CN1945778A - 制造等离子体显示面板的方法 - Google Patents

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Abstract

一种制造等离子体显示面板的方法，凭借该方法，在前基底上形成寻址电极，形成绿带以覆盖寻址电极，通过对绿带进行曝光、显影并烘焙来形成介电层图案，将用于显示电极的组合物填充在介电层图案中，随后烘焙，以形成图案化的显示电极，形成介电层以覆盖图案化的显示电极，从而制造出前基底。绿带包括：第一绿带，使用介电组合物来形成；第二绿带，形成在第一绿带上，并使用光敏介电组合物。

Description

制造等离子体显示面板的方法
                         技术领域
本发明涉及一种制造等离子体显示面板的方法。更具体地讲，本发明涉及一种制造等离子体显示面板的方法，在该方法中，采用双层绿带(greensheet)在单个工艺中形成覆盖寻址电极的介电层和覆盖显示电极的介电层，从而简化了制造工艺，并减少了制造时间和次品。
                        背景技术
等离子体显示面板(在这里称作PDP)是采用等离子体放电的显示装置。等离子体放电发射的真空紫外(在这里称作VUV)线激发荧光体层，接着，荧光体层发射可见光。可见光用于显示图像。近来，已经将PDP制造成为屏幕尺寸为60英寸或更大且厚度为10厘米或更小的薄型宽屏幕装置。另外，由于它与阴极射线管(CRT)一样是自发光装置，所以PDP具有优异的色彩再现性。此外，PDP没有与它的视角相关的图像扭曲。
此外，因为可通过比制造液晶显示器(LCD)的方法更简单的方法来制造PDP，所以可以以低生产成本和高生产率来生产PDP。因此，PDP被认为是用于工业和家庭电视的下一代平板显示装置。
自二十世纪七十年代以来，已经开发出各种结构的PDP。最近几年中，已经广泛地采用三电极表面放电型PDP。在三电极表面放电PDP中，包括扫描电极和维持电极的两个电极设置在一个基底上，一个寻址电极在与扫描电极和维持电极交叉的方向上设置在另一基底上。这两个基底彼此隔开，以提供放电室。放电室填充有放电气体。通常，在三电极表面放电PDP中，通过寻址放电来确定放电的存在。特别地，在独立控制的扫描电极和与扫描电极相对的寻址电极之间，产生寻址放电作为对向放电，在设置在同一个基底上的扫描电极和维持电极之间，产生与亮度有关的维持放电作为表面放电。
通常的AC三电极表面放电PDP包括彼此面对的前基底和后基底。寻址电极沿着一个方向设置在后基底上，介电层设置在整个前基底上以覆盖寻址电极。多个障肋设置在介电层上以限定放电室。红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)荧光体层设置在通过障肋划分的各放电室中。显示电极对在与寻址电极的方向交叉的方向上设置在前基底上。显示电极的每一对包括透明电极和汇流电极。介电层和由一氧化镁(MgO)制成的保护层顺序地形成在前基底的整个表面上，以覆盖显示电极。后基底的寻址电极和显示电极对之间的交叉处对应于放电室。
通常使用图案印刷法来形成这样结构的等离子体显示面板中的金属电极。图案印刷法相对简单，且可以以窄的间隔来制造金属电极。然而，局限在于，形成的电极宽度细小，且该方法不适于大屏幕和高清晰度的高分辨率PDP。
                         发明内容
本发明的示例性实施例提供了一种制造等离子体显示面板的方法，该方法简化了制造工艺，并减少了制造时间和次品。
根据本发明的实施例，制造等离子体显示面板的方法包括以下工序。在前基底上形成寻址电极，形成绿带以覆盖寻址电极，通过曝光、显影来形成介电层图案，烘焙绿带，将用于显示电极的组合物填充在介电层图案中，随后烘焙以形成图案化的显示电极，形成介电层以覆盖图案化的显示电极。绿带包括：第一绿带，采用介电组合物(即，用于第一介电层的组合物)来形成；第二绿带，形成在第一绿带上，并采用光敏介电组合物(即，用于第二介电层的光敏组合物)。
基于用于第一介电层的组合物的总重量，用于第一介电层的组合物可包括按重量计50-70％的玻璃粉。
所述玻璃粉可包括从由ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、SnO、P2O5、Sb2O3、Bi2O3组成的组中选择的至少一种。所述玻璃粉还可包括从由族1至族5金属元素的氧化物、镧系元素的氧化物和族1金属元素的氟化物组成的组中选择的至少一种材料。
用于第二介电层的光敏组合物可包括玻璃粉、光敏粘合剂、具有至少两个乙烯基双键的交联化合物、光聚合引发剂和溶剂。
根据本发明的另一实施例，制造等离子体显示面板的方法包括以下工序。在前基底上形成寻址电极，形成绿带以覆盖寻址电极，通过曝光、显影来形成介电层图案，烘焙绿带，将用于显示电极的组合物填充在介电层图案中，并随后烘焙以形成图案化的显示电极，形成介电层以覆盖图案化的显示电极，从而制造出前基底，在后基底上形成图案化的障肋，在障肋上形成荧光体层，将制造出的前基底和后基底组装在一起，抽真空，并密封。绿带包括：第一绿带，采用用于第一介电层的组合物来形成；第二绿带，形成在第一绿带上，并采用用于第二介电层的光敏组合物。
根据本发明的又一实施例，用于形成等离子体显示面板的介电层的绿带包括：第一绿带，包括介电组合物；第二绿带，形成在第一绿带上，第二绿带包括光敏介电组合物。
                         附图说明
下面通过结合附图进行详细描述，对本发明更加完全的理解、本发明许多以上和其他特征及优点将更加清楚且被更好地理解，在附图中，相同的标号表示相同或相似的组件，其中：
图1是示出根据本发明一个实施例的制造等离子体显示面板的方法的示意流程图；
图2是示出根据本发明一个实施例的等离子体显示面板的示意分解透视图。
                       具体实施方式
通常，采用印刷法来形成等离子体显示面板的具有预定高度的电极。然而，应重复执行印刷法，以获得预定的高度或更高的高度。因此，需要更多的加工工艺，由于不统一执行各加工工艺，所以难以获得期望的图案。
在本发明中，采用双层的绿带来形成介电层。绿带包括：第一绿带，采用用于第一介电层的组合物来形成；第二绿带，形成在第一绿带上，并采用用于第二介电层的光敏组合物。因而，在单个工序中将一个介电层形成在寻址电极上并形成另一介电层以覆盖显示电极。也可容易地形成具有相同高度和形状的显示电极。
根据本发明的实施例，制造等离子体显示面板的方法包括以下工序：
在前基底上形成寻址电极(S1)；
形成绿带，以覆盖寻址电极(S2)；
通过曝光、显影来形成介电层图案，并烘焙绿带(S3)；
