DE1050450B - Verfahren zur Herstellung einer Silizium-Halbleiteranordnung mit Legierungselektroden - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Silizium-Halbleiteranordnung mit LegierungselektrodenInfo
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 117
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 117
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 117
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 41
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 41
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 53
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 52
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 34
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 33
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 33
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims description 20
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 14
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 claims 1
- BIJOYKCOMBZXAE-UHFFFAOYSA-N chromium iron nickel Chemical compound [Cr].[Fe].[Ni] BIJOYKCOMBZXAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- FBMUYWXYWIZLNE-UHFFFAOYSA-N nickel phosphide Chemical compound [Ni]=P#[Ni] FBMUYWXYWIZLNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 241000169410 Leaus Species 0.000 description 1
- 241001233242 Lontra Species 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150108455 Sil1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPYMJIZUWGOKJS-UHFFFAOYSA-N [Ge].[Ag] Chemical compound [Ge].[Ag] BPYMJIZUWGOKJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 and the like Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si].[Si] SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
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- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
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Description
DEUTSCHES
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung, mit einem
Silizium-Halbleiterkörper und Abnahmeelektroden aus einem Metall oder einer Metallegierung, das bzw.
die dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Siliziums möglichst nahe kommt, bei dem die Abnahmeelektroden
auf dem Siliziumkörper auflegiert werden und ein Lot aus einer Silberlegierung verwendet wird, vornehmlich
für pn-Flächengleichrichter, die zum Betrieb mit Starkstrom besonders geeignet sind.
Die Hauptvorteile des Silizium-pn-Flächengleichrichters
bestehen darin, daß er einen hohen Gleichrichterwirkungsgrad bei allen Temperaturen bis zu
etwa 220° C hat. Germaniumgleichrichter haben dagegen bei Temperaturen, die sich 100° C annähern,
einen sehr niedrigen Wirkungsgrad. Aus Germanium hergestellte Gleichrichter müssen daher mit großer
Sorgfalt gekühlt werden, um zu verhindern, daß die Temperaturen ein bestimmtes Höchstmaß, gewöhnlich
etwa 8O0C, überschreiten. Hochleistungs-Silizium-Gleichrichter
können andererseits ausreichend dadurch luftgekühlt werden, daß die Wärme von diesen auf
einfache Rippen oder andere Kühler von mäßiger Größe abgeleitet wird. Siliziumgleichrichter arbeiten
daher auch dann zufriedenstellend, wenn die Umgebungstemperaturen sehr hoch sind oder es wegen
der hohen Belastungen schwierig sein würde, die Temperaturen der Gleichrichter unter 100° C zu halten.
Die Herstellung von Halbleitervorrichtungen mit einer pn-Verbindung aus Silizium erfordert die Losung
vieler schwieriger Probleme. Das Siliziummaterial selbst muß in Form von außerordentlich dünnen
Plättchen verwendet werden, deren Dicke etwa 0.25 mm beträgt. Die Siliziumplättchen sind ziemlich
spröde und brüchig, so daß sie, wenn sie etwas höheren mechanischen Beanspruchungen ausgesetzt werden,
brechen. Bruch kann nicht nur während der Herstellung und des Zusammenbaus der Gleichrichter, sondern
auch während ihrer Verwendung wegen der verschiedenen Wärmeausdehnung eintreten, die zwischen
dem Siliziumplättchen und einem an diesem befestigten Endkontakt stattfindet, wenn der Gleichrichter, in
dem das Plättchen verwendet wird, sich beim Gebrauch erwärmt.
Eines der kritischen Probleme bei der Herstellung zufriedenstellender Gleichrichter aus Silizium-Halbleitermaterialien
betrifft die rasche und wirksame Ableitung der entstehenden Wärmeverluste. Obwohl Silizium
die Fähigkeit hat, elektrischen Strom bei Temperaturen bis zu 220° C gleichzurichten, findet die
wirksamste Gleichrichtung bei niedrigeren Temperaturen statt, so daß die niedrigstmöglichen Betriebstemperaturen
aufrechterhalten werden sollten. Übermäßig hohe Temperaturen, die bei etwa 220° C be-Verfahren
zur Herstellung
einer Silizium-Halbleiteranordnung
mit Legierungselektroden
Anmelder:
Westinghouse Electric Corporation,
East Pittsburgh, Pa. (V. St. A.)
East Pittsburgh, Pa. (V. St. A.)
Vertreter: Dipl.-Ing. G. Weinhausen, Patentanwalt,
München 22, Widenmayerstr. 46
München 22, Widenmayerstr. 46
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 10. Mai 1955
V. St. v. Amerika vom 10. Mai 1955
Frank Victor Frola, Turtle Creek, Pa.,
und MiIo Wayne Slye, Pittsburgh, Pa. (V. St. Α.),
sind als Erfinder genannt worden
ginnen, können die Wirkungsweise der Gleichrichter beeinträchtigen und sogar zu einem Versagen derselben
führen, wenn sie bei solch hohen Temperaturen starken elektrischen Belastungen ausgesetzt sind. Das
Siliziumplättchen muß an einer Grundelektrode aus einem Metall hoher Wärmeleitfähigkeit, beispielsweise
Molybdän, befestigt sein und ein Lötmittel verwendet
werden, das guten Wärme- und elektrischen Kontakt gewährleistet. Der hier verwendete Ausdruck »Lötmittel«
ist in weitestem Sinn, also auch einschließlich der Hartlotung, zu verstehen.
Andere Probleme, die bei der Herstellung von Gleichrichtern eine Rolle spielen, beziehen sich auf
den Schutz der Siliziumplättchen gegen nachteilige atmosphärische Einflüsse und Verunreinigung. Da für
beil beabsichtigten Verwendungszweck das Silizium einen höchstmöglichen Reinheitsgrad, gewöhnlich
weniger als 1 Gewichtsteil Verunreinigung auf 10 Millionen Teile haben soll, können Feuchtigkeit, kleine
Schmutzteilchen u. dgl., die sich auf dem Silizium absetzen, mit dem Siliziumplättchen reagieren oder in
dieses hinein diffundieren und eine Beschädigung oder eine Beeinträchtigung seines Gleichrichterwirkungsgrades
zur_Folge haben.
Es ist bekannt, bei Germaniumgleichrichtern zur Vermeidung von mechanischen und thermischen Spannungen
Abnahmeelektrodenmaterialien zu verwenden,
809 749 307
die den gleichen Ausdehnungskoeffizienten haben wie der Halbleiter. Auch Blei-Zinn-Silber-Legierungen sind
bereits als Lot zur Verbindung dünner metallischer Filme oder feiner Drähte verwendet worden. Schließlich
ist die Verwendung von Germanium bei der Einbettung von Silizium bzw. bei der Herstellung einer
Verbindung zwischen Silizium und der Grundelektrode bekannt.
