CN1916070A - 黑色糊组合物、等离子显示面板的上板及其制造方法 - Google Patents

黑色糊组合物、等离子显示面板的上板及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种黑色糊组合物以及使用其的等离子显示面板的上板。等离子显示面板的上板包括：上基片；设置在上基片的预定位置上的透明电极；设置在透明电极的预定位置上的总线电极；和设置在透明电极和总线电极之间的黑色矩阵。黑色糊组合物包括大约5到25重量份的耐热黑色颜料；大约5到20重量份的玻璃粉；大约25至30重量份的粘合剂；大约5到15重量份的光聚合单体；大约1到10重量份的光聚合引发剂；和大约20至35重量份的溶剂。在根据本发明的黑色糊组合物和使用其的等离子显示面板的上板中，由于黑色矩阵由包含MnCo2O4的黑色糊组合物制成，因此总线电极和透明电极间的接触电阻低，黑色矩阵具有高的黑率，并降低了制造成本。

Description

黑色糊组合物、等离子显示面板的上板及其制造方法
交叉引用
本申请要求于2005年8月17日提交的韩国专利申请No.10-2005-0075312的优先权，将其全文引用在此以作参考。
技术领域
本发明涉及等离子显示面板的上板及其制造方法。具体的，本发明涉及一种能够改进黑色矩阵(black matrix)特性的黑色糊(blackpaste)以及使用其的等离子显示面板。
背景技术
等离子显示面板(PDP)是一种能够利用等离子放电的发光现象显示图像或信息的平板显示装置。PDP通常根据面板结构和驱动方法划分为直流(DC)型或交流(AC)型。
PDP在由阻挡条分开的每一单元中产生等离子放电。因此，PDP是这样的一种显示装置，其利用当每一单元中的气体(例如He、Xe等)的等离子放电所产生的紫外线通过激发单元中的荧光体而返回到基态时由于能量差而产生可见光的发光现象。
PDP具有多种优点，例如结构简单，由于其结构单元而易于制造，高亮度，高发光效能，存储容量效果，以及超过160°的宽视角。此外，PDP还能够用于40英寸及以上的宽屏。
图1A至1F是示出现有技术中形成一般PDP的上板的步骤的剖面图。
首先，如图1A中所示，在已通过例如溅射、离子镀、化学淀积或电沉积的工艺形成由ITO构成的透明电极110的状态下，在上基片100上施加黑色糊组合物122。
该黑色糊组合物122是RuO化合物。
然后，如图1B中所示施加电极材料132。
随后，在其上施加了电极材料132的上基片100上淀积具有特定开口162的第一掩模160。如图1C中所示，该第一掩模160在与总线电极130对应的位置上具有开口162。
通过从第一掩模160的上部辐照UV灯一定时间周期，使该第一掩模曝光。
然后，在去除了第一掩模160后，利用显影器使上基片100显影。
结果，如图1D中所示，在其他部分上的电极材料132和黑色糊组合物122被去除，仅留下对应UV灯的固化部分。然后，对其进行烧结处理。
并且，在其上形成第一黑色矩阵120和总线电极130的上基片100上施加介质层材料，并干化以形成上介质层140，如图1E所示。
之后，再次将黑色糊组合物122施加在上介质层140的顶部上。通过对其进行显影和烧结处理，在每一放电单元中形成第二黑色矩阵150，如图1F所示。
随后，通过在其上形成有第二黑色矩阵150的上介质层140的顶部上再形成一个以上的介质层(未示出)或者保护层(未示出)，完成该PDP上板的制造工艺。
在经上述步骤制造PDP的上板的情况下，通过两个步骤形成该第一和第二黑色矩阵120和150。也就是说，为形成设置在透明电极110和总线电极120之间的该第一黑色矩阵120，施加黑色糊组合物122，并接着进行曝光、显影和烧结工艺。
此外，为形成设置在每个放电单元中的第二黑色矩阵150，施加黑色糊组合物122，并随后进行曝光、显影和烧结工艺。
因此，制造工艺变得复杂，且增加了制造成本及制造时间。
而且，用作该黑色糊组合物122的RuO化合物非常昂贵，因而增加了制造成本。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种包含MnCo2O4的黑色糊组合物，以及通过利用该黑色糊组合物形成黑色矩阵而具有总线电极和透明电极间低接触电阻和高黑率(black rate)的黑色矩阵，并能够降低制造成本的PDP的上板。
本发明的另一目的是提供一种黑色糊组合物和利用该黑色糊组合物的PDP的上板，其中通过同时形成总线电极和黑色矩阵简化了制造工艺并降低了制造成本。
根据本发明的黑色矩阵的黑色糊组合物包括大约5到25重量份的耐热黑色颜料(pigment)；大约5到20重量份的玻璃粉；大约25至30重量份的粘合剂；大约5到15重量份的光聚合单体；大约1到10重量份的光聚合引发剂；以及大约20至35重量份的溶剂。