将用于显示电极的组合物填充在介电层图案中，并随后烘焙，以形成图案化的显示电极(S4)；
形成介电层，以覆盖图案化的显示电极(S5)。
绿带包括：第一绿带，采用用于第一介电层的组合物来形成；第二绿带，形成在第一绿带上，并采用用于第二介电层的光敏组合物。
图1是示出根据本发明一个实施例的制造等离子体显示面板的方法的示意流程图。
参照图1，在前基底20上形成寻址电极32(S1)。
基底20可以是片状的绝缘基底，例如，是由玻璃、硅、氧化铝等制成的绝缘基底，优选地是玻璃基底。绝缘基底可以经历预处理，例如采用硅烷偶合剂的试剂处理、等离子体处理或采用离子镀法、溅射法、气相反应法、真空沉积法等来形成薄膜。
寻址电极32可包括凸出电极32a和汇流电极32b。凸出电极32a可以是适于形成面板的开口的透明电极，例如ITO(氧化铟锡)电极。汇流电极32b可以是金属电极例如银，以补偿透明电极的高电阻，从而改善其导电性。
可以根据传统的方法形成凸出电极和汇流电极。
例如，可以采用光刻法来形成凸出电极32a。更具体地讲，将ITO溅射在基底上，将干膜光致抗蚀剂(在下文中称作DFR)层叠在其上，随后根据凸出电极的形状通过曝光和显影将DFR图案化。随后，执行蚀刻并剥离DFR图案，然后烘焙，以形成凸出电极32a。
可以采用光敏糊法来形成汇流电极32b。更具体地讲，涂覆用于形成汇流电极的包括银的光敏糊，随后抹平并干燥。然后，将它曝光，可通过采用光掩模的间接曝光或直接曝光来执行曝光。重复干燥和曝光三次或更多的次数，然后显影并烘焙，以形成具有预定图案的汇流电极32b。
随后在寻址电极32上形成绿带280，以覆盖寻址电极(S2)。
绿带280具有双层结构，所述双层结构包括：第一绿带280a，由用于第一介电层的组合物制成；第二绿带280b，形成在第一绿带上，并由用于第二介电层的光敏组合物制成。
用于第一介电层的组合物可以是用于形成介电层的通常的组合物，并不受特定地限制。它可包括优选地对环境或人类无害的无铅玻璃粉。玻璃粉的非限制性的示例包括从由ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、SnO、P2O5、Sb2O3和Bi2O3组成的组中选择的至少一种。根据本发明的优选实施例，它可包括从由一氧化锌-氧化硼-氧化硅(ZnO-B2O3-SiO2)、一氧化锌-氧化硼-氧化硅-氧化铝(ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3)、氧化铋-氧化硼-氧化硅(Bi2O3-B2O3-SiO2)、氧化铋-氧化硼-氧化硅-氧化铝(Bi2O3-B2O3-SiO2-Al2O3)、氧化铋-一氧化锌-氧化硼-氧化硅(Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2)和氧化铋-一氧化锌-氧化硼-氧化硅-氧化铝(Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3)组成的组中选择的至少一种。
玻璃粉可包括从由族1至族5金属元素的氧化物、镧系元素的氧化物和族1金属元素的氟化物组成的组中选择的至少一种。根据一个实施例，玻璃粉可包括从由Na2O、Li2O、K2O、Cs2O、MgO、CaO、SrO、BaO、Sc2O3、Y2O3、TiO2、ZrO2、V2O5、Nb2O5、La2O3、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3、LiF、NaF和KF组成的组中选择的至少一种。族1至族5金属元素指根据新的IUPAC协定的元素周期表的族1至族5的元素，例如，包括Li(族1)、Be(族2)、Sc(族3)、Ti(族4)和V(族5)。
通过将所有的组分混合，熔化、干冷、干磨并将它们粉碎来制备玻璃粉。根据该方法制备的玻璃粉具有良好的细度和颜色。
玻璃粉不局限为任何形状，但是优选地为球形形状。玻璃粉的平均颗粒直径范围为0.1μm至5μm，优选地为0.5μm至2μm。当玻璃粉的平均颗粒直径不在以上范围内时，烘焙后形成的介电层图案的表面不均匀，且会降低图案的线性。
基于用于第一介电层的组合物的总重量，用于第一介电层的组合物可包括按重量计50-70％的玻璃粉，优选地可包括按重量计55-65％的玻璃粉。当玻璃粉的量按重量计小于50％时，需要更多量的粘合剂和增塑剂，因此组合物的烧结特征会劣化。当玻璃粉的量按重量计大于70％时，粘合剂和增塑剂的相对量减少，因此难以处理和加工。
用于第一介电层的组合物可包括形成介电层通常用到的余量的溶剂、粘合剂或增塑剂。
用于第二介电层的光敏组合物包括i)玻璃粉、ii)光敏粘合剂、iii)具有至少两个乙烯基双键的交联化合物、iv)光聚合引发剂和v)溶剂。
所述玻璃粉与用在用于第一介电层的组合物中的玻璃粉相同。
基于用于第二介电层的光敏组合物的总重量，用于第二介电层的光敏组合物可包括按重量计50-65％的玻璃粉，优选地可包括按重量计55-60％的玻璃粉。当玻璃粉的量按重量计小于50％时，组合物的烧结特征会劣化。当玻璃粉的量按重量计大于65％时，难以处理和加工。
光敏粘合剂可以是可通过光引发剂交联的聚合物，且在形成介电层的图案的过程中可容易地通过显影来被去除。
这样的光敏粘合剂可以是在光致抗蚀剂组合物中通用的丙烯酰基树脂、苯乙烯树脂、酚醛树脂或聚酯树脂。根据一个实施例，光敏粘合剂可以是通过将从由a)具有羧基基团的单体、b)具有OH基团的单体和c)可共聚的另一单体组成的组中选择的至少一种单体聚合来获得的聚合物。
a)具有羧基基团的单体
具有羧基基团的单体可包括丙烯酸、甲基丙烯酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、亚甲基丁二酸、甲基顺丁烯二酸、甲基反丁烯二酸、肉桂酸、单(丙烯酰基乙氧基)丁二酸、单(2-甲基丙烯酰基乙氧基)丁二酸、ω-羧基-聚己内酯单丙烯酸酯或ω-羧基-聚己内酯单甲基丙烯酸酯。
b)具有OH基团的单体
具有OH基团的单体可包括丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、甲基丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸-3-羟基丙酯、甲基丙烯酸-3-羟基丙酯或具有OH基团的酚单体，具有OH基团的酚单体例如为邻羟基苯乙烯、间羟基苯乙烯、对羟基苯乙烯等。
c)可共聚的另一单体