Die Erfindung ermöglicht die Herstellung einer Halbleiteranordnung, die den erwähnten Anforderungen
entspricht, einen Silizium-Halbleiterkörper und Abnahmeelektroden aus einem Metall oder einer Metallegierung
aufweist, das bzw. die dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Siliziums möglichst nahe
kommt, wobei dieAbnahmeelektrodcn auf dem Siliziumkörper
auflegiert werden und ein Lot aus einer Sil1>erlegierung verwendet wird. Das Verfahren nach der
Erfindung kennzeichnet sich dadurch, daß eine silberhaltige Legierung mit mindestens einem der Elemente
der IV. Nebengruppe des Periodischen Systems, nämlich Silizium, Germanium, Zinn oder Blei, bei einem
Silbergehalt von mindestens 5 Gewichtsprozent verwendet wird, während der Rest 20 Gewichtsprozent
Silizium, 50 Gewichtsprozent Germanium, 90 Gewichtsprozent Zinn und 95 Gewichtsprozent Blei nicht übersteigt.
Vorzugsweise werden zwei Abnahmeelektroden aus Molybdän, Wolfram oder einer Legierung auf der
Basis dieser Metalle auf ein Siliziumplättchen vom n-Leitungstyp durch eine silberhaltige Legierungsschmelze aus mindestens 10 Gewichtsprozent Silber
und nicht mehr als 90 Gewichtsprozent Zinn, 16 Gewichtsprozent Silizium, 50 Gewichtsprozent Blei und
30 Gewichtsprozent Germanium auflegiert, wobei zur Umwandlung des Siliziums nahe der oberen Deckelektrode
in den p-Typ zwecks Erzeugung einer p-n-Verbindung diese zweite Abnahmeelektrode auf
das Siliziumplättchen durch eine Schicht aus einem Material vom p-Typ, nämlich aus Aluminium, oder
Aluminiumlegierungen mit mindestens einem der Elemente Silizium, Germanium, Gallium und Indium,
legiert wird. Die silberhaltige Legierungsschmelze besteht zweckmäßig aus 2 bis 5 Gewichtsprozent Germanium,
5 bis 16 Gewichtsprozent gelöstem Silizium und im Rest aus Silber.
In weiterer Ausgestaltung des Verfahrens nach der Erfindung werden zweckmäßig übereinanderliegende
Schichten, die aus (1) einer Grundelektrode aus Molybdän oder Wolfram oder einer Legierung auf der
Basis dieser Metalle mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten, der dem des Siliziums möglichst nahekommt,
(2) einer etwa 0,25 bis 0.05 mm dünnen Schicht einer Silberlegierung nach der Erfindung,
(3) einem etwa 0,25 mm dicken Siliziumplättchen vom n-Typ, (4) einer etwa 0,025 bis 0,05 mm dünnen Legierungsschicht
aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen nach der Erfindung und (5) einer Deckelektrode
aus dem gleichen Metall wie die Grundelektrode bestehen, im Vakuum unter leichtem Druck auf eine
Höchsttemperatur zwischen 850 und 925° C erhitzt, so daß die untere dünne silberhaltige Legierungsschicht
und die obere dünne Schicht aus Aluminiummaterial schmilzt und die Anordnung sodann al>gekühlt wird,
so daß ein Gleichrichterelement mit einer p-n-Verbindung erhalten wird.
Eine nach diesem Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung nach der Erfindung kann sich in weiterer
Ausgestaltung der Erfindung dadurch kennzeichnen, daß eine der Abnahmeelektroden mit einer Wand eines
abgedichteten Metallgehäuses verlötet und die andere
Elektrode mit einem elektrischen Leiter verbunden ist, der isolierend durch eine andere Wand des Gehäuses
geführt ist, und mit dem Gehäuse Kühlmittel verbunden sind, um die durch die Gleichrichteranordnung
dem Metallgehäuse mitgeteilte Wärme an die Außenluft abzuleiten. Die Kühlmittel können hierbei durch
einen Metallkörper mit einem Hohlraum gebildet werden, in dem ein Metallgehäuse mit enger Passung
sitzt und so verlötet ist, daß ein guter Kontakt von ίο Metall zu Metall vorhanden ist.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand mehrerer beispielsweiser Ausführungsformen in Verbindung
mit der Zeichnung näher beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 einen senkrechten Schnitt durch eine Anordnung vor der Verschmelzung,
Fig. 2 einen senkrechten Schnitt durch eine andere Anordnung,
Fig. 3 einen senkrechten Schnitt durch einen zur Herstellung festhaftend miteinander verbundener
Gleichrichterelemente geeigneten Vakuumofen und
Fig. 4 einen senkrechten Schnitt im vergrößerten Maßstab eines vollständigen luftgekühlten Gleichrichters
mit einer Silizium-pn-Verbindung.
Es wurde festgestellt, daß es möglich ist, aus-25'gezeichnete
Halbleitervorrichtungen und insbesondere pn-Flächengleichrichter dadurch herzustellen, daß
Siliziumplättchen mittels ausgewählter Silberlegierungen mit einem wärmeableitenden und stützenden
Endkontakt aus Molybdän, Wolfram oder Legierungen auf Basis dieser Metalle festhaftend verbunden
werden. Das richtig verbundene Siliziumplättchen ist gegen Beschädigung durch Temperaturschwankungen
innerhalb weitester Bereiche geschützt und die im Siliziumplättchen während des Gebrauchs als Gleichrichter
entstehende Wärme wird durch das Lötmittel rasch zu den Elektroden abgeleitet.
Die Lötmittelzusammensetzung muß für das Erzielen bestmöglicher Qualität der Siliziumgleichrichter
einer Anzahl kritischer Anforderungen gerecht werden. Insbesondere muß das Lötmittel folgende
Eigenschaften haben:
1. Benetzbarkeit gegenüber und Bindevermögen mit Silizium sowohl im geschmolzenen als auch im erstarrten
Zustand;
2. Benetzbarkeit gegenül>er und Bindevermögen mit Molybdän, Wolfram und Legierungen auf Basis
dieser Metalle, sowohl im geschmolzenen als auch im erstarrten Zustand;
3. einen niedrigen elektrischen und Wärmewiderstand;
4. einen geeigneten passenden Wärmeausdehnungskoeffizienten und eine gute Dehnbarkeit, die es
dem Lötmittel ermöglichen, ein Siliziumplättchen mit einer Molybdänelektrode über einen Temperaturbereich
von 925 bis —100° C zu vereinigen.
ohne vom Silizium wegzubrechen oder dieses zu beschädigen;
5. mit dem Siliziumplättchen nicht in unerwünschter Weise reagiert oder in anderer Weise dessen
Eigenschaften beeinträchtigt:
6. einen niedrigen Dampfdruck bei erhöhten Temperaturen, so daß beim Löten oder anderen Arbeitsvorgängen,
bei denen hohe Temperaturen auftreten, keine Undichtigkeiten entstellen;
7. kein Flußmittel erfordern, um eine gute Bindung
von Metall zu Metall sicherzustellen.
