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Die vorliegende Erfindung bezieht
sich allgemein auf das Gebiet des Häusens elektronischer Komponenten
und insbesondere auf eine Halbleitergehäusestruktur, beispielsweise
ein Sensorgehäuse.
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Halbleiterhäusen umfaßt gelegentlich ein Substrat,
das von einer ersten Seite zurückgesetzt angeordnet
ist, wobei ein Halbleiterchip in dieser Ausnehmung befestigt ist.
Eine zweite gegenüberliegende
Seite des Substrats weist elektrische Verbindungen auf, um es zu
ermöglichen,
daß dasselbe
an einer Schaltungsplatine befestigt wird. Ein solcher Lösungsansatz
ist durch ein in 1 gezeigtes
bekanntes Bildsensorgehäuse
beispielhaft dargestellt.
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Ein SiGe-Sensorhalbleiterstück 10 ist
in einem nach oben ausgenommenen Keramiksubstrat 12 an
der oberen Oberfläche
einer Substratbasis 14 plaziert. Die aktive Oberfläche 16 des
Sensorhalbleiterstücks 10,
die auf elektromagnetische Strahlung anspricht, ist nach oben gerichtet.
Die Unterseite des Sensorhalbleiterstücks 10 ist unter Verwendung
eines Epoxids 18 an der Substratbasis 14 befestigt.
Die aktive Oberfläche 16 des
Halbleiterstücks
ist durch Goldverbindungsdrähte 22,
die sich nach oben außen
und unten wickeln, mit Kontakten 20 an der oberen Oberfläche der
Substratbasis 14 verbunden. Der gesamte Sensor wird dann
durch eine Abdeckungsglas 24 über dem gesamten ausgenommenen
Abschnitt abgedichtet. Die Kontakte 20 erstrecken sich durch
bis zu der Unterseite des Substrats, um es zu ermöglichen,
daß das
Gehäuse
oberflächenbefestigt wird.
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Ein solcher Gehäuseprozeß erfordert spezielles Keramikmaterial
für das
Substrat, das relativ aufwendiger ist als andere Materialien, wie
z. B. organische Substrate. Darüber hinaus
ist die Gehäusegröße relativ
groß,
als Folge der Drahtverbindung, die als die Verbindungen erster Ebene
verwendet wird. Dies liegt daran, daß Platz für eine gute Drahtschleifenverbindung
und auch ein Zwischenraum für die
Drahtverbindungskapillare gelassen werden muß. Ferner trägt bei diesem
herkömmlichen
Gehäuse
die Verwendung von Drahtbonden zum Erhöhen der Induktivität und Kapazität dar elektrischen
Verbindungen bei, was die Gesamtgehäuseleistungsfähigkeit
beeinträchtigt.
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Es ist die Aufgabe der vorliegenden
Erfindung, eine Gehäusestruktur
für ein
Halbleiterbauelement mit verbesserten Charakteristika zu schaffen.
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Diese Aufgabe wird durch eine Struktur
gemäß Anspruch
1 gelöst.
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Die Erfindung bezieht sich auf das Überwinden
oder zumindest das teilweise Verringern von einem oder mehreren
Nachteilen, die oben aufgeführt wurden.
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Gemäß einem Aspekt der Erfindung
ist eine Gehäusestruktur
für ein
Halbleiterbauelement vorgesehen. Die Gehäusestruktur weist eine Befestigungsoberfläche zum
Befestigen auf einer Schaltungsplatine auf. Ein Substrat, das eine
erste Seite und eine zweite Seite aufweist, ist enthalten. Die erste
Seite des Substrats ist von der Befestigungsoberfläche abgewandt,
und die zweite Seite des Substrats ist der Befestigungsoberfläche zugewandt.
Zumindest in der zweiten Seite des Substrats ist eine Ausnehmung vorgesehen.
Ein Halbleiterstück,
das eine erste und eine zweite Seite aufweist, ist in der Ausnehmung
befestigt, wobei die erste Seite des Halbleiterstücks von der
Befestigungsoberfläche
abgewandt ist. Ein Teil der ersten Seite des Halbleiterstücks ist
mit einer Oberfläche
der Ausnehmung elektrisch verbunden.
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Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden
Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf beiliegenden Zeichnungen
näher erläutert. Es
zeigen:
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1 eine
Querschnittsansicht eines herkömmlichen
Bildsensorgehäuses;
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2 eine
Querschnittsansicht einer Halbleitergehäusestruktur gemäß einem
ersten Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
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3 eine
Ansicht der Halbleitergehäusestruktur
von 2 durch Linie 3-3
von 2;
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4 eine
Ansicht eines Kantenabschnitts der Halbleitergehäusestruktur von 2 durch Linie 4-4 von 2;
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5 eine
Querschnittsansicht einer Halbleitergehäusestruktur gemäß einem
zweiten Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
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6 eine
Querschnittsansicht einer Halbleitergehäusestruktur gemäß einem
dritten Ausführungsbeispiel
der Erfindung; und
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7 ein
Flußdiagramm,
das sich auf ein Verfahren zum Zusammensetzen der Gehäusestruktur
der Erfindung bezieht.
