DE1153461B - Halbleiteranordnung - Google Patents
HalbleiteranordnungInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
S71897Ymc/21g
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UNDAUSGABE DER
ABStEGESGHRIFT: 29. AUGUST 1963
Halbleiterelemente mit pn-Übergangsschichten in einkristallinen Halbleiterkörpern, ζ. Β. aus Germanium
oder Silizium, müssen wegen ihrer Empfindlichkeit gegen Verunreinigungen in ein evakuiertes oder
mit einem Schutzgas gefülltes Gehäuse eingeschlossen werden. Es ist bekannt, das einschließlich seiner
Elektroden fertiggestellte Halbleiterelement durch Weichlötung fiächenhaft mit einer Wand des Gehäuses,
z. B. dessen Boden, zu verbinden. Da das Gehäuse die Verlustwärme des Halbleiterelementes
ableiten muß, wird es üblicherweise aus Kupfer mit entsprechend großen Wanddicken gefertigt, während
die aufgelötete Elektrodenplatte des Halbleiterelementes im allgemeinen aus einem Material mit niedrigem
thermischem Ausdehnungskoeffizienten besteht, beispielsweise Molybdän oder Wolfram. Daraus ergibt
sich, daß die Weichlotschicht bei Temperaturänderungen der Anordnung erheblichen thennischen
Spannungen unterliegt.
Gegenstand der Hauptpatentanmeldung S 69 069 VIII c/21g ist eine Halbleiteranordnung, bei der eine
Elektrodenplatte eines Halbleiterelementes fiächenhaft mit einem metallischen Bauteil verbunden ist,
das zur Abführung der Verlustwärme bestimmt ist und einen anderen thermischen Ausdehnungskoeffizienten
hat als die Elektrodenplatte. Nach dem Vorschlag der Hauptpatentanmeldung werden die oben
geschilderten Schwierigkeiten dadurch behoben, daß zwischen der Elektrodenplatte und dem genannten
Bauteil eine Ausgleichsplatte mit im Verhältnis zu ihrem Durchmesser geringer Dicke angeordnet ist,
die mosaikartig aus einer Vielzahl metallischer Einzelkörper zusammengesetzt ist. Infolge der Auflösung
in eine Vielzahl von Einzelelementen ist die Ausgleichsplatte weitgehend in der Lage, thennischen
Dehnungsvorgängen der Elektrodenplatte bzw. des metallischen Bauteils, insbesondere des Gehäusebodens,
zu folgen. Im Rahmen der Hauptpatentanmeldung ist ferner vorgeschlagen, die Ausgleichsplatte
in der Weise herzustellen, daß ein Drahtbündel, beispielsweise aus Kupferdraht, mit möglichst
enger Passung in ein Rohr eingeschoben wird und daß von diesem Rohr Scheiben passender Dicke abgesägt
werden. Man erhält auf diese Weise ein flaches Bündel von Kupferstiften, die von einem metallischen
Ring zusammengehalten sind.
Die Erfindung bezieht sich auf eine Verbesserung der Halbleiteranordnung nach der Hauptpatentanmeldung
mit einer Ausgleichsplatte, die mosaikartig aus einer Vielzahl von einem metallischen Ring zusammengehaltener
metallischer Einzelkörper zusammengesetzt ist. Sie besteht darin, daß das Metall des Rin-Halbleiteranordnung
Zusatz zur Patentanmeldung S 69069 VHIc/21g
(Auslegeschrift 1141029)
Anmelder:
Siemens-Schuckertwerke Aktiengesellschaft,
Berlin und Erlangen, Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Dipl.-Ing. Erich Waldkötter, Erlangen,
ist als Erfinder genannt worden
ges einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten hat, der nicht wesentlich größer ist als derjenige der angrenzenden
Elektrodenplatte.
Die Erfindung und die Überlegungen, die ihr zugrunde liegen, sollen an Hand der Fig. 1 und 2 erläutert
werden, die ein Ausführungsbeispiel der Halbleiteranordnung nach der Hauptpatentanmeldung darstedlen.
