DE102010062937B4 - Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle - Google Patents
Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle Download PDFInfo
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Abstract
Description
- STAND DER TECHNIK
- Gebiet
- Ein Aspekt der beschriebenen Technik betrifft im Allgemeinen eine lineare Verdampfungsquelle und eine Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle.
- Beschreibung der verwandten Technik
- Hauptsächlich dank ihres geringen Gewichts und flachen Profils haben Flachbildanzeigen die Röhrenbildschirme verdrängt. Typische Beispiele für solche Anzeigen sind Flüssigkristallanzeigen (LCD) und Anzeigen mit organischen lichtemittierenden Dioden (OLED). Im Vergleich zu LCD zeichnen sich OLED im Allgemeinen durch bessere Leuchtdichten und größere Betrachtungswinkel aus und benötigen keine Hintergrundbeleuchtung, so dass sich mit ihnen ultradünne Anzeigen realisieren lassen.
- Diese OLED nutzen für die Anzeige das Phänomen aus, dass Elektronen und Löcher, die über eine Kathode und eine Anode in eine organische Dünnschicht injiziert werden, zu Exzitonen rekombinieren. Die bei der Abregung dieser Exzitonen freigesetzte Energie wird in Form von Licht mit einer spezifischen Wellenlänge emittiert.
- OLED werden im Allgemeinen in einem Fotolithografieverfahren oder einem Beschichtungsverfahren hergestellt; dabei werden auf einem Substrat aus Glas, Edelstahl oder Kunstharz selektiv eine Kathode, eine Anode und eine organische Dünnschicht ausgebildet. Bei dem Beschichtungsverfahren wird ein Beschichtungsmaterial verdampft oder sublimiert, im Vakuum abgeschieden und selektiv geätzt, oder ein Beschichtungsmaterial wird unter Verwendung einer Maskeneinheit mit mehreren Schlitzen, die in einem vorbestimmten Muster angeordnet sind, selektiv abgeschieden.
- Das Fotolithografieverfahren erfordert hierbei im Allgemeinen, dass auf einen vorbestimmten Bereich Fotolack aufgetragen wird und anschließend ein Nass- oder Trockenätzschritt an dem aufgetragenen Fotolack durchgeführt wird. Beim Abtragen oder Wegätzen des Fotolacks kann Feuchtigkeit in das darunterliegende Substrat eindringen. Für Materialien wie organische Dünnschichten, die unter Feuchtigkeitseinwirkung degradieren, ist daher das Beschichtungsverfahren das primäre Verfahren zum Ausbilden einer Dünnschicht.
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EP 1 927 674 A2 ,US 2009/ 0 087 545 A1 KR 10 2009 0 047 953 A KR 10 2006 0 094 711 A EP 1 927 674 A2 offenbart einen Schlitz, der in der Mitte der Trennwand ausgebildet ist. Sie erstreckt sich nicht bis zur offenen Seite des Tiegels. Weiterhin beinhaltet die Trennwand keine weiteren Merkmale, die niedriger oder höher als der Schlitz angeordnet sind.US 2009/ 0 087 545 A1 KR 10 2009 0 047 953 A KR 10 2006 0 094 711 A - KURZDARSTELLUNG
- Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine lineare Verdampfungsquelle zum Herstellen von Flachbildanzeigen bereitzustellen, die so ausgestaltet ist, dass die quantitative Abweichung zwischen den in den durch die Vielzahl von Trennwänden geteilten Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien effektiver minimiert ist, das verdampfte Beschichtungsmaterial gleichmäßiger durch jede Düse des Düsenabschnitts gespritzt wird und die Herstellung der Trennwand vereinfacht wird.
- Die Aufgabe wird gelöst durch eine lineare Verdampfungsquelle zum Herstellen von Flachbildanzeigen mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1.
- Ein weiterer Aspekt betrifft eine Beschichtungsvorrichtung zum Herstellen von Flachbildanzeigen, der die oben genannte Aufgabe zugrunde liegt. Die Beschichtungsvorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 4 löst die Aufgabe.
- Weitere Ausführungsformen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen definiert.
- Figurenliste
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1 ist eine schematische Ansicht einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. -
2A ist eine perspektivische Ansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. -
2B ist eine Querschnittsansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. -
3A und3B sind schematische Ansichten einer Trennwand in einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. - DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
- Eine Beschichtungsvorrichtung, die zur Herstellung von OLED-Anzeigen benutzt wird, ist typischerweise mit einer Verdampfungsquelle ausgestattet. Die Verdampfungsquelle weist im Allgemeinen Folgendes auf: i) einen auf einer Seite offenen Tiegel, der ein Beschichtungsmaterial bevorratet, ii) eine Heizvorrichtung, die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist, iii) einen an der offenen Seite des Tiegels angeordneten Düsenabschnitt und iv) ein Gehäuse, das den Tiegel, die Heizvorrichtung und den Düsenabschnitt aufnimmt. Zur Verbesserung der Effizienz eines Beschichtungsprozesses kann als Verdampfungsquelle eine lineare Verdampfungsquelle benutzt werden, bei welcher sich der Tiegel in einer Richtung erstreckt.