Im besonderen wurde festgestellt, daß sehr zufriedenstellende Silizium-Halbleiter vorrichtungen dadurch hergestellt werden können, daß das Silizium mit einer 7" Elektrode, beispielsweise aus Molybdän, mittels eines
Im besonderen wurde festgestellt, daß sehr zufriedenstellende Silizium-Halbleiter vorrichtungen dadurch hergestellt werden können, daß das Silizium mit einer 7" Elektrode, beispielsweise aus Molybdän, mittels eines
Silberlots festhaftend verbunden wird, das aus einer sogar noch größer sein kann. Die Grundelektrode ist
Legierung aus Sillier und mindestens einem Element aus einem aus der aus Molybdän, Wolfram oder Leaus
der IV. Nebengruppe des Periodischen Systems, gierungen auf Basis dieser Metalle bestehenden Gruppe
nämlich aus Zinn, Silizium, Germanium und Blei zu- ausgewählten Metall. Sowohl Molybdän als auch
sammengesetzt ist. Diese Lötmittel werden allen vor- 5 Wolfram haben einen linearen Ausdehnungskoeffistehend
genannten Anforderungen gerecht. Die Legie- zienten, der demjenigen eines Siliziumeinkristalls
rungen enthalten mindestens 5% Silber, wobei der (etwa 4,2 · 10—6/° C sehr nahe loommt. Legierungen
Rest nicht mehr als 90 Gewichtsprozent Zinn, aus Molylxiän und Wolfram, beispielsweise eine Le-20
Gewichtsprozent Silizium, 50 Gewichtsprozent gierung aus 5 Gewichtsprozent Wolfram und 95 GeGermanium
und 95 Gewichtsprozent Blei betragen io wichtsprozent Molybdän, haben ebenfalls nahezu den
soll. Besonders gute Ergebnisse wurden mit Zweistoff- gleichen Wärmeausdehnungskoeffizienten wie Silizium,
legierungen aus Silber und 65 bis 90% Zinn, Silber Sowohl Molybdän als auch Wolfram können mit ge-
und 5 bis 16 Gewichtsprozent Silizium, Silber und ringeren Mengen anderer Metalle ohne wesentliche
25 bis 50 Gewichtsprozent Blei und Sill>er und 5 bis Veränderung ihres Wärmeausdehnungskoeffizienten
30 Gewichtsprozent Germanium erzielt. Dreistofflegie- 15 legiert werden. Beispielsweise kann Molybdän mit 5
rungen aus Silber, Zinn und Silizium, Silber, Blei und bis 25 Gewichtsprozent eines Platinmetalls, z. B.
Silizium und Silber, Germanium und Silizium sind Osmium oder Platin, oder mit Chrom, Nickel, Kobalt,
besonders vorteilhaft. Beispielsweise können die Drei- Silizium, Kupfer und Silber legiert werden. Ein
stofflegieruingen 50 bis 80 Gewichtsprozent Silber und Wärmeausdehnungskoeffizient zwischen etwa 3,8· 10—"
5 bis 16 Gewichtsprozent Silizium enthalten und als 20 und 5 · 10—e/° C ist für das Zusammenwirken mit
Rest Zinn, Blei oder Germanium. Das Silber kann einem Siliziumplättchen zufriedenstellend. Molybdän
kleine Mengen anderer Elemente und Verunreini- hat in der Praxis gute Ergebnisse gebracht. Obwohl
gungen enthalten, vorausgesetzt jedoch, daß keine we- Molybdän wie auch Wolfram eine ausgezeichnete
sentlichen Mengen eines Elements der Gruppe III an- Wärmeleitfähigkeit haben, so daß diese Metalle die
wesend sind. 25 Wärme aus dem in Kontakt mit ihnen befindlichen
Wenn diese Silberlegierungen auf das Silizium- Silizium rasch ableiten, hat Molylxiän eine viel gerinplättchen
aufgebracht werden, löst sich etwas Silizium gere Dichte, so daß es für viele Anwendungsgebiete
aus dem Plättchen in der Legierung auf, so daß Zwei- vorzuziehen sein dürfte. Zum Beispiel haben bei Einstoff-
und Dreistofflegierungen, die vor dem Auf- richtungen, die einer Bewegung ausgesetzt sind, Gebringen
kein Silizium enthalten, nach dem Ver- 30 bilde mit dem leichteren Molybdän eine geringere
schmelzen eine kleine, jedoch wesentliche Menge Massenträgheit als solche mit gleicher Größe mit
Silizium enthalten. Daher enthält eine Legierung aus Wolfram. Im nachfolgenden wird in der Hauptsache
85 Gewichtsprozent Silber, 10 Gewichtsprozent Zinn auf Molybdän Bezug genommen, es ist jedoch zu be-
und 5 Gewichtsprozent Germanium, auf ein Silizium- rücksichtigen, daß Wolfram oder eine Wolfram- oder
plättchen aufgebracht, nach dem Verschmelzen 5 bis 35 Xfolybdänlegierung statt dessen verwendet werden
16 Gewichtsprozent Silizium, je nach der Länge der kann.
Zeit und den Temperaturen, denen die Lötmittellegie- Die Molybdängrundelektrode 12 wird durch
rung und das Silizium ausgesetzt sind. Schleifen, Ätzen und Waschen, beispielsweise durch
Ausgezeichnete Ergebnisse werden mit Legierungen Schleifen mittels Sandstrahl, sorgfältig gereinigt, um
erzielt, die 2 bis 5 Gewichtsprozent Germanium und 40 alle Oberflächenverunreinigungen wegzunehmen. Für
als Rest 98 bis 95 Gewichtsprozent Silber enthalten. das Erzielen einer bestmöglichen Bindung hat es sich
Dünne Schichten dieser Zweistoffsilberlegierungen als wünschenswert erwiesen, vorher einen dünnen
wurden auf die Siliziumplättchen aufgebracht, wobei Überzug 13 und 14 aus Silber oder aus einer Silberdie
Silberlegierung nach dem Erhitzen des Ganzen auf legierung auf beide Stirnflächen des Kontakts 12 auf-Hartlöttemperaturen
das Silizium erwärmte und eine 45 zubringen. Ursprünglich wurde ein Silberüberzug 13
festhaftende Verbindung mit diesem einging und ein nur auf die Unterseite aufgebracht. Ein zufrieden-Teil
des Siliziums in die Silberlegierung hinein- stellendes Verfahren für das Aufbringen des Silbers
diffundierte, so daß die geschmolzene Bindemittel- besteht darin, die Stirnflächen mit Silber oder einer
schicht 5 bis 16 Gewichtsprozent Silizium, 1 bis 95% Silber und 5 Vo Germanium enthaltenden Legie-4,5
Gewichtsprozent Germanium und als Rest Silber 50 rung entweder in Form einer dünnen Schicht oder
enthalten kann. Die Germanium-Silber-Legierung ist eines feinen Pulvers aufzubringen und das auf diese
streckbar und kann leicht zu dünnen Filmen von einer Weise bebandelte Molybdän in einem Vakuum oder
Dicke von 0,025 bis 0,05 mm ausgewalzt werden. Die in einer Wasserstoffatmosphäre auf 1200° C zu erdünnen
Filme können dann zu kleinen Stücken von hitzen. Das Silber benetzt dabei rasch die Oberfläche
etwa der gleichen Fläche wie die Siliziumplättchen 55 des Molybdäns und breitet sich auf diesem gleichausgeschnitten
oder ausgestanzt und auf die letzteren mäßig aus. In anderen Fällen wurden die Molybdänaufgebracht werden. Die Legierung kann jedoch auch flächen zuerst mit einem Nickelphosphidüberzug verin
Pulver- oder körniger Form hergestellt und eine sehen. Der Nickelphosphidüberzug wurde chemisch
dünne Schicht derselben auf den Endkontakt entweder mittels einer wäßrigen Lösung, die beispielsweise
trocken oder in Form einer Paste in einem flüchtigen 60 0,02 Mol Nickelsulfat je Liter, 0.07 Mol NiCL, je
Lösungsmittel, beispielsweise Äthylalkohol, auf- Liter und 0,225 Mol Natriumhypophosphit je Liter
gebracht werden. enthielt, durch einfaches Eintauchen der Molybdänin Fig. 1 der Zeichnung ist eine Anordnung der teile aufgebracht. Nachdem die Teile für einen Zeit-Gleichrichterbestandteile
10 vor dem Erhitzen in raum von 5 bis 30 Minuten eingetaucht waren, wurden
einem Ofen dargestellt, in dem alle Bestandteile zu 65 sie aus der Lösung herausgenommen, getrocknet und
einem einteiligen Gleichrichter verschmelzen und sich dann eine Viertelstunde oder langer auf eine Tenipeverbinden.
