DE112009001317T5 - Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion, Bearbeitungsvorrichtung mit der mit Ausrichtfunktion ausgestatteten Bühne und Verfahren zum Ausrichten eines Substrats - Google Patents

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Hirofumi Chigasaki-shi Minami
Mitsuru Chigasaki-shi Yahagi
Kazuhiro Chigasaki-shi Musha
Makoto Hidaka-shi Takahashi
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Abstract

Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion, wobei die Bühne einen Bühnen-Hauptkörper zum Halten eines zu bearbeitenden Objekts aufweist, während eine Bearbeitungsfläche davon zum Zugang offen gelassen wird, wobei die Bühne umfasst
eine Ansaugeinrichtung, die in der Lage ist, eine gegenüberliegende Fläche des zu bearbeitenden Objekts anzusaugen, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt;
eine Gaszufuhreinrichtung zum Zuführen eines Gases zu einem solchen Bereich des zu bearbeitenden Objekts, der verschieden ist von einem durch die Ansaugeinrichtung angesaugten Bereich; und
eine Antriebseinrichtung zum drehenden Antreiben der Ansaugeinrichtung, um das zu bearbeitende Objekt in einer selben Ebene zu drehen, indem die Ansaugeinrichtung veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.

Description

  • [Technisches Gebiet]
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne, eine Bearbeitungsvorrichtung mit der mit einer Ausrichtfunktion ausgestatteten Bühne und ein Verfahren zum Ausrichten eines Substrats. Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf solche, die bei einer Beschichtungsvorrichtung eines Tintenstrahltyps benutzt werden, die mit Beschichtungsköpfen versehen ist, die in einer Weise angeordnet sind, dass sie entlang einer Achse beweglich sind.
  • [Stand der Technik]
  • Es ist bekannt, eine Beschichtungsvorrichtung des Tintenstrahltyps (nachstehend als „Beschichtungsvorrichtung” bezeichnet) zu benutzen, um direkt auf einem Substrat elektrisch leitfähige feine Muster und dergleichen auszubilden, ohne ein Photolithographieverfahren zu durchlaufen. Die Vorrichtung wird in jüngster Zeit beim Ausbilden sehr feiner Source-/Drain-Elektrodenmuster von einigen um beim Schritt der Herstellung großer Substrate mit Dünnschichttransistoren und auch beim Ausbilden von Farbfiltern, Ausrichtungsschichten und Abstandshaltern für Flachbildschirme benutzt.
  • Als Beschichtungsvorrichtung dieser Art ist eine aus dem Patentdokument 1 bekannt, die die folgende Anordnung aufweist. Das heißt, die in Patentdokument 1 beschriebene besteht aus einer Bühne, die in der Lage ist, ein zu bearbeitendes Substrat durch Ansaugen zu halten, während die zu bearbeitende Fläche zum Zugang offen gehalten wird; und eine Tintenstrahleinrichtung. Die Bühne ist entlang einer X-Achsen-Führung mittels einer Vorschubschnecke mit einem Motor beweglich. Andererseits weist die Tintenstrahleinrichtung auf eine Portalträgereinrichtung, die so auf einem Bewegungspfad der Bühne angeordnet ist, dass sie die Bühne überbrückt; und mindestens einen Beschichtungskopf zum Beschichten des Substrats mit einer vorgegebenen Tinte, wobei der Beschichtungskopf so auf der Trägereinrichtung angeordnet ist, dass er in einer Y-Richtung beweglich ist.
  • Hier ist anzumerken, dass die oben erwähnte Beschichtungsvorrichtung eine Möglichkeit der Positionsabweichung aufweist, wenn das Substrat durch Ansaugung auf der Bühne gehalten wird oder wenn das Substrat durch einen Überführungsroboter auf der Bühne in Position gesetzt wird. Als Lösung wird vor dem Beschichten mit der Tinte eine Positionierung (Ausrichtung) der Abtastfläche des Substrats bezüglich des Beschichtungskopfes durchgeführt. Dabei ist es notwendig, die Neigung des Substrats nicht nur in der X-Achsen-Richtung und der Y-Achsen-Richtung, sondern auch in einer θ-Richtung zu justieren, indem das Substrat in derselben Ebene gedreht wird.
  • In diesem Fall ist es denkbar, es so einzurichten, dass die Ausrichtung durch Drehen der Bühne selbst in einem Zustand durchgeführt wird, in dem das Substrat angesaugt gehalten wird. Falls jedoch das großflächige Substrat zur Verwendung als Flachbildschirm, wie oben beschrieben, das zu bearbeitende Objekt ist, wächst nicht nur das Substratgewicht zusammen mit der Erhöhung der Substratgröße, sondern auch die Größe der Bühne selbst, und ihr Gewicht erhöht sich abhängig von der Substratgröße. Daher wird bei dem oben erwähnten Verfahren ein Drehmechanismus (Lager und dergleichen) benötigt, um das gesamte Gewicht des Substrats und eines Transfertisches zu drehen. Als Ergebnis muss die Größe der Vorrichtung selbst notwendigerweise erheblich sein. Außerdem wird, um die Bühne mit hoher Genauigkeit durch Drehen der Bühne auszurichten, ein Motor benötigt, der eine hohe Schubkraft und hohe Leitungsfähigkeit aufweist, was einen Nachteil höherer Kosten ergibt.
  • Andererseits ist es denkbar, statt die Bühne in drehbarer Weise einzurichten, die Trägereinrichtung so einzurichten, dass sie die Beschichtungsköpfe drehbar trägt, um die Ausrichtung in der θ-Richtung vorzunehmen. Diese Idee weist jedoch insofern einen Nachteil auf, als der Transfertisch abhängig von der Notwendigkeit auch in der X-Achsen-Richtung und in der Y-Achsen-Richtung bewegt werden muss, während die Trägereinrichtung bei der Ausrichtung in der θ-Richtung gedreht wird. Die Steuerung zum Durchführen einer hochgenauen Ausrichtung wird merklich kompliziert.
    Patentdokument 1: JP-A-2006-136770
  • [Offenbarung der Erfindung]
  • [Probleme, welche die Erfindung lösen soll]
  • Angesichts der oben erwähnten Probleme weist diese Erfindung eine Aufgabe auf, zu schaffen: eine mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne, die in der Lage ist, eine Ausrichtung besonders in der θ-Richtung bei hoher Genauigkeit und Leichtigkeit durchzuführen, selbst falls das Gewicht des zu bearbeitenden Objekts groß ist; eine Bearbeitungsvorrichtung mit der mit der Ausrichtfunktion ausgestatteten Bühne; und ein Verfahren zum Ausrichten eines Substrats.
  • [Mittel zum Lösen der Probleme]
  • Um die obigen Probleme zu lösen, ist die Erfindung gemäß Anspruch 1 eine mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne, wobei die Bühne einen Bühnen-Hauptkörper zum Halten des zu bearbeitenden Objekts aufweist, während eine Bearbeitungsfläche davon zum Zugang offen gelassen ist. Die Bühne umfasst: eine Ansaugeinrichtung, die in der Lage ist, eine gegenüberliegende Fläche des zu bearbeitenden Objekts anzusaugen, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt; eine Gaszufuhreinrichtung zum Zuführen eines Gases zu einem solchen Bereich des zu bearbeitenden Objekts, der verschieden ist von einem durch die Ansaugeinrichtung angesaugten Bereich; und eine Antriebseinrichtung zum drehenden Antreiben der Ansaugeinrichtung, um das zu bearbeitende Objekt in derselben Ebene zu drehen, indem die Ansaugeinrichtung veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.
  • Gemäß dieser Erfindung wird das zu bearbeitende Objekt auf der Bühne in Position gesetzt, wobei die Bearbeitungsfläche des zu bearbeitenden Objekts zum Zugang offen gelassen wird. Die Ansaugeinrichtung wird veranlasst, eine gegenüberliegende Fläche des zu bearbeitenden Objekts anzusaugen, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt. Dann wird das Gas einem solchen Bereich des zu bearbeitenden Objekts zugeführt, der verschieden ist von einem durch die Ansaugeinrichtung angesaugten Bereich. In diesem Zustand wird die Ansaugeinrichtung durch die Antriebseinrichtung in derselben Ebene gedreht, indem die Ansaugeinrichtung veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen. Dann kann das zu bearbeitende Objekt um einen vorgegebenen Winkel zusammen mit der Ansaugeinrichtung gedreht werden. Als Ergebnis kann das Substrat in der θ-Richtung gedreht werden, um die Ausrichtung durchzuführen.
  • Wie oben beschrieben, hat diese Erfindung eine Anordnung verwendet, bei der durch Zufuhr des Gases zu dem von dem Bereich, der durch die Ansaugeinrichtung angesaugt wird, verschiedenen Bereich die Ausrichtung in der θ-Richtung durch Drehen, zusammen mit der Ansaugeinrichtung, nur des zu bearbeitenden Objekts in einem Zustand durchgeführt wird, in dem der von dem Bereich, der durch die Ansaugeinrichtung angesaugt wird, verschiedene Bereich levitiert oder freischwebend gehalten wird (in diesem Fall reicht es aus, wenn der Reibwiderstand zumindest zwischen dem fraglichen Bereich und der oberen Fläche der Bühne reduziert wird). Daher gibt es, sogar in einem Fall, in dem das zu bearbeitende Objekt z. B. schwergewichtig ist, keine Notwendigkeit für einen Drehmechanismus, wie etwa ein großformatiges Lager und dergleichen. So kann verhindert werden, dass die Größe der Vorrichtung erheblich wird. Außerdem kann, da das zu bearbeitende Objekt mit einer kleinen Schubkraft gedreht werden kann, eine hochgenaue Ausrichtung durchgeführt werden, ohne einen Motor hoher Leistungsfähigkeit zu verwenden, was zur Kostenreduktion beiträgt. Noch weiter kann die Ausrichtung in der θ-Richtung durchgeführt werden, ohne die Bearbeitungseinrichtung, wie etwa eine Tintenstrahleinrichtung, zu bewegen, die so angeordnet ist, dass sie gegenüber dem durch die Bühne gehaltenen zu bearbeitenden Objekt liegt, wodurch es einfach gemacht wird, die Ausrichtung zu steuern.