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Mehrere Ausführungsbeispiele der vorliegenden
Erfindung werden nun beschrieben. Wo die Ausführungsbeispiele bei der folgenden
detaillierten Beschreibung die gleichen oder ähnliche Elemente aufweisen,
sind diese mit den gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und sollten
entsprechend aufgefaßt
werden.
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Ausführungsbeispiele der Erfindung
liefern Lösungen
für Nachteile
von herkömmlichen
Gehäusen
durch Beachten von Aspekten des Stands der Technik, wie z. B. Kosten
des Gehäuses
und die physikalische Größe des Gehäuses.
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Die bevorzugten Ausführungsbeispiele
der Erfindung beziehen sich insbesondere auf Bildsensorgehäuse. Die
Erfindung ist jedoch auch auf andere Gehäuse anwendbar.
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Gemäß einem Aspekt der Erfindung
ist eine Gehäusestruktur
für ein
Halbleiterbauelement vorgesehen. Die Gehäusestruktur weist eine Befestigungsoberfläche zum
Befestigen an einer Schaltungsplatine auf. Ein Substrat, das eine
erste und eine zweite Seite aufweist, ist enthalten. Die erste Seite
des Substrats ist von der Befestigungsoberfläche abgewandt und die zweite
Seite des Substrats ist der Befestigungsoberfläche zugewandt. Zumindest in
der zweiten Seite des Substrats ist eine Ausnehmung vorgesehen.
Ein Halbleiterstück,
das eine erste und eine zweite Seite aufweist, ist in der Ausnehmung
befestigt, wobei die erste Seite des Halbleiterstücks der Befestigungsoberfläche abgewandt
ist. Ein Abschnitt der ersten Seite des Halbleiterstücks ist
mit einer Oberfläche
der Ausnehmung elektrisch verbunden.
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Vorzugsweise umfaßt die Ausnehmung einen freiliegenden
Abschnitt des Substrats, der der Befestigungsoberfläche zugewandt
ist, und der Abschnitt der ersten Seite Halbleiterstücks ist
mit dem freiliegenden Abschnitt verbunden.
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Für
einige Strukturen kann das Substrat aus zwei Schichten bestehen,
mit einem Loch durch eine erste Schicht, das mit der Ausnehmung
verbindet, die sich in der zweiten Schicht befindet. Das Loch durch die
erste Schicht ist vorzugsweise kleiner als die Ausnehmung in der
zweiten Schicht. Dies läßt einen
freiliegenden Abschnitt der ersten Schicht, mit dem die obere Oberfläche des
Halbleiterstücks
elektrisch verbunden ist.
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Sinnvollerweise kann die Struktur
ein Abdichtungsmittel aufweisen, das zwischen den Kanten des Halbleiterstücks und
des Substrats abgedichtet ist.
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Statt dessen oder außerdem kann
die Struktur ferner ein wärmeleitfähiges und
elektrisch isolierendes Kapselungsmaterial in dem Ausnehmungsabschnitt
unterhalb des Halbleiterstücks
umfassen.
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Die Struktur kann mit einem Sensorchiphalbleiterstück verwendet
werden. In diesem Fall ist eine nicht undurchsichtige Abschnittsabdeckung über dem
Halbleiterstück
sinnvoll.
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Gemäß einem zweiten Aspekt der
Erfindung ist eine Gehäusestruktur
vorgesehen, die folgende Merkmale umfaßt: ein erstes Substrat, das
eine erste Oberfläche
und eine zweite Oberfläche
aufweist, mit elektrischen Verbindungen an der zweiten Oberfläche. Ein
zweites Substrat weist eine erste Oberfläche und eine zweite Oberfläche auf,
mit elektrischen Verbindungen, die von der ersten Oberfläche zu Befestigungsanschlußflächen an
der zweiten Oberfläche verlaufen,
den Befestigungsanschlußflächen zum Befestigen
auf einer gedruckten Schaltungsplatine. Ein Halbleiterstück mit einer
ersten und zweiten Oberfläche
weist elektrische Verbindungen an seiner ersten Oberfläche auf.