可共聚的另一单体可包括：丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，例如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸正十二酯、甲基丙烯酸正十二酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸二环戊基酯、甲基丙烯酸二环戊基酯、磷酸酯丙烯酸酯(phosphate acrylate)；芳香乙烯基单体，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯等；共轭二烯，例如丁二烯、异戊二烯等；具有可聚合的不饱和基团例如在聚合物链的一端的丙烯酰基团或甲基丙烯酰基团的大单体(聚合物)，例如聚苯乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯酸苯酯、聚甲基丙烯酸苯酯等。
光敏粘合剂的数均分子量(Mn)的范围为5000至50000，使得它可具有将用于第二介电层的光敏组合物涂覆在基底上的合适的粘度，且在显影工艺过程中可以分解。当光敏粘合剂的分子量小于5000时，在显影工艺过程中光敏介电层不能紧密地附着。当光敏粘合剂的分子量大于50000时，它可引发显影失败。光敏粘合剂的酸值范围为20mgKOH/g至100mgKOH/g。当酸值小于20mgKOH/g时，光敏粘合剂难以溶解在碱的水溶液中，这导致显影失败。当酸值大于100mgKOH/g时，在显影工艺过程中光敏介电层不能紧密地附着，或者曝光部分会溶解。
基于用于第二介电层的光敏组合物的总重量，可以以按重量计5-10％的量来使用光敏粘合剂，优选地以按重量计5-7％的量来使用光敏粘合剂。当光敏粘合剂的量按重量计小于5％时，印刷性质差，然而当光敏粘合剂的量按重量计大于10％时，会导致显影失败，或者烘焙之后残余物会残留在介电层周围。
具有至少两个乙烯基双键的交联化合物是可通过光引发剂来进行自由基聚合反应的任何化合物，且它不受特定地限制。例如，它可包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或者通过多元酸和丙烯酸羟烷酯或甲基丙烯酸羟烷酯反应获得的单酯、二酯、三酯或更高级的酯。多元酸可包括邻苯二甲酸、己二酸、顺丁烯二酸、亚甲基丁二酸、偏苯三酸、对苯二酸等。可单独使用、组合使用所列的单体，或者使用所列的单体的共聚物。根据一个实施例，交联化合物可以是从由1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯衍生物、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、环氧乙烷改性的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇聚丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、山梨醇三甲基丙烯酸酯、双酚A二甲基丙烯酸酯衍生物、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改性的三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇聚甲基丙烯酸酯及其共聚物等组成的组中选择的至少一种。
基于光敏粘合剂的量以预定的比率来添加交联化合物。将光敏粘合剂的重量作为100份，可以以20份至150份的量来添加交联化合物。当基于用于第二介电层的光敏组合物来计算交联化合物的量时，基于用于第二介电层的光敏组合物的总重量，交联化合物的量按重量计对应于1-15％，优选地对应于3-10％。当交联化合物的量按重量计小于1％时，在形成介电层的曝光过程中曝光敏感度会降低，在显影过程中会形成介电层图案的缺陷。当交联化合物的量按重量计大于15％时，会发生过度交联，从而在显影之后会形成粗糙图案，会降低图案的线性。
光聚合引发剂可包括在曝光工艺中产生自由基并引发交联化合物的交联反应的任何化合物，且它不受特定地限制。光聚合引发剂的典型示例包括：苯偶姻、苯偶姻烷基醚例如苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚；苯乙酮系化合物，例如苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1，1-二氯苯乙酮；氨基苯乙酮，例如α-氨基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮；蒽醌，例如2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌；噻吨酮，例如2，4-二甲基噻吨酮；缩酮，例如乙酰苯二甲基缩酮(acetophenonedimethylketal)、苯偶酰二甲基缩酮(benzyldimethylketal)等；二苯甲酮；呫吨酮；三嗪；咪唑；氧膦，例如2，6-二甲氧基苯甲酰基-2，4，4-三甲基戊基氧膦、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧膦、乙基-2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基氧膦等；各种过氧化物。优选地，可使用α-氨基苯乙酮(Irgacure907 Ciba Specialty Chemicals Ltd.)。
基于交联化合物的量以预定比率来添加光聚合引发剂。将交联化合物的重量作为100份，可以以10份至50份的量来添加光聚合引发剂。当基于用于第二介电层的光敏组合物来计算光聚合引发剂的量时，基于用于第二介电层的光敏组合物的总重量，光聚合引发剂的量按重量计对应于0.1-8％，优选地对应于0.3-5％。当光聚合引发剂的量按重量计小于0.1％时，曝光敏感度会降低且难以获得良好的图案，且图案的线性会降低。当光聚合引发剂的量按重量计大于8％时，存储稳定性会降低且会发生过度交联，从而会在显影后形成粗糙的图案。
用于第二介电层的光敏组合物包括溶剂，以改进组合物的涂覆。
可根据用于第二介电层的光敏组合物的溶解性质和涂覆性质来选择合适的溶剂。典型的示例包括：酮，例如二乙基甲酮、甲基丁基甲酮、二丙基甲酮、环己酮等；醇，例如正戊烯醇、4-甲基-2-戊烯醇、环己醇、双丙酮醇等；醚基醇，例如乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚等；饱和脂肪单羧酸烷基酯，例如乙酸正丁酯、乙酸戊酯；乳酸酯，例如乳酸乙酯、乳酸正丁酯等；醚基酯，例如甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇单2-甲基丙酸酯等。可以单独使用或混合使用溶剂。
