DE1133834B - Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung

Info

Publication number
DE1133834B
DE1133834B DES70453A DES0070453A DE1133834B DE 1133834 B DE1133834 B DE 1133834B DE S70453 A DES70453 A DE S70453A DE S0070453 A DES0070453 A DE S0070453A DE 1133834 B DE1133834 B DE 1133834B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gold
contact plates
silicon
nickel
sintered
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DES70453A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Horst Schreiner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DES70453A priority Critical patent/DE1133834B/de
Priority to DES74060A priority patent/DE1141725B/de
Priority to CH929161A priority patent/CH385353A/de
Priority to US139244A priority patent/US3175892A/en
Priority to FR873739A priority patent/FR1301223A/fr
Priority to GB33934/61A priority patent/GB931820A/en
Publication of DE1133834B publication Critical patent/DE1133834B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01012Magnesium [Mg]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01024Chromium [Cr]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01039Yttrium [Y]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01042Molybdenum [Mo]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01047Silver [Ag]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01051Antimony [Sb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01074Tungsten [W]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12063Nonparticulate metal component
    • Y10T428/12069Plural nonparticulate metal components
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12063Nonparticulate metal component
    • Y10T428/12069Plural nonparticulate metal components
    • Y10T428/12076Next to each other
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12528Semiconductor component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12674Ge- or Si-base component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12771Transition metal-base component
    • Y10T428/12861Group VIII or IB metal-base component
    • Y10T428/12889Au-base component

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Contacts (AREA)

