 3 beschriebenen Ausführungsform, als der Anzeigebereich 110 des ersten Substrats 11 der Anzeigevorrichtung ferner eine erste elektrisch leitende Schicht 136 beinhaltet und der erste Kondensator 13, beinhaltend die erste Polplatte 130, die erste Isolationsschicht 113 und die zweite Polplatte 131, im Nichtanzeigebereich 111 des ersten Substrats 11 angeordnet ist. In der Ausführungsform ist die erste elektrisch leitende Schicht 136 eine einlagige Berührungselektrodenschicht, und wie in 8 veranschaulicht, beinhaltet die Berührungselektrodenschicht eine Ansteuerelektrode 136a, eine Messelektrode 136b und eine Elektrodenleitung 136c. Die erste elektrisch leitende Schicht 136 ist in derselben Schicht wie die erste Polplatte 130 und von der ersten Polplatte 130 getrennt angeordnet, wobei die Kondensator-Verbindungsleitung 134 in 9 gestrichelt dargestellt ist. Die Materialien der ersten elektrisch leitenden Schicht 136, der ersten Polplatte 130 und der zweiten Polplatte 131 können Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO), Silber (Ag), Gold (Au), Wolfram (W), Titan (Ti), Molybdän (Mo) usw. sein, wobei die vorgenannte Realisierung lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform ist, und in einer alternativen Realisierung der Ausführungsform kann die erste elektrisch leitende Schicht 136 alternativ in derselben Schicht wie die zweite Polplatte 131 und von der zweiten Polplatte 131 getrennt angeordnet sein. In der Ausführungsform kann die erste Polplatte und/oder die zweite Polplatte im selben Prozess wie die einlagige Berührungselektrodenschicht des Anzeigebereichs hergestellt werden, um dadurch die Zahl der Schritte im Herstellungsprozess zu verringern, Materialien einzusparen und Kosten zu senken, und die erste Polplatte und/oder die zweite Polplatte, die aus der nichttransparenten Elektrodenschicht bestehen, können beispielsweise aus Metall bestehen, um dadurch die elektrische Leitfähigkeit der Polplatte(n) zu erhöhen.
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Die vorgenannte Realisierung ist lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform, und in einer alternativen Realisierung der Ausführungsform ist die erste elektrisch leitende Schicht 136, wie in 10 veranschaulicht, eine gemeinsame Elektrodenschicht, wobei die erste elektrisch leitende Schicht 136 in derselben Schicht wie die erste Polplatte 130 und von der ersten Polplatte 130 getrennt angeordnet ist. Das Material der ersten elektrisch leitenden Schicht 136 kann Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO) usw. sein, und die erste elektrisch leitende Schicht 136 kann aus der transparenten Elektrodenschicht bestehen, um dadurch die Transmissivität zu erhöhen und das Kontrastverhältnis der Anzeigevorrichtung zu verbessern. Die Materialien der ersten Polplatte 130 und der zweiten Polplatte 131 können Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO), Silber (Ag), Gold (Au), Wolfram (W), Titan (Ti), Molybdän (Mo) usw. sein, wobei die vorgenannte Realisierung lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform ist, und in einer alternativen Realisierung der Ausführungsform kann die erste elektrisch leitende Schicht 136 alternativ in derselben Schicht wie die zweite Polplatte 131 angeordnet sein. In der vorgenannten Ausführungsform kann die erste elektrisch leitende Schicht 136 alternativ eine elektrostatisch abschirmende Schicht sein. Die erste Polplatte und/oder die zweite Polplatte, die aus der transparenten Elektrodenschicht bestehen, können im selben Prozess wie die gemeinsame Elektrodenschicht oder die elektrostatisch abschirmende Schicht des Anzeigebereichs hergestellt werden, um dadurch die Zahl der Schritte im Herstellungsprozess zu verringern, Materialien einzusparen und Kosten zu senken.
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In dieser Ausführungsform kann die einlagige Berührungselektrodenschicht oder die gemeinsame Elektrodenschicht als die erste elektrisch leitende Schicht verwendet werden, die in derselben Schicht wie eine der Polplatten des ersten Kondensators angeordnet ist, um dadurch die Zahl der Prozessschritte zu verringern, Materialien einzusparen, die Abläufe zu vereinfachen und außerdem die Rahmenkante schmaler zu machen.