  • Weiter ist die Erfindung gemäß Anspruch 2, um die obigen Probleme zu lösen, eine mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne. Die Bühne weist eine Halteaufnahme auf, um darauf ein zu bearbeitendes Objekt zu halten, während eine Bearbeitungsfläche davon zum Zugang offen gelassen wird, sowie einen Bühnen-Hauptkörper zum Halten der Halteaufnahme auf drehbare Weise. Die Bühne umfasst: eine Gaszufuhreinrichtung zum Zuführen eines Gases zu einer gegenüberliegenden Fläche der Halteaufnahme, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt; und eine Antriebseinrichtung zum drehenden Antreiben der Halteaufnahme, um die Halteaufnahme in einer selben Ebene zu drehen.
  • Diese Erfindung hat eine Anordnung verwendet, in der das Substrat in der θ-Richtung durch Drehen mit der Antriebseinrichtung zusammen mit der Ansaugeinrichtung ausgerichtet wird, wobei sich das zu bearbeitende Objekt in einem Zustand befindet, in dem es auf der Aufnahme gehalten wird, während die Aufnahme freischwebend gehalten wird. (In ähnlicher Weise wie im obigen Fall reicht es aus, wenn der Reibwiderstand zumindest zwischen der Halteaufnahme und der oberen Fläche der Bühne reduziert wird). Daher besteht wie im obigen Fall keine Notwendigkeit für einen Drehmechanismus, wie etwa ein großformatiges Lager und dergleichen, was zu den niedrigeren Kosten beiträgt.
  • Die Bühne gemäß dieser Erfindung umfasst weiter vorzugsweise eine Führungseinrichtung und eine Bewegungseinrichtung zum Bewegen des Bühnen-Hauptkörpers entlang der Führungseinrichtung. Dann kann die Ausrichtung in der Bewegungsrichtung des Bühnen-Hauptkörpers durchgeführt werden, indem nur die Anhalteposition des Bühnen-Hauptkörpers bezüglich der Bearbeitungseinrichtung, wie etwa eines Beschichtungskopfes, verändert wird, die an einem oberen Teil der Führungseinrichtung angeordnet ist.
  • Weiter umfasst die Bühne gemäß dieser Erfindung vorzugsweise: eine entlang einer Berührungsfläche des Bühnen-Hauptkörpers oder der Halteaufnahme mit dem zu bearbeitenden Objekt ausgebildete Ansaugnut; und eine Vakuumpumpe zum Evakuieren der Ansaugnut in einen Zustand, in dem das zu bearbeitende Objekt auf der Bühne oder der Halteaufnahme montiert ist. Dann kann, wenn zum Beispiel der Bühnen-Hauptkörper entlang der Führungseinrichtung bewegt wird, das zu bearbeitende Objekt vorteilhafterweise sicher durch den Bühnen-Hauptkörper oder die Halteaufnahme gehalten werden.
  • Falls die Ausrichtung in der θ-Richtung auf der oben erwähnten Bühne durchgeführt wird, ist nicht nur die Positionierungsgenauigkeit gefordert (z. B. unter 1 μrad), sondern es ist auch verstärkt die Reduktion der Ausrichtungszeit gefordert. In diesem Fall umfasst die Antriebseinrichtung vorzugsweise: einen Feinjustierungsmechanismus zum Drehen der Ansaugeinrichtung innerhalb eines vorgegebenen Mikrowinkelbereichs; und einen Grobjustierungsmechanismus zum Drehen der Ansaugeinrichtung innerhalb eines größeren Winkelbereichs als der Winkelbereich des Feinjustierungsmechanismus. Gemäß dieser Anordnung kann nach dem Antreiben des zu bearbeitenden Objekts durch den Grobjustierungsmechanismus mit hoher Geschwindigkeit in die Nachbarschaft einer Zielposition danach eine hochgenaue Positionierung durch den Feinjustierungsmechanismus durchgeführt werden. Als Folge kann eine hochgenaue Ausrichtung in kurzer Zeit verwirklicht werden.
  • Vorzugsweise ist der Grobjustierungsmechanismus mit der Ansaugeinrichtung gekoppelt. Der Feinjustierungsmechanismus umfasst einen Arm und eine Antriebsquelle zum Schwenken des Arms. Der Feinjustierungsmechanismus und der Grobjustierungsmechanismus sind funktionell so miteinander gekoppelt, dass die Ansaugeinrichtung, wenn der Arm durch die Antriebsquelle geschwenkt wird, drehend durch den Grobjustierungsmechanismus angetrieben wird. Dann kann die Welle zum drehenden Antreiben der Ansaugeinrichtung gemeinsam miteinander konstruiert sein und dadurch den komplexen Aufbau der Antriebseinrichtung beseitigen. Außerdem kann beim Durchführen der Ausrichtung in der θ-Richtung das Umschalten vom drehenden Antreiben mit dem Grobjustierungsmechanismus auf das drehende Antreiben mit dem Feinjustierungsmechanismus sanft erfolgen.
  • Weiter weist der Arm des Feinjustierungsmechanismus eine Länge auf, die sich mindestens zu einer Seite des Bühnen-Hauptkörpers erstreckt, und ist an einem Vorderende des Arms mit der Antriebsquelle verbunden. Dann wird der für eine Bewegung um einen vorgegebenen Mikrowinkelbereich erforderliche Betrag der Auslenkung des Vorderendes des Arms groß. Als Ergebnis kann die Auflösung der Erfassungseinrichtung, wie etwa eines Codierers, zum Erfassen des Betrags der Auslenkung verbessert werden, um dadurch eine Ausrichtung höherer Genauigkeit zu verwirklichen.
  • Um die obigen Probleme zu lösen, umfasst eine Bearbeitungsvorrichtung gemäß dieser Erfindung die mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7; und eine Bearbeitungseinrichtung zum Durchführen einer vorgegebenen Bearbeitung an dem zu bearbeitenden Objekt, wobei die Bearbeitungseinrichtung so angeordnet ist, dass sie gegenüber dem zu bearbeitenden Objekt liegt, das durch die Bühne gehalten wird.
  • Um die obigen Probleme zu lösen, umfasst das Verfahren zum Ausrichten eines Substrats die Schritte: Montieren eines Substrats auf einer Bühne in einer Weise, dass dessen Bearbeitungsfläche offen zum Zugang gelassen wird; Veranlassen einer Ansaugeinrichtung, eine gegenüberliegende Fläche des Substrats anzusaugen, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt und die Ansaugeinrichtung auf der Bühne angeordnet ist; Zuführen eines Gases zu der gegenüberliegenden Fläche außer einem Bereich, der durch die Ansaugeinrichtung angesaugt wird; und Ausrichten des zu bearbeitenden Objekts durch Drehen des Substrats um einen vorgegebenen Winkel in derselben Ebene, indem die Ansaugeinrichtung veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.
  • In diesem Fall umfasst der Schritt des Ausrichtens des zu bearbeitenden Objekts vorzugsweise: Drehen der Ansaugeinrichtung um einen Winkelbereich, der größer ist als ein vorgegebener Mikro-Winkelbereich; und danach weiteres Drehen der Ansaugeinrichtung innerhalb des Mikro-Winkelbereichs.
  • [Bester Weg zur Ausführung der Erfindung]
  • Mit Bezug auf die Zeichnung wird nun ein Beispiel beschrieben, in dem ein Substrat S aus Glas und dergleichen zum direkten Ausbilden von elektrisch leitfähigen feinen Mustern und dergleichen darauf als zu bearbeitendes Objekt definiert ist, und in dem eine mit einer Ausrichtfunktion und zum Halten des Substrats S gemäß einer Ausführungsform dieser Erfindung ausgestattete Bühne bei einer Beschichtungsvorrichtung des Tintenstrahltyps angewandt ist.
  • Die Tintenstrahlvorrichtung weist eine Plattform 1 auf, und auf dieser Plattform 1 ist eine Grundplatte 2 angeordnet, die eine Quaderform aufweist. Die Grundplatte 2 ist aus Granit und dergleichen hergestellt, um für Glätte auf ihrer oberen Fläche zu sorgen. Die obere Fläche der Grundplatte 2 ist mit einem Paar rechter und linker Schienenelemente (Führungseinrichtungen) 3R, 3L versehen, die sich horizontal in der axialen Richtung über die gesamte Länge der Grundplatte 2 erstrecken (siehe 2).