In Fig. 1 ist mit 1 ein Siüzium-pn-Gleichrichter
üblichen Aufbaus bezeichnet, wobei die Dickenmaße der einzelnen Schichten zur Verdeutlichung übertrieben
sind. Mit 2 ist eine einkristalline Siliziumplatte bezeichnet, die in bekannter Weise zur Herstellung
eines gleichrichtenden pn-Überganges dotiert ist. An der Unterseite der Siliziumplatte 2 befinden sich eine
dünne Aluminiumschicht 3 und eine relativ dicke Molybdänplatte 4, die zur Verbesserung der Lötfähigkeit
noch mit einer Eisen-Nickel-Legierung 5 plattiert sein kann. Auf der Oberseite der Siliziumplatte 2
liegen eine Goldschicht 6 und eine Molybdänplatte 7, die ebenfalls mit einer Eisen-Nickel-Plattierung 8 versehen
sein kann. Die relativ dicken Molybdänplatten 4 und 7 haben etwa den gleichen thermischen
Ausdehnungskoeffizienten (α=5,1· 10"6-grad~1) wie
die Siliziumplatte 2 (a«5-10"6-grad-i); das gesamte
Element 1 verhält sich daher bei Temperaturänderungen etwa wie ein einheitlicher Körper, da die
dünnen Zwischenschichten 3 und 6 aus Aluminium bzw. Gold keine wesentlichen Spannungen erzeugen.
Für die Elektrodenplatten 4 und 7 kann auch Wolfram (a=4,5-10~6-grad~1) verwendet werden.
309 669/223
Mit 12 ist der Boden des das Element hermetisch
abschließenden Gehäuses bezeichnet, das als dickwandiger Becher aus Kupfer (a=16,5-10"6-grad~1)
ausgebildet ist. Beim Zusammenbau der Anordnung ist das Element 1 auf den Geihäuseboden 12 aufzulöten.
Ferner ist seine obere Elebtrodenplatte 7/8 mit
dem kupfernen Schuh 14 einer flexiblen Stromzuleitung 13 zu verlöten. Da das Halbleiterelement 1 keine
sehr hohen Temperaturen verträgt, wird hierfür vorzugsweise eine Weichlötung verwendet, die sich bei
Temperaturen um 200° C durchführen läßt.
Das Halbleiterelement 1 wird nun nach dem Erfindungsgedanken der Hauptpatentanmeldung nicht unmittelbar
auf dem Boden 12 des Gehäuses aufgelötet, sondern unter Zwischenlage einer Ausgleichsplatte 9.
Die Platte 9, die in Fig. 2 in der Draufsicht dargestellt
ist, ist aus einer Vielzahl von zylindrischen Kupferdrahtstiften 9' zusammengesetzt, die durch einen
Ring 11 zusammengehalten werden. Zur Vorbereitung der Verlötung werden die beiderseitigen Stirnflächen
der Kupferßtifte 9' verzinnt, worauf dann die gesamte Ausgteiöhsplatte 9 zwischen den Bauelementen
S und 12 weich eingelötet wird. Um ein Einlaufen des Lotes zwischen die Kupferstifte 9' zu verhindern,
sind die Mantelflächen der Stifte 9' mit einer nicht lötbaren Schicht überzogen, z. B. oxydiert.
Beim Einlöten der Platte 9 zwischen den Teilen 5 und 12 befinden sich alle Teile auf der Löttemperatur
von etwa 200° C. Thermische Spannungen bestehen nicht. Nach dem Abkühlen hat sich der Gehäuseboden
12 (Kupfer) wegen seines höheren Ausdehnungskoeffizienten stärker zusammengezogen als die
Molybdänplatte 4; daraus ergibt sich, daß die Kupferstifte 9' im kalten Zustand etwas nach oben divergieren.
Dadurch sind zwischen ihnen geringfügige Abstände entstanden, die es der Ausgleichsplatte 9 gestatten,
den Dehnungen der angrenzenden Bauteile bei Temperaturänderungen im späteren Betrieb ohne
Entstehung innerer Spannungen zu folgen.