Die Anordnung 10 weist eine Grundelek- ratur von 1200° C erhitzt. Hierbei wird ein dünner
trode 12 auf, die von beträchtlicher Dicke von etwa Überzug aus Nickelphosphid, der 95% oder mehr
0,5 bis 2,5 mm sein und einen Durchmesser von 6,4 Nickel enthält, auf den Molybdänfläclien erhalten, der
bis 50.8 mm haben kann und bei großen Gleichrichtern 70 dann in der üblichen Weise mit einer Silhercvanid-
5 Gewichtsprozent Silizium, 5 Gewichtsprozent Indium; 85 Gewichtsprozent Aluminium, 5 Gewichtsprozent
Silizium, 5 Gewichtsprozent Indium und 5 Gewichtsprozent Germanium; und 88 Gewichtsprozent Aluminium,
5 Gewichtsprozent Silizium, 2 Gewichtsprozent Indium, 3 Gewichtsprozent Germanium und
2 Gewichtsprozent Indium verwendet werden. Es ist hierbei erforderlich, daß die Aluminiumschicht 20
wesentlich kleiner ist als die Fläche des Silizium-
Galvanisierlösung silberplattiert wird, so daß ein Silberüberzug 14 von annähernd 0,025 mm Dicke entsteht.
Hierauf wird auf den Silberüberzug 14 der
Molybdänelektrode 12 eine Schicht 16 der Silberlegierung aufgebracht, die als Lötmittel zwischen dem
Siliziumplättchen 18 und der Grundelektrode 12 wirkt.
Gute Erfolge wurden mit Filmen oder Folien aus
Silber und Silberlegierungen erzielt, wobei die Folien
eine Dicke von 0,025 bis 0,05 mm und im wesentlichen io plättchens 18 und daß sie auf diesem mit einem bedie gleiche Fläche wie das daraufgebrachte Silizium- trächtlichen Abstand von den Ecken oder dem Rand plättchen 18 hatten. Das Silber oder die Silberlegie- des letzteren zentriert ist. Es ist nicht erforderlich, rung kann jedoch auch in Form von Pulver, Paste daß die Aluminiumschicht 20 eine Folie oder eine geu. dgl. mit zufriedenstellenden Ergebnissen auf- sonderte Schicht ist. Es wurde festgestellt, daß es gebracht werden. Die Oberseite der Grundelektrode 12 15 möglich ist, die Schicht aus Aluminium oder aus einer ist ebenso wie die Unterseite des Siliziumplättchens 18 Aluminiumbasislegierung in einem Vakuum auf die eben dargestellt. Hierbei ist zu erwähnen, daß, obwohl Unterseite des oberen Kontakts 22 aufzudampfen. Geebenflächige Teile in der Herstellung besonders gebenenfalls können die ausgewählten Mittelteile der zweckmäßig sind, auch andere Formen hergestellt und Oberseite des Siliziumplättchens einen aufgedampften verwendet werden können. In allen Fällen ist es er- 20 Überzug aus Aluminium oder aus einer Aluminiumforderlich, daß die aneinander anliegenden Flächen der basislegierung durch Abdecken des Randes des
Molybdänelektrode 12 eine Schicht 16 der Silberlegierung aufgebracht, die als Lötmittel zwischen dem
Siliziumplättchen 18 und der Grundelektrode 12 wirkt.
Gute Erfolge wurden mit Filmen oder Folien aus
Silber und Silberlegierungen erzielt, wobei die Folien
eine Dicke von 0,025 bis 0,05 mm und im wesentlichen io plättchens 18 und daß sie auf diesem mit einem bedie gleiche Fläche wie das daraufgebrachte Silizium- trächtlichen Abstand von den Ecken oder dem Rand plättchen 18 hatten. Das Silber oder die Silberlegie- des letzteren zentriert ist. Es ist nicht erforderlich, rung kann jedoch auch in Form von Pulver, Paste daß die Aluminiumschicht 20 eine Folie oder eine geu. dgl. mit zufriedenstellenden Ergebnissen auf- sonderte Schicht ist. Es wurde festgestellt, daß es gebracht werden. Die Oberseite der Grundelektrode 12 15 möglich ist, die Schicht aus Aluminium oder aus einer ist ebenso wie die Unterseite des Siliziumplättchens 18 Aluminiumbasislegierung in einem Vakuum auf die eben dargestellt. Hierbei ist zu erwähnen, daß, obwohl Unterseite des oberen Kontakts 22 aufzudampfen. Geebenflächige Teile in der Herstellung besonders gebenenfalls können die ausgewählten Mittelteile der zweckmäßig sind, auch andere Formen hergestellt und Oberseite des Siliziumplättchens einen aufgedampften verwendet werden können. In allen Fällen ist es er- 20 Überzug aus Aluminium oder aus einer Aluminiumforderlich, daß die aneinander anliegenden Flächen der basislegierung durch Abdecken des Randes des
Plättchens erhalten.