  • Auf den Schienenelementen 3R, 3L ist eine Bühne 4, die mit einer Ausrichtfunktion ausgestattet ist, in einer Weise angeordnet, dass sie hin- und herbewegt werden kann, d. h. vor und zurück beweglich ist. Die Bühne 4 weist einen Bühnen-Hauptkörper 4a in Form einer Platte auf. An den unteren vier Ecken des Bühnen-Hauptkörpers 4a sind Gleiter (Gleitelemente) 5 montiert, die gleitend mit den entsprechenden Schienenelementen 3R, 3L gekoppelt sind. An der Unterfläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a sind auch Mutterelemente (nicht dargestellt) angeordnet. Jedes der Mutterelemente ist gewindemäßig mit einer Vorschubschnecke (nicht dargestellt) gekoppelt, die entlang den beiden Schienenelementen 3R, 3L innerhalb eines Erstreckungsbereichs der Schienenelemente 3R, 3L angeordnet ist. Wenn ein mit einem Ende der Vorschubschnecke gekoppelter Motor (nicht dargestellt) gedreht wird, wird die Bühne 4 vor und zurück entlang den Schienenelementen 3R, 3L bewegt. (Nachstehend wird die Richtung dieser Vor- und Zurück-Bewegung als eine X-Achsen-Richtung bezeichnet.) Bei dieser Anordnung bilden die oben erwähnte Vorschubschnecke und der Motor eine Bewegungseinrichtung in dieser Ausführungsform. Die Bewegungseinrichtung ist nicht auf das obige Beispiel beschränkt; zum Beispiel kann ein Linearmotor verwendet werden, der aus einem beweglichen Teil und einem Stator eines Magnetschwebesystems hergestellt.
  • An einer Position, in welcher sich der Bühnen-Hauptkörper 4a an einer Seite befindet, gesehen in der X-Achsen-Richtung der Schienenelemente 3R, 3L (rechte Position in 1, d. h. eine Überführungsposition), ist es so eingerichtet, dass die Überführung des Substrats S zum Bühnen-Hauptkörper 4a durch einen Gelenk-Überführungsroboter R bekannten Aufbaus durchgeführt wird. Zum Zweck der Überführung dieses Substrats S sind vorgesehen: eine Hubeinrichtung 6, hergestellt aus einer Vielzahl von Tragstangen 6a, die vertikal so angeordnet sind, dass sie die Grundplatte 2 in der vertikalen Richtung der Grundplatte 2 durchdringen; und Druckluftzylinder (nicht dargestellt) zum Auf- und Abbewegen der jeweiligen Tragstangen 6a. Es ist daher so eingerichtet, dass das Substrat S an einer vorgegebenen erhöhten Position oberhalb der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a getragen werden kann (siehe 1).
  • Auf der anderen Seite ist es bei einer Position, in der sich die Bühne 4 auf der anderen Seite der Schienenelemente 3R, 3L befindet, gesehen in der X-Achsen-Richtung (linke Position in 1, d. h. eine Bearbeitungsposition), so eingerichtet, dass eine vorgegebene Bearbeitung durchgeführt wird, während der Bühnen-Hauptkörper 4a in der X-Achsen-Richtung in geeigneter Weise vor und zurück bewegt wird. In der Beschichtungsvorrichtung vom Tintenstrahltyp gemäß dieser Ausführungsform ist eine Tintenstrahleinrichtung 7 als die Bearbeitungseinrichtung im Wesentlichen in der mittleren Position der Schienenelemente 3R, 3L positioniert. Die Tintenstrahleinrichtung 7 ist hergestellt aus: einer Portalträgereinrichtung 7, die so angeordnet ist, dass sie den Bühnen-Hauptkörper 4a in einer Richtung rechtwinklig zur X-Achsen-Richtung überbrückt; und einer Vielzahl von Beschichtungsköpfen 7b zum Beschichten des auf dem Bühnen-Hauptkörper 4a in Position gehaltenen Substrats S mit der Tinte.
  • Jeder der Beschichtungsköpfe 7b ist durch eine Halterung 7d gehalten, sodass die Vorderenden der Düsen 7c auf derselben horizontalen Ebene und in einem gleichen Abstand zueinander positioniert sind. Die Halterung 7d ist auf dem oberen horizontalen Teil der Trägereinrichtung 7a auf solche Weise montiert, dass die Beschichtungsköpfe 7b auf der Seite der Bearbeitungsposition liegen (linke Seite in 1). In diesem Fall ist die Halterung 7d in geschraubter Weise mit einer motorisierten Vorschubschnecke (nicht dargestellt) gekoppelt, die innerhalb des oberen horizontalen Bereichs der Trägereinrichtung 7a untergebracht ist. Wenn der Motor angetrieben ist, die Vorschubschnecke zu drehen, wird jeder der Beschichtungsköpfe 3 einstückig in einer Richtung im rechten Winkel zur X-Achsen-Richtung vor und zurück bewegt. (Die Richtung dieser Vor- und Zurückbewegung wird nachstehend als Y-Achsen-Richtung bezeichnet.)
  • Jeder der Beschichtungsköpfe 7b weist einen bekannten Aufbau auf, d. h., durch geeignetes Ansteuern eines in einer Tintenkammer angeordneten piezoelektrischen Elements wird die in einem Tintentank 5 enthaltene Tinte veranlasst auszutreten. Die in dem Tintentank 5 enthaltene Tinte ist geeignet ausgewählt, abhängig davon, was auf der Oberfläche des Substrats S ausgebildet werden soll. Wenn das Produkt zum Beispiel zum Ausbilden eines Abstandshalters zur Verwendung in einem Flachbildschirm vorgesehen ist, wird eine Tinte benutzt, die aus den Abstandshalter-Partikeln, Bindemittel und Lösungsmittel hergestellt ist.
  • Wenn das Substrat S durch den Überführungsroboter R wie oben beschrieben an den Bühnen-Hauptkörper 4a übergeben wird, gibt es Fälle, in denen das Substrat S Positionsabweichungen bezüglich des Bühnen-Hauptkörpers 4a erleidet. Daher ist es notwendig, die Positionierung (Ausrichtung) des Substrats S bezüglich der Beschichtungsköpfe 7b vor dem Beschichten mit der Tinte durchzuführen. Dabei muss nicht nur die Justierung in der X-Achsen-Richtung und der Y-Achsen-Richtung, sondern auch die Justierung der Neigung (Neigungswinkel θ) des Substrats S bezüglich jedes der Beschichtungsköpfe 7b ausgeführt werden, indem das Substrat S in derselben Ebene gedreht wird. (Die Richtung dieser Drehung wird nachstehend als θ-Richtung bezeichnet; siehe 2).
  • Die Bühne 4 gemäß der ersten Ausführungsform weist auf: eine Ansaugeinrichtung 8, die in der Lage ist, einen mittleren Bereich an der Rückfläche des Substrats S anzusaugen; eine Gaszufuhreinrichtung 9 zum Zuführen eines Gases zu einem solchen Bereich des Substrats S, der verschieden ist von einem durch die Ansaugeinrichtung 8 angesaugten Bereich; und eine Antriebseinrichtung 10, um eine Drehkraft auf die Ansaugeinrichtung 8 auszuüben, sodass das Substrat S in der θ-Richtung in derselben Ebene gedreht werden kann, indem die Ansaugeinrichtung 8 veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen, d. h. sodass die Ansaugeinrichtung 8 drehend angetrieben werden kann (siehe 3).
  • Die Ansaugeinrichtung 8 weist eine in einem vertieften Bereich 4b untergebrachte Spannplatte 11 auf, die in der Mitte des Bühnen-Hauptkörpers 4a vorgesehen ist und eine rechteckige Form aufweist, gesehen in der Draufsicht. Die Spannplatte 11 ist hergestellt z. B. aus einem Saugkissen bekannten Aufbaus oder aus einer Scheibe porösen Aufbaus und ist über ein Absaugrohr (nicht dargestellt) mit einer Vakuumpumpe verbunden. Wenn die Vakuumpumpe betrieben wird, ist die Spannplatte 11 eingerichtet, über eine gesamte Vorderfläche davon die Rückfläche des Substrats S anzusaugen. Weiter ist in der Mitte der Rückseite des Bühnen-Hauptkörpers 4a konzentrisch ein Durchgangsloch 4c ausgebildet, das in Verbindung mit dem vertieften Bereich 4b steht. Das Durchgangsloch 4c ist mit einem Buchsenelement 12 und einem Kugellager 13 versehen, sodass ein Schubelement 14 durch das Kugellager 13 getragen werden kann. In diesem Fall sind das Schubelement 14 und ein Innenlaufring 13a des Kugellagers 13 miteinander z. B. mittels einer Passfederverbindung unter Verwendung einer Passfeder oder einer Keilverbindung verbunden (siehe 4).
  • Das Schubelement 14 ist mit einer Treibstange 15a eines direkt wirkenden Stellglieds 15 bekannten Aufbaus gekoppelt, das unterhalb des Schubelements 14 angeordnet ist. Abhängig von der Größe des Substrats kann ein Druckluftzylinder anstelle des direkt wirkenden Stellglieds benutzt werden. In einem solchen Fall kann eine Anordnung verwendet werden, in welcher der Druckluftzylinder betrieben wird, indem das Gas genutzt wird, das durch die Gaszufuhreinrichtung 9 zuzuführen ist, wodurch die Vorrichtung vereinfacht wird. Wenn das Stellglied 15 betrieben wird, ist die Spannplatte 11 zwischen einer angehobenen Position, in der die obere Fläche der Spannplatte 11 nach oben über die obere Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a ragt, und einer gesenkten Position beweglich, in der die obere Fläche der Spannplatte 11 zumindest bündig mit der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers ist. Außerdem wird das Schubelement 14, wenn auf den Innenlaufring 13a eine Drehkraft durch einen nachstehend beschriebenen Arm ausgeübt wird, drehend angetrieben. Die Spannplatte 11 und folglich das Substrat S werden in der θ-Richtung gedreht, indem das Schubelement 14, das als Drehachse der Ansaugeinrichtung 8 arbeitet, veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.