Description

Die Kontaktierung von Siliziumgleichrichtern bereitet insbesondere bei Leistungsgleichrichtern infolge der im Betrieb auftretenden wechselnden thermischen Beanspruchungen Schwierigkeiten. Die Ausdehnungskoeffizienten der in Frage kommenden Kontaktmetalle, wie Wolfram oder Molybdän, und der Trägermetalle, wie Kupfer oder Silber, sowie der gelegentlich für Gehäuse verwendeten Metalle, wie Eisen und Messing, weichen erheblich voneinander ab, so daß thermische Wechselbeanspruchungen zu einer Schadigung oder gar Zerstörung eines aus diesen Stoffen aufgebauten Gleichrichterelementes führen können.
Es sind verschiedene Vorschläge zur Beseitigung der vorgenannten Schwierigkeiten bekanntgeworden. So ist es bekannt, bei Siliziumgleichrichtern Trägerplatten zu verwenden, die aus einem Wolfram-, Molybdän- oder Chrom-Sintergerüst bestehen, das mit einem gut leitenden Metall ausgefüllt ist. Hierdurch erreicht man zwar eine verhältnismäßig gute Anpassung an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Halbleiterkörpers, nicht aber an die Verbindungsteile der Trägerplatte, ζ. B. an ein Gehäuse, wenn dieses etwa aus Kupfer oder Silber besteht.
Die Erfindung betriift einen Siliziumgleichrichter mit einem symmetrisch zwischen zwei Kontaktplatten angeordneten Siliziumkörper, bei dem die vorgenannten Schwierigkeiten überwunden sind. Erfindungsgemäß bestehen die Kontaktplatten aus einem Sinterkörper aus Wolfram—Nickel oder Wolfram— Gold—Nickel und sind mit Gold mit dem Siliziumkörper verlötet. Die Verlötung kann auf der einen Seite mit Hilfe einer Folie aus einer Gold-Bor-Legierung und auf der anderen Seite mit HiKe einer Folie aus einer Gold-Antimon-Legierung durchgeführt sein. Dann können — und dies ist ein besonderer Vorteil der Erfindung — die Kontaktplatten mit dem Siliziumkörper und mit den Stromzuführungen in einem Arbeitsgang mit dem Dotieren des Siliziumkörpers durch die beiden genannten Folien in an sich bekannter Weise verlötet werden.
Für die Sinter-Kontaktplatten eignen sich vor allem Zusammensetzungen von 80 bis 99 Gewichtsprozent Wolfram, 0 bis 10 Gewichtsprozent Gold und 0,2 bis 10 Gewichtsprozent Nickel. Hierzu wird bevorzugt Wolframpulver mit einer Korngröße kleiner als 10 μ mit einem Anteil von mindestens 10 Gewichtsprozent mit einer Korngröße kleiner als 1 μ verwendet. Die Pulvermischung kann auch durch gemeinsames Ausfällen aus einer Lösung aller drei Komponenten und durch Reduktion des Ausfällungspulvers zum Metallpulver gewonnen werden.
Zur Verbesserung der Löteigenschaften können die Siliziumgleichrichter und Verfahren
zu dessen Herstellung
Anmelder:
Siemens-Schuckertwerke Aktiengesellschaft,
Berlin und Erlangen,
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Dr. Horst Schreiner, Nürnberg,
ist als Erfinder genannt worden
Kontaktplatten auf der einen Seite mit einer dünnen Nickelschicht und/oder auf der anderen Seite mit einer dünnen Goldschicht — etwa in der Größenordnung von 1 μ — versehen werden.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird auf die Zeichnung verwiesen; es zeigt
Fig. 1 schematisch den Schichtenaufbau eines Ausführungsbeispieles des erfindungsgemäßen Siliziumgleichrichters,
Fig. 2 schematisch den Aufbau des Ausführungsbeispieles gemäß Fig. 1 im Endzustand.
In beiden Figuren haben die Bezugszeichen dieselbe Bedeutung. Es sind bezeichnet mit 1 der Siliziumkörper, mit 2 und 3 die Kontaktplatten, mit 4 und 5 die Stromzuführungen, die hier beispielsweise als Platten ausgeführt sind und die z. B. aus Kupfer bestehen können. In Fig. 1 sind außerdem bei 6, 1, 8 und 9 Lötschichten angegeben. Die Schichten 6 und 7 können z. B. aus einer Gold-Bor- bzw. Gold-Antimon-Folie bestehen. Für die Schichten 8 und 9 kann z. B. auch ein Hartlot verwendet werden.
Die Fig. 2 zeigt die bei der Dotierung entstandenen Legierungsschichten, die mit 10 und 11 bezeichnet sind. Die Darstellung ist schematisch, sie gibt also nicht die tatsächlichen Proportionen wieder.
Das Herstellungsverfahren des erfindungsgemäßen Gleichrichters sei an dem nachfolgenden Beispiel erläutert:
Zum Herstellen der Sinter-Kontaktplatten aus Wolfram—Gold—Nickel mit der Zusammensetzung 98 :1:1 in Gewichtsprozent werden entsprechende Mengen Metallpulver mit einer Korngröße von 0,06 mm innig gemischt und mit 3 t/cm2 gepreßt. Dabei erhält man eine Preßdichte von 10,7 g/cm3. Die anschließende lstündige Sinterung bei 1400° C
209 627/268
in Wasserstoffatmosphäre führt zu einer Sinterdichte von 18,55 g/cm3; diese entspricht einem Raumerfüllungsgrad von 97%. Die Kontaktplatten besitzen somit nur eine geringe Porosität, die jedoch ausreicht, um die Benetzung der Oberfläche durch das Lot und damit die Löteigenschaften erheblich zu verbessern. Wie oben schon angegeben ist, können die Löteigenschaften durch dünne Nickel- bzw. Goldschichten noch verbessert werden. Die Nickelschicht kann bereits beim Pressen mit aufgebracht werden. Sie kann insbesondere in Form einer Aufschlämmung aus Carbonylnickelpulver, Korngröße 1 bis 5 μ, mit durch Äthylalkohol verdünntem Äthylenglykol auf den Preß- oder Sinterkörper aufgestrichen werden. Dann erfolgen das Sintern der Kontaktplatte und das Festsintern der Nickelschicht auf den Preßkörper gleichzeitig. Wird dagegen der Aufstrich auf dem Sinterkörper vorgenommen, so wird dieser in einer zweiten Wärmebehandlung bei etwa 1500° C während 5 Minuten in Wasserstoffatmosphäre mit dem Sinterkörper verbunden. In entsprechender Weise kann auf der Gegenseite der Platte eine Goldschicht aufgebracht werden, z. B. durch Aufpinseln einer GoIdaufschlämmung auf den Sinterkörper; die Befestigung der Schicht erfolgt dann durch eine Wärmebehandlung bei 1100° C während 5 Minuten in Wasserstoffatmosphäre.
Zur Fertigstellung des Siliziumgleichrichters wird z. B. die in Fig. 1 dargestellte Schichtenfolge zusammengestellt und das Legieren und gleichzeitige Löten bei einer Temperatur zwischen 700 und 9000C durchgeführt. Für die Verbindung der Schichten! und 4 bzw. 3 und 5 wird ein für den vorgenannten Temperaturbereich geeignetes Lot, das ein Hartlot sein kann, gewählt.
Wie schon oben ausgeführt worden ist, besteht ein wesentlicher Vorteil dieses Herstellungsverfahrens darin, daß nur eine einzige Wärmebehandlung erforderlich ist. Dies gilt selbstverständlich auch dann, wenn an Stelle von Platten andere Stromzuführungen verwendet werden. Ein weiterer Vorteil der Erfindung besteht darin, daß das Gleichrichtersystem gegenüber thermischen Wechselbeanspruchungen verhältnismäßig wenig empfindlich und vor allem auch — insbeondere auf Grund der symmetrischen Anordnung der Kontaktplatten — wenig bruchempfindlich ist; es genügt daher in mechanischer und thermischer Hinsicht besonders hohen Anforderungen.
Hinsichtlich der Reinheit ist an die Sinter-Kontaktplatten die Forderung zu stellen, daß sie keine Fremdmetalle enthalten dürfen, die beim Legieren durch die Legierungsschicht in das Silizium hineindiffundieren und den Leitungsmechanismus in störender Weise beeinflussen können.
angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktplatten aus einem Sinterkörper aus Wolfram—Nickel oder Wolfram—Gold—Nickel bestehen und mit Gold mit dem Siliziumkörper verlötet sind.
2. Siliziumgleichrichter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Siliziumkörper auf der einen Seite mit Hilfe einer Folie aus einer Gold-Bor-Legierung und auf der anderen Seite mit Hilfe einer Folie aus einer Gold-Antimon-Legierung mit den Kontaktplatten verlötet ist.
3. Siliziumgleichrichter nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Sinter-Kontaktplatten aus 80 bis 99 Gewichtsprozent Wolfram, aus 0 bis 10 Gewichtsprozent Gold und aus 0,2 bis 10 Gewichtsprozent Nickel hergestellt sind.
4. Verfahren zum Herstellen der Sinter-Kontaktplatten für den Siliziumgleichrichter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Wolframpulver mit einer Korngröße kleiner als 10 μ mit einem Anteil von mindestens 10 Gewichtsprozent mit einer Korngröße kleiner als 1 μ verwendet wird.
5. Verfahren zum Herstellen der Sinter-Kontaktplatten für den Siliziumgleichrichter nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Pulvermischung durch gemeinsames Ausfällen aus einer Lösung aller drei Komponenten und durch Reduktion des Ausfällungspulvers zum Metallpulver hergestellt wird.
6. Verfahren zum Herstellen der Sinter-Kontaktplatten für den Siliziumgleichrichter nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gegebenenfalls in Verbindung mit den Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktplatten auf der einen Seite mit einer dünnen Nickelschicht und/oder auf der anderen Seite mit einer dünnen Goldschicht versehen werden.
7. Verfahren zum Herstellen eines Siliziumgleichrichters nach einem der Ansprüche 2 und 3, gegebenenfalls in Verbindung mit den Verfahren nach Ansprach 4, 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Verlöten der Kontaktplatten mit dem Siliziumkörper und mit den Stromzuführungen bzw. mit dem Träger in einem Arbeitsgang mit dem Dotieren des Siliziumkörpers durch die GoId-Bor-Legierungs- und Gold-Antimon-Legierungsfolie nach bekannten Legierungsverfahren erfolgt.

