DE102010062937A1 - Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle - Google Patents

Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle Download PDF

Info

Publication number
DE102010062937A1
DE102010062937A1 DE102010062937A DE102010062937A DE102010062937A1 DE 102010062937 A1 DE102010062937 A1 DE 102010062937A1 DE 102010062937 A DE102010062937 A DE 102010062937A DE 102010062937 A DE102010062937 A DE 102010062937A DE 102010062937 A1 DE102010062937 A1 DE 102010062937A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
crucible
evaporation source
linear evaporation
coating material
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE102010062937A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102010062937B4 (de
Inventor
Min-Gyu Kyonggi Seo
Sang-Jin Kyonggi Han
Cheol-Lae Kyonggi Roh
Jae-Hong Kyonggi Ahn
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Mobile Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Mobile Display Co Ltd filed Critical Samsung Mobile Display Co Ltd
Publication of DE102010062937A1 publication Critical patent/DE102010062937A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102010062937B4 publication Critical patent/DE102010062937B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4485Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation without using carrier gas in contact with the source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Es werden eine lineare Verdampfungsquelle und eine Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle offenbart. Bei einer Ausführungsform umfasst die lineare Verdampfungsquelle Folgendes: i) einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen und zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist, und ii) mehrere Trennwände, die einen Innenraum des Tiegels unterteilen, wobei jede der Trennwände in einem unteren Abschnitt mindestens eine Öffnung aufweist. Die Quelle umfasst ferner i) einen Düsenabschnitt, der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen umfasst, ii) eine Heizvorrichtung, die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist, und iii) ein Gehäuse, das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt.