  • Die Gaszufuhreinrichtung 9 ist hergestellt aus: einer Vielzahl von vertieften Nuten 16, die in der X-Achsen-Richtung im Wesentlichen entlang der gesamten Länge der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a ausgebildet sind; Luftfeldern 17, die jeweils in entsprechenden vertieften Nuten 16 in einem vorgegebenen Abstand voneinander angeordnet sind; und einem Gasrohr 18, das jedem der Luftfelder 17 Gas, wie etwa Druckluft, aus einem Kompressor und dergleichen (nicht dargestellt) zuführt (siehe 2 und 4). In diesem Fall sind die Anzahl der auszubildenden vertieften Nuten 16 und die Anzahl der anzuordnenden Luftfelder 17 zweckmäßig eingestellt, abhängig vom Gewicht des durch den Bühnen-Hauptkörper 4a zu tragenden Substrats S.
  • Die Antriebseinrichtung 10 ist mit einem plattenförmigen Arm 19 versehen. Ein Ende des Arms 19 ist über einen Stift in der Mittellinie des Arms 19 mit dem Innenlaufring 13a gekoppelt. Das andere Ende des Arms 19 erstreckt sich zur Seitenfläche des Bühnen-Hauptkörpers und ist mit der an dessen Seitenfläche angeordneten Antriebsquelle 20 verbunden. Die Antriebsquelle 20 weist einen Rahmen 20a auf, und eine Vorschubschnecke 20b mit einem Motor M ist innerhalb des Rahmens 20a in der X-Achsen-Richtung angeordnet. Mit der Vorschubschnecke 20b ist schraubenmäßig ein bewegliches Element 20c mit einem darin ausgebildeten Gewindeloch gekoppelt. Auf einem oberen Teil des beweglichen Elements 20c ist ein Gleiterteil 20d in einer Weise gekoppelt, dass er entlang einem Schienenelement 20e verschiebbar ist, das an der oberen Innenseite des Rahmens 20c an der Vorschubschnecke 20b angebracht ist. Gemäß dieser Anordnung ist das bewegliche Element 20c, wenn der Motor M betrieben wird, um die Vorschubschnecke 20b zu drehen, abhängig von der Drehrichtung des Motors M vor und zurück in der X-Achsen-Richtung beweglich (siehe 2 und 5).
  • An der unteren Fläche des beweglichen Elements 20c ist ein Schienenteil 20f ausgebildet, der sich in der Y-Achsen-Richtung erstreckt. Mit dem Schienenteil 20f ist eine Trägereinrichtung 20g auf verschiebbare Weise gekoppelt. An das untere Ende der Trägereinrichtung 20g ist das andere Ende des Arms 19 über ein Lager 20h gekoppelt. Wenn die Vorschubschnecke 20b gedreht wird, um das bewegliche Element 20c entlang dem Schienenelement 20e zu bewegen, wird eine Drehkraft auf das Schubelement 14 ausgeübt, das als die Welle der Ansaugeinrichtung 8 dient, während sich die Trägereinrichtung 20g entlang dem Schienenteil 20f bewegt.
  • In diesem Fall ist ein Feinjustierungsmechanismus gebildet, der den Arm 19 innerhalb eines Hubbereichs der Vor- und Zurückbewegung des beweglichen Elements 20c schwenkt, um dadurch das Schubelement 14 und folglich die Ansaugeinrichtung 9 um einen vorgegebenen Mikro-Winkelbereich (z. B. innerhalb 1 Grad) drehend anzutreiben (nachstehend ist dieser Feinjustierungsmechanismus als Antriebseinrichtung mit der Bezugsnummer 10 bezeichnet.) Der Mikro-Winkelbereich nach dieser Erfindung kann geeignet eingestellt werden, abhängig von der Genauigkeit und dergleichen, die beim Ausrichten des Substrats S gefordert ist. Durch Ändern des Hubs der Vor- und Zurückbewegung des beweglichen Elements 20c kann der Mikro-Winkelbereich eingestellt werden. Weiter ist die Antriebsquelle 20 mit einer Erfassungseinrichtung, wie etwa einem photoelektrischen Linearcodierer (nicht dargestellt), versehen; sodass der Auslenkungsbetrag des beweglichen Elements 20c erfasst werden kann. Gemäß dieser Anordnung wird der Auslenkungsbetrag des beweglichen Elements 20c, wenn der Arm 19 um einen Mikro-Winkelbetrag (z. B. um 1 Grad) bewegt wird, größer als der Betrag in dem Fall, in dem die Erfassung des Betrags der Drehabweichung erfolgt, indem das Schubelement 14 mit Erfassungseinrichtungen, wie etwa einem Drehgeber und dergleichen, versehen wird. Als Ergebnis kann die Genauigkeit der Erfassungseinrichtung, die den Betrag der Abweichung erfasst, erhöht werden, wodurch eine genauere Ausrichtung realisiert werden kann.
  • Wenn z. B. der Bühnen-Hauptkörper 4a von der Übergabeposition zur Bearbeitungsposition bewegt wird, ergibt sich, falls das Substrat S durch Ansaugen allein mit der Ansaugeinrichtung 8 gehalten wird, ein Nachteil insofern, als sich z. B. das Substrat S beim Starten oder Stoppen der Bewegung des Bühnen-Hauptkörpers 4a von der Ansaugeinrichtung 8 löst. Als Lösung ist an einer oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a eine Vielzahl von Ansaugnuten 21 ausgebildet, die mit der Vakuumpumpe in Verbindung stehen, wobei die Ansaugnuten in einer Weise ausgebildet sind, dass sie sich in der X-Achsen-Richtung und der Y-Achsen-Richtung erstrecken (siehe 2). Wenn der Bühnen-Hauptkörper 4a bewegt wird, werden die Ansaugnuten 21 evakuiert. Auf diese Weise ist das Substrat S so angeordnet, dass es durch Ansaugung im Wesentlichen über die gesamte Fläche des Substrats S gehalten wird.
  • Nun wird die Ausrichtung des Substrats S mittels der gemäß dieser Erfindung mit einer Ausrichtfunktion ausgestatteten Bühne 4 beschrieben. An der Übergabeposition des Bühnen-Hauptkörpers 4a wird jede der Tragstangen 6a der Hubeinrichtung 6 gehoben. Danach wird das Substrat S durch den Überführungsroboter R überführt und in Position angeordnet, sodass das Substrat S durch ein Vorderende jeder der Tragstangen 6a getragen werden kann (siehe 1). Dann wird jede der Tragstangen 6a gesenkt, um dadurch das Substrat S auf den Bühnen-Hauptkörper 4a zu setzen. Das Substrat S, auf das die Tinte aufgebracht wird, ist mit mindestens einer Markierung R (ungefähr mehrere Dutzend μm bis 0,1 mm groß) einer vorgegebenen Form an einer Position versehen, die als Ursprung der Abtastfläche beim Tintenbeschichten dient (siehe 2).
  • Sobald das Substrat auf den Bühnen-Hauptkörper 4a gesetzt wurde, werden die Ansaugnuten 21 evakuiert, um dadurch zu veranlassen, dass das Substrat S im Wesentlichen über die gesamte Fläche des Bühnen-Hauptkörpers an den Bühnen-Hauptkörper 4a angesaugt wird. In diesem Zustand wird eine Vorschubschnecke (nicht dargestellt) gedreht, um den Bühnen-Hauptkörper 4a zur Bearbeitungsposition zu bewegen. Wenn der Bühnen-Hauptkörper 4a die Bearbeitungsposition erreicht hat, wird das Substrat S durch eine Bildaufnahmeeinrichtung, wie etwa eine CCD-Kamera und dergleichen, aufgenommen, die auf der Trägereinrichtung 7a der Tintenstrahleinrichtung 7 montiert ist. Das aufgenommene Bild wird durch eine Bildanalyseeinrichtung bekannten Aufbaus analysiert. Die analysierten Daten werden an eine Steuereinrichtung (nicht dargestellt), wie etwa einen Mikrocomputer und dergleichen, ausgegeben, die den Betrieb der Beschichtungsvorrichtung vom Tintenstrahltyp steuert. Wenn die Daten in die Steuereinrichtung eingegeben sind, wird ein Auslenkungsbetrag (Korrekturwert) in Richtung der X-Achsen-Richtung, der Y-Achsen-Richtung und der θ-Richtung zum Zweck der Ausrichtung der Substratposition berechnet, indem die Markierung R auf dem Substrat S veranlasst wird, als Referenz (oder Standard) zu dienen. Wenn der Korrekturwert berechnet ist, werden der Motor für die Vorschubschnecke, die den Bühnen-Hauptkörper 4 bewegt, und der Motor zum Bewegen der Halterung 7d der Tintenstrahleinrichtung angesteuert. So wird zuerst eine Ausrichtung bezüglich der Beschichtungsköpfe 7a in X-Achsen-Richtung und Y-Achsen-Richtung durchgeführt. Dann wird der Betrieb der Vakuumpumpe gestoppt, und das Ansaugen des Substrats S wird aufgehoben.