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11 ist eine Draufsicht auf ein erstes Substrat einer Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird, und es kann auf 9 verwiesen werden, die eine Schnittdarstellung entlang der Linie C-C' in 11 zeigt. Wie sowohl aus 11 als auch aus 9 ersichtlich, unterscheidet sich die Ausführungsform insofern von der in 3 beschriebenen Ausführungsform, als der Anzeigebereich 110 des ersten Substrats 11 der Anzeigevorrichtung ferner die erste elektrisch leitende Schicht 136 und eine auf der ersten elektrisch leitenden Schicht 136 angeordnete zweite elektrisch leitende Schicht 137 beinhaltet und die erste Isolationsschicht 113 zwischen der ersten elektrisch leitenden Schicht 136 und der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 angeordnet ist und der erste Kondensator 13, beinhaltend die erste Polplatte 130, die erste Isolationsschicht 113 und die zweite Polplatte 131, im Nichtanzeigebereich 111 des ersten Substrats 11 angeordnet ist. In dieser Ausführungsform ist die erste elektrisch leitende Schicht 136 eine einlagige Berührungselektrodenschicht, und wie in 11 veranschaulicht, beinhaltet die Berührungselektrodenschicht eine Ansteuerelektrode 136a, eine Messelektrode 136b und eine Elektrodenleitung 136c. Die erste elektrisch leitende Schicht 136 ist in derselben Schicht wie die erste Polplatte 130 und von der ersten Polplatte 130 getrennt angeordnet, und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 ist eine gemeinsame Elektrodenschicht. Die erste elektrisch leitende Schicht 136 ist in derselben Schicht wie die erste Polplatte 130 und von der ersten Polplatte 130 getrennt angeordnet, und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 ist in derselben Schicht wie die zweite Polplatte 131 und von der zweiten Polplatte 131 getrennt angeordnet. Die Materialien der ersten elektrisch leitenden Schicht 136 und der ersten Polplatte 130 können Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO), Silber (Ag), Gold (Au), Wolfram (W), Titan (Ti), Molybdän (Mo) usw. sein, und die Materialien der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 und der zweiten Polplatte 131 können Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO) usw. sein. In der vorgenannten Ausführungsform kann die zweite elektrisch leitende Schicht 137 alternativ eine elektrostatisch abschirmende Schicht sein. In der Ausführungsform können die erste elektrisch leitende Schicht 136 und die erste Polplatte 130 im selben Prozess hergestellt werden, und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 und die zweite Polplatte 131 im selben Prozess hergestellt werden, um so die Zahl der Schritte im Herstellungsprozess zu verringern, Materialien einzusparen und Kosten zu senken.
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Die vorgenannte Realisierung ist lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform, und in einer alternativen Realisierung der Ausführungsform können, wie in 12 veranschaulicht, die erste elektrisch leitende Schicht 136 und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 des Anzeigebereichs 110 alternativ zwei Berührungselektrodenschichten sein, wobei die erste elektrisch leitende Schicht 136 mehrere erste Berührungselektroden 136' beinhaltet, die sich in einer ersten Richtung erstrecken, und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 mehrere zweite Berührungselektroden 137' beinhaltet, die sich in einer zweiten Richtung erstrecken, die senkrecht zur ersten Richtung verläuft. Die erste elektrisch leitende Schicht 136 ist in derselben Schicht wie die erste Polplatte 130 und von der ersten Polplatte 130 getrennt angeordnet, und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 ist in derselben Schicht wie die zweite Polplatte 131 und von der zweiten Polplatte 131 getrennt angeordnet. Die Materialien der ersten elektrisch leitenden Schicht 136, der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137, der ersten Polplatte 130 und der zweiten Polplatte 131 können Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO), Silber (Ag), Gold (Au), Wolfram (W), Titan (TI), Molybdän (Mo) usw. sein, wobei die erste Polplatte und die zweite Polplatte jeweils im selben Prozess hergestellt werden können wie die zwei Berührungselektrodenschichten, um dadurch die Zahl der Schritte im Herstellungsprozess zu verringern, Materialien einzusparen und Kosten zu senken.
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In der Ausführungsform können die einlagigen Berührungselektrodenschichten oder die gemeinsamen Elektrodenschichten als die erste elektrisch leitende Schicht und die zweite elektrisch leitende Schicht verwendet werden, und die erste elektrisch leitende Schicht und die zweite elektrisch leitende Schicht sind in denselben Schichten wie die jeweiligen beiden Polplatten des ersten Kondensators angeordnet, um dadurch die Zahl der Prozessschritte zu verringern, Materialien einzusparen, die Abläufe zu vereinfachen und außerdem die Rahmenkante schmaler zu machen.