Description

  • STAND DER TECHNIK
  • 1. Gebiet
  • Ein Aspekt der beschriebenen Technik betrifft im Allgemeinen eine lineare Verdampfungsquelle und eine Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle.
  • 2. Beschreibung der verwandten Technik
  • Hauptsächlich dank ihres geringen Gewichts und flachen Profils haben Flachbildanzeigen die Röhrenbildschirme verdrängt. Typische Beispiele für solche Anzeigen sind Flüssigkristallanzeigen (LCD) und Anzeigen mit organischen lichtemittierenden Dioden (OLED). Im Vergleich zu LCD zeichnen sich OLED im Allgemeinen durch bessere Leuchtdichten und größere Betrachtungswinkel aus und benötigen keine Hintergrundbeleuchtung, so dass sich mit ihnen ultradünne Anzeigen realisieren lassen.
  • Diese OLED nutzen für die Anzeige das Phänomen aus, dass Elektronen und Löcher, die über eine Kathode und eine Anode in eine organische Dünnschicht injiziert werden, zu Exzitonen rekombinieren. Die bei der Abregung dieser Exzitonen freigesetzte Energie wird in Form von Licht mit einer spezifischen Wellenlänge emittiert.
  • OLED werden im Allgemeinen in einem Fotolithografieverfahren oder einem Beschichtungsverfahren hergestellt; dabei werden auf einem Substrat aus Glas, Edelstahl oder Kunstharz selektiv eine Kathode, eine Anode und eine organische Dünnschicht ausgebildet. Bei dem Beschichtungsverfahren wird ein Beschichtungsmaterial verdampft oder sublimiert, im Vakuum abgeschieden und selektiv geätzt, oder ein Beschichtungsmaterial wird unter Verwendung einer Maskeneinheit mit mehreren Schlitzen, die in einem vorbestimmten Muster angeordnet sind, selektiv abgeschieden.
  • Das Fotolithografieverfahren erfordert hierbei im Allgemeinen, dass auf einen vorbestimmten Bereich Fotolack aufgetragen wird und anschließend ein Nass- oder Trockenätzschritt an dem aufgetragenen Fotolack durchgeführt wird. Beim Abtragen oder Wegätzen des Fotolacks kann Feuchtigkeit in das darunterliegende Substrat eindringen. Für Materialien wie organische Dünnschichten, die unter Feuchtigkeitseinwirkung degradieren, ist daher das Beschichtungsverfahren das primäre Verfahren zum Ausbilden einer Dünnschicht.
  • KURZDARSTELLUNG
  • Ein erfinderischer Aspekt betrifft eine lineare Verdampfungsquelle, bei der der Innenraum eines Tiegels durch mehrere Trennwände unterteilt ist und eine quantitative Abweichung zwischen den in den unterteilten Räumen des Tiegels verbleibenden Beschichtungsmaterialien minimiert wird, wodurch es möglich wird, zu verhindern, dass eine Schicht ungleichförmig ausgebildet wird, sowie eine Beschichtungsvorrichtung mit einer solchen linearen Verdampfungsquelle.
  • Ein weiterer Aspekt betrifft eine lineare Verdampfungsquelle, die Folgendes umfasst: einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen ist und ein Beschichtungsmaterial bevorratet, mehrere Trennwände, die einen Innenraum des Tiegels unterteilen und jeweils in einem unteren Abschnitt mindestens ein Durchgangsloch aufweisen, einen Düsenabschnitt, der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen aufweist, ein Mittel zum Erhitzen des Tiegels und ein Gehäuse, welches den Tiegel, den Düsenabschnitt und das Heizmittel aufnimmt.
  • Ein weiterer Aspekt betrifft eine Beschichtungsvorrichtung, die Folgendes umfasst: eine Prozesskammer, eine lineare Verdampfungsquelle, die auf einer Seite der Prozesskammer angeordnet ist, und eine Substrathalterung, die der linearen Verdampfungsquelle gegenüberliegend angeordnet ist. Die lineare Verdampfungsquelle umfasst Folgendes: einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen ist, mehrere Trennwände, die einen Innenraum des Tiegels unterteilen und jeweils in einem unteren Abschnitt mindestens ein Durchgangsloch aufweisen, einen Düsenabschnitt, der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen aufweist, ein Mittel zum Erhitzen des Tiegels und ein Gehäuse, welches den Tiegel, den Düsenabschnitt und das Heizmittel aufnimmt. Ein weiterer Aspekt betrifft eine lineare Verdampfungsquelle zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen und zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; mehrere Trennwände, die einen Innenraum des Tiegels unterteilen, wobei jede der Trennwände in einem unteren Abschnitt mindestens eine Öffnung aufweist; einen Düsenabschnitt, der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen umfasst; eine Heizvorrichtung, die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist; und ein Gehäuse, das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt.
  • Bei der vorstehenden Quelle sind die Trennwände einstückig mit dem Tiegel ausgebildet. Bei der vorstehenden Quelle umfasst die Öffnung einen Schlitz, der sich in einer Richtung erstreckt, in die das Beschichtungsmaterial verdampft wird. Bei der vorstehenden Quelle ist in einem oberen Abschnitt der einzelnen Trennwände jeweils eine abgestufte Aussparung ausgebildet. Bei der vorstehenden Quelle ist die Heizvorrichtung auf Seiten des Tiegels angeordnet, wenn der Tiegel die offene Oberseite aufweist. Bei der vorstehenden Quelle umfasst das Beschichtungsmaterial ein organisches Material.