  • Anschließend wird das Substrat, wenn das Stellglied 15 betrieben wird, um die Spannplatte 11 zu heben, von der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a abgehoben. Dabei werden die Vakuumpumpe, die in Verbindung mit der Spannplatte 11 steht, und die Gaszufuhreinrichtung 9 betrieben. Als Ergebnis wird das Substrat S an Berührungspunkten zwischen der Spannplatte 11 und dem Substrat S angesaugt. Gleichzeitig wird aufgrund des aus jedem der Luftfelder 18 der Gaszufuhreinrichtung 9 auszustoßenden Gases der Teil ausschließlich des Bereichs, der durch die Spannplatte 11 angesaugt wird, (d. h. der Umfangsbereich des Substrats) veranlasst zu schweben. Auf diese Weise wird, wenn der mittlere Teil des Substrats S angesaugt gehalten und dessen Umfang zur Schwebe gebracht ist, der Motor M des Feinjustierungsmechanismus 10 angetrieben, um dadurch entsprechend die Vorschubschnecke abhängig von dem durch die Steuereinrichtung berechneten Korrekturwert zu drehen. Gemäß dieser Anordnung wird die Drehkraft auf die Spannplatte 11 über den Arm 19, der um das Stellglied 15 als Mittelpunkt schwenkt, und über das Schubelement 14 ausgeübt. Nur das Substrat S wird relativ zur oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a um einen vorgegebenen Mikro-Winkelbereich in der θ-Richtung abhängig von dem oben erwähnten Korrekturwert gedreht, wodurch eine Ausrichtung in der θ-Richtung ausgeführt werden kann (siehe 6).
  • Ohne die Spannplatte 11 anzuheben, kann das Gas an der abgesenkten Position der Spannplatte 11 aus der Gaszufuhreinrichtung 9 zugeführt werden. Sogar in einem Zustand, in dem der Teil außer dem durch die Spannplatte angesaugten Bereich nicht im strengen Sinne des Wortes zur Schwebe gebracht ist, kann eine Ausrichtung in der θ-Richtung noch in einem Zustand ausgeführt werden, in dem der Reibwiderstand zwischen dem fraglichen Teil und der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a wesentlich reduziert ist. Falls das Substrat zum Beispiel eine Durchbiegung aufweist, ist diese Lösung für eine genaue Ausrichtung vorteilhaft.
  • Das Anheben des Substrats kann bestätigt werden: z. B. durch eine Veränderung der Durchflussmenge eines mit dem in Verbindung mit jedem der Luftfelder 18 stehenden Gasrohr 18 verbundenen Luftströmungssensors; oder durch das Erfassen der Höhenänderung als Ergebnis direkten Abtastens der Substratoberfläche unter Verwendung eines Laser-Verschiebungsmessgeräts und dergleichen von der oberen Fläche des Substrats her. Dann kann durch Durchführen der Ausrichtung in der θ-Richtung nach Bestätigung des Schwebens verhindert werden, dass die Hinterfläche des Substrats S in Berührung mit dem Bühnen-Hauptkörper 4a kommt. Die Ausrichtung kann so durchgeführt werden, ohne die Hinterfläche des Substrats S zu beschädigen. Alternativ kann durch Drehen des Substrats in einer abgesenkten Position der Spannplatte 11 die Schicht der aus der Gaszufuhreinrichtung 9 zugeführten Luft verhindern, dass die Hinterfläche des Substrats S beschädigt wird.
  • Auf diese Weise wurde gemäß der Ausführungsform dieser Erfindung eine Anordnung benutzt, bei der die Ausrichtung in der θ-Richtung durchgeführt werden kann, indem nur das Substrat S gedreht wird in einem Zustand, in dem der Teil außer dem angesaugten Bereich durch das von den Luftfeldern 18 auszustoßende Gas zur Schwebe gebracht ist; oder in einem Zustand, in dem der Reibwiderstand zwischen dem mindestens aus dem angesaugten Bereich ausgeschlossenen Teil und der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a wesentlich reduziert ist. Daher gibt es, selbst wenn das Gewicht des Substrats S groß ist, keine Notwendigkeit für einen Drehmechanismus, wie etwa ein großes Lager und dergleichen, wodurch verhindert werden kann, dass die Vorrichtung selbst groß wird. Außerdem wird, da das Substrat S mit einer kleinen Schubkraft gedreht werden kann, eine hochgenaue Ausrichtung möglich, ohne einen Motor hoher Leistungsfähigkeit zu verwenden, was zur Kostenreduktion beiträgt. Weiter braucht, während die Ausrichtung in der θ-Richtung durchgeführt wird, die Tintenstrahleinrichtung 7 und folglich die Position der Beschichtungsköpfe 7b nicht bewegt zu werden. Es besteht daher kein Bedarf an einer besonderen Steuerung bei der Ausrichtung des Substrats.
  • Nachdem die oben erwähnte Ausrichtung abgeschlossen wurde, wird eine Bestätigung durchgeführt, ob das Substrat S in der X-Achsen-Richtung, in der Y-Achsen-Richtung und in der θ-Richtung als Antwort auf den Auslenkungsbetrag (Korrekturwert) bewegt wurde, der berechnet wurde, um die Substratposition auszurichten. Mit anderen Worten, der Betrieb der Gaszufuhreinrichtung 9 wird gestoppt, und auch das Stellglied 15 wird betätigt, um die Spannplatte 11 zu senken, und der Betrieb der in Verbindung mit der Spannplatte 11 stehenden Vakuumpumpe wird gestoppt. Dann werden die Ansaugnuten 21 evakuiert, und das Substrat S wird an den Bühnen-Hauptkörper 4a im Wesentlichen über dessen gesamte Fläche angesaugt. In diesem Zustand wird das Substrat S auf dieselbe Weise wie oben angegeben durch eine Bildaufnahmeeinrichtung, wie etwa eine CCD-Kamera und dergleichen, aufgenommen. Das aufgenommene Bild wird durch die Bildanalyseeinrichtung analysiert, und die analysierten Daten werden an die Steuereinrichtung ausgegeben. Auf diese Weise wird die oben erwähnte Bestätigung durchgeführt, indem die Markierung R des Substrats S veranlasst wird, als Bezug zu dienen.
  • Indem es so eingerichtet wird, dass eine Bestätigung in einem Zustand ausgeführt wird, in dem das Substrat S nach Abschluss der Ausrichtung wie oben beschrieben an den Bühnen-Hauptkörper 4a angesaugt gehalten wird, kann die oben erwähnte Bestätigung durchgeführt werden, ohne durch die Positionsabweichung beeinflusst zu werden, die zwischen dem Fall, in dem sich das Substrat S auf dem Bühnen-Hauptkörper 4a befindet, und dem Fall, in dem das Substrat S zur Schwebe gebracht ist, auftreten kann.
  • Anschließend werden, sobald die Bestätigung der Ausrichtung des Substrats S in der X-Achsen-Richtung, in der Y-Achsen-Richtung und in der θ-Richtung abgeschlossen wurde, geeignete Vor- und Zurückbewegungen der Bühne 4 in der X-Achsen-Richtung und jedes der Beschichtungsköpfe 7a einstückig in der Y-Achsen-Richtung ausgeführt. Während der obigen Bewegungen wird jeder der Beschichtungsköpfe 7b so entlang der Abtastfläche des Substrats bewegt, dass das Substrat S in einem vorbestimmten Muster mit Tinte beschichtet wird. Dabei kann das Beschichten mit der Tinte in einem Zustand durchgeführt werden, in dem die Mitte des Substrats S angehoben und der Umfangsbereich des Substrats S durch das von den Luftfeldern 18 auszustoßende Gas in der Schwebe gehalten ist. Andererseits kann eine Tintenbeschichtung alternativ in einem Zustand durchgeführt werden, in dem das Substrat S wieder auf den Bühnen-Hauptkörper 4a gesetzt ist, und in dem die Ansaugnuten 21 evakuiert sind, sodass das Substrat S im Wesentlichen über die gesamte Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 4a angesaugt gehalten werden kann.
  • Bei der oben erwähnten Ausführungsform wurde ein Beispiel beschrieben, bei dem das Substrat S nur durch das aus den Luftfeldern 18 auszustoßende Gas in die Schwebe gebracht wird. Alternativ kann die folgende Anordnung verwendet werden, d. h. um das Substrat stabil in der Schwebe zu halten, wird das Substrat S in der Schwebe gehalten, indem ein Gleichgewicht zwischen dem Evakuieren der Ansaugnuten 21 und dem Druck des aus den Luftfeldern 18 auszustoßenden Gases gehalten wird. Außerdem können als Luftfelder 18 auch solche verwendet werden, die eingerichtet sind, gleichzeitig den Gasausstoß und das Evakuieren zu ermöglichen.
  • Weiter wurde bei der oben erwähnten Ausführungsform ein Beispiel beschrieben, bei dem eine Anordnung erstellt wurde, um nur das Substrat S in der θ-Richtung zu drehen. Es kann auch so eingerichtet sein, dass der Bühnen-Hauptkörper mit einer drehbaren Halteaufnahme versehen ist, die das Substrat S hält, wobei dessen Bearbeitungsfläche zum Zugang offen gelassen ist.
  • Konkret wird jetzt mit Bezug auf die 7 bis 9 ein solches Beispiel beschrieben. Eine Bühne 30 mit einer Ausrichtfunktion, die sich auf das erste abgeänderte Beispiel bezieht, ist auf dem Paar linker und rechter, auf der oberen Fläche der Grundplatte 2 vorgesehener Schienenelemente 3R, 3L auf dieselbe Weise wie oben angeordnet, um vor und zurück beweglich zu sein. Die Bühne 30 weist einen Bühnen-Hauptkörper 31 in Form einer Platte auf. An den vier Ecken der Unterfläche des Bühnen-Hauptkörpers 31 sind Gleiter 32 vorgesehen, die gleitend mit den Schienenelementen 3R, 3L gekoppelt sind. Auf dieselbe Weise wie oben ist der Bühnen-Hauptkörper 31 durch Drehung einer Vorschubschnecke (nicht dargestellt) entlang den beiden Schienenelementen 3R, 3L vor und zurück beweglich.