Die Deckelektrode 22 ist vorzugsweise aus dem gleichen Metall wie die untere Elektrode, nämlich aus
25 Molybdän, Wolfram oder aus Legierungen auf Basis dieser Metalle. Die obere Elektrode weist einen flachen
Scheibenteil 24 auf, dessen Fläche kleiner ist als die Oberseite des Siliziumplättchens 18. Die Deckelektrode
22 ist mit einem sich nach oben erstreckenden Siliziumplättchen, beispielsweise unter 0,12 mm, zu 30 Knopf 26 ausgebildet, der mit einer Eintiefung 28 vereiner
Verwerfung oder anderen Fehlern führen kann. sehen ist, die zur Aufnahme des Endes eines Leiters
Das Siliziumplättchen ist ein Einkristall und hat
η-Leitfähigkeit und wird mit feinpolierten oder geläppten Flächen hergestellt, die in einem Lösungsmittel, beispielsweise HF-HNO3 und in einer Queck- 35
silberlösung, wie in der LTSA.-Patentschrift 2 705 192
beschrieben, geätzt werden, um Obernächenverunreinigungen, lose Teilchen, Vorsprünge, Rauhigkeit u. dgl.
zu beseitigen.
η-Leitfähigkeit und wird mit feinpolierten oder geläppten Flächen hergestellt, die in einem Lösungsmittel, beispielsweise HF-HNO3 und in einer Queck- 35
silberlösung, wie in der LTSA.-Patentschrift 2 705 192
beschrieben, geätzt werden, um Obernächenverunreinigungen, lose Teilchen, Vorsprünge, Rauhigkeit u. dgl.
zu beseitigen.
Grundelektrode und des Siliziumplättchens genau einander angepaßt sind, so daß eine gute Bindung des
Silberlegierungslots und damit eine bestmögliche Wärmeleitfähigkeit erzielt werden.
Das Siliziumplättchen 18 hat gewöhnlich eine Dicke von etwa 0,25 mm. Eine wesentlich größere Dicke, beispielsweise
von 0,64 mm, ergibt eine geringere Gleichrichterwirkung, während ein wesentlich dünneres
dient. Die Deckelektrode 22 läßt sich leicht aus Molybdän durch spanabhebende Bearbeitung herstellen.
Es wurde festgestellt, daß es wünschenswert ist, nur die Eintiefung 28 des Kontaktes 22 mit einem
dünnen überzug29 eines geeigneten Lötmittels zu versehen,
beispielsweise aus einer Legierung von 70 Gewichtsprozent Silber und 30 Gewichtsprozent Gold,
einer Legierung von 97 Gewichtsprozent Silber und
Auf die Oberseite des Siliziumplättchens 18 wird 40 3 Gewichtsprozent Germanium, aus Gold allein oder
eine dünne Schicht 20 aufgebracht, beispielsweise eine
Folie von einer Dicke von 0,025 bis 0,05 mm, aus Aluminium oder aus einer Legierung auf Aluminiumbasis
und vorzugsweise eine Legierung von Aluminium mit
aus einer 95 Gewichtsprozent Silber und 5 Gewichtsprozent Silizium enthaltenden Legierung. Hierbei muß
mit Sorgfalt darauf geachtet werden, daß kein Silber an oder in der Nähe der Ränder des Deckelcktroden-
einem Element aus der Gruppe III oder IV, beispiels- 45 rands 24 und der Aluminiumschicht 20 vorhanden ist.
weise Silizium, Gallium, Indium und Germanium, deren Aufgabe nicht nur darin besteht, das Verlöten
oder Verbinden des Siliziumplättchens mit einer Deckelektrode 22 zu ermöglichen, sondern auch eine p-Leit-
um zu vermeiden, daß eine Kurzschlußverbindung entsteht.
Die Deckelektrode 22 kann von einfacherer Konstruktion,
als in Fig. 1 gezeigt, fein. Beispielsweise
fähigkeit durch Diffusion in den oberen Teil des 50 können runde Scheiben aus einem Molybdänblech von
a-leitfähigen Siliziumplättchens erzeugt. Die Schicht
20 kann aus reinem Aluminium sein, in dem nur geringfügige
Mengen von Verunreinigungen vorhanden sind, wie Magnesium, Natrium, Zink u. dgl., oder eine
Legierung mit Aluminium als Hauptbestandteil und als Rest Silizium, Gallium, Indium und Germanium.
Diese Elemente können einzeln oder es können zwei oder alle anwesend sein. Die genannten Legierungen
sollen bis zu etwa 300° C fest sein. So kann eine Folie
0,76 bis 1,27 mm Dicke ausgestanzt werden und dann die runden Scheiben bis zu einer Tiefe von 0,38 bis
0.64 mm zur Bildung einer Eintiefung ausgesenkt werden, die dann mit einem Lötmittel. beispielsAveise
aus einer Legierung aus 950Zo Silber und 5°/«
Germanium, überzogen wird.
Hierbei ist zu erwähnen, daß die Deckelektrode nicht unbedingt eine solche Eintiefung zu haben
braucht, wenn sie auch für das Anlöten eines Leiters
aus 95 Gewichtsprozent Aluminium und 5 Gewichts- 60 vorteilhaft ist. Die Deckelektrode kann von beliebiger
prozent Silizium; 88 Gewichtsprozent Aluminium und 11,6 Gewichtsprozent Silizium; 90 Gewichtsprozent
Aluminium und 10 Gewichtsprozent Germanium; 47 Gewichtsprozent Aluminium und 53 Gewichts-
geeigneter Form otter Ausbildung sein, die eine feste
Verbindung eines Leiters mit dem Kontakt, z. B. durch Löten, ermöglich und zufriedenstellend ist.
In manchen Fällen ist es gelungen, die Zahl dei
prozent Germanium; 88 Gewichtsprozent Aluminium 65 Teile des Gleichrichters in der in Fig. 2 gezeigten
und 12 Gewichtsprozent Indium; 96 Gewichtsprozent Aluminium und 4 Gewichtsprozent Indium; 50 Gewichtsprozent
Aluminium, 20 Gewichtsprozent Silizium, 20Gewichtsprozent Indium und lOGewichtsprozent
Germanium; 90 Gewichtsprozent Aluminium, 7.j
Weise zu verringern. Die in Fig. 2 dargestellte Anordnung
40 weist einen Endkontakt 42 aus Molybdän auf, auf dessen Oberseite und Unterseite ein Überzug
bzw. 44 von einer Dicke von etwa 0,05 mm aus Silber oder Silberlegierung aufgebracht ist. Der
Silberüberzug kann aus einer Folie aus Silberlegierung bestehen, die auf die Oberseite und auf die Unterseite
der Molybdänschicht42 aufgebracht wird, worauf das Ganze in einen Ofen mit einer Schutzatmosphäre
aus Wasserstoff oder in dem ein Vakuum herrscht, eingebracht und auf 1200° C 15 Minuten lang erhitzt
wird, um das Silber mit dem Molybdän zu verschmelzen. Eine geeignete Legierung für diesen Überzug
43, 44 ist eine Legierung aus 95 Gewichtsprozent Silber und 5 Gewichtsprozent Germanium. Der Rest
des Aggregats, nämlich das Siliziumplättchen 16, die Aluminiumschicht 20 und der obere Kontakt 22,
können ähnlich wie bei der in Fig. 1 gezeigten Anordnung sein.