Die erste Oberfläche
des zweiten Substrats ist an der zweiten Oberfläche des ersten Substrats befestigt,
wobei die elektrischen Verbindungen des ersten Substrats in elektrischem Kontakt
mit den elektrischen Verbindungen des zweiten Substrats sind. Das
Halbleiterstück
ist an der zweiten Oberfläche
des ersten Substrats befestigt, wobei die elektrischen Verbindungen
auf dem Halbleiterstück
fest und elektrisch an den elektrischen Verbindungen der zweiten
Oberfläche
des ersten Substrats befestigt sind. Außerdem gibt es ein Abdichtungsmittel
zum Abdichten der ersten Oberfläche des
Halbleiterstücks
von der unteren Oberfläche
desselben.
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Gemäß einem weiteren Aspekt der
Erfindung ist ein Verfahren zum Zusammensetzen einer Halbleiterbauelementgehäusestruktur
vorgesehen. Dieses Verfahren umfaßt das Bereitstellen eines Substrats,
das eine erste Seite, eine gegenüberliegende
zweite Seite für
ein Oberflächenbefestigen
an einer gedruckten Schaltungsplatine und eine Ausnehmung in der
zweiten Seite aufweist. Ein Halbleiterstück wird in die Ausnehmung eingefügt, und
an einer Oberfläche
der Ausnehmung befestigt und elektrisch mit derselben verbunden.
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Gemäß noch einem weiteren Aspekt
der Erfindung ist ein Verfahren zum Zusammensetzen einer Halbleiterbauelementgehäusestruktur
vorgesehen. Ein Halbleiterstück
wird in eine ausgenommene Seite eines Substrats eingefügt und an
der Ausnehmung befestigt und mit derselben elektrisch verbunden,
und die ausgenommene Seite des Substrats wird dann an einer gedruckten
Schaltungsplatine oberflächenbefestigt.
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Somit kann eine Gehäusestruktur
geliefert werden, beispielsweise für einen Bildsensor, der ein erstes
Substrat, das eine obere Oberfläche
und eine untere Oberfläche
und eine Mehrzahl von metallisierten Anschlußflächen und Leiterbahnen aufweist,
und ein zweites Substrat aufweist, das eine Mehrzahl von Durchgangslöchern aufweist,
die an einer der Oberflächen
desselben angeordnet sind, zum Befestigen an einer gedruckten Schaltungsplatine.
Ein Halbleiterstück,
das auf seiner oberen Oberfläche
einen aktiven Bereich und an den Kanten Höcker (Bumps)/Verbindungsanschlußflächen aufweist,
ist fest an dem ersten Substrat befestigt. Ein Abdichtungsmittel
zwischen dem Substrat und Kanten des Halbleiterstücks umschließt den aktiven
Bereich des Halbleiterstücks
von unten, und ein Abdeckungsglas, das fest an der oberen Oberfläche des
ersten Substrats befestigt ist, umschließt denselben von unten. Ein
wärmeleitfähiges Material
kann um die Unteroberfläche
des Halbleiterstücks
aufgebracht werden, um die Wärmeableitung
von dem Halbleiterstück
zu einer PCB zu verbessern.
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Die Erfindung bietet Lösungen für die Nachteile
des Stands der Technik, beispielsweise durch Ersetzen von Golddrähten als
Verbindung erster Ebene durch elektrisch leitfähige Höcker, die die aktive Oberfläche des
Halbleiterstücks
mit dem Substrat elektrisch verbinden. Folglich kann ein dünneres Bildsensorgehäuse erhalten
werden, durch die Eliminierung von Drahtverbindungen, und die Erfindung ermöglicht eine
bessere elektrische Leistungsfähigkeit
durch die Reduktion der Induktivität und Kapazität der Verbindungen
erster Ebene.
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Die Erfindung hat auch den Vorteil,
Gehäuse mit
kleinerer Standfläche
zu ermöglichen,
beispielsweise für
Bildsensoren, die im Vergleich zu solchen herkömmlichen Gehäusen mit
relativ geringeren Kosten erreicht werden können.
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Die Erfindung ermöglicht außerdem eine Gehäusestruktur,
bei der die Wärmeleistung
des Gehäuses
verbessert ist, durch Bereitstellen eines direkten Wärmeableitungswegs
von dem Halbleiterstück
zu einer gedruckten Schaltungsplatine.
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Mit Bezugnahme auf 2 wird eine Querschnittsansicht einer
Halbleitergehäusestruktur
gemäß einem
ersten Ausführungsbeispiel
der Erfindung gezeigt. Genauer gesagt zeigt dieses spezifische Gehäuse ein
Gehäuse
für einen
Flip-Chip-Sensor,
obwohl die Erfindung nicht auf solche Sensoren oder überhaupt
auf Sensoren insgesamt beschränkt ist. 3 zeigt die Halbleitergehäusestruktur
dieses Ausführungsbeispiels
durch Linie 3-3 von 2,
von der zweiten Seite aus gesehen. 4 zeigt
das Substrat der Halbleitergehäusestruktur
dieses Ausführungsbeispiels
durch Linie 4-4 von 2,
von der ersten Seite aus gesehen.