  • Ein weiterer Aspekt betrifft eine Beschichtungsvorrichtung zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: eine Prozesskammer; eine Verdampfungsquelle, die im Innern der Prozesskammer angeordnet ist und zum Beinhalten und Zerstäuben eines Beschichtungsmaterials auf ein Substrat eingerichtet ist; und eine Substrathalterung, die im Innern der Prozesskammer angeordnet ist und zum Halten des Substrats eingerichtet ist, wobei die Substrathalterung in einem Abstand zu der Verdampfungsquelle angeordnet ist, wobei die Verdampfungsquelle Folgendes umfasst: i) einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen ist, ii) mehrere Trennwände, die einen Innenraum des Tiegels unterteilen und jeweils in einem unteren Abschnitt mindestens eine Öffnung aufweisen, iii) einen Düsenabschnitt, der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen aufweist, iv) eine Heizvorrichtung, die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist, und v) ein Gehäuse, welches dazu eingerichtet ist, den Tiegel, den Düsenabschnitt und das Heizmittel aufzunehmen.
  • Bei der vorstehenden Vorrichtung können die Trennwände einstückig mit dem Tiegel ausgebildet sein. Bei der vorstehenden Vorrichtung kann die Öffnung einen Schlitz umfassen, der sich in einer Richtung erstreckt, in die das Beschichtungsmaterial verdampft wird. Bei der vorstehenden Vorrichtung kann in einem oberen Abschnitt der einzelnen Trennwände jeweils eine abgestufte Aussparung ausgebildet sein. Bei der vorstehenden Vorrichtung kann die Verdampfungsquelle in einem unteren Abschnitt der Prozesskammer angeordnet sein, wobei der Tiegel der Verdampfungsquelle eine offene Oberseite aufweist und die Heizvorrichtung auf Seiten des Tiegels angeordnet ist. Bei der vorstehenden Vorrichtung kann das Beschichtungsmaterial ein organisches Material umfassen. Die vorstehende Vorrichtung kann ferner eine Transporteinrichtung umfassen, die dazu eingerichtet ist, die Verdampfungsquelle in einer Richtung zu bewegen, die im Wesentlichen senkrecht zu einer Richtung verläuft, in der der Tiegel offen ist.
  • Die vorstehende Vorrichtung kann ferner eine Maskenvorlage aufweisen, die zwischen der Verdampfungsquelle und der Substrathalterung angeordnet ist. Die vorstehende Vorrichtung kann ferner ein Spannelement aufweisen, das zum Einspannen des auf der Substrathalterung platzierten Substrats eingerichtet ist.
  • Ein weiterer Aspekt betrifft eine Verdampfungsquelle zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: einen Behälter, der zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; eine Heizvorrichtung, die dazu eingerichtet ist, den Behälter so zu erhitzen, dass mindestens ein Teil des Beschichtungsmaterials verdampft wird; mehrere Trennwände, die einen Innenraum des Tiegels unterteilen, wobei jede der Trennwände mindestens eine Öffnung aufweist, und wobei mindestens zwei der von den Trennwänden unterteilten Innenräume des Tiegels dazu eingerichtet sind, über die Öffnung mindestens einen Teil des verdampften Beschichtungsmaterials untereinander auszutauschen und ein Gehäuse, das so eingerichtet ist, dass es den Behälter und die Heizvorrichtung aufnimmt.
  • Bei der vorstehenden Quelle kann in jeder der Trennwände eine abgestufte Aussparung ausgebildet sein, und die abgestufte Aussparung kann im Wesentlichen direkt über der Öffnung ausgebildet sein. Bei der vorstehenden Quelle können die von den Trennwänden unterteilten Innenräume des Tiegels dazu eingerichtet sein, das verdampfte Beschichtungsmaterial über die Öffnung so lange untereinander auszutauschen, bis jeder der von den Trennwänden unterteilten Innenräume des Tiegels im Wesentlichen dieselbe Menge Beschichtungsmaterial enthält. Bei der vorstehenden Quelle können die Öffnungen der Trennwände im Wesentlichen aneinander ausgerichtet sein und im Wesentlichen die gleiche Größe aufweisen. Bei der vorstehenden Quelle kann die Öffnung einen Schlitz umfassen, der sich in einer Richtung erstreckt, in die das Beschichtungsmaterial verdampft wird.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine schematische Ansicht einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.
  • 2A ist eine perspektivische Ansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.
  • 2B ist eine Querschnittsansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.
  • 3A und 3B sind schematische Ansichten einer Trennwand in einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
  • Eine Beschichtungsvorrichtung, die zur Herstellung von OLED Anzeigen benutzt wird, ist typischerweise mit einer Verdampfungsquelle ausgestattet. Die Verdampfungsquelle weist im Allgemeinen Folgendes auf: i) einen auf einer Seite offenen Tiegel, der ein Beschichtungsmaterial bevorratet, ii) eine Heizvorrichtung, die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist, iii) einen an der offenen Seite des Tiegels angeordneten Düsenabschnitt und iv) ein Gehäuse, das den Tiegel, die Heizvorrichtung und den Düsenabschnitt aufnimmt. Zur Verbesserung der Effizienz eines Beschichtungsprozesses kann als Verdampfungsquelle eine lineare Verdampfungsquelle benutzt werden, bei welcher sich der Tiegel in einer Richtung erstreckt.