  • Der Bühnen-Hauptkörper 31 ist auf drehbare Weise mit einer plattenförmigen Halteaufnahme 33 versehen, die in der Lage ist, das Substrat S durch Ansaugen zu halten. An der Rückfläche der Halteaufnahme 33 ist ein vertiefter Raum 33b in eingedellter Form an einer Vielzahl von Positionen ausgebildet, sodass jeweils darin ein Rippenteil 33a ausgebildet sein kann, der die Festigkeit der Halteaufnahme 33 aufrecht erhält und gleichzeitig die Glätte der Oberfläche garantiert. Am hinteren Mittelteil der Halteaufnahme 33 ist eine Welle 33c ausgebildet. Die Welle 33c wird durch ein Kugellager 35 getragen, das über ein Buchsenelement 34 in einem in der Mitte des Bühnen-Hauptkörpers 31 ausgebildeten Durchgangsloch angeordnet ist. In diesem Fall weisen, ähnlich dem obigen Beispiel, die Welle 33c und der Innenlaufring 35a des Kugellagers 35 eine Passfederverbindung unter Verwendung einer Passfeder oder einer Keilverbindung auf. In einem Zustand, in dem die Gaszufuhreinrichtung nicht in Betrieb ist, die nachstehend genauer beschrieben ist, steht die Unterfläche des Rippenteils 33a in Flächenberührung mit der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 31 (siehe 7).
  • Der Bühnen-Hauptkörper 31 ist versehen mit: einer Gaszufuhreinrichtung 36, die dem vertieften Raum 33 der Halteaufnahme 33 ein Gas zuführt; und einem Feinjustierungsmechanismus 37, der die Halteaufnahme 33 drehend antreibt, sodass sich die Halteaufnahme 33, die weiter das Substrat S hält, in derselben Ebene drehen kann.
  • Die Gaszufuhreinrichtung 36 ist gebildet aus: vertieften Löchern 36a, die jeweils kreisförmig sind, gesehen in der Draufsicht, und die in einer vorgegebenen Position auf der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 31 ausgebildet sind; einem Luftfeld 36b, das einen porösen Aufbau aufweist und innerhalb jedes der vertieften Löcher 36a untergebracht ist; und einem Gasrohr 36c, das jedem der Luftfelder 36c Gas, wie etwa Druckluft, zuführt (siehe 7).
  • Der Feinjustierungsmechanismus 37, der als Antriebseinrichtung dient, ist mit einem an einer Seitenfläche des Bühnen-Hauptkörpers 31 montierten Rahmen 37a versehen. Der Rahmen 37a ist mit einer Vorschubschnecke 37b mit einem Motor M versehen, die sich in der X-Achsen-Richtung erstreckt. Die Vorschubschnecke 37b ist schraubenmäßig mit einem beweglichen Element 37c mit einem darin ausgebildeten Gewindeloch gekoppelt. Am unteren Teil des beweglichen Elements 37c ist ein Gleiter 37d ausgebildet. Der Gleiterteil 37d ist verschiebbar mit einem Schienenelement 37e gekoppelt, das parallel zur Vorschubschnecke 37b an der unteren Innenseite des Rahmens 37a montiert ist. Gemäß dieser Anordnung wird das bewegliche Element 37c, wenn der Motor M betrieben wird, um dadurch die Vorschubschnecke 37b zu drehen, abhängig von der Drehrichtung des Motors M hin und her in der X-Achsen-Richtung beweglich (siehe 8).
  • Weiter ist an einer unteren Fläche des beweglichen Elements 37c ein Schienenteil 37f ausgebildet, der sich in der Y-Achsen-Richtung erstreckt. Mit dem Schienenteil 37f ist eine Trägereinrichtung 37g verschiebbar gekoppelt. An einem oberen Ende der Trägereinrichtung 37g ist über ein Lager 37h ein Arm 37i angebracht. Der Arm 37i ist mit einer Seitenfläche der Halteaufnahme 33 gekoppelt. Wenn die Vorschubschnecke 37b gedreht wird, um dadurch das bewegliche Element 37c entlang dem Schienenelement 37e zu bewegen, bewegt sich die Trägereinrichtung 37g entlang dem Schienenteil 37f, und auf die Halteaufnahme 33 wird eine Drehkraft ausgeübt, wodurch sie drehend angetrieben wird. In diesem Fall wird der Arm 37i innerhalb eines Bereichs des Hubs der hin und her gehenden Bewegung des beweglichen Elements 37c geschwenkt, wodurch die Halteaufnahme 33 innerhalb eines vorgegebenen Mikro-Winkelbereichs (z. B. innerhalb eines Grads) drehend angetrieben wird. Außerdem kann zwischen die Trägereinrichtung 37g und den Arm 37i zusätzlich zu dem Lager 37h eine Federführung 37j eingesetzt sein, die eine Auf- und Abbewegung des Arms 37i bezüglich der Trägereinrichtung 37g ermöglicht.
  • Es wird eine Anordnung verwendet, bei der: an einer oberen Fläche der Halteaufnahme 33 Ansaugnuten 38 geeignet ausgebildet sind, in einer Weise, dass sie sich in der X-Achsen-Richtung und der Y-Achsen-Richtung erstrecken, wobei die Ansaugnuten 38 mit einer Vakuumpumpe in Verbindung stehen; und das Substrat S durch Evakuieren der Ansaugnuten 38 im Wesentlichen über dessen gesamte Fläche angesaugt und gehalten werden kann (siehe 9).
  • Falls eine Ausrichtung in der θ-Richtung durchgeführt wird, wird jedem der Luftfelder 36b der Gaszufuhreinrichtung 36 Gas, wie etwa Druckluft, in einem Zustand zugeführt, in dem das Substrat S im Wesentlichen über dessen gesamte Fläche angesaugt gehalten wird. Gemäß dieser Anordnung kann ein Zustand erreicht werden, in dem die Halteaufnahme 33 in der Schwebe von der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 31 weg gehalten wird, oder ein Zustand, in dem der Reibwiderstand zwischen den beiden aufgrund der Druckluft wesentlich reduziert wurde. Dabei tritt, da die Halteaufnahme 33 in der Schwebe gehalten wird, eine Abweichung (ein Zwischenraum) in Richtung der Höhe zwischen dem mit dem Bühnen-Hauptkörper 31 gekoppelten Feinjustierungsmechanismus 37 und der Halteaufnahme 33 auf. Jedoch löst die Keilführung 37i den mechanischen Widerspruch, d. h. die Abweichung kann abgefangen werden.
  • Anschließend wird der Motor M des Feinjustierungsmechanismus 37 angetrieben, und auf dieselbe Weise wie oben wird die Vorschubschnecke 37b geeignet gedreht, abhängig von dem durch die Steuereinrichtung berechneten Korrekturwert. Gemäß dieser Anordnung wird die Halteaufnahme 33 durch den Arm 37i drehend angetrieben, und die Halteaufnahme 33, die das Substrat S durch Ansaugen hält, wird um einen vorgegebenen Winkel in der θ-Richtung bezüglich der oberen Fläche des Bühnen-Hauptkörpers 31 gedreht, indem die Drehachse 33c veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.
  • Wie oben beschrieben, wurde gemäß dem oben erwähnten ersten abgeänderten Beispiel eine Anordnung benutzt, bei der die Halteaufnahme 33, die das Substrat S hält, gedreht wird. Als Ergebnis kombinierter Effekte insofern als: das Gewicht der Halteaufnahme 33 geringer gemacht ist, indem vertiefter Raum 33b auf der Rückfläche der Halteaufnahme 33 ausgebildet ist; und der Bereich des Substrats außer dem mit der Welle 33c gekoppelten Teil in der Schwebe gehalten wird, indem Gas von den Luftfeldern 36b zugeführt wird, gibt es keine Notwendigkeit für einen Drehmechanismus, wie etwa ein großformatiges Lager und dergleichen. Es kann so verhindert werden, dass die Größe der Vorrichtung selbst erheblich wird. Da das Substrat S mit einer kleinen Schubkraft gedreht werden kann, wird eine hochgenaue Ausrichtung möglich, ohne einen Motor hoher Leistungsfähigkeit zu verwenden.
  • Bei dem oben erwähnten ersten abgeänderten Beispiel wurde ein Beispiel beschrieben, bei dem das Substrat S oder die Halteaufnahme 33, die darauf das Substrat S hält, in der θ-Richtung gedreht wird. Jedoch kann eine Anordnung verwendet werden, bei der an der Bühne selbst weiter eine Antriebsvorrichtung angebracht ist, z. B. eine Vorschubschnecke mit einem Motor, sodass sie in der X-Achsen-Richtung und in der Y-Achsen-Richtung beweglich ist, wodurch eine Ausrichtung in diesen Richtungen ausgeführt werden kann.