Claims (1)

PATENTANSPRÜCHE:
1. Siliziumgjeiehrichter, bei dem der Siliziumkörper symmetrisch zwischen zwei Kontaktplatten
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschriften Nr. 1 018 557, 1050450,1067 936;
österreichische Patentschrift Nr. 190593; USA.-Patentschriften Nr. 2 863 105, 2 922 092;
F. Skaupy, »Metallkeramik«, 4. Auflage, S. 162;
R. Kieffer, W. Hotop, »Pulvermetallurgie und Sinterwerkstoffe«, 1943, S. 125.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
DES70453A 1960-09-21 1960-09-21 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung Pending DE1133834B (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES70453A DE1133834B (de) 1960-09-21 1960-09-21 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung
DES74060A DE1141725B (de) 1960-09-21 1961-05-19 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung
CH929161A CH385353A (de) 1960-09-21 1961-08-08 Siliziumgleichrichter
US139244A US3175892A (en) 1960-09-21 1961-09-19 Silicon rectifier
FR873739A FR1301223A (fr) 1960-09-21 1961-09-20 Redresseur au silicium
GB33934/61A GB931820A (en) 1960-09-21 1961-09-21 Improvements in or relating to silicon rectifiers

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES70453A DE1133834B (de) 1960-09-21 1960-09-21 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung
DES74060A DE1141725B (de) 1960-09-21 1961-05-19 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1133834B true DE1133834B (de) 1962-07-26

Family

ID=25996216

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES70453A Pending DE1133834B (de) 1960-09-21 1960-09-21 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung
DES74060A Pending DE1141725B (de) 1960-09-21 1961-05-19 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES74060A Pending DE1141725B (de) 1960-09-21 1961-05-19 Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3175892A (de)
CH (1) CH385353A (de)
DE (2) DE1133834B (de)
GB (1) GB931820A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1276826B (de) * 1964-01-29 1968-09-05 Itt Ind Ges Mit Beschraenkter Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5921032A (ja) * 1982-07-26 1984-02-02 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体装置用基板
US5686676A (en) * 1996-05-07 1997-11-11 Brush Wellman Inc. Process for making improved copper/tungsten composites