  • Die Beschichtungsvorrichtung mit dieser linearen Verdampfungsquelle verhindert unter Verwendung der mehreren Trennwände, dass das in dem Tiegel der linearen Verdampfungsquelle bevorratete Beschichtungsmaterial sich auf einer Seite ansammelt. Da die von den Trennwänden unterteilten Räume unterschiedlich weit von einer Heizvorrichtung entfernt sind, variiert die zu den einzelnen Räumen übertragene Wärmemenge. Somit werden die Beschichtungsmaterialien in den Räumen mit einer vorbestimmten quantitativen Abweichung verdampft. Diese Abweichung führt zu einer quantitativen Abweichung zwischen den in den Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien. Die folgende quantitative Abweichung vergrößert die Abweichung zwischen den zu den in den Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien übertragenen Wärmemengen, so dass die Ungleichförmigkeit einer auf einem Substrat ausgebildeten Schicht ansteigt.
  • Die vorgenannte quantitative Abweichung kann eine Temperaturabweichung zwischen den Räumen des Tiegels vergrößern, so dass sich der Tiegel wiederholt unter der Einwirkung der Heizvorrichtung ausdehnt und zusammenzieht, was zu einer Deformation des Tiegels führt.
  • Es wird nun im Einzelnen auf die offenbarten Ausführungsformen eingegangen, für die in den beigefügten Zeichnungen, in denen gleiche Elemente durchgängig die gleichen Bezugszeichen haben, Beispiele dargestellt sind. Die Längen und Dicken von Schichten und Bereichen können in den Zeichnungen der Klarheit halber übertrieben dargestellt sein.
  • 1 ist eine schematische Ansicht einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.
  • Es wird auf 1 Bezug genommen. Die Beschichtungsvorrichtung 100 gemäß einer Ausführungsform umfasst Folgendes: eine Prozesskammer 200, eine lineare Verdampfungsquelle 300, die auf einer Seite der Prozesskammer 200 angeordnet ist, und eine Substrathalterung 500, die der linearen Verdampfungsquelle 300 gegenüberliegend angeordnet ist.
  • Die Prozesskammer 200 ist so eingerichtet, dass sie Raum für einen Beschichtungsvorgang bietet. Die Prozesskammer 200 kann ein Beschickungstor (nicht gezeigt), durch welches ein Substrat S eingebracht und entnommen wird, sowie eine Absaugöffnung (nicht gezeigt) umfassen, der an eine Vakuumpumpe (nicht gezeigt) angeschlossen ist, die einen Innendruck der Prozesskammer 200 steuert und Beschichtungsmaterial, das nicht auf das Substrat S abgeschieden wurde, abführt. Die Prozesskammer 200 kann hierbei eine Maskeneinheit umfassen, die zwischen der linearen Verdampfungsquelle 300 und der Substrathalterung 500 angeordnet ist und mehrere Schlitze aufweist, so dass das Beschichtungsmaterial in einem vorbestimmten Muster auf dem Substrat S abgeschieden wird.
  • Die Substrathalterung 500 ist dazu eingerichtet, das in die Prozesskammer 200 eingebrachte Substrat zu positionieren und kann ein separates Spannelement (nicht gezeigt) aufweisen, das dazu dient, das Substrat S während des Beschichtungsvorgangs einzuspannen.
  • Bei einer Ausführungsform ist die lineare Verdampfungsquelle 300 in einem unteren Abschnitt der Prozesskammer 200 angeordnet, die Substrathalterung 500 ist in einem oberen Abschnitt der Prozesskammer 200 angeordnet, und das Substrat S ist dergestalt in die Substrathalterung 500 eingespannt, dass es im Wesentlichen parallel zur horizontalen Ebene ist. Alternativ hierzu kann die lineare Verdampfungsquelle 300 auf einer Seite der Prozesskammer 200 angeordnet sein, und die Substrathalterung 500 ist auf der anderen Seite der Prozesskammer 200 dergestalt angeordnet, dass das in die Substrathalterung 500 eingespannte Substrat S mit der horizontalen Ebene einen Winkel von ca. 70° bis ca. 110° bildet. Dadurch ist es möglich, ein schwerkraftbedingtes Durchhängen des Substrats zu verhindern.
  • Die lineare Verdampfungsquelle 300 bevorratet das Beschichtungsmaterial, erhitzt das Beschichtungsmaterial, um es auf das Substrat S zu sprühen und bildet dadurch aus dem zerstäubten Beschichtungsmaterial eine Schicht auf dem Substrat S aus. Die lineare Verdampfungsquelle 300 weist in einer Richtung eine vorbestimmte Länge auf. Die Prozesskammer 200 kann ferner eine Transporteinrichtung 400 aufweisen, die die lineare Verdampfungsquelle 300 in einer Richtung bewegt, die im Wesentlichen senkrecht zur Längsrichtung der linearen Verdampfungsquelle 300 verläuft, damit das Beschichtungsmaterial leicht auf eine Vorderfläche des Substrats S aufgestäubt werden kann. Die Transporteinrichtung 400 umfasst eine Kugelumlaufspindel 410, einen Motor 430, der die Kugelumlaufspindel 410 dreht, und eine Führung 420, die eine Bewegungsrichtung der linearen Verdampfungsquelle 300 kontrolliert.
  • 2A ist eine perspektivische Ansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform, und 2B ist eine Querschnittsansicht einer linearen Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.
  • Es wird auf 2A und 2B Bezug genommen. Die lineare Verdampfungsquelle 300 umfasst Folgendes: einen Tiegel 320 mit einem offenen oberen Abschnitt, der ein Beschichtungsmaterial bevorratet, einen Düsenabschnitt 330, der auf dem offenen oberen Abschnitt des Tiegels 320 angeordnet ist und mehrere Düsen 335 aufweist, eine Heizvorrichtung 340, die auf gegenüberliegenden Seiten des Tiegels 320 angeordnet ist und das in dem Tiegel 320 bevorratete Beschichtungsmaterial erhitzt, und ein Gehäuse 310, das den Tiegel 320, den Düsenabschnitt 330 und die Heizvorrichtung 340 aufnimmt.