- Die Beschichtungsvorrichtung mit dieser linearen Verdampfungsquelle verhindert unter Verwendung der mehreren Trennwände, dass das in dem Tiegel der linearen Verdampfungsquelle bevorratete Beschichtungsmaterial sich auf einer Seite ansammelt. Da die von den Trennwänden unterteilten Räume unterschiedlich weit von einer Heizvorrichtung entfernt sind, variiert die zu den einzelnen Räumen übertragene Wärmemenge. Somit werden die Beschichtungsmaterialien in den Räumen mit einer vorbestimmten quantitativen Abweichung verdampft. Diese Abweichung führt zu einer quantitativen Abweichung zwischen den in den Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien. Die folgende quantitative Abweichung vergrößert die Abweichung zwischen den zu den in den Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien übertragenen Wärmemengen, so dass die Ungleichförmigkeit einer auf einem Substrat ausgebildeten Schicht ansteigt.
- Die vorgenannte quantitative Abweichung kann eine Temperaturabweichung zwischen den Räumen des Tiegels vergrößern, so dass sich der Tiegel wiederholt unter der Einwirkung der Heizvorrichtung ausdehnt und zusammenzieht, was zu einer Deformation des Tiegels führt.
- Es wird nun im Einzelnen auf die offenbarten Ausführungsformen eingegangen, für die in den beigefügten Zeichnungen, in denen gleiche Elemente durchgängig die gleichen Bezugszeichen haben, Beispiele dargestellt sind. Die Längen und Dicken von Schichten und Bereichen können in den Zeichnungen der Klarheit halber übertrieben dargestellt sein.
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1 ist eine schematische Ansicht einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. - Es wird auf
1 Bezug genommen. Die Beschichtungsvorrichtung100 gemäß einer Ausführungsform umfasst Folgendes: eine Prozesskammer200 , eine lineare Verdampfungsquelle300 , die auf einer Seite der Prozesskammer200 angeordnet ist, und eine Substrathalterung500 , die der linearen Verdampfungsquelle300 gegenüberliegend angeordnet ist. - Die Prozesskammer
200 ist so eingerichtet, dass sie Raum für einen Beschichtungsvorgang bietet. Die Prozesskammer200 kann ein Beschickungstor (nicht gezeigt), durch welches ein SubstratS eingebracht und entnommen wird, sowie eine Absaugöffnung (nicht gezeigt) umfassen, die an eine Vakuumpumpe (nicht gezeigt) angeschlossen ist, die einen Innendruck der Prozesskammer200 steuert und Beschichtungsmaterial, das nicht auf das SubstratS abgeschieden wurde, abführt. Die Prozesskammer200 kann hierbei eine Maskeneinheit umfassen, die zwischen der linearen Verdampfungsquelle300 und der Substrathalterung500 angeordnet ist und mehrere Schlitze aufweist, so dass das Beschichtungsmaterial in einem vorbestimmten Muster auf dem SubstratS abgeschieden wird. - Die Substrathalterung
500 ist dazu eingerichtet, das in die Prozesskammer200 eingebrachte Substrat zu positionieren und kann ein separates Spannelement (nicht gezeigt) aufweisen, das dazu dient, das SubstratS während des Beschichtungsvorgangs einzuspannen. - Bei einer Ausführungsform ist die lineare Verdampfungsquelle
300 in einem unteren Abschnitt der Prozesskammer200 angeordnet, die Substrathalterung500 ist in einem oberen Abschnitt der Prozesskammer200 angeordnet, und das SubstratS ist dergestalt in die Substrathalterung500 eingespannt, dass es im Wesentlichen parallel zur horizontalen Ebene ist. Alternativ hierzu kann die lineare Verdampfungsquelle300 auf einer Seite der Prozesskammer200 angeordnet sein, und die Substrathalterung500 ist auf der anderen Seite der Prozesskammer200 dergestalt angeordnet, dass das in die Substrathalterung500 eingespannte SubstratS mit der horizontalen Ebene einen Winkel von ca. 70° bis ca. 110° bildet. Dadurch ist es möglich, ein schwerkraftbedingtes Durchhängen des Substrats zu verhindern. - Die lineare Verdampfungsquelle
300 bevorratet das Beschichtungsmaterial, erhitzt das Beschichtungsmaterial, um es auf das SubstratS zu sprühen und bildet dadurch aus dem zerstäubten Beschichtungsmaterial eine Schicht auf dem SubstratS aus. Die lineare Verdampfungsquelle300 weist in einer Richtung eine vorbestimmte Länge auf. Die Prozesskammer200 kann ferner eine Transporteinrichtung400 aufweisen, die die lineare Verdampfungsquelle300 in einer Richtung bewegt, die im Wesentlichen senkrecht zur Längsrichtung der linearen Verdampfungsquelle300 verläuft, damit das Beschichtungsmaterial leicht auf eine Vorderfläche des SubstratsS aufgestäubt werden kann. Die Transporteinrichtung400 umfasst eine Kugelumlaufspindel410 , einen Motor430 , der die Kugelumlaufspindel410 dreht, und eine Führung420 , die eine Bewegungsrichtung der linearen Verdampfungsquelle300 kontrolliert. -