根据本发明的PDP的上板包括上基片；设置在上基片的预定位置上的透明电极；设置在透明电极的预定位置上的总线电极；以及设置在透明电极和总线电极间的黑色矩阵。该黑色矩阵包括：耐热黑色颜料；以及玻璃粉，其中玻璃粉：耐热黑色颜料的含量比在大约1∶0.5和大约1∶3之间的范围内。
根据本发明的PDP的上板的制造方法包括：将黑色糊组合物施加在其上形成了透明电极的基片上；干化该将黑色糊组合物，曝光该黑色糊组合物的特定区域以形成第一黑色矩阵；将电极材料施加到该黑色糊组合物上；使该电极材料干化；使该黑色糊组合物和电极材料的特定区域曝光，以形成第二黑色矩阵和总线电极；显影该黑色糊组合物和电极材料；以及通过烧结该黑色糊组合物和电极材料形成总线电极以及第一和第二黑色矩阵。该黑色糊组合物包括大约5到25重量份的耐热黑色颜料；大约5到20重量份的玻璃粉；大约25到30重量份的粘合剂；大约5到15重量份的光聚合单体；大约1到10重量份的光聚合引发剂；以及大约20至35重量份的溶剂。
根据本发明，在该黑色糊组合物以及利用其制成的PDP的上板中，总线电极和透明电极之间的接触电阻是低的，该黑色矩阵具有高的黑率(black rate)，并降低了制造成本，这是因为该黑色矩阵由包含MnCo2O4的该黑色糊来形成。
此外，根据本发明，在该黑色糊和PDP的上板中，同时形成总线电极和黑色矩阵，并且因此简化了上板的制造工艺，并降低了制造成本。
附图说明
图1A至图1F是示出形成现有技术中PDP的上板的步骤的剖面图；
图2是示出根据本发明一个实施例的PDP的剖面图；和
图3A至图3F是示出形成图2的PDP的上板的步骤的剖面图。
具体实施方式
从下面结合附图的具体说明中，将更清楚地理解本发明。
图2是一剖面图、示出了根据本发明一个实施例的等离子显示面板。
在图2中，PDP的结构被划分为上板200和下板300。
在上板200中，在玻璃基片210(下文中，称其为“上基片”)的下侧上形成透明电极220、总线电极250、第一和第二黑色矩阵230和240、上介质层260以及保护层270。
透明电极220由透明导电材料如铟锡氧化物(下文中，称其为“ITO”)制成，以便透射从放电单元中产生的光。
在透明电极220上形成总线电极250，以降低透明电极220的线路电阻(line resistance)。
总线电极250由具有高传导率的银(Ag)膏制成。由于总线电极250通常由具有高电导率的材料制成，因此他们降低了具有相对低电导率的透明电极220的驱动电压。
在放电单元之间设置第一黑色矩阵230，以吸收外部的光和在相邻放电单元内传输的内部光，从而增强了对比度。并且，该第一矩阵230还划分该放电单元。
第二黑色矩阵240被形成为在透明电极220和总线电极250之间的非常薄的层，从而允许电流在透明电极220和总线电极250间通过，并增强PDP的对比度。
该第一和第二黑色矩阵230和240由黑色糊组合物制成。该黑色糊组合物包括耐热黑色颜料、粘合剂、光聚合单体、光聚合引发剂、玻璃粉以及溶剂。
该黑色糊组合物包括：大约5到25重量份的耐热黑色颜料、大约5到20重量份的玻璃粉、大约25到30重量份的粘合剂、大约5到15重量份的光聚合单体、大约1到10重量份的光聚合引发剂、以及大约20到35重量份的溶剂。
在该黑色糊组合物中，玻璃粉∶耐热黑色颜料的含量比可以在大约1∶0.5和大约1∶3的范围内。在此情况下，设想MnCo2O4的可以用作该耐热黑色颜料。
使用在高温下具有色彩稳定性的黑色颜料来作为该耐热黑色颜料。这是因为PDP的上基片的制造工艺包括在500℃到600℃之间的高温下的烧结工艺，因此该耐热黑色颜料应当在如此的高温下也不退色(discolored)。
详细地说，由于在烧结工艺后形成的黑色膜很微小，MnCo2O4优选作为该耐热黑色颜料，并且其色彩特性良好。
具体的，优选地将包括MnCo2O4的耐热黑色颜料均匀地分散在溶剂中的浆液(slurry)作为所述糊状物，这是因为其没有二次凝结残余物(second coagulation remnant)。
所述浆液是通过将该耐热黑色颜料均匀地分散在溶剂中而制备的。例如，该浆液通过利用混合器来混合和分散溶剂、分散剂和耐热黑色颜料来制备。
此外，任何分散剂都可以用于所述浆液，只要其能够使该耐热黑色颜料均匀地分散即可。
在该黑色糊组合物中，使用丙烯酸(acrylic)基材料作为该粘合剂。也可以使用羧基树脂(carboxyl resin)、包括乙烯基不饱和双键的羧基光敏树脂、或者不包括乙烯基不饱和双键的羧基树脂。该羧基光敏树脂和该羧基树脂可以单独或混合使用，然而，优选的，它们含量的总量在该黑色糊组合物总量的10％至80％。