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Das Gesamtgehäuse, das mit 30 gekennzeichnet
ist, umfaßt
ein Substrat 32, ein Halbleiterstück 34, ein Abdeckungsglas 36,
Verbindungen 38 zwischen dem Halbleiterstück 34 und
dem Substrat 32 und ein Kapselungsmaterial 40 um
die Enden des Halbleiterstücks 34.
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Das Volumen, das zwischen den äußersten Scheitelpunkten
des Substrats 32 definiert ist, ist im allgemeinen ein
Parallelepiped, obwohl das Substrat hohl ist, wobei sich der Hohlraum
von einer ersten Hauptseite 44 durch eine gegenüberliegenden
zweite Hauptseite 46 erstreckt. In der Draufsicht liefern die äußeren Oberflächen des
Substrats sowohl von der ersten als auch der zweiten gegenüberliegenden Seite 44, 46 ein
Rechteck.
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Der Hohlraum in dem Substrat besteht
aus einer ersten Ausnehmung 42 in der ersten Hauptseite 44 und
einer zweiten Ausnehmung 48 in der zweiten Hauptseite 46 (der
Unterseite bei der Ausrichtung von 2),
die sich in dem Substrat treffen. Dieser erste 42 und zweite
Hohlraum 48 sind daher auch ein erster und zweiter hohler
Abschnitt. Die Substratwende um die Ausnehmung 48 in der
Nähe der
zweiten Seite sind in einer Richtung parallel zu der ersten und zweiten
Seite 44, 46 dünner
als um die Ausnehmung 42 in der ersten Seite 44.
Somit ist das Substrat im Querschnitt abgestuft, wie es in 2 gezeigt ist.
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Bei diesem Ausführungsbeispiel besteht das Substrat 32 aus
zwei Schichten: einer ersten oberen Schicht 50 und einer
zweiten unteren Schicht 52. Die erste obere Schicht 50 weist
eine erste äußere Hauptoberfläche auf,
die die erste Seite 44 des Substrats ist. Dieselbe weist
auch eine zweite Hauptoberfläche 54 auf.
Die zweite untere Schicht 52 weist eine erste Hauptoberfläche 56 und
eine zweite äußere Hauptoberfläche auf,
die die zweite Seite 46 des Substrats ist. Die zweite Hauptoberfläche 54 der
ersten oberen Schicht 50 ist an der ersten Hauptoberfläche 56 der
zweiten unteren Schicht 52 befestigt und mit derselben
verbunden. Die äußeren Wände der beiden
Schichten sind ausgerichtet und sind im allgemeinen bündig miteinander.
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Die Ausnehmung 42 erstreckt
sich durch die erste obere Schicht 50, während sich
die Ausnehmung 48 durch die zweite untere Schicht 52 erstreckt und
die Wände
der ersten oberen Schicht 50 dicker sind als diejenigen
der zweiten unteren Schicht 52. Wie 3 und 4 anzeigen,
läßt dies
einen freiliegenden Abschnitt 58 der zweiten Seite 54 (der
Unterseite in der Ausrichtung von 2)
der ersten Schicht 50 um den mittleren rechteckigen Hohlraum 42,
da derselbe nicht durch die erste Seite 56 der zweiten Schicht 52 gedeckt
ist. Es gibt auch einen abgedeckten Abschnitt 60 der zweiten
Seite 54 der ersten Schicht 50, wo die beiden
Schichten überlappen.
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Metallisierte Leiterbahnen 62 sind
an der zweiten Seite 54 der ersten Schicht 50 auf
dem freiliegenden Abschnitt 58 vorgesehen und verlaufen
im allgemeinen nach außen
zu dem abgedeckten Abschnitt 60 der zweiten Seite 54 der
ersten Schicht 50. Außerdem
erstrecken sich Durchgangslöcher 64 um die
Seite der zweiten Schicht 52, von der ersten Seite 56 desselben
zu der zweiten Seite 46, die die Befestigungsoberfläche für die Struktur
ist. Die Durchgangslöcher 64 enden
in Befestigungsanschlußflächen 70 in
der zweiten Seite 46. Die Durchgangslöcher 64 kontaktieren
die Leiterbahnen 62 elektrisch, wenn die beiden Substratschichten
in Kontakt miteinander sind. Die Befestigungsanschlußflächen 70 sind bei
der Verwendung an einer gedruckten Schaltungsplatine (PCB) (nicht
gezeigt) befestigt.