可以以用于第二介电层的光敏组合物的余量来使用溶剂。基于用于第二介电层的光敏组合物的总重量，可以以按重量计4-30％的量来使用溶剂，优选地可以以按重量计10-25％的量来使用溶剂，以获得具有合适粘度的组合物。
根据将要获得的组合物的性质，用于第二介电层的光敏组合物可包括添加剂。
添加剂可包括：敏化剂，用于提高敏感度；光聚合抑制剂，用于改善涂覆组合物的存储稳定性，例如磷酸、磷酸酯或含羧酸的化合物；氧化抑制剂；紫外线吸收剂，用于改善分辨率；消泡剂，用于减少涂覆组合物中的孔隙，例如硅基或丙烯酸系化合物；分散剂，用于改善分散性质；流平剂(levelingagent)，用于改进印刷层的平整度，例如聚酯改性的二甲基聚硅氧烷、聚羟基羧酸酰胺、硅基聚丙烯酸酯共聚物、氟基石蜡化合物；或增塑剂，用于改善触变性。可以以适当的量根据需要来添加添加剂。
通过将玻璃粉、光敏粘合剂、具有至少两个乙烯基双键的交联化合物和光聚合引发剂分散在溶剂中来制备用于第二介电层的光敏组合物。首先可将光敏粘合剂和光聚合引发剂混合，然后添加玻璃粉、交联化合物和溶剂来将混合物分散。
可使用通常的涂覆法例如刀片涂覆或模涂覆将用于第一介电层的组合物和用于第二介电层的光敏组合物涂覆在例如聚对苯二甲酸乙二酯膜的支撑体上，随后干燥以除去溶剂。因而，形成膜状的第一绿带280a和第二绿带280b。将第一绿带280a和第二绿带280b彼此堆叠，以制成绿带280。
第一绿带280a可以比第二绿带280b厚。根据一个实施例，可以以3∶1至4∶1的厚度比来形成第一绿带280a和第二绿带280b。当第二绿带280b比第一绿带280a厚时，会增加成本，且会难以获得高清晰度的图案。
根据等离子体显示面板的显示电极的厚度，第二绿带280b具有5μm-30μm的厚度，优选地具有8μm-25μm的厚度，更加优选地具有10μm-20μm的厚度。
绿带280层叠在寻址电极32形成在其上的基底20上，随后对绿带280进行曝光和显影，并烘焙以形成介电层28的图案(S3)。
可对光敏的第二绿带280b执行曝光。将UV射线通过图案化的光掩模任意地辐射到第二绿带280b来执行曝光。可选地，可以以直接图像化(DI)的方式来执行曝光。
卤素灯、高压汞灯、激光、金属卤素灯、黑光灯、无电极灯等可用于曝光光源。曝光量的范围是50mJ/cm2-1000mJ/cm2。
曝光之后，通过喷洒显影溶液或者浸在显影溶液中来执行显影工艺。显影溶液可以是碱的水溶液。所述碱可以从由无机碱化合物和有机碱化合物组成的组中选择，无机碱化合物例如为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、磷酸氢钠、磷酸氢二铵、磷酸氢二钾、磷酸氢二钠、磷酸二氢铵、磷酸二氢钾、磷酸二氢钠、硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、硼酸锂、硼酸钠、硼酸钾、氨等，有机碱化合物例如为氢氧化四甲铵、氢氧化三甲基羟乙铵、一甲胺、二甲胺、三甲胺、一乙胺、二乙胺、三乙胺、一异丙胺、二异丙胺、乙醇胺等。
显影溶液的浓度范围为0.1-1％，优选地为0.2-0.6％。当浓度小于0.2％时，形成图案的时间延长，而当浓度大于1％时，图案均匀性降低。
显影溶液的温度为25℃-55℃，优选地为30℃-45℃。当温度低于25℃时，显影时间变长，而当温度高于40℃时，形成图案的工艺余量减小。
通过曝光，光聚合引发剂被暴露于紫外线并分解，以产生自由基。活性基进攻交联化合物的双键，以引发聚合反应。交联化合物在一个分子中具有至少两个双键，从而通过聚合反应形成具有三维网络结构的聚合物。该聚合物不被显影溶液去除。
当在显影过程中非曝光部分的光敏粘合剂被碱的水溶液溶解掉时，玻璃粉和未反应的交联化合物一起被去除。从而，非曝光部分具有与曝光部分的形状不同的形状，以形成图案化的第二介电层28b。
显影工艺之后，可通过冲洗或采用酸进行中和来去除任何不必要的显影溶液。
然后，烘焙图案化的第二介电层28b。根据以上工艺，在第二介电层28b中同时形成放电室18’和用于形成显示电极的空间21’及23’。
可在480℃-620℃的温度范围内执行烘焙工艺，优选地可在500℃-580℃的温度范围内执行烘焙工艺。烘焙工艺进行3至6个小时，优选地进行4至5个小时。当烘焙温度和时间不在该范围内时，不能完全去除湿气，也不能完全去除粘合剂。
随后，将用于形成显示电极的组合物填充在介电层的图案中，然后烘焙，以形成图案化的显示电极(S4)。
更具体地讲，将用于形成显示电极的组合物填充在第二介电层28b的图案之间用于形成显示电极的空间21’和23’中，以形成包括维持电极21和扫描电极23的显示电极25。
用于形成显示电极的组合物可以是制造显示电极通用的组合物，并没有限制。该组合物可包括从由银(Ag)、金(Au)、铝(Al)、铜(Cu)、镍(Ni)、铬(Cr)和银-钯合金(Ag-Pd)组成的组中选择的至少一种金属。
可在500℃-600℃的温度下，优选地在550℃-580℃的温度下执行形成图案化的显示电极过程中的烘焙工艺。烘焙时间可以是3至6个小时，优选地是4至5个小时。当烘焙温度和时间不在该范围内时，会形成孔隙。
形成图案化的显示电极之后，形成第三介电层28c，以覆盖显示电极25(S5)。
更具体地讲，涂覆用于第三介电层的组合物以覆盖显示电极25，然后烘焙以形成第三介电层28c。第三介电层28c可延伸为覆盖第二介电层28b及显示电极25。
可采用用于第一介电层的通常的涂覆组合物和涂覆法来形成第三介电层。更加优选地，可采用与用于第一介电层的组合物相同的组合物来形成第三介电层。
形成图案化的显示电极之后，可另外地形成保护层，以覆盖形成在显示电极上的介电层。
保护层可包括从氟化物层和氧化物层组成的组中选择的至少一种层。更具体地讲，保护层可包括：氟化物化合物，例如MgF2、CaF2或LiF；氧化物化合物，例如MgO、Al2O3、ZnO、CaO、SrO、SiO2或La2O3。
可以以任一使用糊的厚层印刷法或使用等离子体的沉积法来形成保护层，但是所述方法并不局限于此。通过沉积法形成的保护层对离子冲击具有较好的抵抗力，并可释放二次电子，从而降低了放电维持电压和放电初始电压。
等离子体沉积法可包括磁控管溅射法、电子束沉积、IBAD(离子束辅助沉积)、CVD(化学气相沉积)、离子镀法等。
在后基底上，根据传统方法可相继形成预定形状的障肋和荧光体层。
将制造出的后基底和前基底彼此组装在一起，然后抽真空并将它们密封，以制造等离子体显示面板。
如上所述，使用双层绿带在单个工艺中形成覆盖寻址电极的介电层和覆盖显示电极的介电层，因而简化了制造工艺并减少了制造时间和次品。
本发明还提供了一种制造等离子体显示面板的方法。