  • Bei der Beschichtungsvorrichtung 100 gemäß einer Ausführungsform wurde beschrieben, dass die Verdampfungsquelle 300 im unteren Abschnitt der Prozesskammer 200 angeordnet und somit der obere Abschnitt des Tiegels 320 offen ist. Alternativ hierzu kann der Tiegel 320 auch je nach der Position der linearen Verdampfungsquelle 300 an einem seitlichen oder unteren Abschnitt offen sein.
  • Die Heizvorrichtung 340 ist so eingerichtet, dass sie das in dem Tiegel 320 bevorratete Beschichtungsmaterial erhitzt und verdampft. Die Heizvorrichtung 340 kann an einer der offenen Seite des Tiegels 320 gegenüberliegenden Seite des Tiegels 320 angeordnet sein. In diesem Fall dauert es einige Zeit, bis das Beschichtungsmaterial von der Heizvorrichtung 340 erhitzt und verdampft worden ist. Um dem neben der offenen Seite des Tiegels 320 angeordneten Beschichtungsmaterial die größtmögliche Wärme zuzuführen, damit das Beschichtungsmaterial leicht verdampft werden kann, ist bei einer Ausführungsform die Heizvorrichtung 340 auf Seiten des Tiegels 320 angeordnet, insbesondere auf gegenüberliegenden Seiten des Tiegels 320, wenn die Oberseite des Tiegels 320 wie in 2A und 2B gezeigt offen ist. Bei einer weiteren Ausführungsform ist die Heizvorrichtung 340 so angeordnet, dass sie die Seiten des Tiegels 320 umgibt.
  • Der Tiegel 320 umfasst mehrere Trennwände 325, die dazu dienen, einen Innenraum des Tiegels zu unterteilen, damit sich das bevorratete Beschichtungsmaterial nicht an einer Seite des Tiegels anhäuft. Jede Trennwand 325 ist in einem unteren Abschnitt mit mindestens einem Durchgangsloch 325b (oder mindestens einer Öffnung) versehen, damit das von der Heizvorrichtung 340 verdampfte Beschichtungsmaterial frei durch die Innenräume des Tiegels 320 strömen kann, die von den mehreren Trennwänden 325 unterteilt werden. Bei einer Ausführungsform weist das Loch 325b eine Kreisform oder eine Polygonform (dreieckig, quadratisch, fünfeckig usw.) auf. Das mindestens eine Loch 325b kann mehrere Löcher von im Wesentlichen derselben oder unterschiedlichen Größen aufweisen. Bei einer Ausführungsform sind die von den Trennwänden 325 unterteilten Innenräume des Tiegels dazu eingerichtet, das verdampfte Beschichtungsmaterial so lange untereinander auszutauschen, bis jeder der von den Trennwänden 325 unterteilten Innenräume des Tiegels im Wesentlichen dieselbe Menge Beschichtungsmaterial enthält. Dadurch wird eine quantitative Abweichung zwischen den in den Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien minimiert oder im Wesentlichen aufgehoben.
  • Hierbei ist jede Trennwand 325 in einem oberen Abschnitt mit einer abgestuften Aussparung 325a versehen, damit das von der Heizvorrichtung 340 verdampfte Beschichtungsmaterial wandern kann. Auf diese Weise kann das verdampfte Beschichtungsmaterial ausgelöst durch einen Druckunterschied gleichförmig durch die einzelnen Düsen 335 des Düsenabschnitts 330 zerstäubt werden.
  • 3A und 3B sind schematische Ansichten einer Trennwand in einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. Wie in 3A veranschaulicht ist, kann das in dem unteren Abschnitt der einzelnen Trennwände 325 ausgebildete Durchgangsloch 325b ein Loch mit einer vorbestimmten Fläche oder Form umfassen. Wie in 3B veranschaulicht ist, kann das in dem unteren Abschnitt der einzelnen Trennwände 325 ausgebildete Durchgangsloch einen Schlitz 325c umfassen, der sich in einer Richtung erstreckt, in die das Beschichtungsmaterial verdampft wird. Dadurch wird den Beschichtungsmaterialien, die in den von den mehreren Trennwänden 325 unterteilten Räumen verdampft werden, erlaubt, frei zu wandern, so dass die quantitative Abweichung zwischen den in den von den mehreren Trennwänden 325 unterteilten Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien weiter minimiert oder im Wesentlichen beseitigt werden kann.
  • Folglich ist die Beschichtungsvorrichtung 100 gemäß einer Ausführungsform so eingerichtet, dass in dem unteren Abschnitt der einzelnen Trennwände 325, die den Innenraum des Tiegels 320 der linearen Verdampfungsquelle 300 unterteilen, jeweils mindestens ein Durchgangsloch 325b oder 325c ausgebildet ist. Beim Verdampfen des in dem Tiegel 320 bevorrateten Beschichtungsmaterials wird somit dem verdampften Beschichtungsmaterial erlaubt, frei durch das Durchgangsloch 325b oder 325c im Innenraum des Tiegels 320 zu strömen, so dass die quantitative Abweichung zwischen den in den von den mehreren Trennwänden 325 unterteilten Räumen verbleibenden Beschichtungsmaterialien minimiert oder im Wesentlichen beseitigt werden kann.
  • Somit ist es gemäß mindestens einer der offenbarten Ausführungsformen möglich, beim Herstellen einer Flachbildanzeige wie etwa einer OLED-Anzeige eine im Wesentlichen gleichförmige Schicht auszubilden.
  • Die offenbarten Ausführungsformen sind nicht als einschränkend aufzufassen, daher sind viele Änderungen und Modifikationen möglich, ohne dabei vom Schutzumfang der Ansprüche abzuweichen.