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Das Halbleiterstück 34 ist in der ausgenommenen 48 Unterseite
des Substrats 32 vorgesehen. Bei diesem Ausführungsbeispiel
umfaßt
das Halbleiterstück
einen Sensorchip 72 mit einer lichtempfindlichen aktiven
ersten höchsten
Seite, die der ersten Seite 44 des Substrats 32 zugewandt
ist, und einer gegenüberliegenden
zweiten Seite, die der zweiten Seite 46 des Substrats 32 zugewandt
ist. Die relativen Größen des
Halbleiterstücks
und des Substrats sind derart, daß das Halbleiterstück länger und
breiter ist als der hohle Abschnitt 42 der ersten Substratschicht 50 (obwohl
dieselbe in der Tat nur länger
oder breiter sein muß,
um einige Aspekte der Erfindung zu erfüllen), aber kürzer und
schma ler als der ausgenommene Abschnitt 48 der zweiten
Substratschicht 52. Auf diese Weise überlappen die Kanten 74 des Halbleiterstücks 34 den
freiliegenden Abschnitt 58 der zweiten Seite 54 der
ersten Substratschicht 50.
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Die Kanten 74 des Halbleiterstücks 34,
die den freiliegenden Abschnitt 58 der zweiten Seite 54 der
ersten Substratschicht 50 überlappen, weisen Verbindungsanschlußflächen 76 in
ihren oberen Oberflächen
auf. Diese sind mit dem Sensorchip 72 (nicht gezeigt) elektrisch
verbunden. Die Positionen der Verbindungsanschlußflächen 76 stimmen mit
den Positionen der inneren Enden der Leiterbahnen 62 auf
dem freiliegenden Abschnitt 58 der ersten Substratschicht 50 überein.
Das Halbleiterstück 34 ist
auf dem freiliegenden Abschnitt 58 der ersten Schicht 50 durch
Verbindungshöcker 48 auf
den Verbindungsanschlußflächen 76 mit
den übereinstimmenden
Leiterbahnen 62 befestigt, um elektrische Verbindungen zu
bilden. Somit existiert eine elektrische Verbindung zwischen dem
Sensorchip 72 des Halbleiterstücks und den Befestigungsanschlußflächen 70 ohne
lockere Drähte,
durch Verbindungsanschlußflächen 76,
Verbindungshöcker 38,
Leiterbahnen 62 und Durchgangslöcher 64, wobei die
Ausgänge
von und die Eingänge
in den Sensor mit vorbestimmten Befestigungsanschlußflächen 70 verbunden
sind.
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Verbindungshöcker 38 wirken nicht
nur, um das Halbleiterstück 34 elektrisch
mit dem Substrat 32 zu verbinden, sondern auch um die mechanische
Befestigung des Halbleiterstücks 34 an
dem Substrat 32 zu liefern. Die Höcker 38 dienen auch
als wärmeleitfähige Wege
zum Tragen von Wärme
von dem Sensorchip 72 auf dem Halbleiterstück 34 zu
dem Substrat 32. Bei diesem Ausführungsbeispiel sind die Verbindungshöcker 38 Lötmittelhöcker, aber
andere Typen von Höckern,
beispielsweise plattierte Höcker, Ansatzhöcker oder
Haftmittelhöcker
können
hier statt dessen oder in anderen Ausführungsbeispielen der Erfindung
verwendet werden.
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Das Abdichtungsmittel 40 umgibt
die äußersten
Kanten des Halbleiterstücks 34 und
umschließt jeden
Raum zwischen dem Halbleiterstück 34 und den
ausgenommenen Wänden
der zweiten Substratschicht 52, und überlappt diese Kanten auch
leicht an der unteren zweiten Seite des Halbleiterstücks 34. Auf
diese Weise ist die obere Oberfläche
des Halbleiterstücks
von der zweiten Seite 46 des Substrats 32 nicht
zugreifbar. Das Abdichtungsmittel ist bei diesem Ausführungsbeispiel
stark zähflüssig, um
ein Versickern und eine Verunreinigung der ersten Seite des Halbleiterstücks 34 zu
vermeiden. Das Abdichtungsmittel liefert außerdem eine zusätzliche
mechanische Stärke,
um das Halbleiterstück
in Position zu halten.