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13 ist eine Draufsicht auf ein erstes Substrat einer Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird, und es kann auf 9 verwiesen werden, die eine Schnittdarstellung entlang der Linie D-D' in 13 zeigt. Wie sowohl aus 13 als auch aus 9 ersichtlich, unterscheidet sich die Ausführungsform insofern von der in 3 beschriebenen Ausführungsform, als der Anzeigebereich 110 des ersten Substrats 11 der Anzeigevorrichtung ferner die erste elektrisch leitende Schicht 136, die zweite elektrisch leitende Schicht 137 und eine dritte elektrisch leitende Schicht 138 beinhaltet, wobei die zweite elektrisch leitende Schicht 137 auf der ersten elektrisch leitenden Schicht 136 angeordnet ist, wobei die erste Isolationsschicht 113 zwischen der ersten elektrisch leitenden Schicht 136 und der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 angeordnet ist, wobei die dritte elektrisch leitende Schicht 138 auf der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 angeordnet ist, und wobei eine zweite Isolationsschicht 115 zwischen der dritten elektrisch leitenden Schicht 138 und der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 angeordnet ist. Der erste Kondensator 13, beinhaltend die erste Polplatte 130, die erste Isolationsschicht 113 und die zweite Polplatte 131, ist im Nichtanzeigebereich 111 des ersten Substrats 11 angeordnet, und in der Ausführungsform sind die erste elektrisch leitende Schicht 136 und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 zwei Berührungselektrodenschichten, wobei die erste elektrisch leitende Schicht 136 mehrere erste Berührungselektroden 136' beinhaltet, die sich in einer ersten Richtung erstrecken, und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 mehrere zweite Berührungselektroden 137' beinhaltet, die sich in einer zweiten Richtung erstrecken, die senkrecht zur ersten Richtung verläuft. Die dritte elektrisch leitende Schicht 138 ist eine gemeinsame Elektrodenschicht; die erste Polplatte 130 ist in derselben Schicht wie die erste elektrisch leitende Schicht 136 und von der ersten elektrisch leitenden Schicht 136 getrennt angeordnet; die zweite Polplatte 131 ist in derselben Schicht wie die zweite elektrisch leitende Schicht 137 und von der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 getrennt angeordnet; die Materialien der ersten Polplatte 130, der ersten elektrisch leitenden Schicht 136, der zweiten Polplatte 131 und der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 können Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO), Silber (Ag), Gold (Au), Wolfram (W), Titan (Ti), Molybdän (Mo) usw. sein, und das Material der dritten elektrisch leitenden Schicht 138 kann Indium-Zinn-Oxid (Indium Tin Oxide, ITO), Indium-Zink-Oxid (Indium Zinc Oxide, IZO), Indium-Zinn-Zink-Oxid (Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), Antimon-Zinn-Oxid (Antimony Tin Oxide, ATO) usw. sein. Die erste elektrisch leitende Schicht 136 kann im selben Prozess wie die erste Polplatte 130 hergestellt werden, und die zweite elektrisch leitende Schicht 137 kann im selben Prozess wie die zweite Polplatte 131 hergestellt werden, um dadurch die Zahl der Schritte im Herstellungsprozess zu verringern, Materialien einzusparen und Kosten zu senken.
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Die vorgenannte Ausführungsform ist lediglich eine von mehreren Ausführungsformen, und die dritte elektrisch leitende Schicht 138 kann alternativ auch eine elektrostatisch abschirmende Schicht sein; die erste Polplatte 130 und die zweite Polplatte 131 können alternativ auch in denselben Schichten angeordnet sein wie beliebige zwei der ersten elektrisch leitenden Schicht 136, der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 und der dritten elektrisch leitenden Schicht 138, und die beiden Berührungselektrodenschichten können zwei beliebige benachbarte Schichten der ersten elektrisch leitenden Schicht 136, der zweiten elektrisch leitenden Schicht 137 und der dritten elektrisch leitenden Schicht 138 sein.
