KR20060094711A - 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 - Google Patents
격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060094711A KR20060094711A KR1020050016095A KR20050016095A KR20060094711A KR 20060094711 A KR20060094711 A KR 20060094711A KR 1020050016095 A KR1020050016095 A KR 1020050016095A KR 20050016095 A KR20050016095 A KR 20050016095A KR 20060094711 A KR20060094711 A KR 20060094711A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- crucible
- evaporation source
- housing
- nozzle
- linear evaporation
- Prior art date
Links
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 108
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 108
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 47
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 10
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 8
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 239000011232 storage material Substances 0.000 claims 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 26
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
Claims (22)
- 측면이 개구된 하우징;상기 하우징의 내부에 위치하고, 상기 하우징의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구되어 증발재료 저장공간을 구비하는 몸체와 상기 몸체의 바닥면에 연결되고 상기 몸체의 상부면과는 이격되어 상기 저장공간을 다수개로 분할하는 적어도 하나의 격벽을 구비하는 도가니;상기 도가니의 개구된 면에 연결되고, 노즐을 구비하는 노즐부; 및상기 노즐부 및/또는 상기 도가니를 가열하는 가열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 격벽은 그의 상부에 단차를 구비하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 격벽은 상기 도가니 몸체와 일체형인 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 도가니는 상기 몸체의 개구된 면에 인접하는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 4 항에 있어서,상기 튐 방지턱은 상기 도가니 몸체와 일체형인 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 도가니 몸체의 상부면은 탈착가능한 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 도가니 내에 저장되는 증발재료는 유기물인 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 노즐부는 상기 도가니의 개구된 면으로부터 돌출되고, 상기 가열부는 상기 노즐부의 돌출된 부분을 가열하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 도가니는 흑연 도가니인 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 가열부와 상기 하우징 사이에 개재되고, 상기 도가니의 상부면 및 하부면을 따라 연장된 열 반사판을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 제 1 항에 있어서,상기 노즐부의 기판 방향 외부면에 부착되는 열 차단판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원.
- 챔버;상기 챔버 내에 위치하여 지면과 70 내지 110도의 각을 가지도록 기판을 고정하는 기판 고정수단; 및상기 기판을 향하는 측면이 개구된 하우징; 상기 하우징의 내부에 위치하고, 상기 하우징의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구되어 증발재료 저장공간을 구비하는 몸체와 상기 몸체의 바닥면에 연결되고 상기 몸체의 상부면과는 이격되어 상기 저장공간을 다수개로 분할하는 적어도 하나의 격벽을 구비하는 도가니; 상기 도가니의 개구된 면에 연결되고, 노즐을 구비하는 노즐부; 및 상기 노즐부 및/또는 상기 도가니를 가열하는 가열부를 구비하는 선형 증발원을 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 선형 증발원을 상하방향으로 이동시키는 증발원 이송장치를 더 포함하 는 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 격벽은 그의 상부에 단차를 구비하는 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 격벽은 상기 도가니 몸체와 일체형인 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 도가니는 상기 몸체의 개구된 면에 인접하는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 튐 방지턱은 상기 도가니 몸체와 일체형인 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 도가니 몸체의 상부면은 탈착가능한 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 도가니 내에 저장되는 증발재료는 유기물인 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 노즐부는 상기 도가니의 개구된 면으로부터 돌출되고, 상기 가열부는 상기 노즐부의 돌출된 부분을 가열하는 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 선형 증발원은 상기 가열부와 상기 하우징 사이에 개재되고, 상기 도가니의 상부면 및 하부면을 따라 연장된 열 반사판을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 선형 증발원은 상기 노즐부의 기판 방향 외부면에 부착되는 열 차단판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050016095A KR100635496B1 (ko) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050016095A KR100635496B1 (ko) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060094711A true KR20060094711A (ko) | 2006-08-30 |
KR100635496B1 KR100635496B1 (ko) | 2006-10-17 |
Family
ID=37602448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050016095A KR100635496B1 (ko) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100635496B1 (ko) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009134041A3 (en) * | 2008-04-29 | 2010-02-04 | Sunic System. Ltd. | Evaporator and vacuum deposition apparatus having the same |