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Schließlich ist ein Abdeckungsglas 36 an
der ersten Seite 44 der ersten Substratschicht 50 befestigt
und abgedichtet, um für
das Halbleiterstück 34 einen
physikalischen Schutz von der Umgebung zu liefern. Die obere Oberfläche des
Halbleiterstücks 34 ist somit
auch von der ersten Seite 44 des Substrats 32 nicht
zugreifbar. Das Abdeckungsglas 36 dient dazu, die Umhüllung und
Abdichtung der oberen Oberfläche
des Halbleiterstücks 34 zu
vervollständigen, während dieselbe
gleichzeitig ermöglicht,
daß Licht durchgelassen
wird und auf den Sensorchip 72 auftrifft.
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Bei dem obigen Ausführungsbeispiel
kann das Substrat 32 eine PCB sein, das Halbleiterstück 34 kann
SiGe sein, die Verbindungen 38 Lötmittelhöcker, das Abdichtungsmittel 40 Damm-
und Füllepoxid,
die Leiterbahnen 62 Kupfer, die Durchgangslöcher 68 Kupfer,
die Befestigungsanschlußflächen 70 Kupfer,
und der Sensorchip 72 SiGe. Innerhalb des Schutzbereichs
der Erfindung können
die Materialien jedoch unterschiedlich sein.
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5 ist
eine Querschnittseitenansicht einer Halbleitergehäusestruktur 130 gemäß einem
zweiten Ausführungsbeispiel
der Erfindung. Die 3 und 4 gelten ebenfalls für dieses
Ausführungsbeispiel.
Dieses Ausführungsbeispiel
verwendet die Gehäusestruktur 30 des
ersten Ausführungsbeispiels
und die obige Beschreibung ist daher gültig. Außerdem füllt jedoch ein wärmeleitfähiges Materialkapselungsmaterial 132 (z.
B. ein Epoxid) den Rest der Ausnehmung 48 zwischen dem
Halbleiterstück 34 und
der zweiten Seite 46 des Substrats 32. Dies kapselt
die Unterseite des Halbleiterstück 34 vollständig ein
und verbessert die Wärmeableitung
von dem Halbleiterstück
zu einer PCB, auf der das Gehäuse
befestigt ist.
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Die Unterseite 134 des wärmeleitfähigen Materials 132 ist
bündig
mit der Ebene der zweiten Seite 46 der zweiten Substratschicht 52,
um einen guten Wärmekontakt
mit einer PCB zu liefern, für eine
verbesserte Wärmeleitfähigkeit.
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6 ist
eine Seitenquerschnittsansicht einer Halbleitergehäusestruktur 230 gemäß einem
dritten Ausführungsbeispiel
der Erfindung. 3 und 4 gelten ebenfalls für dieses
Ausführungsbeispiel.
Es ist ebenfalls sehr ähnlich
zu dem ersten Ausführungsbeispiel.
Wo ähnliche
Elemente in beiden Ausführungsbeispielen
verwendet werden, gelten die gleichen Bezugszeichen. Somit gilt
die obige Beschreibung des ersten Ausführungsbeispiels, außer daß bei diesem
Ausführungsbeispiel
das Abdichtungsmittel nicht auf um die Kanten des Halbleiterstücks 34 begrenzt
ist.
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Bei dem dritten Ausführungsbeispiel
füllt ein wärmeleitfähiges und
elektrisch isolierendes Verkapselungsmaterial 232 (z. B.
ein stark zähflüssiges Epoxid)
den Rest der Ausnehmung 48 zwischen den Halbleiterstückkanten 74 und
den ausgenommenen Wänden
der zweiten Substratschicht 52 und zwischen der Unterseite
des Halbleiterstücks 34 und
der zweiten Seite 46 des Substrats 32. Somit besetzt dasselbe
den gleichen Platz wie das Abdichtungsmittel 80 und das
Verkapselungsmaterial 132 in dem zweiten Ausführungsbeispiel
zusammen besetzen. Dies verkapselt die Unterseite des Halbleiterstücks 34 vollständig und
verbessert die Wärmeablei tung von
dem Halbleiterstück
zu einer PCB, auf der das Gehäuse
befestigt ist.
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Wie bei dem zweiten Ausführungsbeispiel
ist die Unterseite 234 des wärmeleitfähigen Verkapselungsmaterials 232 bündig mit
der Ebene der zweiten Seite 46 der zweiten Substratschicht 52,
um einen guten Wärmekontakt
mit einer PCB zu liefern, für eine
verbesserte Wärmeleitung.
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Sowohl bei dem zweiten als auch dem
dritten Ausführungsbeispiel
ist die Unterseite des wärmeleitfähigen Verkapselungsmaterials
bündig
mit der Ebene der zweiten Seite der zweiten Substratschicht. Das
Verkapselungsmaterial muß jedoch
weder den Rest der Ausnehmung vollständig füllen noch sich bis zu der Ebene
der zweiten Seite der zweiten Substratschicht erstrecken. Vorzugsweise
erstreckt sich dasselbe jedoch nicht unter diese Ebene, außer es gibt verfügbaren Raum,
in den überschüssiges Verkapselungsmaterial
während
dem Befestigen an einer PCB deformiert werden kann, andernfalls
kann dasselbe gute oder stabile Kontakte verhindern.