Es sei zunächst angenommen, daß für den Ring 11 ein Material verwendet wird, das etwa den gleichen
Ausdehnungskoeffizienten hat wie die Kupferstifte 9', also beispielsweise ebenfalls Kupfer. Beim Einlöten
hat die Ausgleichsplatte 9 insgesamt einen Durchmesser, der einer Temperatur von etwa 200° C entspricht;
das gleiche gilt für die Molybdänplatte 4. Beim Abkühlen schrumpft der Durchmesser des Ringes
11 wegen seines höheren Ausdehnungskoeffizienten stärker als der Durchmesser der Molybdänplatte 4.
Da jedoch die oberen Querschnitte der Kupferstifte 9' mit der Molybdänplatte verlötet sind, besteht die Gefahr,
daß der schrumpfende Ring 11 zumindest die außenliegenden Stifte 9' wieder von der Molybdänplatte 4 abschert.
Zur Vermeidung dieser Schwierigkeit wird gemäß
der vorliegenden Erfindung für den Ring 11 ein Material verwendet, dessen thermischer Ausdehnungskoeffizient
höchstens etwa so groß ist wie der der Elektrodenplatte 4, wenn die Elektrodenplatte 4,
wie angenommen, aus Molybdän mit einem Ausdehnungskoeffizienten von 5,l-10~6-grad~1 besteht,
soll also der Ausdehnungskoeffizient des Ringes 11 kleiner oder wenigstens nicht wesentlich größer sein
als dieser Wert. Für den Ring 11 wird vorzugsweise eine Eisen-Nickel-Legierung verwendet, die sich durch
entsprechende Wahl ihrer Zusammensetzung mit einem passenden Audehnungskoeffizienten von beispielsweise
5· 10~6-grad~1 herstellen läßt. Ein solcher
Ring schrumpft bei der Abkühlung der Anordnung nach der Lötung höchstens so stark wie die Molybdänplatte
4; er kann also keine nachteiligen Kräfte auf die Kupferstifte 9 ausüben.
Es ist vorteilhaft, beim Einlöten dear Platte 9 eine
Verlötung des Ringes 11 mit dem Boden 12 bzw. der Plattierung 5 zu vermeiden; zu diesem Zweck kann
der Ring 11 ebenso wie die Kupferstifte 9' oxydiert oder mit einer anderen Schicht überzogen sein, die
kein Lot annimmt.
In entsprechender Weise kann auch der Schuh 14 mit einer Ausgleichsplatte 10 versehen werden, die
in gleicher Weise wie die Ausgleichsplatte 9 aus kurzen Kupferdrahtstücken 10' zusammengesetzt ist.
Wie in der Beschreibung der Hauptpatentanmeldung bereits ausgeführt ist, werden zur Herstellung
der Kupferstifte 9' vorzugsweise Kupferdrähte mit einem Durchmesser von weniger als 1 mm verwendet,
wobei die gesamte Scheibe 9 bei einem Durchmesser von beispielsweise 20 mm eine Dicke von etwa 2 mm
erhalten kann.
Claims (2)
1. Halbleiteranordnung, bei der eine Elektrodenplatte eines Halbleiterelementes nächenhaft
mit einem metallischen Bauteil verbunden ist, das zur Abführung der Verlustwärme bestimmt ist
und einen anderen thermischen Ausdehnungskoeffizienten hat als die Elektrodenplatte, und
bei der zwischen der Elektrodenplatte und dem genannten Bauteil eine Ausgleichsplatte mit im
Verhältnis zu ihrem Durchmesser geringer Dicke angeordnet ist, die mosaikartig aus einer Vielzahl
von einem metallischen Ring zusammengehaltener metallischer Einzelkörper zusammengesetzt
ist, nach Patentanmeldung S 69 069 VIIIc/21g,
dadurch gekennzeichnet, daß das Metall des Ringes einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten
hat, der nicht wesentlich größer ist als derjenige der angrenzenden Elektrodenplatte.
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Ring aus einer
Eisen-Nickel-Legierung besteht.
In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschriften Nr. 1047 950, 1050 450.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
© 309 669/223 8.63
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