CN102102176A (zh) * | 2009-12-22 | 2011-06-22 | 三星移动显示器株式会社 | 蒸发源和具有该蒸发源的沉积设备 |
CN102102175A (zh) * | 2009-12-17 | 2011-06-22 | 三星移动显示器株式会社 | 线性蒸发源及具有该线性蒸发源的沉积设备 |
KR20170032782A (ko) * | 2015-09-15 | 2017-03-23 | 주식회사 원익아이피에스 | 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치 |
CN107002223A (zh) * | 2014-12-05 | 2017-08-01 | 应用材料公司 | 材料沉积系统和用于在材料沉积系统中沉积材料的方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150145466A (ko) | 2014-06-19 | 2015-12-30 | 최현범 | 선형증발원 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10085115T1 (de) * | 1999-10-22 | 2002-11-07 | Kurt J Lesker Company Clairton | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats im Vakuum |
JP4139186B2 (ja) | 2002-10-21 | 2008-08-27 | 東北パイオニア株式会社 | 真空蒸着装置 |
-
2005
- 2005-02-25 KR KR1020050016095A patent/KR100635496B1/ko active IP Right Grant
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009134041A3 (en) * | 2008-04-29 | 2010-02-04 | Sunic System. Ltd. | Evaporator and vacuum deposition apparatus having the same |
CN102102175A (zh) * | 2009-12-17 | 2011-06-22 | 三星移动显示器株式会社 | 线性蒸发源及具有该线性蒸发源的沉积设备 |
US8845807B2 (en) | 2009-12-17 | 2014-09-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Linear evaporation source and deposition apparatus having the same |
US10081867B2 (en) | 2009-12-17 | 2018-09-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Linear evaporation source and deposition apparatus having the same |
US10364488B2 (en) | 2009-12-17 | 2019-07-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Linear evaporation source and deposition apparatus having the same |
US10907245B2 (en) | 2009-12-17 | 2021-02-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Linear evaporation source and deposition apparatus having the same |
DE102010062937B4 (de) | 2009-12-17 | 2021-07-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle |
CN102102176A (zh) * | 2009-12-22 | 2011-06-22 | 三星移动显示器株式会社 | 蒸发源和具有该蒸发源的沉积设备 |
CN107002223A (zh) * | 2014-12-05 | 2017-08-01 | 应用材料公司 | 材料沉积系统和用于在材料沉积系统中沉积材料的方法 |
CN107002223B (zh) * | 2014-12-05 | 2019-11-05 | 应用材料公司 | 材料沉积系统和用于在材料沉积系统中沉积材料的方法 |
KR20170032782A (ko) * | 2015-09-15 | 2017-03-23 | 주식회사 원익아이피에스 | 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100635496B1 (ko) | 2006-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101094299B1 (ko) | 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치 | |
KR100623730B1 (ko) | 증발원 어셈블리 및 이를 구비한 증착 장치 | |
KR100635496B1 (ko) | 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 | |
KR101182265B1 (ko) | 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치 | |
JP4440837B2 (ja) | 蒸発源及びこれを採用した蒸着装置 | |
JP5261404B2 (ja) | 蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 | |
KR100703427B1 (ko) | 증발원 및 이를 채용한 증착장치 | |
JP2009084675A (ja) | 蒸気放出装置、有機薄膜蒸着装置及び有機薄膜蒸着方法 | |
JP2005044592A (ja) | 蒸着用マスク、この蒸着用マスクを用いた成膜方法及びこの蒸着用マスクを用いた成膜装置 | |
KR100666572B1 (ko) | 유기물 증발장치 | |
KR101938219B1 (ko) | 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원 | |
KR20060094723A (ko) | 튐 방지턱을 구비하는 측면 분사형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 | |
KR20190080044A (ko) | 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원 | |
KR101131599B1 (ko) | 증발 장치 및 이를 구비하는 진공 증착 장치 | |
KR101660393B1 (ko) | 증발원 및 이를 구비한 증착장치 | |
KR101969551B1 (ko) | 분배 튜브의 히팅 장치 및 그것을 구비한 증착 장비 | |
KR102454832B1 (ko) | 선형 증발원 | |
KR100666570B1 (ko) | 유기물 증발원 및 유기물 증착장치 | |
KR20150086781A (ko) | 대용량 증발원 및 이를 포함하는 증착장치 | |
KR101866956B1 (ko) | 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원 | |
KR100667076B1 (ko) | 유기물 증발원 및 유기물 증착장치 | |
KR20170057646A (ko) | 각도제한판을 갖는 증착장치 | |
KR101893972B1 (ko) | 증착챔버 | |
KR102708291B1 (ko) | 선형 증발원 | |
KR102382630B1 (ko) | 증발원 소스 및 이를 포함하는 증착장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121008 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130930 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141001 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170928 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181001 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191001 Year of fee payment: 14 |