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Die obigen Ausführungsbeispiele weisen ein Abdeckungsglas
auf, das typischerweise ein Siliziumoxidglas ist. Andere Gläser oder
Kunststoffe oder nicht undurchlässige,
vorzugsweise transparente Schichten können verwendet werden. Alternativ
kann die Abdeckung durch ein elektrisch isolierendes Verkapselungsmaterial
in dem hohlen Abschnitt 42 zwischen dem Halbleiterstück und der
ersten Seite 44 des Substrats 32 ersetzt werden.
Zumindest wenn das Halbleiterstück
ein Sensorchip ist, wäre
ein solches Verkapselungsmaterial nicht undurchlässig für die Frequenzen, die erfaßt werden
sollen. Wenn zumindest eine Wärmeableitung
bevorzugt wird, könnte das
Verkapselungsmaterial sinnvollerweise wärmeleitfähig sein.
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Die beschriebenen Ausführungsbeispiele zeigen
das Abdeckungsglas auf der ersten Seite des Substrats. Alternativ könnte die
erste Seite des Substrats zurückgesetzt
angeordnet sein, mit dem Abdeckungsglas in dieser Ausnehmung.
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Die Erfindung ist nicht auf Sensoren
begrenzt. Andere Halbleiterstücke
können
verwendet werden. Das Gehäuse
der Erfindung kann sogar aufgebaut und angeordnet sein, so daß von der
ersten Seite des Substrats kein Licht das Malbleiterstück erreicht.
Dies könnte
beispielsweise erreicht werden durch eine undurchlässige Abdeckung
anstatt der Glasabdeckung, ein undurchlässiges Verkapselungsmaterial
in dem hohlen Abschnitt des Halbleiterstücks oder der ersten Seite des
Substrats, das fest ist, oder zumindest kein Loch oder keine Ausnehmung
aufweist, die mit der Ausnehmung in der zweiten Seite des Substrats
verbindet.
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Die beschriebenen Ausführungsbeispiele unterscheiden
sich bei der Verwendung des Abdichtungsmittels und/oder des Verkapselungsmaterials unter
dem Halbleiterstück.
Andere Kombinationen und Variationen sind möglich, selbst bis zu dem Ausmaß, daß die einzige
Abdichtung zwischen der oberen Oberfläche der Kanten des Halbleiterstücks und dem
freiliegenden Abschnitt der zweiten Seite der ersten Substratschicht
liegt. Andere Möglichkeiten umfassen
die Verwendung einer Wärmeausbreitungsvorrichtung
in Kontakt mit der Unterseite des Halbleiterstücks anstatt dem Verkapselungsmaterial oder
zusätzlich
zu dem Verkapselungsmaterial, um die Wärmeübertragungsrate zu dem Verkapselungsmaterial
zu verbessern. Das Hinzufügen
einer Wärmeausbreitungsvorrichtung
(die aus einem Material mit hoher Wärmeleitfähigkeit – z. B. Kupfer – hergestellt
ist) wird dazu beitragen, Wärme
von dem Halbleiterstück
zu extrahieren durch Bereitstellen eines Wegs mit geringerem Wärmewiderstand
von dem Halbleiterstück
zu der Platine, auf der die Erfindung befestigt ist.
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Die Gehäusestruktur dieser Erfindung
muß nicht
breit und groß genug
sein, um Schleifendrähte zwischen
einem Halbleiterstück
und ihrem Substrat unterzubringen. Statt dessen kann das Gesamtgehäuse kürzer, dünner und/oder
schmaler sein als in den herkömmlichen
Aufbauten, beispielsweise derjenigen von 1. Die vorliegende Erfindung ermöglicht typischerweise
eine laterale Größenreduktion von
1 bis 1,5 mm (Drahtverbindungslänge
auf beiden Seiten). Außer
daß die
Erfindung eine kleine Stellfläche
und eine verbesserte elektrische Leistungsfähigkeit aufweist, liefert dieselbe
darüberhinaus
auch die Möglichkeit,
die Wärmeleistung
des Gehäuses
zu verbessern, durch Bereitstellen eines direkten Wärmeableitungswegs
von dem Halbleiterstück
zu der Platine durch das Verkapselungsmaterial, das eine höhere Wärmeleitfähigkeit
aufweist als die Keramik des Stands der Technik.