  • Weiter wurde bei dem oben erwähnten ersten abgeänderten Beispiel ein Beispiel beschrieben, bei dem die Antriebseinrichtung aus dem Feinjustierungsmechanismus 10 hergestellt ist. Jedoch braucht der Antriebsmechanismus nicht darauf beschränkt zu sein. Um das Substrat S mit der vorgegebenen Tinte zu beschichten, während das Substrat S z. B. in der θ-Richtung bewegt wird, kann der Antriebsmechanismus durch einen Grobjustierungsmechanismus eingerichtet sein, der in der Lage ist, die Ansaugeinrichtung 8 um einen größeren Winkelbereich zu drehen als derjenige des Feinjustierungsmechanismus, und der, je nach Fall, in der Lage ist, das Substrat S um 90 Grad oder 180 Grad zu drehen. Als zweites abgeändertes Beispiel, das bei einem solchen Grobjustierungsmechanismus vorgesehen ist, ist der Grobjustierungsmechanismus 100 hergestellt, wie in 10 gezeigt, aus: einem Schneckenrad 101, das auf einer Treibstange 15a des Stellglieds 15 montiert ist und mit einem Innenlaufring 13a des Kugellagers 13 verbunden ist; und einer Schnecke 102, die durch ein Gehäuse gehalten wird, das an einem Rahmen (nicht dargestellt) befestigt ist, und das durch einen Motor (nicht dargestellt) drehend angetrieben wird. Der Grobjustierungsmechanismus 100 braucht nicht auf das Obige beschränkt zu sein, und alternativ können andere bekannte Anordnungen, wie etwa ein Direktantriebsmotor und dergleichen, verwendet werden.
  • Andererseits kann die Antriebseinrichtung als drittes abgeändertes Beispiel, wie in den 11 und 12 gezeigt, bestehen aus: dem Feinjustierungsmechanismus 10, der mit dem Arm 19 und der Antriebsquelle 20 versehen ist; und dem Grobjustierungsmechanismus 100, der mit dem Schneckenrad 101 und der Schnecke 102 versehen ist. In diesem Fall ist das Schneckenrad 101 des Grobjustierungsmechanismus 100 mit dem Innenlaufring 13a gekoppelt, und ein Ende des Arms 19 ist an der Unterfläche des Gehäuses 103 befestigt, das die mit dem Schneckenrad 101 zu koppelnde Schnecke 102 trägt.
  • Bei der oben erwähnten Antriebseinrichtung wird, wenn die Schnecke 102 des Grobjustierungsmechanismus 100 durch einen in dem Gehäuse 103 angeordneten Motor M drehend angetrieben wird, das Schneckenrad 101 gedreht, und als Ergebnis der Drehung des Innenlaufrings 13a, der mit dem Schneckenrad 101 gekoppelt ist, wird das Schubelement 14 gedreht. Dann wird die Spannplatte 11 gedreht, und das Substrat S wird in der θ-Richtung innerhalb eines Winkelbereichs gedreht, der größer ist als derjenige des Feinjustierungsmechanismus 10. Dabei wird keine Drehkraft auf den Arm 19 übertragen. Dann wird, wenn die Antriebsquelle 20 angetrieben wird (siehe 1 und 2), der Arm 19 geschwenkt, indem das Stellglied 15 veranlasst wird, als Mittelpunkt der Schwenk- oder Drehbewegung zu dienen. Dabei wird die Schnecke 102 zusammen mit dem Gehäuse 103 geschwenkt, das an dem Arm 19 befestigt ist. Als Ergebnis der Drehung des Schneckenrads 101 zusammen mit dem Obigen werden das Schubelement 14 und die Spannplatte 11 gedreht, und das Substrat S wird um einen vorgegebenen Mikro-Winkel in der θ-Richtung gedreht.
  • Gemäß der oben erwähnten Anordnung kann, da die Ansaugeinrichtung 8 drehend angetrieben wird, die Drehkraft von dem Feinjustierungsmechanismus 10 und dem Grobjustierungsmechanismus 100 auf das Schubelement 14 ausgeübt werden, das als gemeinsame Welle dient. Als Ergebnis kann die Welle (das Schubelement 14) zum drehenden Antreiben der Ansaugeinrichtung 8 gemeinsam miteinander angeordnet sein, und folglich kann verhindert werden, dass der Aufbau der Antriebseinrichtung kompliziert wird. Weiter kann auch beim Durchführen der Ausrichtung in der θ-Richtung das Umschalten vom drehenden Antreiben durch den Grobjustierungsmechanismus 100 zum drehenden Antreiben durch den Feinjustierungsmechanismus 10 sanft erfolgen.
  • Außerdem kann sich bei der Bildaufnahme des Substrats S z. B. durch eine Bildaufnahmeeinrichtung, um den Auslenkungsbetrag (Korrekturwert) in der θ-Richtung zu berechnen, sodass die Position des Substrats S zu derjenigen Markierung R auf dem Substrat S ausgerichtet wird, die als Standard oder Bezug dient, der folgende Fall ergeben, d. h. ein Fall, bei dem die Markierung R über den Aufnahmebereich der Bildaufnahmeeinrichtung hinaus abweicht, oder ein Fall, bei dem der berechnete Korrekturwert den Mikro-Winkelbereich überschreitet, der durch den Feinjustierungsmechanismus ausgerichtet werden kann. In einem solchen Fall wird das Substrat S zuerst mittels des Grobjustierungsmechanismus 100 mit hoher Geschwindigkeit in die Nähe einer Zielposition drehend angetrieben (d. h. zu einem Winkelbereich, der durch den Feinjustierungsmechanismus 10 ausgerichtet werden kann). Je nach Erfordernis wird das Substrat S durch die Bildaufnahmeeinrichtung erneut aufgenommen, um dadurch den Korrekturwert zu berechnen, indem die Markierung R des Substrats S veranlasst wird, als Standard zu dienen. Anschließend kann mittels des Feinjustierungsmechanismus 10 eine hochgenaue Positionierung durchgeführt werden. Gemäß dieser Anordnung kann eine hochgenaue und schnelle Ausrichtung realisiert werden.
  • Bei dem oben erwähnten dritten abgeänderten Beispiel, bei dem die Antriebseinrichtung den Feinjustierungsmechanismus 10 und den Grobjustierungsmechanismus 100 aufweist, ist es so eingerichtet, dass die Drehkraft von jedem aus dem Feinjustierungsmechanismus 10 und dem Grobjustierungsmechanismus 100 auf das Schubelement 14 gegeben wird. Es ist jedoch nicht darauf beschränkt. Als viertes abgeändertes Beispiel kann die folgende Anordnung verwendet werden. Mit anderen Worten ist, wie in 13 gezeigt, koaxial zum Schubelement 14 eine weitere Hohlwelle 201 über ein Lager 201a zum Antreiben der Feinjustierung angeordnet. Die Unterfläche dieser Hohlwelle 201 kann mit der oberen Fläche eines Gehäuses 202 verbunden sein, das darin das Schneckenrad 101 und die Schnecke 102 aufnimmt. Gemäß dieser Anordnung wird das Schubelement 14, wenn die Schnecke 132 des Grobjustierungsmechanismus 100 drehend angetrieben wird, gedreht, ohne die Drehkraft auf den Arm 19 zu übertragen. Wenn die Antriebsquelle 20 angetrieben wird, wird andererseits der Arm 19 geschwenkt, indem das Stellglied 15 veranlasst wird, als Mittelpunkt der Schwenk- oder Drehbewegung zu dienen; die mit dem Arm 19 über das Gehäuse 202 gekoppelte Hohlwelle 201 wird gedreht, und gleichzeitig damit wird das Schubelement 14 über das Schneckenrad 101 gedreht.
  • Obwohl nicht dargestellt, kann als weiteres abgeändertes Beispiel eine solche Anordnung erstellt werden, dass, falls die Hohlwelle 201 koaxial zum Schubelement 14 angeordnet ist, die Drehkraft von dem Feinjustierungsmechanismus 10 nur auf die Hohlwelle 201 übertragen wird. In diesem Fall kann ein Stellglied (nicht dargestellt) zum Auf- und Abbewegen der Hohlwelle 201 eingefügt sein. Auf diese Weise wird beim Drehen des Substrats S vom Grobjustierungsmechanismus 100 über das Schubelement 14 die Spannplatte 11 nach oben bewegt, indem nur das Schubelement 14 geschoben wird. Andererseits wird beim Drehen des Substrats S durch den Feinjustierungsmechanismus 10 über die Hohlwelle 201 die Spannplatte 11 nach oben bewegt, indem nur die Hohlwelle 201 geschoben wird. Falls das Stellglied zum Auf- und Abbewegen der Hohlwelle 201 eingefügt ist, braucht die Welle (das Schubelement), auf welche die Drehkraft von dem Feinjustierungsmechanismus 10 ausgeübt wird, nicht koaxial zu der Welle (Hohlwelle) angeordnet zu sein, auf welche die Drehkraft von dem Grobjustierungsmechanismus 100 ausgeübt wird.
  • Bei der oben erwähnten Ausführungsform und jedem der abgeänderten Beispiele wurden bisher Beispiele beschrieben, bei denen die mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne 4, 30 auf eine Beschichtungsvorrichtung angewandt wurde. Ohne darauf beschränkt zu sein, kann diese Erfindung auf einen Fall angewandt werden, bei dem wie ein durchzuführender Rückenschliffschritt z. B. bei den Schritten zur Herstellung von Halbleiterbauteilen eine vorgegebene Bearbeitung durch Schneidwerkzeuge (Bearbeitungseinrichtung) an einem Wafer (einem zu bearbeitenden Objekt) von einer entgegengesetzten Seite des Wafers durchgeführt wird, wobei der Wafer auf einer beweglich angeordneten Bühne angeordnet ist. Auf diese Weise kann eine Ausrichtung des zu bearbeitenden Objekts bezüglich des Schneidwerkzeugs hergestellt werden.