Die in Fig. 1 oder 2 gezeigte Anordnung wird sodann in einen Ofen 50 von der in Fig. 3 gezeigten Art
gebracht. !Dieser Ofen weist einen Sockel 52 auf, durch den Leitungen 54 geführt sind, welche mit einer
Pumpe oder einer anderen Einrichtung verbunden sind, die ein hohes Vakuum erzeugen kann, während
eine andere Leitung 56 für das Einleiten eines Schutzgases, wie Helium, Argon od. dgl., und für den Lufteinlaß
dient. Der eigentliche Ofen weist eine Glocke 58 aus hitzebeständigem Glas, beispielsweise aus
einem 96°/oigen Siliziumdioxydglas, auf, die an ihrem unteren Rand durch eine am Sockel 52 angeordnete
Dichtung 60 abgedichtet ist. Eine auf dem Sockel 52 angeordnete Stütze 62 aus feuerfestem oder schwerschmelzbarem Material trägt einen Graphitblock 64,
der mit einem oder mehreren Hohlräumen 66 ausgebildet ist, die zur Aufnahme des Aggregats 10, beispielsweise
von der in Fig. 1 gezeigten Art, bestimmt sind. Auf dem Kontakt 22 des Aggregats ist ein Gewicht 68 aus
einem nicht reaktionsfähigen Metall mit einem hohen Schmelzpunkt oder aus einem anderen Material angeordnet,
um auf das Aggregat einen geeigneten leichten Druck auszuüben. Um die Glocke 58 ist eine
diese umgebende Heizvorrichtung 70 mit einem Heizelement 74 in einer ringförmigen Aussparung 72 so
verstellbar angeordnet, daß die Wärme auf den Graphitblock strahlt.
In der Praxis wird eine Anzahl Aggregate 10 in
den Graphitblock 64 gelegt, die Glocke 58 aufgesetzt und in die Dichtung 60 eingesetzt und der Raum
innerhalb der Glocke 58 über die Leitung 54 abgesaugt. Der Druck innerhalb der Glocke wird auf
einen außerordentlich niedrigen Wert von weniger als 0,01 Torr herabgesetzt. Hierauf \vird Wärme auf den
Graphitblock 64 durch Belieferung des Widerstandsheizelements 74 mit Strom gestrahlt. Da bei der Erhitzung
sich gewöhnlich Gase entwickeln, wird das Absaugen während des Betriebs fortgesetzt. Innerhalb
der Eintiefung 66 des Graphitblocks ist, benachbart der Anordnung 10, ein Thermoelement vorgesehen, um
die in dieser herrschende Temperatur bestimmen zu können.
Die für eine zufriedenstellende Verbindung der Anordnung 10 notwendigen Höchsttemperaturen lagen
zwischen 850 und 925° C. Die Schicht 20 aus Aluminium oder Aluminiumlegierung ergibt keine einwandfreie
Benetzung des Siliziums und des Molybdäns, bis Temperaturen von mindestens etwa 570° C erreicht sind, und für beste Ergebnisse sind
gewöhnlich 800° C erforderlich. Besonders gute Ergebnisse wurden erzielt, wenn die Ofentcmpcraturen
so geregelt wurden, daß die Anordnung 10 eine Höchsttemperatur zwischen 870 und 900° C hatte.
Diese Höchsttemperaturen wurden für einen kurzen Zeitraum, gewöhnlich nicht länger als 1 Minute, aufrechterhalten
und die Temperatur dann sofort herabgesetzt. Es wurden keine besonderen Unterschiede bei
Gleichrichtern festgestellt, bei denen die Erhitzungsund die entsprechende Abkühlungsgeschwindigkeit
innerhalb solcher Grenzen verändert wurde, daß der Temperaturanstieg von 100 auf 875° C während eines
Zeitraums von nur 5 Minuten oder von 60 Minuten herbeigeführt wurde. Es wurde ferner festgestellt, daß
die vorgenannten Silberlote sowohl das Silizium als auch das Molybdän rasch benetzen und eine kleine
ίο Menge des Siliziums innerhalb einer kurzen Zeit nach
dem Erreichen ihres Schmelzpunktes auflösen. Die Aufrechterhaltung der Temperatur über große Zeiträume
bei geschmolzener Silberlegierung führt zu keinen wesentlich verbesserten Ergebnissen.
Die Oberseite des n-leitfähigen Siliziumplättchens 18 wird durch die geschmolzene Aluminiumschicht 20
benetzt, wobei das Aluminium in das n-leitfähige Siliziumplättchen hineindiffundiert und eine p-leitfähige
Schicht benachbart dem Aluminium erzeugt, das nahezu die gleiche Fläche wie die Schicht 20 an
der Oberseite hat. Im Silizium bildet sich daher eine pn-Verbindung.
Die zur Verbindung des Siliziums mit der Molybdän-Basiselektrode 12 erforderliche Temperatur
hängt von dem Schmelzpunkt des Silberlots 16 ab. Obwohl einige der erfindungsgemäßen Lote, wie festgestellt
wurde, schon bei etwa 225° C schmelzen, wird die Verwendung von Loten vorgezogen, deren Schmelzpunkt
mindestens 400° C beträgt und vorzugsweise bei etwa 600 bis 700° C liegt. Die Benetzung des
Siliziums tritt nicht unter etwa 570° C ein und gewöhnlich bei etwa 800° C. In keinem Fall ist es
wünschenswert, ein Lot zu verwenden, das eine Temperatur erfordert, die wesentlich über 925° C liegt, um
ein Schmelzen und eine Bindung herbeizuführen. Es wurde festgestellt, daß bei Temperaturen, die wesentlich
höher als 950° C liegen, eine nachteilige Wirkung im Silizium eintritt, so daß unbefriedigende Gleichrichter
erhalten werden.
Nachdem die Anordnung 10 oder 40 im Ofen erhitzt
worden ist, um das Schmelzen der Silberbasislote und eine Verbindung der einzelnen Teile zu einer einteiligen
Diode bzw. zu einem einteiligen Gleichrichter herbeizuführen, werden die erhaltenen Dioden in ein
hermetisch abgedichtetes Aletallgehäuse gebracht. Sodann
wird die Grundelektrode 12 am Metallgehäuse mittels des Überzugs 13 festgelötet, so daß Wärme an
das Gehäuse abgeleitet werden kann. Das Metallgehäuse weist eine wirksame Kühleinrichtung zur Ableitung
der Wärme an die Außenluft auf. Wenn gewünscht, kann das Gehäuse teilweise oder völlig mit
einer isolierenden dielektrischen Flüssigkeit zur weiteren Verbesserung der Wärmeableitung gefüllt
werden. Die \"erwendtmg einer solchen dielektrischen
Flüssigkeit ist jedoch nicht erforderlich.
Eine besonders zufriedenstellende vollständige luftgekühlte Gleichrichtervorrichtung ist in Fig. 4 gezeigt.
Der dargestellte vollständige Gleichrichter 100 weist einen Körper 102 aus Aluminium oder Kupfer oder
einem anderen geeigneten Metall oder einer Metalllegierung von guten Wärmeleitungseigenschaften auf.