Claims (10)

  1. Lineare Verdampfungsquelle (300) zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: einen Tiegel (320), der an einer seiner Seiten offen und zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; mehrere Trennwände (325), die einen Innenraum des Tiegels unterteilen, wobei jede der Trennwände in einem unteren Abschnitt mindestens eine Öffnung (325b, 325c) aufweist; einen Düsenabschnitt (330), der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen (335) umfasst; eine Heizvorrichtung (340), die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist; und ein Gehäuse (310), das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt.
  2. Lineare Verdampfungsquelle (300) nach Anspruch 1, wobei die Trennwände (325) einstückig mit dem Tiegel (320) ausgebildet sind.
  3. Lineare Verdampfungsquelle (300) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Öffnung einen Schlitz (325c) umfasst, der sich in einer Richtung erstreckt, in die das Beschichtungsmaterial verdampft wird.
  4. Lineare Verdampfungsquelle (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei in einem oberen Abschnitt der einzelnen Trennwände (325) jeweils eine abgestufte Aussparung (325a) ausgebildet ist.
  5. Lineare Verdampfungsquelle (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Heizvorrichtung (340) auf Seiten des Tiegels (320) angeordnet ist, wenn der Tiegel eine offene Oberseite aufweist.
  6. Lineare Verdampfungsquelle (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Beschichtungsmaterial ein organisches Material umfasst.
  7. Beschichtungsvorrichtung (100) zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: eine Prozesskammer (200); eine lineare Verdampfungsquelle (300) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, die im Innern der Prozesskammer angeordnet ist und zum Beinhalten und Zerstäuben eines Beschichtungsmaterials auf ein Substrat eingerichtet ist; und eine Substrathalterung (500), die im Innern der Prozesskammer angeordnet und zum Halten des Substrats eingerichtet ist, wobei die Substrathalterung in einem Abstand zu der Verdampfungsquelle angeordnet ist.
  8. Beschichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 7, die ferner eine Transporteinrichtung (400) aufweist, die dazu eingerichtet ist, die Verdampfungsquelle (300) in einer Richtung zu bewegen, die im Wesentlichen senkrecht zu einer Richtung verläuft, in der der Tiegel (320) offen ist.
  9. Beschichtungsvorrichtung (100) nach Anspruch 7 oder 8, die ferner ein Maskenmuster aufweist, das zwischen der Verdampfungsquelle (300) und der Substrathalterung (500) angeordnet ist.
  10. Beschichtungsvorrichtung (100) nach einem der Ansprüche 7 bis 9, die ferner ein Spannelement aufweist, das dazu eingerichtet ist, das auf der Substrathalterung (500) platzierte Substrat einzuspannen.
DE102010062937.5A 2009-12-17 2010-12-13 Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle Active DE102010062937B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090126143A KR101094299B1 (ko) 2009-12-17 2009-12-17 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치
KR10-2009-0126143 2009-12-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102010062937A1 true DE102010062937A1 (de) 2011-07-14
DE102010062937B4 DE102010062937B4 (de) 2021-07-15