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT190593B (de) * 1954-07-01 1957-07-10 Philips Nv Sperrschichtelektrodensystem, welches einen halbleitenden Körper aus Germanium oder Silizium enthält, insbesondere Kristalldiode oder Transistor
DE1018557B (de) * 1954-08-26 1957-10-31 Philips Nv Verfahren zur Herstellung von gleichrichtenden Legierungskontakten auf einem Halbleiterkoerper
US2863105A (en) * 1955-11-10 1958-12-02 Hoffman Electronics Corp Rectifying device
DE1050450B (de) * 1955-05-10 1959-02-12 Westinghouse Electric Corp Verfahren zur Herstellung einer Silizium-Halbleiteranordnung mit Legierungselektroden
DE1067936B (de) * 1958-02-04 1959-10-29
US2922092A (en) * 1957-05-09 1960-01-19 Westinghouse Electric Corp Base contact members for semiconductor devices

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE539442A (de) * 1954-07-01
US2856681A (en) * 1955-08-08 1958-10-21 Texas Instruments Inc Method of fixing leads to silicon and article resulting therefrom
NL249694A (de) * 1959-12-30

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT190593B (de) * 1954-07-01 1957-07-10 Philips Nv Sperrschichtelektrodensystem, welches einen halbleitenden Körper aus Germanium oder Silizium enthält, insbesondere Kristalldiode oder Transistor
DE1018557B (de) * 1954-08-26 1957-10-31 Philips Nv Verfahren zur Herstellung von gleichrichtenden Legierungskontakten auf einem Halbleiterkoerper
DE1050450B (de) * 1955-05-10 1959-02-12 Westinghouse Electric Corp Verfahren zur Herstellung einer Silizium-Halbleiteranordnung mit Legierungselektroden
US2863105A (en) * 1955-11-10 1958-12-02 Hoffman Electronics Corp Rectifying device
US2922092A (en) * 1957-05-09 1960-01-19 Westinghouse Electric Corp Base contact members for semiconductor devices
DE1067936B (de) * 1958-02-04 1959-10-29

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1276826B (de) * 1964-01-29 1968-09-05 Itt Ind Ges Mit Beschraenkter Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen

Also Published As

Publication number Publication date
CH385353A (de) 1964-12-15
GB931820A (en) 1963-07-17
US3175892A (en) 1965-03-30
DE1141725B (de) 1962-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1127000B (de)
DE1490102A1 (de) Stromdurchfuehrungsglied
DE1128924B (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung aus Silizium
DE2937050A1 (de) Flachpaket zur aufnahme von elektrischen mikroschaltkreisen und verfahren zu seiner herstellung
DE2257078A1 (de) Halbleiterbauelement mit druckkontakt
DE2526954A1 (de) Mit mindestens einem eisenkoerper verbundener seco tief 5-permanentmagnet und verfahren zur herstellung eines solchen permanentmagneten
DE1279201B (de) Halbleiteranordnung
DE1133834B (de) Siliziumgleichrichter und Verfahren zu dessen Herstellung
AT228340B (de) Siliziumgleichrichter
DE1187333B (de) Elektrischer Kontakt mit grosser Schweisssicherheit, hoher Abbrandfestigkeit und guter Haftfestigkeit der Kontaktschicht auf dem Kontakttraeger
DE1282195B (de) Halbleiterbauelement mit gesinterter Traeger-Zwischenplatte
DE1248303B (de) Elektrischer, gut loetbarer Zweischichten-Sinterkontaktkoerper mit grosser Schweisssicherheit
DE1279198B (de) Halbleiteranordnung
DE1621258B2 (de) Kontaktstueck aus einem leitenden traeger aus einem unedlen metall und einem dreischichtigen verbundkontaktkoerper sowie dessen herstellungsverfahren
AT228339B (de) Siliziumgleichrichter
AT203550B (de) Halbleitereinrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
DE2403048B2 (de) Elektrische schwachstromkontakte
DE1199104B (de) Hartlot und seine Verwendung zum Verloeten thermoelektrischer Schenkel mit elektrischen Leitern
DE860525C (de) Bimetall-Kontakt
DE1614656C3 (de) Verfahren zum Verlöten der Gitter draYitetiocribelasfbarerKreuzspanngitter fur elektrische Entladungsgefäß
DE1242759B (de) Sintertragplatte fuer Halbleiterdioden
DE1243274C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen mit einem Halbleiterkoerper aus Silizium
DE1110323C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen
AT164430B (de) Sperrschichtzelle der Selentype, bei welcher ein Stromzuführungsleiter auf der gutleitenden Elektrode festgelötet ist, sowie Verfahren zur Herstellung dieser Sperrschichtzelle
DE1171955B (de) Verfahren zur Herstellung eines Magnetkopfes