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Verschiedene Anschlußflächen, Durchgangslöcher, Leiterbahnen,
Höcker
und Verbindungen wurden erwähnt.
Andere Anordnungen dieser gleichen Komponenten oder völlig unterschiedliche Anordnungen
von elektrischen Verbindungen sind möglich, solange es einen elektrischen
Weg von dem Halbleiterstück
zu der Befestigungsoberfläche
der Struktur gibt.
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Bei den beschriebenen Ausführungsbeispielen
besteht das Substrat 32 aus zwei Schichten 50, 52.
Das Substrat könnte
jedoch mehr Schichten (drei oder vier oder mehr, falls gewünscht) oder
weniger (d. h. es wäre
ein einteiliges Substrat) haben. Die beiden Schichten der Ausführungsbeispiele
werden als verbunden beschrieben. Dieselben könnten jedoch zusammengeklebt,
geklammert, geschraubt oder zusammengehalten werden oder anderweitig
aneinander befestigt sein in einer Vielzahl von anderen Möglichkeiten,
wie es für
einen Fachmann auf diesem Gebiet ohne weiteres ersichtlich wäre. Diese
Variationen des Substrats könnten
nach wie vor die gleiche abgestufte Form oder eine Vielzahl anderer
Formen aufweisen, beispielsweise mit mehr Stufen, ungleichmäßigen Stufen
oder Absätzen
oder ein Nicht-Parallelepipedvolumen. Während bei den beschriebenen Ausführungsbeispielen
jede Schicht selbst eine einteilige Struktur ist, können darüberhinaus
die Schichten aus mehreren Komponenten hergestellt sein, die miteinander
verbunden oder möglicherweise
sogar voneinander getrennt sind. Beispielsweise muß der un tere
Teil des Substrats die Ausnehmung nicht vollständig umgeben, derselbe könnte aus
lediglich zwei Endwänden
bestehen, eine an jedem Ende der Struktur unter der zweiten Seite
der ersten Schicht. Somit könnte
es in der Wand der zweiten Schicht Zwischenräume um die Ausnehmung geben,
solange eine Abdichtung zwischen dem Halbleiterstück und dem
Substrat beibehalten wird.
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Ein Verfahren zum Zusammensetzen
einer Gehäusestruktur
des zweiten Ausführungsbeispiels gemäß der Erfindung
wird nun mit Bezugnahme auf 7 beschrieben.
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Schritt S1 ist die Bereitstellung
des Substrats 32 und der Halbleiterstück 34. In Schritt
S2 wird das Halbleiterstück 34 in
die Ausnehmung 48 des Substrats eingefügt und in Position gehalten,
mit Lötmittelhöckern 38 auf
dem Halbleiterstücks 34 in
Kontakt mit den Leiterbahnen 62 an der zweiten Seite 54 der ersten
Substratschicht 50. In Schritt S3 wird ein Lötmittelrückflußverfahren
verwendet, um die Lötmittelhöcker zu
schmelzen und zu befestigen und dadurch die Höcker 38 und die Leiterbahnen 62 elektrisch
zu verbinden und das Halbleiterstück mit dem Substrat zu verbinden.
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Das Abdichtungsmittel 80 ist
um die Kante des Halbleiterstück
aufgebracht, zwischen den inneren Wänden der zweiten Substratschicht 52 und
dem Halbleiterstück 34 in
Schritt S4, wodurch die erste Seite des Halbleiterstücks von
unten abgedichtet wird. Das Verkapselungsmaterial 132 wird
dann in Schritt S5 in den verbleibenden Raum der Ausnehmung 48 auf
der zweiten Seite des Halbleiterstücks gefüllt, bis zu dem gewünschten
Pegel. Schließlich wird
während
dem Zusammenbau in Schritt S6 die Glasabdeckung 36 an die
erste Oberfläche 44 der ersten
Substratschicht geklebt.
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Zu einem späteren Zeitpunkt, wenn das Gehäuse befestigt
werden soll, gibt es einen Oberflächenbefestigungsschritt S7,
bei dem dasselbe an einer PCB oberflächenbefestigt wird.
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Obwohl dieser Prozeß in der
spezifischen Reihenfolge 51 bis S7 beschrieben wurde, sind
bestimmte Variationen erlaubt. Beispielsweise könnte der Glasabdeckungsschritt
zu jedem anderen Punkt in dem Prozeß auftreten. Außerdem könnte der
Lötmittelrückfluß oder äquivalente
Schritte vor der Einfügung
des Halbleiterstücks
in die Ausnehmung auftreten, wobei nur das Einrichten (oder Härten oder
was auch immer) nach der Einfügung
geschieht.