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14 ist eine weitere Draufsicht auf ein erstes Substrat der Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird, und es kann auf 15 verwiesen werden, die eine Schnittdarstellung entlang der Linie E-E' in 14 zeigt. Wie sowohl aus 14 als auch aus 15 ersichtlich, ist in der Ausführungsform eine dritte Polplatte 201 über dem ersten Kondensator 13 angeordnet, wobei die dritte Polplatte 201 und die zweite Polplatte 131 einen zweiten Kondensator 20 bilden und die dritte Polplatte 201 in derselben Schicht wie die dritte elektrisch leitende Schicht 138 und von der dritten elektrisch leitenden Schicht 138 getrennt angeordnet ist, wobei die Kondensator-Verbindungsleitung 134 in 15 gestrichelt dargestellt ist.
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In der Ausführungsform kann die erste elektrisch leitende Schicht 136 im selben Prozess hergestellt werden wie die erste Polplatte 130, die zweite elektrisch leitende Schicht 137 kann im selben Prozess hergestellt werden wie die zweite Polplatte 131, und die dritte Polplatte 201 kann im selben Prozess hergestellt werden wie die dritte elektrisch leitende Schicht 138, um so die Zahl der Schritte im Herstellungsprozess zu verringern, Materialien einzusparen und Kosten zu senken.
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Die vorgenannte Realisierung ist lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform, und die dritte Polplatte 201 kann alternativ auch unter der ersten Polplatte 130 angeordnet sein, wobei die dritte Polplatte 201 und die erste Polplatte 130 den zweiten Kondensator 20 bilden.
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In der Ausführungsform kann die Anzeigevorrichtung mit drei elektrisch leitenden Schichten angeordnet sein, und die erste Polplatte und die zweite Polplatte können in denselben Schichten wie zwei beliebige der drei elektrisch leitenden Schichten angeordnet sein, um dadurch die Zahl der Prozessschritte zu verringern, Materialien einzusparen, die Abläufe zu vereinfachen und außerdem die Rahmenkante schmaler zu machen, und außerdem kann die dritte Polplatte über oder unter dem ersten Kondensator angeordnet sein, um zusammen mit der ersten Polplatte oder der zweiten Polplatte den zweiten Kondensator zu bilden, und die beiden Kondensatoren können in Serie geschaltet werden, um dadurch den Kapazitätswert des ersten Kondensators zu erhöhen.
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Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung zur Verfügung, und 16 zeigt ein schematisches Ablaufdiagramm des Verfahrens zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung, die durch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Verfügung gestellt wird, wobei das Verfahren die folgenden Schritte beinhaltet:
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Schritt 1 besteht in der Bereitstellung eines ersten Substrats, beinhaltend mindestens einen ersten Kondensator.
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Insbesondere in dem Schritt der Ausformung des ersten Kondensators auf dem ersten Substrat wird eine Schwarzmatrix auf dem ersten Substrat ausgeformt, und auf der Schwarzmatrix wird eine erste elektrisch leitende Materialschicht ausgeformt; die erste elektrisch leitende Materialschicht ist so gemustert, dass sie eine erste Polplatte des ersten Kondensators und eine Kondensator-Verbindungsleitung bildet, wobei die Kondensator-Verbindungsleitung elektrisch mit der ersten Polplatte verbunden ist; eine erste Isolationsschicht wird auf der ersten Polplatte und der Kondensator-Verbindungsleitung ausgeformt; die erste Isolationsschicht ist so gemustert, dass sie ein erstes Verbindungsloch bildet; eine zweite elektrisch leitende Materialschicht wird auf der ersten Isolationsschicht ausgeformt, und die zweite elektrisch leitende Materialschicht ist so gemustert, dass sie eine zweite Polplatte des ersten Kondensators, einer ersten Kontaktfläche und einer zweiten Kontaktfläche bildet, wobei die zweite Kontaktfläche über das erste Verbindungsloch elektrisch mit der ersten Polplatte verbunden ist. 3 veranschaulicht eine Draufsicht auf den ersten auf dem ersten Substrat ausgeformten Kondensator, und 5a veranschaulicht eine Schnittdarstellung des ersten Kondensators.