2A ist eine perspektivische Ansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform, und2B ist eine Querschnittsansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. - Es wird auf
2A und2B Bezug genommen. Die lineare Verdampfungsquelle300 umfasst Folgendes: einen Tiegel320 mit einem offenen oberen Abschnitt, der ein Beschichtungsmaterial bevorratet, einen Düsenabschnitt330 , der auf dem offenen oberen Abschnitt des Tiegels320 angeordnet ist und mehrere Düsen335 aufweist, eine Heizvorrichtung340 , die auf gegenüberliegenden Seiten des Tiegels320 angeordnet ist und das in dem Tiegel320 bevorratete Beschichtungsmaterial erhitzt, und ein Gehäuse310 , das den Tiegel320 , den Düsenabschnitt330 und die Heizvorrichtung340 aufnimmt. - Bei der Beschichtungsvorrichtung
100 gemäß einer Ausführungsform wurde beschrieben, dass die Verdampfungsquelle300 im unteren Abschnitt der Prozesskammer200 angeordnet und somit der obere Abschnitt des Tiegels320 offen ist. Alternativ hierzu kann der Tiegel320 auch je nach der Position der linearen Verdampfungsquelle300 an einem seitlichen oder unteren Abschnitt offen sein. - Die Heizvorrichtung
340 ist so eingerichtet, dass sie das in dem Tiegel320 bevorratete Beschichtungsmaterial erhitzt und verdampft. Die Heizvorrichtung340 kann an einer der offenen Seite des Tiegels320 gegenüberliegenden Seite des Tiegels320 angeordnet sein. In diesem Fall dauert es einige Zeit, bis das Beschichtungsmaterial von der Heizvorrichtung340 erhitzt und verdampft worden ist. Um dem neben der offenen Seite des Tiegels320 angeordneten Beschichtungsmaterial die größtmögliche Wärme zuzuführen, damit das Beschichtungsmaterial leicht verdampft werden kann, ist bei einer Ausführungsform die Heizvorrichtung340 auf Seiten des Tiegels320 angeordnet, insbesondere auf gegenüberliegenden Seiten des Tiegels320 , wenn die Oberseite des Tiegels320 wie in2A und2B gezeigt offen ist. Bei einer weiteren Ausführungsform ist die Heizvorrichtung340 so angeordnet, dass sie die Seiten des Tiegels320 umgibt. - Der Tiegel
320 umfasst mehrere Trennwände325 , die dazu dienen, einen Innenraum des Tiegels zu unterteilen, damit sich das bevorratete Beschichtungsmaterial nicht an einer Seite des Tiegels anhäuft. Jede Trennwand325 ist in einem unteren Abschnitt mit mindestens einem Durchgangsloch325b (oder mindestens einer Öffnung) versehen, damit das von der Heizvorrichtung340 verdampfte Beschichtungsmaterial frei durch die Innenräume des Tiegels320 strömen kann, die von den mehreren Trennwänden325 unterteilt werden. Bei einer Ausführungsform weist das Loch325b eine Kreisform oder eine Polygonform (dreieckig, quadratisch, fünfeckig usw.) auf. Das mindestens eine Loch325b kann mehrere Löcher von im Wesentlichen derselben oder unterschiedlichen Größen aufweisen. Bei einer Ausführungsform sind die von den Trennwänden325 unterteilten Innenräume des Tiegels dazu eingerichtet, das verdampfte Beschichtungsmaterial so lange untereinander auszutauschen, bis jeder der von den Trennwänden325 unterteilten Innenräume des Tiegels im Wesentlichen dieselbe Menge Beschichtungsmaterial enthält. Dadurch wird eine quantitative Abweichung zwischen den in den Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien minimiert oder im Wesentlichen aufgehoben. - Hierbei ist jede Trennwand
325 in einem oberen Abschnitt mit einer abgestuften Aussparung325a versehen, damit das von der Heizvorrichtung340 verdampfte Beschichtungsmaterial wandern kann. Auf diese Weise kann das verdampfte Beschichtungsmaterial ausgelöst durch einen Druckunterschied gleichförmig durch die einzelnen Düsen335 des Düsenabschnitts330 zerstäubt werden. -