图2是示出根据本发明一个实施例的等离子体显示面板的示意分解透视图。等离子体显示面板包括：后基底10和前基底20，以在它们之间的预定间隔彼此相对地设置；多个放电室18和18’，在后基底10和前基底20之间通过障肋16隔开。吸收紫外线并释放可见光的荧光体层19形成在障肋16的侧壁上和放电室18及18’的底表面上，在放电室18和18’中填充有放电气体，例如氙(Xe)、氖(Ne)等，以引发等离子体放电。
寻址电极32沿着一个方向(图中的y轴方向)设置在前基底20上。介电层28设置在前基底20的整个内表面上，以覆盖寻址电极32。以在寻址电极32之间预定的间隔来布置相邻的寻址电极32。
寻址电极32的每个包括凸出电极32a和汇流电极32b。汇流电极32b沿着放电室18和18’的一个边缘延伸。凸出电极32a从汇流电极32b朝放电室18和18’的相对的边缘延伸。如以上在制造等离子体显示面板的方法中所述，凸出电极32a是由例如氧化铟锡(ITO)制成的透明电极，以增大面板的开口率。汇流电极32b优选地是通过补偿凸出电极32a的高电阻来增大汇流电极32b的导电性的金属电极。凸出电极32a优选地可具有矩形形状。
显示电极25设置在寻址电极32附近。显示电极25通过前介电层28与寻址电极32电绝缘并与寻址电极32隔开。
各放电室中的显示电极25的每个包括维持电极21和扫描电极23。维持电极21和扫描电极23在与寻址电极32交叉的方向(图中的x方向)上延伸。在维持期间，维持电极21用来施加放电电压。在复位、寻址和维持期间，扫描电极23用来施加放电电压。复位、寻址和维持期间的所有放电均涉及扫描电极23。维持电极21主要涉及维持期间的放电。电极的功能根据施加到电极的放电电压改变。因此，电极不局限于上述的功能。
在图2中，维持电极和扫描电极的各对设置在一个放电室中。可选地，维持电极或扫描电极可设置在相邻的放电室的边界处，因而维持电极或扫描电极用于两个相邻的放电室。
在这个实施例中，维持电极21和扫描电极23在某方向(与图中z方向相反的方向)上从前基底20向后基底10凸出。另外，维持电极21和扫描电极23彼此面对，以限定它们之间的空间。在维持电极21和扫描电极23之间的空间中产生对向放电。
在该实施例中，维持电极21、扫描电极23和寻址电极32以不同的层形成，且通过介电层28电绝缘。介电层28包括第一介电层28a、第二介电层28b和第三介电层28c。形成第一介电层28a，以覆盖前基底20中的寻址电极32。形成第二介电层28b，以环绕维持电极21和扫描电极23，维持电极21和扫描电极23是设置在第一介电层28a上的显示电极25。形成第三介电层28c，以覆盖暴露于放电室的显示电极25。
采用由用于第一介电层的组合物制备的第一绿带来形成第一介电层28a。采用由用于第二介电层的光敏组合物制备的第二绿带来形成第二介电层28b。第二绿带形成在第一绿带上，随后执行曝光、显影和烘焙。在以上工艺过程中，光敏组分在第二绿带中反应，以形成介电层图案。随后，将用于显示电极的组合物填充在介电层图案中，以形成图案化的显示电极。
可形成第三介电层28c，以覆盖朝放电室设置的显示电极25。可根据传统的方法采用与用于第一介电层28a的组合物相同的组合物来形成第三介电层28c。
MgO保护层29可形成在第一介电层28a、第二介电层28b和第三介电层28c上，以保护它们在等离子体放电过程中不受离子的冲击。另外，由于MgO保护层29具有相对于冲击离子高的二次电子发射系数，所以MgO保护层29可提高放电效率。
在后基底10上，设置图案化的障肋16。在这个实施例中，障肋16包括第一障肋构件16a和第二障肋构件16b。第一障肋构件16a在与寻址电极32平行的方向上延伸，第二障肋构件16b与第一障肋构件16a交叉并将各放电室18和18’划分成独立的空间。可以以各种结构例如条纹和矩阵结构来设置障肋。在条纹结构中，纵向障肋彼此平行设置且与寻址电极平行设置。在矩阵结构中，各放电室被划分为独立的室。
如图2所示，介电层14可形成在后基底10上。
在根据本发明的这个实施例的PDP中，与放电室18中的放电相关的所有电极设置在前基底20上。即，寻址电极32和显示电极25(维持电极21和扫描电极23)设置在前基底20上。结果，可增大通过障肋16划分的放电空间。因而，可增大涂覆的荧光体层的面积，从而可提高放电效率。另外，在荧光体层上的相关的电荷积聚可防止由离子溅射引起的荧光体层的寿命缩短。
下面的示例更加详细地说明了本发明。然而，应该理解，本发明不受这些示例限制。
示例
制备例1：绿带的制备
使用用于第一介电层的组合物涂覆聚对苯二甲酸乙二酯支撑体，随后将它干燥为45μm厚，来制备第一绿带，其中，用于第一介电层的组合物包括平均颗粒直径为1μm的SiO2-ZnO-B2O3玻璃粉(按重量计69.8％的SiO2、按重量计28.4％的ZnO和按重量计1.8％的B2O3)。
使用用于第二介电层的光敏组合物涂覆聚对苯二甲酸乙二酯支撑体，随后将它干燥为15μm厚，来制备第二绿带，其中，通过将按重量计8％的丙烯酸酯共聚物树脂(基于单体的总重量，按重量计22％的甲基丙烯酸苯甲酯、按重量计25％的甲基丙烯酸、按重量计7％的磷酸酯丙烯酸酯(phosphateacrylate)、按重量计20％的甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、按重量计26％的甲基丙烯酸甲酯)、按重量计10％的TMP(EO)3TA、按重量计2％的Irgacure 907溶解在按重量计20％的PGMEA中，然后分散按重量计60％的SiO2-ZnO-B2O3玻璃粉，来制备用于第二介电层的光敏组合物。
通过将第一绿带与第二绿带组装在一起来制备绿带。
TMP(EO)3TA：用环氧乙烷改性的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯
(日本化学公司制造)
Irgacure 907：汽巴特殊化学品有限公司(Ciba Specialty Chemicals Ltd.)制造
PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯
制备例2：绿带的制备
除使用平均颗粒直径为0.1μm的B2O3-BaO-ZnO玻璃粉(包含按重量计70％的B2O3、按重量计20％的BaO和按重量计10％的ZnO)代替SiO2-ZnO-B2O3玻璃粉之外，根据与制备例1中的方法相同的方法来制备另一绿带。
制备例3：绿带的制备
除使用平均颗粒直径为5μm的Bi2O3-B2O3-SiO2-Al2O3-Na2O-MgO玻璃粉(按重量计25％的Bi2O3、按重量计25％的B2O3、按重量计30％的SiO2、按重量计15％的Al2O3、按重量计2％的Na2O、按重量计3％的MgO)代替SiO2-ZnO-B2O3玻璃粉之外，根据与制备例1中的方法相同的方法来制备绿带。