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Die vorgenannte Realisierung ist lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform, und in einer alternativen Realisierung einer Ausführungsform ist in dem Schritt des Ausformens des ersten Kondensators auf dem ersten Substrat die erste elektrisch leitende Materialschicht so gemustert, dass sie eine Berührungselektrodenschicht bildet, wobei auf 8 verwiesen werden kann, die eine Draufsicht auf das erste Substrat zeigt, oder sie erfolgt durch Mustern der ersten elektrisch leitende Materialschicht zum Ausformen einer gemeinsamen Elektrodenschicht, wobei auf 10 verwiesen werden kann, die eine Draufsicht auf das erste Substrat zeigt, oder sie erfolgt durch Mustern der ersten elektrisch leitende Materialschicht zum Ausformen einer elektrostatisch abschirmenden Schicht.
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Die vorgenannte Realisierung ist lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform, und in einer alternativen Realisierung einer Ausführungsform ist in dem Schritt des Ausformens des ersten Kondensators auf dem ersten Substrat die erste elektrisch leitende Materialschicht so gemustert, dass sie eine Berührungselektrodenschicht bildet, während die zweite elektrisch leitende Materialschicht so gemustert ist, dass sie eine gemeinsame Elektrodenschicht bildet, wobei auf 11 verwiesen werden kann, die eine Draufsicht auf das erste Substrat zeigt, und in der Ausführungsform kann die zweite elektrisch leitende Materialschicht ferner so gemustert sein, dass sie eine elektrostatisch abschirmende Schicht bildet, oder in einer Realisierung der Ausführungsform ist in dem Schritt des Ausformens des ersten Kondensators auf dem ersten Substrat die erste elektrisch leitende Materialschicht so gemustert, dass sie eine Berührungselektrodenschicht bildet, während die zweite elektrisch leitende Materialschicht so gemustert ist, dass sie eine Berührungselektrodenschicht bildet, wobei auf 12 verwiesen werden kann, die eine Draufsicht auf das erste Substrat zeigt.
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Die vorgenannte Realisierung ist lediglich eine von mehreren Realisierungen einer Ausführungsform, und in einer alternativen Realisierung einer anderen Ausführungsform ist in dem Schritt des Ausformens des ersten Kondensators auf dem ersten Substrat die erste elektrisch leitende Materialschicht so gemustert, dass sie eine erste Berührungselektrodenschicht bildet, während die zweite elektrisch leitende Materialschicht so gemustert ist, dass sie eine zweite Berührungselektrodenschicht bildet. In der Ausführungsform kann ein zweiter Kondensator unter dem ersten Kondensator ausgeformt werden, wobei der zweite Kondensator insbesondere wie folgt ausgeformt wird: Bevor die erste elektrisch leitende Materialschicht so gemustert wird, dass sie die erste Berührungselektrodenschicht bildet, wird eine dritte elektrisch leitende Materialschicht auf dem ersten Substrat ausgeformt, und die dritte elektrisch leitende Materialschicht wird so gemustert, dass sie eine dritte Polplatte und eine gemeinsame Elektrodenschicht bildet, und eine zweite Isolationsschicht wird auf der dritten Polplatte ausgeformt, wobei die dritte Polplatte und die erste Polplatte den zweiten Kondensator bilden. Die gemeinsame Elektrodenschicht kann hier auch alternativ eine elektrostatisch abschirmende Schicht sein. Alternativ kann der zweite Kondensator über dem ersten Kondensator ausgeformt werden, wobei der zweite Kondensator insbesondere wie folgt ausgeformt wird: Nachdem die zweite elektrisch leitende Materialschicht so gemustert wird, dass sie die zweite Berührungselektrodenschicht bildet, wird eine dritte elektrisch leitende Materialschicht auf der zweiten Berührungselektrodenschicht ausgeformt, und die dritte elektrisch leitende Materialschicht wird so gemustert, dass sie eine dritte Polplatte und eine gemeinsame Elektrodenschicht bildet, und eine zweite Isolationsschicht wird auf der dritten Polplatte ausgeformt, wobei die dritte Polplatte und die zweite Polplatte den zweiten Kondensator bilden, und wobei auf 14 verwiesen werden kann, die eine Draufsicht auf das erste Substrat zeigt.