Family

ID=44149291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102010062937.5A Active DE102010062937B4 (de) 2009-12-17 2010-12-13 Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle

Country Status (6)

Country Link
US (4) US8845807B2 (de)
JP (1) JP5409546B2 (de)
KR (1) KR101094299B1 (de)
CN (1) CN102102175B (de)
DE (1) DE102010062937B4 (de)
TW (1) TWI548763B (de)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101094299B1 (ko) 2009-12-17 2011-12-19 삼성모바일디스플레이주식회사 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치
KR101182265B1 (ko) * 2009-12-22 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치
DE102010055285A1 (de) * 2010-12-21 2012-06-21 Solarion Ag Photovoltaik Verdampferquelle, Verdampferkammer und Beschichtungsverfahren
JP5697500B2 (ja) * 2011-03-16 2015-04-08 株式会社アルバック 真空蒸着装置及び薄膜の形成方法
KR102124588B1 (ko) 2012-10-22 2020-06-22 삼성디스플레이 주식회사 선형 증착원 및 이를 포함하는 진공 증착 장치
CN104099570B (zh) * 2013-04-01 2016-10-05 上海和辉光电有限公司 单点线性蒸发源系统
KR102182114B1 (ko) * 2013-12-16 2020-11-24 삼성디스플레이 주식회사 증발장치
KR102227546B1 (ko) * 2014-01-20 2021-03-15 주식회사 선익시스템 대용량 증발원 및 이를 포함하는 증착장치
CN106062240B (zh) * 2014-03-11 2018-09-28 株式会社日本有机雷特显示器 蒸镀装置以及使用了蒸镀装置的蒸镀方法、以及器件的制造方法
CN103993268B (zh) 2014-04-30 2017-02-15 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚
KR20150145466A (ko) 2014-06-19 2015-12-30 최현범 선형증발원
CN104178734B (zh) * 2014-07-21 2016-06-15 京东方科技集团股份有限公司 蒸发镀膜装置
CN104233196B (zh) * 2014-09-01 2017-04-19 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀坩埚和蒸镀装置
CN105779944A (zh) * 2014-12-23 2016-07-20 中国电子科技集团公司第十八研究所 一种用于制备cigs太阳电池的线性蒸发源
KR101640558B1 (ko) * 2014-12-29 2016-07-18 (주)알파플러스 선형 진공 증발원의 가열장치
KR101642452B1 (ko) * 2015-01-23 2016-07-25 주식회사 파인에바 선형 증발 증착 장치
JP2018510969A (ja) * 2015-03-23 2018-04-19 ヌボサン,インコーポレイテッド 材料を蒸発させるための装置
KR102334408B1 (ko) 2015-04-10 2021-12-03 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
KR102376728B1 (ko) * 2015-07-07 2022-03-21 삼성디스플레이 주식회사 증착원, 이를 포함하는 증착 장치 및 증착 장치를 이용한 표시 장치의 제조 방법
CN105132866B (zh) * 2015-09-08 2018-02-16 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀机的加热源装置及蒸镀机
KR102608846B1 (ko) * 2015-10-06 2023-12-01 삼성디스플레이 주식회사 증착원 및 그 제조 방법
WO2017069369A1 (ko) * 2015-10-23 2017-04-27 주식회사 파인에바 선형 증발 증착 장치
JP6573559B2 (ja) * 2016-03-03 2019-09-11 東京エレクトロン株式会社 気化原料供給装置及びこれを用いた基板処理装置
US10876205B2 (en) 2016-09-30 2020-12-29 Asm Ip Holding B.V. Reactant vaporizer and related systems and methods
US11926894B2 (en) * 2016-09-30 2024-03-12 Asm Ip Holding B.V. Reactant vaporizer and related systems and methods
US10541386B2 (en) * 2018-01-30 2020-01-21 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Evaporation deposition equipment and evaporation deposition method
JP7376278B2 (ja) 2018-08-16 2023-11-08 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 固体原料昇華器
CN109411603A (zh) * 2018-10-17 2019-03-01 武汉华星光电技术有限公司 显示面板、发光材料蒸镀方法以及装置
CN110016647B (zh) * 2019-05-29 2020-09-08 昆山国显光电有限公司 蒸镀源清洁设备及蒸镀系统
US11624113B2 (en) 2019-09-13 2023-04-11 Asm Ip Holding B.V. Heating zone separation for reactant evaporation system
CN111424240B (zh) * 2020-05-29 2022-06-03 云谷(固安)科技有限公司 一种蒸镀坩埚
CN112609160B (zh) * 2020-12-29 2023-06-06 尚越光电科技股份有限公司 一种cigs共蒸法的蒸发源加热结构
US20230048728A1 (en) * 2021-08-12 2023-02-16 Applied Materials, Inc. Evaporator for effective surface area evaporation
KR20240007433A (ko) * 2022-07-08 2024-01-16 엘지전자 주식회사 선형 증발원
CN115287478B (zh) * 2022-08-05 2023-03-28 太仓市王秀有色金属铸件厂 一种镍磷合金成形设备
CN118064842A (zh) * 2024-04-22 2024-05-24 季华实验室 一种多蒸发源间隔蒸镀装置及镀膜方法