示例1：等离子体显示面板的制造
用氧化铟锡来溅射由碱石灰玻璃制成的前基底，并将干膜光致抗蚀剂(DFR)层叠在其上。将图案化的光掩模另外地层叠在DFR上，然后使用高压汞灯将它曝光，然后使用0.4％的Na2CO3碱的水溶液显影，干燥，以将DFR图案化为具有与凸出电极对应的形状。随后，用盐酸和硝酸蚀刻图案化的基底，用含5.0％的NaOH的水溶液来剥离DFR图案化的部分，然后烘焙，来形成凸出电极。将用于形成汇流电极的包括Ag的光敏糊涂在凸出电极上。将涂覆的包括Ag的光敏糊匀平、干燥，然后使用DI(直接图像化)曝光器曝光。接着，对所得的基底重复干燥和曝光五次，用含0.4％的Na2CO3碱的水溶液将它显影，烘焙，来形成具有条纹图案的汇流电极。于是，制成了包括凸出电极和汇流电极的寻址电极。
随后，将制备例1中制备的绿带层叠在包括寻址电极的基底上，其中，寻址电极形成在所述基底上。然后，通过使用DI(直接图像化)曝光器以100mJ/cm2的曝光量来将它曝光，通过将0.4％的Na2CO3碱的水溶液喷洒在它上面来显影，在500℃下烘焙4小时，以形成介电层图案。
使用用于形成显示电极的包括Cr-Cu-Cr的组合物来填充介电层图案，并在500℃下烘焙4小时，以形成图案化的显示电极。
将包括SiO2-ZnO-B2O3玻璃粉(按重量计69.8％的SiO2、按重量计28.4的ZnO和按重量计1.8％的B2O3)的用于第一介电层的组合物另外地涂覆在图案化的显示电极上，干燥并烘焙，以形成介电层。
另外地，后基底形成为具有图案化的障壁和荧光体层。随后，将后基底与以上制造出的前基底组装在一起，所述前基底形成为具有寻址电极、显示电极和介电层。然后，抽空放电室中的空气，在400托的条件下注入放电气体，以制造所得的等离子体显示面板。
示例2：等离子体显示面板的制造
除使用制备例2中制备的绿带之外，根据与示例1的方法相同的方法来制造等离子体显示面板。
示例3：等离子体显示面板的制造
用氧化铟锡来溅射由碱石灰玻璃制成的前基底，并将干膜光致抗蚀剂(DFR)层叠在其上。将图案化的光掩模另外地层叠在DFR上，然后使用高压汞灯将层叠的基底曝光，使用0.4％的Na2O3碱的水溶液显影，干燥，以将DFR图案化为具有与凸出电极对应的形状。随后，用盐酸和硝酸蚀刻图案化的基底，用含5.0％的NaOH的水溶液来剥离DFR图案化的部分，然后烘焙，来形成凸出电极。将用于形成汇流电极的包括Ag的光敏糊涂在前基底的凸出电极上。将涂覆的包括Ag的光敏糊匀平、干燥，然后使用DI(直接图像化)曝光器曝光。对所得的基底重复干燥和曝光五次，用0.4％的Na2O3碱的水溶液将它显影，烘焙，来形成具有条纹图案的汇流电极。于是，制成了包括凸出电极和汇流电极的寻址电极。
接着，将根据制备例3制备的绿带层叠在包括寻址电极的基底上，其中，寻址电极形成在所述基底上，通过使用DI(直接图像化)曝光器以100mJ/cm2的曝光量来曝光，用0.4％的Na2CO3碱的水溶液来显影，在500℃下烘焙4小时，以形成介电层图案。
随后，使用用于形成显示电极的包括Cr-Cu-Cr的组合物来填充介电层图案，并在500℃下烘焙4小时，以形成图案化的显示电极。
使用用于第三介电层的包括Bi2O3-B2O3-SiO2-Al2O3-Na2O-MgO玻璃粉的组合物另外地涂覆图案化的显示电极，干燥，烘焙，以形成第三介电层。
随后，通过将具有介电层的基底放在保护层沉积室中，并采用离子镀方法沉积包括MgO的保护层来制造前基底。沉积室内部的基本压力保持为1×10-4Pa，在沉积过程中的压力为5.3×10-2Pa，以100sccm(一种流量单位)将氧气供应给沉积室，以将基底保持在200±5℃。
另外地，通过在后基底上形成障肋和荧光体层，并将后基底与以上制造的前基底组装在一起，来制造等离子体显示面板，所述前基底具有寻址电极、显示电极和介电层。然后，抽空放电室中的空气，并在400托的条件下将放电气体注入放电室，以制造所得的等离子体显示面板。
对比例1：等离子体显示面板的制造
用氧化铟锡来溅射由碱石灰玻璃制成的前基底，并将干膜光致抗蚀剂(DFR)层叠在其上。将图案化的光掩模另外地层叠在DFR上，然后使用高压汞灯将它曝光，使用0.4％的Na2CO3碱的水溶液显影，干燥，以将DFR图案化为具有与凸出电极对应的形状。随后，用盐酸和硝酸蚀刻图案化的基底，用含5.0％的NaOH的水溶液来剥离DFR图案化的部分，然后烘焙，来形成凸出电极。将用于形成汇流电极的包括Ag的光敏糊涂覆在凸出电极上。将涂覆的包括Ag的光敏糊匀平、干燥，然后使用DI(直接图像化)曝光器曝光。接着，对所得基底重复干燥和曝光五次，用0.4％的Na2CO3水溶液将它显影，烘焙，来形成具有条纹图案的汇流电极。于是，制成了包括凸出电极和汇流电极的寻址电极。
接着，通过涂覆用于第一介电层的组合物，干燥，随后烘焙，来形成第一介电层，所述用于第一介电层的组合物包括PbO-B2O3-SiO2玻璃粉。
以丝网涂覆法使用用于形成显示电极的包括Cr-Cu-Cr的组合物来涂覆介电层。随后，通过重复涂覆和干燥工艺十次来形成显示电极。
通过涂覆用于第二介电层的光敏组合物，然后干燥，曝光，显影，烘焙，来形成介电层图案，其中，通过将按重量计8％的丙烯酸酯共聚物树脂(基于全部单体，按重量计22％的甲基丙烯酸苯甲酯、按重量计25％的甲基丙烯酸、按重量计7％的磷酸酯丙烯酸酯(phosphate acrylate)、按重量计20％的甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、按重量计26％的甲基丙烯酸甲酯)、按重量计10％的TMP(EO)3TA、按重量计2％的Irgacure 907溶解在按重量计20％的PGMEA中，随后分散按重量计60％的PbO-B2O3-SiO2玻璃粉，来制备用于第二介电层的光敏组合物。
另外地，后基底形成为具有后介电层、障肋和荧光体层。将后基底与具有寻址电极、显示电极和介电层的前基底组装在一起。然后，通过抽空放电室中的空气，并在400托的条件下将放电气体注入放电室，来制造等离子体显示面板。
与对比例1相比，示例1至示例3的制造工艺结果显著降低了制造等离子体显示器所用的时间。
根据本发明的制造等离子体显示面板的方法，可使用双层绿带在单个工艺中形成覆盖寻址电极的介电层和覆盖显示电极的介电层，因而这简化了制造工艺并减少了制造时间和次品。
虽然已经结合当前被认为是实用的示例性实施例的内容描述了本发明，但是应该理解，本发明不局限于公开的实施例，相反，本发明意在覆盖包含在权利要求的精神和范围内的各种更改及等同的布置。