3A und3B sind schematische Ansichten einer Trennwand in einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. Wie in3A veranschaulicht ist, kann das in dem unteren Abschnitt der einzelnen Trennwände325 ausgebildete Durchgangsloch325b ein Loch mit einer vorbestimmten Fläche oder Form umfassen. Wie in3B veranschaulicht ist, kann das in dem unteren Abschnitt der einzelnen Trennwände325 ausgebildete Durchgangsloch einen Schlitz325c umfassen, der sich in einer Richtung erstreckt, in die das Beschichtungsmaterial verdampft wird. Dadurch wird den Beschichtungsmaterialien, die in den von den mehreren Trennwänden325 unterteilten Räumen verdampft werden, erlaubt, frei zu wandern, so dass die quantitative Abweichung zwischen den in den von den mehreren Trennwänden325 unterteilten Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien weiter minimiert oder im Wesentlichen beseitigt werden kann. - Folglich ist die Beschichtungsvorrichtung
100 gemäß einer Ausführungsform so eingerichtet, dass in dem unteren Abschnitt der einzelnen Trennwände325 , die den Innenraum des Tiegels320 der linearen Verdampfungsquelle300 unterteilen, jeweils mindestens ein Durchgangsloch325b oder325c ausgebildet ist. Beim Verdampfen des in dem Tiegel320 bevorrateten Beschichtungsmaterials wird somit dem verdampften Beschichtungsmaterial erlaubt, frei durch das Durchgangsloch325b oder325c im Innenraum des Tiegels320 zu strömen, so dass die quantitative Abweichung zwischen den in den von den mehreren Trennwänden325 unterteilten Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien minimiert oder im Wesentlichen beseitigt werden kann. - Somit ist es gemäß mindestens einer der offenbarten Ausführungsformen möglich, beim Herstellen einer Flachbildanzeige wie etwa einer OLED-Anzeige eine im Wesentlichen gleichförmige Schicht auszubilden.
- Die offenbarten Ausführungsformen sind nicht als einschränkend aufzufassen, daher sind viele Änderungen und Modifikationen möglich, ohne dabei vom Schutzumfang der Ansprüche abzuweichen.
Claims (7)
- Lineare Verdampfungsquelle (300) zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: einen Tiegel (320), der eine offene Oberseite aufweist, und zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; mehrere Trennwände (325), die einen Innenraum des Tiegels unterteilen, wobei jede der Trennwände in einem unteren Abschnitt mindestens eine Öffnung (325c) aufweist; einen Düsenabschnitt (330), der auf der offenen Oberseite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen (335) umfasst; eine Heizvorrichtung (340), die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist; und ein Gehäuse (310), das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt, wobei die Trennwände (325) einstückig mit dem Tiegel (320) ausgebildet sind, wobei in einem oberen Abschnitt der einzelnen Trennwände (325) jeweils eine abgestufte Aussparung (325a) ausgebildet ist, wobei die Öffnung einen Schlitz (325c) umfasst, der sich in einer vertikalen Richtung in Richtung der offenen Oberseite des Tiegels (320) erstreckt, in die das Beschichtungsmaterial verdampft wird und in die abgestufte Aussparung (325a) mündet.
- Lineare Verdampfungsquelle (300) nach
Anspruch 1 , wobei die Heizvorrichtung (340) auf Seiten des Tiegels (320) angeordnet ist. - Lineare Verdampfungsquelle (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Beschichtungsmaterial ein organisches Material umfasst.
- Beschichtungsvorrichtung (100) zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: eine Prozesskammer (200); eine lineare Verdampfungsquelle (300) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, die im Innern der Prozesskammer angeordnet ist und zum Beinhalten und Zerstäuben eines Beschichtungsmaterials auf ein Substrat eingerichtet ist; und eine Substrathalterung (500), die im Innern der Prozesskammer angeordnet und zum Halten des Substrats eingerichtet ist, wobei die Substrathalterung in einem Abstand zu der Verdampfungsquelle angeordnet ist.
- Beschichtungsvorrichtung (100) nach
Anspruch 4 , die ferner eine Transporteinrichtung (400) aufweist, die dazu eingerichtet ist, die Verdampfungsquelle (300) in einer Richtung zu bewegen, die im Wesentlichen senkrecht zu einer Richtung verläuft, in der der Tiegel (320) offen ist. - Beschichtungsvorrichtung (100) nach
Anspruch 4 oder5 , die ferner ein Maskenmuster aufweist, das zwischen der Verdampfungsquelle (300) und der Substrathalterung (500) angeordnet ist. - Beschichtungsvorrichtung (100) nach einem der
Ansprüche 4 bis6 , die ferner ein Spannelement aufweist, das dazu eingerichtet ist, das auf der Substrathalterung (500) platzierte Substrat einzuspannen.
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