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2664852A (en) * 1950-04-27 1954-01-05 Nat Res Corp Vapor coating apparatus
US3647197A (en) * 1970-04-27 1972-03-07 Ford Motor Co Vacuum deposition
US4023523A (en) 1975-04-23 1977-05-17 Xerox Corporation Coater hardware and method for obtaining uniform photoconductive layers on a xerographic photoreceptor
JPS5322859A (en) 1976-08-17 1978-03-02 Taiei Shiyoukou Kk Method of forming track groove of ball bearing
GB2172015B (en) * 1984-06-12 1988-06-08 Ki Polt I Evaporator for vacuum deposition of films
JPS6293368A (ja) 1985-10-17 1987-04-28 Mitsubishi Electric Corp 蒸発源
JPS6353259A (ja) * 1986-08-22 1988-03-07 Mitsubishi Electric Corp 薄膜形成方法
JPH0613258A (ja) 1991-12-20 1994-01-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜積層コンデンサのパターン形成方法
US5253266A (en) * 1992-07-20 1993-10-12 Intevac, Inc. MBE effusion source with asymmetrical heaters
JPH0916960A (ja) * 1995-06-30 1997-01-17 Hitachi Maxell Ltd 情報記録媒体の製造装置
JP2000068055A (ja) * 1998-08-26 2000-03-03 Tdk Corp 有機el素子用蒸発源、この有機el素子用蒸発源を用いた有機el素子の製造装置および製造方法
US6830626B1 (en) * 1999-10-22 2004-12-14 Kurt J. Lesker Company Method and apparatus for coating a substrate in a vacuum
CN1175126C (zh) 1999-10-22 2004-11-10 寇脱J·莱斯克公司 在真空中涂覆基底的方法和设备
KR100490537B1 (ko) 2002-07-23 2005-05-17 삼성에스디아이 주식회사 가열용기와 이를 이용한 증착장치
JP2004068081A (ja) * 2002-08-06 2004-03-04 Canon Inc 真空蒸着装置における蒸発源容器
TWI252706B (en) 2002-09-05 2006-04-01 Sanyo Electric Co Manufacturing method of organic electroluminescent display device
KR100490371B1 (ko) 2002-11-05 2005-05-17 현대자동차주식회사 자동차용 루프 랙
JP2004259634A (ja) 2003-02-27 2004-09-16 Nippon Seiki Co Ltd 有機elパネルの製造方法、及びその有機elパネルの製造方法で用いられる有機層製膜装置
EP1491653A3 (de) * 2003-06-13 2005-06-15 Pioneer Corporation Aufdampfverfahren und Aufdampfvorrichtungen
US7547363B2 (en) * 2003-07-08 2009-06-16 Tosoh Finechem Corporation Solid organometallic compound-filled container and filling method thereof
KR100665951B1 (ko) 2004-02-23 2007-01-10 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광 소자의 증착원
JP4557170B2 (ja) 2004-11-26 2010-10-06 三星モバイルディスプレイ株式會社 蒸発源
KR101200693B1 (ko) 2005-01-11 2012-11-12 김명희 대면적 유기박막 제작용 선형 다점 도가니 장치
KR100666572B1 (ko) 2005-01-24 2007-01-09 삼성에스디아이 주식회사 유기물 증발장치
WO2006091598A2 (en) * 2005-02-22 2006-08-31 E-Science, Inc. Effusion cell valve
KR100635496B1 (ko) 2005-02-25 2006-10-17 삼성에스디아이 주식회사 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치
WO2006093813A2 (en) 2005-02-25 2006-09-08 THE TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF PENNSYLVANIA et al. Facially amphiphilic polymers and oligomers, compositions thereof, and use thereof in methods of treating cancer
WO2007026649A1 (ja) 2005-08-29 2007-03-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 蒸着ヘッド装置及び蒸着塗布方法
KR100711886B1 (ko) * 2005-08-31 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 무기 증착원 및 이의 가열원 제어방법
US20090087545A1 (en) 2005-09-20 2009-04-02 Tadahiro Ohmi Film Forming Apparatus, Evaporating Jig, and Measurement Method
JP2007113077A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 坩堝
KR100767036B1 (ko) 2006-05-24 2007-10-12 세메스 주식회사 노즐부를 구비한 증발원
KR101106289B1 (ko) * 2006-08-04 2012-01-18 순천향대학교 산학협력단 증착 공정을 위한 선형 증착 소스
KR20080036294A (ko) 2006-10-23 2008-04-28 주식회사 야스 증착 공정용 원추형 다중 노즐 증발원
JP4768584B2 (ja) 2006-11-16 2011-09-07 財団法人山形県産業技術振興機構 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置
JP2008208443A (ja) * 2007-02-28 2008-09-11 Sony Corp 蒸着成膜装置、蒸着成膜方法、および表示装置の製造方法
JP2008305560A (ja) 2007-06-05 2008-12-18 Canon Inc 有機el表示装置の製造方法
JP5081516B2 (ja) * 2007-07-12 2012-11-28 株式会社ジャパンディスプレイイースト 蒸着方法および蒸着装置
KR100928136B1 (ko) 2007-11-09 2009-11-25 삼성모바일디스플레이주식회사 유기물 선형 증착 장치
KR100830839B1 (ko) 2008-02-12 2008-05-20 문대규 증발원
KR101094299B1 (ko) 2009-12-17 2011-12-19 삼성모바일디스플레이주식회사 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US20110146579A1 (en) 2011-06-23
JP5409546B2 (ja) 2014-02-05
US20180155831A1 (en) 2018-06-07
JP2011127217A (ja) 2011-06-30
US20190323119A1 (en) 2019-10-24
US20140373784A1 (en) 2014-12-25
DE102010062937B4 (de) 2021-07-15
KR101094299B1 (ko) 2011-12-19
CN102102175A (zh) 2011-06-22
US10081867B2 (en) 2018-09-25
US8845807B2 (en) 2014-09-30
TWI548763B (zh) 2016-09-11
CN102102175B (zh) 2015-02-18
TW201125995A (en) 2011-08-01
US10364488B2 (en) 2019-07-30
US10907245B2 (en) 2021-02-02
KR20110069418A (ko) 2011-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102010062937B4 (de) Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle
DE102010062945A1 (de) Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit Verdampfungsquelle
DE602004000051T2 (de) Verfahren zum Beschichten von grossflächigen Substraten
DE10392223T5 (de) Linien- oder Flächen-Verdampfer zum Steuern des Schichtdickenprofils
EP1752554B1 (de) Bedampfervorrichtung
DE60305246T2 (de) Quelle zur thermischen PVD-Beschichtung für organische elektrolumineszente Schichten
DE69806650T2 (de) Vorrichtung zur Abscheidung eines Films aus der Gasphase und Gasinjektionsdüse
DE60318170T2 (de) Vakuumverdampfer
DE3885536T2 (de) Verdampfer mit mehreren parallelen Säulen mit Füllkörpern.
DE19581483B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bildung von Dünnschichten
DE69623213T2 (de) Verfahren und Anlage zum Düsebeschichten
DE112010001483T5 (de) Abscheidungskopf und Filmbildungsvorrichtung
DE102013219628B4 (de) Applikations-Element, Vorrichtung und Verfahren zum Aufbringen einer Schicht eines viskosen Materials auf ein Substrat sowie eine Vorform
WO2009121700A1 (de) Verdampferkörper
DE10128091C1 (de) Vorrichtung für die Beschichtung eines flächigen Substrats
DE69013444T2 (de) Vorrichtung zur Bildung einer dünnen Schicht.
EP1422313A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Aufdampfen eines Beschichtungsmaterials im Vakuum mit kontinuierlicher Materialnachführung
WO1994025177A1 (de) Vorrichtung zur belackung oder beschichtung von platten oder scheiben
WO2015107154A2 (de) Modul zum zuführen von trocknungsgas und zum abführen von mit dampf beladenen gas sowie vorrichtung zum trocknen eines substrats
DE102015101461A1 (de) Vorrichtung zum Beschichten eines großflächigen Substrats
WO2006037516A1 (de) Vorrichtung für die beschichtung eines bandörmigen substrates
DE102012107966A1 (de) Verdampfereinrichtung und Koverdampfersystem für eine Beschichtungsanlage
EP1475458B1 (de) Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats.
DE4418144A1 (de) Vorrichtung zum Beaufschlagen einer Fadenschar mit Flüssigkeit
DE102013108411B4 (de) Durchlauf-Substratbehandlungsanlage

Legal Events

Date Code Title Description
R082 Change of representative

Representative=s name: ANWALTSKANZLEI GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHNEIDE

Representative=s name: ANWALTSKANZLEI GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHN, DE

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD., YONGIN-CITY, KR

Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG MOBILE DISPLAY CO., LTD., YONGIN, KYONGGI, KR

Effective date: 20110826

Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD., KR

Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG MOBILE DISPLAY CO., LTD., YONGIN, KR

Effective date: 20110826

R082 Change of representative

Representative=s name: GULDE & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWALTSKANZL, DE

Effective date: 20110826

Representative=s name: GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHNEIDER, DE

Effective date: 20110826

R082 Change of representative

Representative=s name: GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHNEIDER, DE

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD., YONGIN-CITY, KR

Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG MOBILE DISPLAY CO., LTD., YONGIN, KYONGGI, KR

Effective date: 20121026

Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD., KR

Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG MOBILE DISPLAY CO., LTD., YONGIN, KR

Effective date: 20121026

R082 Change of representative

Representative=s name: GULDE & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWALTSKANZL, DE

Effective date: 20121026

Representative=s name: GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHNEIDER, DE

Effective date: 20121026

R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final