Claims (49)

1、一种制造等离子体显示面板的方法，包括：
在前基底上形成寻址电极；
形成绿带，以覆盖所述寻址电极，所述绿带包括第一绿带和形成在所述第一绿带上的第二绿带，使用用于第一介电层的组合物来形成所述第一绿带，使用用于第二介电层的光敏组合物来形成所述第二绿带；
通过将所述第二绿带曝光、显影并烘焙来形成介电层图案；
将用于显示电极的组合物填充在所述介电层图案中，并烘焙填充的组合物，以形成图案化的显示电极；
在图案化的显示电极上形成第三介电层。
2、如权利要求1所述的方法，其中，所述用于第一介电层的组合物包括从由ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、SnO、P2O5、Sb2O3、Bi2O3组成的组中选择的至少一种玻璃粉。
3、如权利要求2所述的方法，其中，所述玻璃粉是从由ZnO-B2O3-SiO2、ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3、Bi2O3-B2O3-SiO2、Bi2O3-B2O3-SiO2-Al2O3、Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2、Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3及其组合组成的组中选择的至少一种。
4、如权利要求2所述的方法，其中，所述玻璃粉还包括从由族1至族5金属元素的氧化物、镧系元素的氧化物和族1金属元素的氟化物组成的组中选择的至少一种材料。
5、如权利要求2所述的方法，其中，所述玻璃粉还包括从由Na2O、Li2O、K2O、Cs2O、MgO、CaO、SrO、BaO、Sc2O3、Y2O3、TiO2、ZrO2、V2O5、Nb2O5、La2O3、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3、LiF、NaF、KF及其组合组成的组中选择的至少一种。
6、如权利要求2所述的方法，其中，所述玻璃粉的平均颗粒直径为0.1μm至5μm。
7、如权利要求2所述的方法，其中，所述玻璃粉的平均颗粒直径为0.5μm至2μm。
8、如权利要求2所述的方法，其中，基于所述用于第一介电层的组合物的总重量，所述用于第一介电层的组合物包括按重量计50-70％的所述玻璃粉。
9、如权利要求2所述的方法，其中，基于所述用于第一介电层的组合物的总重量，所述用于第一介电层的组合物包括按重量计55-65％的所述玻璃粉。
10、如权利要求1所述的方法，其中，所述用于第二介电层的光敏组合物包括：
玻璃粉；
光敏粘合剂；
具有至少两个乙烯基双键的交联化合物；
光聚合引发剂；
溶剂。
11、如权利要求10所述的方法，其中，所述玻璃粉是从由ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、SnO、P2O5、Sb2O3、Bi2O3及其组合组成的组中选择的至少一种。
12、如权利要求10所述的方法，其中，所述玻璃粉是从由ZnO-B2O3-SiO2、ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3、Bi2O3-B2O3-SiO2、Bi2O3-B2O3-SiO2-Al2O3、Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2、Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3及其组合组成的组中选择的至少一种。
13、如权利要求10所述的方法，所述玻璃粉还包括从由族1至族5金属元素的氧化物、镧系元素的氧化物和族1金属元素的氟化物组成的组中选择的至少一种材料。
14、如权利要求10所述的方法，其中，所述玻璃粉还包括从由Na2O、Li2O、K2O、Cs2O、MgO、CaO、SrO、BaO、Sc2O3、Y2O3、TiO2、ZrO2、V2O5、Nb2O5、La2O3、CeO2、Pr2O3、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2O3、Tb2O3、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3、LiF、NaF、KF及其组合组成的组中选择的至少一种。
15、如权利要求10所述的方法，其中，所述玻璃粉的平均颗粒直径为0.1μm至5μm。
16、如权利要求10所述的方法，其中，所述玻璃粉的平均颗粒直径为0.5μm至2μm。
17、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计50-65％的量的所述玻璃粉。
18、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计55-60％的量的所述玻璃粉。
19、如权利要求10所述的方法，其中，所述光敏粘合剂是从由丙烯酸系树脂、苯乙烯树脂、酚醛树脂和聚酯树脂组成的组中选择的至少一种。
20、如权利要求10所述的方法，其中，所述光敏粘合剂是从由丙烯酸、甲基丙烯酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、亚甲基丁二酸、甲基顺丁烯二酸、甲基反丁烯二酸、肉桂酸、单(丙烯酰基乙氧基)丁二酸、单(2-甲基丙烯酰基乙氧基)丁二酸、ω-羧基-聚己内酯单丙烯酸酯、ω-羧基-聚己内酯单甲基丙烯酸酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、甲基丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸-3-羟基丙酯、甲基丙烯酸-3-羟基丙酯、邻羟基苯乙烯、间羟基苯乙烯、对羟基苯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、芳香乙烯基单体、共轭二烯、具有可聚合的不饱和基团的大单体及其组合组成的组中选择的至少一种。
21、如权利要求10所述的方法，其中，所述光敏粘合剂的数均分子量为5000至50000。
22、如权利要求10所述的方法，其中，所述光敏粘合剂的酸值为20mgKOH/g-100mgKOH/g。
23、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计5-10％的量的所述光敏粘合剂。
24、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计5-7％的量的所述光敏粘合剂。