Der Umfang des Kühlkörpers 102 ist mit Rippen zur raschen Wärmeableitung an die Luft versehen. Der
Kühlkörper 102 ist mit einem Hohlraum 106 ausgebildet,
in den mit enger Passung ein hermetisch abgedichtetes Gehäuse 108 eingesetzt wird, das die
Gleichrichteranordnung 10 umschließt. Das Gehäuse 108 kann mit den Wänden des Hohlraums 106 verlötet
werden. Ein in der Eintiefung 28 im oberen Kontakt 22 festgelöteter biegsamer Leiter 110 aus Kupfer oder
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit einem Silizium-Halbleiterkörper
und Abnahmeelektroden aus einem Metall oder einer Metallegierung, das bzw. die dem Wärmeausdehnungskoeffizienten
des Siliziums möglichst nahe kommt, bei dem die Abnahmeelektroden auf dem Siliziumkörper auflegiert werden und ein Lot
aus einer Silberlegierung verwendet wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine silberhaltige Legierung
mit mindestens einem der Elemente der IV. Nebengruppe des Periodischen Systems, nämlich
Silizium, Germanium, Zinn oder Blei, bei einem Silbergehalt von mindestens 5 Gewichtsprozent
verwendet wird, während der Rest 20 Gewichtsprozent Silizium, 50 Gewichtsprozent Germanium,
90 Gewichtsprozent Zinn und 95 Gewichtsprozent Blei nicht übersteigt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwei ■ Abnahmeelektroden aus
Molybdän, Wolfram oder einer Legierung auf der Basis dieser Metalle auf ein Siliziumplättchen von
n-Leitungstyp durch eine silberhaltige Legierungsschmelze aus mindestens 10Gewichtsprozent Silber
und nicht mehr als 90 Gewichtsprozent Zinn, 16 Gewichtsprozent Silizium, 50 Gewichtsprozent
Blei und 30 Gewichtsprozent Germanium auflegiert werden, wobei zur Umwandlung des
Siliziums nahe der oberen Deckelektrode in den p-Typ zwecks Erzeugung einer pn-Verbindung
diese zweite Abnahmeelektrode auf das Siliziumplättchen durch eine Schicht aus einem Material
vom p-Typ, nämlich aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen mit mindestens einem der Elemente
Silizium, Germanium, Gallium und Indium, legiert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine silberhaltige Legierungsschmelze aus 2 bis 5 Gewichtsprozent Germanium,
5 bis 16 Gewichtsprozent Silizium und Silber als Rest verwendet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß im Vakuum auf eine Höchsttemperatur
zwischen 850 und 925 0C übereinanderliegende
Schichten, die aus (1) einer Grundelektrode aus Molybdän oder Wolfram oder einer Legierung
auf der Basis dieser Metalle mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten, der dem des
Siliziums möglichst nahekommt, (2) einer etwa 0,25 bis 0,05 mm dünnen Schicht einer Silberlegierung
nach Anspruch 1, (3) einem etwa 0,25 mm dicken Siliziumplättchen vom n-Typ, (4) einer etwa 0,025 bis 0,05 mm dünnen Legierungsschicht
aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen nach Anspruch 2, und (5) einer Deckelektrode
aus dem gleichen Metall wie die Grundelektrode bestehen, unter leichtem Druck erhitzt
werden, so daß die untere dünne silberhaltige Legierungsschicht und die obere dünne Schicht aus
Aluminiummaterial schmilzt und das Aggregat sodann abgekühlt wird, so daß ein Gleichrichterelement
mit einer pn-Verbindung erhalten wird.
5. Halbleiteranordnung, hergestellt nach dem Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß eine der Abnahmeelektroden mit einer Wand eines abgedichteten Metallgehäuses
verlötet und die andere Elektrode mit einem elektrischen Leiter verbunden ist, der isolierend durch
eine andere Wand des Gehäuses geführt ist. und mit dem Gehäuse Kühlmittel verbunden sind, um
die durch die Gleichrichteranordnung dem Metallgehäuse
mitgeteilte Wärme an die Außenluft abzuleiten.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US507312A US2763822A (en) | 1955-05-10 | 1955-05-10 | Silicon semiconductor devices |
US525595A US2801375A (en) | 1955-08-01 | 1955-08-01 | Silicon semiconductor devices and processes for making them |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1050450B true DE1050450B (de) | 1959-02-12 |
Family
ID=27055794
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEW18965A Pending DE1050450B (de) | 1955-05-10 | 1956-04-30 | Verfahren zur Herstellung einer Silizium-Halbleiteranordnung mit Legierungselektroden |
DEW19399A Pending DE1292260B (de) | 1955-05-10 | 1956-07-11 | Silicium-Halbleiteranordnung mit Legierungselektroden und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEW19399A Pending DE1292260B (de) | 1955-05-10 | 1956-07-11 | Silicium-Halbleiteranordnung mit Legierungselektroden und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
BE (2) | BE550001A (de) |
CH (2) | CH350720A (de) |
DE (2) | DE1050450B (de) |
FR (2) | FR1153475A (de) |
GB (2) | GB832067A (de) |
NL (2) | NL208617A (de) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1113519B (de) * | 1960-02-25 | 1961-09-07 | Bosch Gmbh Robert | Siliziumgleichrichter fuer hohe Stromstaerken |
DE1128924B (de) * | 1959-12-30 | 1962-05-03 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung aus Silizium |
DE1133834B (de) * | 1960-09-21 | 1962-07-26 | Siemens Ag | Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE1141029B (de) * | 1960-06-23 | 1962-12-13 | Siemens Ag | Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE1153461B (de) * | 1960-06-23 | 1963-08-29 | Siemens Ag | Halbleiteranordnung |
DE1178948B (de) * | 1960-10-20 | 1964-10-01 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-anordnung mit Breitbandelektrode |
DE1185731B (de) * | 1962-03-28 | 1965-01-21 | Siemens Ag | Halbleiterelement mit pn-UEbergang |
DE1188208B (de) * | 1960-03-07 | 1965-03-04 | Pacific Semiconductors Inc | Kuehlvorrichtung fuer Halbleiteranordnungen |
DE1229649B (de) * | 1961-08-10 | 1966-12-01 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-elementes und Halbleiteranordnung mit einem nach diesem Verfahren hergestellten Halbleiterelement |
DE1233949B (de) * | 1959-07-13 | 1967-02-09 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-gleichrichteranordnung mit einem einkristallinen Halbleiterkoerper |
DE1240187B (de) * | 1961-08-10 | 1967-05-11 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines sperrfreien Kontaktes durch Auflegieren von Aluminium |
DE1246129B (de) * | 1961-12-28 | 1967-08-03 | Westinghouse Electric Corp | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelementes |
DE1262388B (de) * | 1960-09-20 | 1968-03-07 | Gen Dynamics Corp | Verfahren zur Erzeugung eines nicht-gleichrichtenden UEbergangs zwischen einer Elektrode und einem dotierten thermoelelktrischen Halbleiter fuer ein thermoelektrisches Geraet |
DE1269249B (de) * | 1965-03-22 | 1968-05-30 | Gen Electric | Halbleiterbauelement |
DE1295697B (de) * | 1962-05-23 | 1969-05-22 | Walter Brandt Gmbh | Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE1483298B1 (de) * | 1965-06-11 | 1971-01-28 | Siemens Ag | Elektrische Kontaktanordnung zwischen einem Germanium-Silizium-Halbleiterkoerper und einem Kontaktstueck und Verfahren zur Herstellung derselben |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1285068B (de) * | 1957-01-11 | 1968-12-12 | Siemens Ag | Legierungskontakt auf mit einer Goldschicht versehenen Halbleiterkristallen |
NL243222A (de) * | 1958-09-10 | 1900-01-01 | ||
NL242265A (de) * | 1958-09-30 | 1900-01-01 | ||
NL239127A (de) * | 1959-05-12 | |||
FR2046592A5 (de) * | 1970-04-30 | 1971-03-05 | Silec Semi Conducteurs | |
GB2031223A (en) * | 1978-09-22 | 1980-04-16 | Gen Instrument Corp | Method for bonding a refractory metal contact member to a semiconductor body |
SE500281C2 (sv) * | 1992-11-24 | 1994-05-24 | Asea Brown Boveri | Anordning för kylning av skivformiga kraftelektronikelement jämte skivformigt kraftelektronikelement avsett att monteras i sådan kylanordning |
JP6079375B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2017-02-15 | 三菱マテリアル株式会社 | ハンダ粉末及びその製造方法並びにこの粉末を用いたハンダ用ペースト |
DE102015108056A1 (de) | 2015-05-21 | 2016-11-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauteil, optoelektronische Anordnung und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE522837A (de) * | 1952-09-16 | |||
US2220961A (en) * | 1937-11-06 | 1940-11-12 | Bell Telephone Labor Inc | Soldering alloy |
US2555001A (en) * | 1947-02-04 | 1951-05-29 | Bell Telephone Labor Inc | Bonded article and method of bonding |
FR1093724A (fr) * | 1952-12-31 | 1955-05-09 | Rca Corp | Dispositif semi-conducteur, et procédé de fabrication de celui-ci |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2567970A (en) * | 1947-12-24 | 1951-09-18 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor comprising silicon and method of making it |
DE872602C (de) * | 1951-03-20 | 1953-04-02 | Siemens Ag | Verfahren zur Befestigung von Halbleitern |
GB8817261D0 (en) * | 1988-07-20 | 1988-08-24 | Sperry Sun Inc | Down-hole bearing assemblies for maintaining survey instrument assembly & core barrel orientation |
-
0
- BE BE547698D patent/BE547698A/xx unknown
- NL NL109558D patent/NL109558C/xx active
- NL NL208617D patent/NL208617A/xx unknown
-
1956
- 1956-04-30 DE DEW18965A patent/DE1050450B/de active Pending
- 1956-05-04 GB GB13826/56A patent/GB832067A/en not_active Expired
- 1956-05-09 CH CH350720D patent/CH350720A/de unknown
- 1956-05-09 FR FR1153475D patent/FR1153475A/fr not_active Expired
- 1956-07-11 DE DEW19399A patent/DE1292260B/de active Pending
- 1956-07-27 GB GB23230/56A patent/GB823559A/en not_active Expired
- 1956-07-30 FR FR1157057D patent/FR1157057A/fr not_active Expired
- 1956-07-31 CH CH3604156A patent/CH367896A/de unknown
- 1956-08-01 BE BE550001A patent/BE550001A/fr unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2220961A (en) * | 1937-11-06 | 1940-11-12 | Bell Telephone Labor Inc | Soldering alloy |
US2555001A (en) * | 1947-02-04 | 1951-05-29 | Bell Telephone Labor Inc | Bonded article and method of bonding |
BE522837A (de) * | 1952-09-16 | |||
FR1093724A (fr) * | 1952-12-31 | 1955-05-09 | Rca Corp | Dispositif semi-conducteur, et procédé de fabrication de celui-ci |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1233949B (de) * | 1959-07-13 | 1967-02-09 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-gleichrichteranordnung mit einem einkristallinen Halbleiterkoerper |
DE1128924B (de) * | 1959-12-30 | 1962-05-03 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung aus Silizium |
DE1113519B (de) * | 1960-02-25 | 1961-09-07 | Bosch Gmbh Robert | Siliziumgleichrichter fuer hohe Stromstaerken |
DE1188208B (de) * | 1960-03-07 | 1965-03-04 | Pacific Semiconductors Inc | Kuehlvorrichtung fuer Halbleiteranordnungen |
DE1141029B (de) * | 1960-06-23 | 1962-12-13 | Siemens Ag | Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE1153461B (de) * | 1960-06-23 | 1963-08-29 | Siemens Ag | Halbleiteranordnung |
DE1262388B (de) * | 1960-09-20 | 1968-03-07 | Gen Dynamics Corp | Verfahren zur Erzeugung eines nicht-gleichrichtenden UEbergangs zwischen einer Elektrode und einem dotierten thermoelelktrischen Halbleiter fuer ein thermoelektrisches Geraet |
DE1141725B (de) * | 1960-09-21 | 1962-12-27 | Siemens Ag | Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE1133834B (de) * | 1960-09-21 | 1962-07-26 | Siemens Ag | Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE1178948B (de) * | 1960-10-20 | 1964-10-01 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-anordnung mit Breitbandelektrode |
DE1229649B (de) * | 1961-08-10 | 1966-12-01 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-elementes und Halbleiteranordnung mit einem nach diesem Verfahren hergestellten Halbleiterelement |
DE1240187B (de) * | 1961-08-10 | 1967-05-11 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines sperrfreien Kontaktes durch Auflegieren von Aluminium |
DE1246129B (de) * | 1961-12-28 | 1967-08-03 | Westinghouse Electric Corp | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelementes |
DE1185731B (de) * | 1962-03-28 | 1965-01-21 | Siemens Ag | Halbleiterelement mit pn-UEbergang |
DE1295697B (de) * | 1962-05-23 | 1969-05-22 | Walter Brandt Gmbh | Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE1269249B (de) * | 1965-03-22 | 1968-05-30 | Gen Electric | Halbleiterbauelement |
DE1483298B1 (de) * | 1965-06-11 | 1971-01-28 | Siemens Ag | Elektrische Kontaktanordnung zwischen einem Germanium-Silizium-Halbleiterkoerper und einem Kontaktstueck und Verfahren zur Herstellung derselben |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH350720A (de) | 1960-12-15 |
NL208617A (de) | 1900-01-01 |
BE547698A (de) | 1900-01-01 |
GB823559A (en) | 1959-11-11 |
GB832067A (en) | 1960-04-06 |
FR1157057A (fr) | 1958-05-27 |
DE1292260B (de) | 1969-04-10 |
BE550001A (fr) | 1956-08-31 |
FR1153475A (fr) | 1958-03-11 |
NL109558C (de) | 1900-01-01 |
CH367896A (de) | 1963-03-15 |
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