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Insbesondere die erste Polplatte und die Kondensator-Verbindungsleitung werden wie folgt auf dem ersten Substrat ausgeformt: Elektrisch leitendes Material und eine Fotoresistschicht werden nacheinander auf das erste Substrat aufgebracht, das erste Substrate wird in einem bestimmten Bereich mit ultraviolettem Licht beleuchtet, wobei nach dem Aufbringen des elektrisch leitenden Materials und dem Aufbringen der Fotoresistschicht auf das erste Substrat jeweils eine spezielle Fotomaske verwendet wird, d. h. das der Reihe nach mit der elektrisch leitenden Materialschicht und der Fotoresistschicht beschichtete Substrat wird belichtet, und das belichtete Substrat wird entwickelt, wobei die spezielle Fotomaske an einer bestimmten Stelle entsprechend der Beschaffenheit der Fotoresistschicht geöffnet wird, so dass die mit ultraviolettem Licht in dem bestimmten Bereich beleuchtete Fotoresistschicht, wenn sie aus einem Negativ-Fotoresist besteht, bei ihrer Entwicklung nicht entfernt wird, und wenn die Fotoresistschicht aus einem Positiv-Fotoresist besteht, wird die mit ultraviolettem Licht (UV-Licht) in dem bestimmten Bereich beleuchtete Fotoresistschicht bei ihrer Entwicklung entfernt.
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Die Isolationsschicht wird auf der ersten Polplatte und der Kondensator-Verbindungsleitung insbesondere wie folgt ausgeformt: Das Isolationsmaterial wird auf das Substrat aufgebracht, auf dem die erste Polplatte und die Kondensator-Verbindungsleitung angeordnet sind, und das auf das Substrat aufgebrachte Isolationsmaterial wird gehärtet, so dass sich die Isolationsschicht auf der ersten Polplatte und der Kondensator-Verbindungsleitung bildet, wobei die Isolationsschicht durch Einbrennen oder, durch UV-Beleuchtung oder nach einem beliebigen anderen Härteverfahren gehärtet werden kann.
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Die zweite Polplatte, die erste Kontaktfläche und die zweite Kontaktfläche werden in denselben besonderen Prozessschritten ausgeformt, nach denen auch die erste Polplatte hergestellt wird, jedoch mit Ausnahme der verschiedenen Muster, die unter Verwendung unterschiedlicher ausgewählter Fotomasken in unterschiedlichen Formen hergestellt werden können.
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Schritt 2 besteht in der Bereitstellung eines zweiten Substrats, beinhaltend ein Gate-Ansteuerelement.
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In dem Schritt zum Ausformen des Gate-Ansteuerelements auf dem zweiten Substrat wird eine dritte Isolationsschicht auf dem Gate-Ansteuerelement ausgeformt, und die dritte Isolationsschicht wird so gemustert, dass ein zweites Verbindungsloch gebildet wird; eine vierte elektrisch leitende Materialschicht wird auf der dritten Isolationsschicht ausgeformt, und die vierte elektrisch leitende Materialschicht wird so gemustert, dass eine dritte Kontaktfläche gebildet wird, wobei die dritte Kontaktfläche über das zweite Verbindungsloch elektrisch mit dem Gate-Ansteuerelement verbunden ist, und es kann auf 4 verwiesen werden, die eine Draufsicht auf das zweite Substrat zeigt.
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Schritt 3 besteht darin, das erste Substrat in einer Linie mit dem zweiten Substrat zu bonden.
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Ein Dichtmittel wird in einem Nichtanzeigebereich des ersten Substrats aufgebracht, insbesondere in dem entsprechenden Bereich zwischen dem ersten Kondensator und dem Gate-Ansteuerelement. Das mit elektrisch leitenden Goldkugeln dotierte Dichtmittel ist elektrisch leitend. Das zweite Substrat wird in einer Linie mit dem ersten Substrat gebondet, und die elektrisch leitenden Goldmetalle im Dichtmittel werden durch Druck miteinander in Kontakt gebracht, um den ersten Kondensator elektrisch mit dem Gate-Ansteuerelement zu verbinden.
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Die Anzeigevorrichtung gemäß den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wurde vorstehend ausführlich beschrieben, und das Prinzip und die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wurden in diesem Zusammenhang in Verbindung mit bestimmten Beispielen davon dargelegt, wobei die vorstehende Beschreibung der Ausführungsformen lediglich dafür gedacht ist, das Verständnis des erfindungsgemäßen Verfahrens und des diesem zugrunde liegenden Grundgedankens zu erleichtern, und der Fachmann kann Abwandlungen an den besonderen Ausführungsformen und ihren Anwendungsbereichen vornehmen, ohne vom Geltungsbereich der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Zusammenfassend ist die Offenlegung dieser Spezifikation nicht dahingehend zu verstehen, dass sie den Geltungsbereich der vorliegenden Erfindung beschränkt.