25、如权利要求10所述的方法，其中，所述具有至少两个乙烯基双键的交联化合物是从由丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、通过多元酸和丙烯酸羟烷酯反应获得的单酯、二酯、三酯或更高级的酯、通过多元酸和甲基丙烯酸羟烷酯反应获得的单酯、二酯、三酯或更高级的酯及其组合组成的组中选择的至少一种。
26、如权利要求10所述的方法，其中，所述具有至少两个乙烯基双键的交联化合物是从由1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯衍生物、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、环氧乙烷改性的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇聚丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、山梨醇三甲基丙烯酸酯、双酚A二甲基丙烯酸酯衍生物、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改性的三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇聚甲基丙烯酸酯及其共聚物和组合组成的组中选择的至少一种。
27、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计1-15％的量的所述具有至少两个乙烯基双键的交联化合物。
28、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计3-10％的量的所述具有至少两个乙烯基双键的交联化合物。
29、如权利要求10所述的方法，其中，所述光聚合引发剂是从由苯偶姻、苯偶姻烷基醚、苯乙酮系化合物、氨基苯乙酮、蒽醌、噻吨酮、缩酮、二苯甲酮、呫吨酮、三嗪、咪唑、氧膦、过氧化物及其组合组成的组中选择的至少一种。
30、如权利要求10所述的方法，其中，所述光聚合引发剂是从由苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1，1-二氯苯乙酮、α-氨基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2，4-二甲基噻吨酮、乙酰苯二甲基缩酮、苯偶酰二甲基缩酮、二苯甲酮、呫吨酮、三嗪、咪唑、2，6-二甲氧基苯甲酰基-2，4，4-三甲基戊基氧膦、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧膦、乙基-2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基氧膦及其组合组成的组中选择的至少一种。
31、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计0.1-8％的量的所述光聚合引发剂。
32、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，所述用于第二介电层的光敏组合物中包括按重量计0.3-5％的量的所述光聚合引发剂。
33、如权利要求10所述的方法，其中，所述溶剂是从酮、醇、醚基醇、饱和脂肪单羧酸烷基酯、乳酸酯、醚基酯及其组合组成的组中选择的至少一种。
34、如权利要求10所述的方法，其中，基于所述用于第二介电层的光敏组合物的总重量，用于第二介电层的光敏组合物中包含按重量计4-30％的量的所述溶剂。
35、如权利要求10所述的方法，还包括从由敏化剂、光聚合抑制剂、氧化抑制剂、紫外线吸收剂、消泡剂、分散剂、流平剂、增塑剂及其组合组成的组中选择的至少一种添加剂。
36、如权利要求1所述的方法，其中，所述第一绿带和所述第二绿带的厚度比为3∶1至4∶1。
37、如权利要求1所述的方法，其中，所述第二绿带的厚度为5μm至30μm。
38、如权利要求1所述的方法，其中，使用光掩模或通过直接图像化来执行所述曝光。
39、如权利要求1所述的方法，其中，通过喷洒碱的水溶液或浸在碱的水溶液中来执行所述显影。
40、如权利要求39所述的方法，其中，所述碱的水溶液包括从由氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、磷酸氢钠、磷酸氢二铵、磷酸氢二钾、磷酸氢二钠、磷酸二氢铵、磷酸二氢钾、磷酸二氢钠、硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、硼酸锂、硼酸钠、硼酸钾、氨、氢氧化四甲铵、氢氧化三甲基羟乙铵、一甲胺、二甲胺、三甲胺、一乙胺、二乙胺、三乙胺、一异丙胺、二异丙胺、乙醇胺及其组合组成的组中选择的至少一种碱。
41、如权利要求39所述的方法，其中，所述碱的水溶液的浓度为0.1-1％。
42、如权利要求39所述的方法，其中，所述碱的水溶液的温度为25℃-55℃。
43、如权利要求1所述的方法，还包括：所述显影之后，清洗或用酸进行中和，以除去不必要的显影溶液。
44、如权利要求1所述的方法，其中，在480℃-620℃的温度下执行烘焙。
45、如权利要求1所述的方法，还包括：在图案化的显示电极上形成介电层之后，形成保护层，以覆盖所述介电层。
46、如权利要求45所述的方法，其中，所述保护层包括从由氟化物层和氧化物层组成的组中选择的至少一种层。
47、如权利要求45所述的方法，其中，所述保护层包括从由MgF2、CaF2、LiF、MgO、Al2O3、ZnO、CaO、SrO、SiO2、La2O3及其组合物组成的组中选择的至少一种层。
48、一种制造等离子体显示面板的方法，包括：
在前基底上形成寻址电极；
在寻址电极上形成绿带，所述绿带包括第一介电层和在所述第一介电层上的第二介电层，所述第二介电层是光敏介电层；
通过对所述第二介电层进行曝光、显影和烘焙来将所述第二介电层图案化，以形成用于显示电极的空间和放电室；
将用于显示电极的组合物填充在所述用于显示电极的空间中，随后烘焙，以形成图案化的显示电极；
在所述图案化的显示电极上形成第三介电层；
在后基底形成图案化的障肋；
在所述障肋之间形成荧光体层；
将所述前基底和所述后基底组装在一起，然后抽真空并密封。
49、一种用于形成等离子体显示面板的介电层的绿带，包括：
第一绿带，由介电组合物制成；
第二绿带，形成在所述第一绿带上，所述第二绿带由光敏介电组合物制成。
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