  • [Kurze Beschreibung der Zeichnung]
  • 1 ist eine schematische Seitenansicht einer Beschichtungsvorrichtung vom Tintenstrahltyp, die mit einer mit einer Ausrichtfunktion gemäß einer Ausführungsform dieser Erfindung ausgestatteten Bühne versehen ist;
  • 2 ist eine teilweise Draufsicht der Beschichtungsvorrichtung des Tintenstrahltyps, die den Bühnen-Hauptkörper erläutert;
  • 3 ist eine teilweise Schnittansicht der Beschichtungsvorrichtung des Tintenstrahltyps, welche die Anordnung des Bühnen-Hauptkörpers erläutert;
  • 4 ist eine teilweise Schnittansicht, die eine Vergrößerung des Teils IV in 3 zeigt;
  • 5 ist eine teilweise Schnittansicht, die eine Vergrößerung des Teils V in 3 zeigt;
  • 6 ist eine schematische Draufsicht, die das Ausrichten des Substrats in der θ-Richtung durch die Bühne gemäß dieser Erfindung erläutert;
  • 7 ist eine schematische Seitenansicht, die ein erstes abgeändertes Beispiel der mit der Ausrichtfunktion gemäß dieser Erfindung ausgestatteten Bühne erläutert;
  • 8 ist eine teilweise Schnittansicht, die eine Vergrößerung des Teils VIII in 7 zeigt;
  • 9 ist eine Draufsicht der in 7 gezeigten Bühne;
  • 10 ist eine teilweise Schnittansicht, die ein zweites abgeändertes Beispiel der mit der Ausrichtfunktion gemäß dieser Erfindung ausgestatteten Bühne erläutert;
  • 11 ist eine teilweise Schnittansicht, die ein drittes abgeändertes Beispiel der mit der Ausrichtfunktion gemäß dieser Erfindung ausgestatteten Bühne erläutert;
  • 12 ist eine perspektivische Ansicht, die durch teilweises Vergrößern eine Antriebseinrichtung der mit der Ausrichtfunktion ausgestatteten Bühne mit Bezug auf ein drittes abgeändertes Beispiel erläutert; und
  • 13 ist eine teilweise Schnittansicht, die ein viertes abgeändertes Beispiel der mit der Ausrichtfunktion gemäß dieser Erfindung ausgestatteten Bühne erläutert.
  • Bezugszeichenliste
    • 3R, 3L
    Schienenelement (Führungseinrichtung)
    4, 30
    Bühne
    4a, 31
    Bühnen-Hauptkörper
    8
    Ansaugeinrichtung
    9
    Gaszufuhreinrichtung
    10
    Feinjustierungsmechanismus (Antriebseinrichtung)
    100
    Grobjustierungsmechanismus (Antriebseinrichtung)
    21
    Ansaugnut
    33
    Halteaufnahme
    S
    Substrat (zu bearbeitendes Objekt)
  • Zusammenfassung
  • Es wird eine preiswerte Bühne geschaffen, die mit einer Ausrichtfunktion ausgestattet ist und in der Lage ist, leicht eine hochgenaue Ausrichtung, insbesondere in einer θ-Richtung, durchzuführen, sogar in dem Fall, in dem ein zu bearbeitendes Objekt ein hohes Gewicht aufweist. Die mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne weist einen Bühnen-Hauptkörper (4a) zum Halten eines Substrats (S) auf, während eine Bearbeitungsfläche davon zum Zugang offen gelassen wird. Die Bühne ist versehen mit: einer Ansaugeinrichtung (8), die in der Lage ist, diese Fläche des Substrats anzusaugen, die gegenüber der Bearbeitungsfläche liegt; einer Gaszufuhreinrichtung (9) zum Zuführen eines Gases zu einem solchen Bereich des Substrats, der verschieden ist von einem durch die Ansaugeinrichtung angesaugten Bereich; und einer Antriebseinrichtung (10), um eine drehende Kraft auf die Ansaugeinrichtung auszuüben, sodass das Substrat in derselben Ebene gedreht werden kann, indem die Ansaugeinrichtung veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 2006-136770 A [0006]

Claims (10)

  1. Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion, wobei die Bühne einen Bühnen-Hauptkörper zum Halten eines zu bearbeitenden Objekts aufweist, während eine Bearbeitungsfläche davon zum Zugang offen gelassen wird, wobei die Bühne umfasst eine Ansaugeinrichtung, die in der Lage ist, eine gegenüberliegende Fläche des zu bearbeitenden Objekts anzusaugen, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt; eine Gaszufuhreinrichtung zum Zuführen eines Gases zu einem solchen Bereich des zu bearbeitenden Objekts, der verschieden ist von einem durch die Ansaugeinrichtung angesaugten Bereich; und eine Antriebseinrichtung zum drehenden Antreiben der Ansaugeinrichtung, um das zu bearbeitende Objekt in einer selben Ebene zu drehen, indem die Ansaugeinrichtung veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.
  2. Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion, wobei die Bühne eine Halteaufnahme aufweist, um darauf ein zu bearbeitendes Objekt zu halten, während eine Bearbeitungsfläche davon zum Zugang offen gelassen wird, sowie einen Bühnen-Hauptkörper zum Halten der Halteaufnahme auf drehbare Weise, wobei die Bühne umfasst eine Gaszufuhreinrichtung zum Zuführen eines Gases zu einer gegenüberliegenden Fläche der Halteaufnahme, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt; und eine Antriebseinrichtung zum drehenden Antreiben der Halteaufnahme, um die Halteaufnahme in einer selben Ebene zu drehen.
  3. Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion gemäß Anspruch 1 oder 2, weiter umfassend eine Führungseinrichtung und eine Bewegungseinrichtung zum Bewegen des Bühnen-Hauptkörpers entlang der Führungseinrichtung.
  4. Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, weiter umfassend: eine entlang einer Berührungsfläche des Bühnen-Hauptkörpers oder der Halteaufnahme mit dem zu bearbeitenden Objekt ausgebildete Ansaugnut; und eine Vakuumpumpe zum Evakuieren der Ansaugnut in einen Zustand, in dem das zu bearbeitende Objekt auf der Bühne oder der Halteaufnahme montiert ist.
  5. Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Antriebseinrichtung umfasst einen Feinjustierungsmechanismus zum Drehen der Ansaugeinrichtung innerhalb eines vorgegebenen Mikrowinkelbereichs; und einen Grobjustierungsmechanismus zum Drehen der Ansaugeinrichtung innerhalb eines größeren Winkelbereichs als der Winkelbereich des Feinjustierungsmechanismus.
  6. Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion gemäß Anspruch 5, wobei der Grobjustierungsmechanismus mit der Ansaugeinrichtung gekoppelt ist, wobei der Feinjustierungsmechanismus einen Arm und eine Antriebsquelle zum Schwenken des Arms umfasst, und wobei der Feinjustierungsmechanismus und der Grobjustierungsmechanismus funktionell so miteinander gekoppelt sind, dass die Ansaugeinrichtung, wenn der Arm durch die Antriebsquelle geschwenkt wird, durch den Grobjustierungsmechanismus drehend angetrieben wird.
  7. Bühne, ausgestattet mit einer Ausrichtfunktion gemäß Anspruch 5 oder 6, wobei der Arm des Feinjustierungsmechanismus eine Länge aufweist, die sich mindestens zu einer Seite des Bühnen-Hauptkörpers erstreckt, und an einem Vorderende des Arms mit der Antriebsquelle verbunden ist.
  8. Bearbeitungsvorrichtung, umfassend: die mit einer Ausrichtfunktion ausgestattete Bühne gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7; und eine Bearbeitungseinrichtung zum Durchführen einer vorgegebenen Bearbeitung an dem zu bearbeitenden Objekt, wobei die Bearbeitungseinrichtung so angeordnet ist, dass sie dem zu bearbeitenden Objekt gegenüber liegt, das durch die Bühne gehalten wird.
  9. Verfahren zum Ausrichten eines zu bearbeitenden Objekts, umfassend die Schritte: Montieren des zu bearbeitenden Objekts auf einer Bühne in einer Weise, dass eine Bearbeitungsfläche davon offen zum Zugang gelassen wird; Veranlassen einer Ansaugeinrichtung, eine gegenüberliegende Fläche des zu bearbeitenden Objekts anzusaugen, wobei die gegenüberliegende Fläche entgegengesetzt zur Bearbeitungsfläche liegt und die Ansaugeinrichtung auf der Bühne angeordnet ist; Zuführen eines Gases zu der gegenüberliegenden Fläche außer einem Bereich, der durch die Ansaugeinrichtung angesaugt wird; und Ausrichten des zu bearbeitenden Objekts durch Drehen des zu bearbeitenden Objekts um einen vorgegebenen Winkel in einer selben Ebene, indem die Ansaugeinrichtung veranlasst wird, als Drehmittelpunkt zu dienen.
  10. Verfahren zum Ausrichten eines zu bearbeitenden Objekts gemäß Anspruch 9, wobei der Schritt des Ausrichtens des zu bearbeitenden Objekts umfasst: Drehen der Ansaugeinrichtung um einen Winkelbereich, der größer ist als ein vorgegebener Mikro-Winkelbereich; und danach weiteres Drehen der Ansaugeinrichtung innerhalb des Mikro-Winkelbereichs.
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