在该黑色糊组合物中，光聚合单体被用于促进黑色糊组合物的光固化(photo-curing)，并改善显影特性。
【50】光聚合单体的例子是2-羟乙基丙烯酸酯，2-羟丙基丙烯酸酯，二乙二醇二丙烯酸酯，三乙二醇二丙烯酸酯，聚乙二醇二丙烯酸酯，聚氨基甲酸酯二丙烯酸酯，三甲基丙烷三丙烯酸酯，五赤藓醇三丙烯酸酯，五赤藓醇四丙烯酸酯，三丙烯酸酯退化的三甲基丙烷环氧乙烷，三丙烯酸酯退化的三甲基丙烷环氧丙烷，二季戊四醇五丙烯酸酯，二季戊四醇六丙烯酸酯，和对应于上述各种丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯；和与多元酸，例如，苯二甲酸，己二酸，顺丁烯二酸，衣康酸(atconic acid)，琥珀酸，偏苯三酸，对苯二甲酸形成的单-，二-，三-，或多酯，和羟基烷基(甲基)丙烯酸酯。此外，上述各种光聚合单体可以单独使用或两种或多种组合使用。特别是，优选的，光聚合单体是在一个分子上具有另外两个丙烯酸基团或甲基丙烯酸基团的多官能单体。
另外，光聚合引发剂可以选自以下的一种或多种：苯偶姻烷基酯，例如，苯偶姻，苯偶姻甲基酯，苯偶姻乙酯和苯偶姻异丙酯；苯乙酮类，例如，苯乙酮，2.2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮，2.2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮，1.1-二氯苯乙酮；氨基苯乙酮类，例如，2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮，2-苄基-2-二甲基氨基-1-[4-吗啉基苯基]-丁烷-1-酮；蒽醌类，例如，2-甲基蒽醌，2-乙基蒽醌，2-t-丁基蒽醌，1-氯蒽醌；噻吨酮(tioxanthone)类，例如，2.4-二甲基噻吨酮，2.4-二乙基噻吨酮，2-氯噻吨酮，2.4-二异丙基噻吨酮；缩酮类，例如，苯乙酮二甲基缩酮，苄基二甲基缩酮(benxyldimethylketal)；苯甲酮；氧化膦类，例如，(2.6-二甲氧基苯甲酰基)-2.4.4-戊基氧化膦，双(2.4.6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦，2.4.6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦，乙基-2.4.6-三甲基苯甲酰基二苯基亚膦酸酯；和过氧化物。
此外，可以在不破坏黑色糊组合物的特性的范围内混合玻璃粉、硅石粉(silica powder)等。
在玻璃粉被添加到该黑色糊组合物的情况下，在曝光和显影后形成的膜能够易于在600℃或以下烧结。优选的，使用包括从由氧化铅、氧化铋、氧化锂或者氧化锌构成的组中选择的至少其一作为主要成分的玻璃粉。
而且，溶剂能够被混合作为在该黑色糊组合物的制造工艺中的稀释剂，以用于粘性控制(viscosity control)、通过干化的薄膜制造以及接触曝光。
该溶剂可以是选自由下列构成的组中的一种或多种：酮，例如甲乙酮、环己酮；芳香烃，例如甲苯、二甲苯、四甲基苯；二醇醚，例如溶纤剂、甲基溶纤剂、卡必醇、甲基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇单甲基酯、二丙二醇单甲基酯、二丙二醇单乙基酯、三乙二醇单乙酯；乙酸酯，例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸溶纤剂、乙酸丁酯溶纤剂(butylcellosolveacetate)、乙酸卡必醇酯、乙酸丁基卡必醇酯、丙二醇单甲基乙酸酯；醇，例如乙醇、丙醇、乙二醇、丙二醇；脂肪烃，例如辛烷、癸烷；和石油溶剂，例如石油醚、石脑油、具有氢的石脑油、溶剂石脑油。
上介质层260与由金属材料制成的总线电极250直接接触，并且可以由PbO基玻璃或非Pb基玻璃制成，以避免与总线电极250发生化学反应。该上介质层260限制放电电流以维持辉光放电，且在等离子放电时所产生的电荷被叠加(laminate)。
保护层270防止在等离子放电时上介质层260由于溅射而被损坏，并还增加二次电子的放电效率。保护层270由氧化镁(MgO)制成。
在PDP的下板300中，在玻璃基片310(下文中，称其为“下基片”)的上表面上设置寻址电极320、下介质层330、阻挡条340、以及荧光体层350。
寻址电极320位于每一放电单元的中间。该寻址电极320可以具有大约70至80μm的线宽度。
下介质层330置于下基片310和寻址电极320的整个表面上，并保护寻址电极320。
阻挡条340位于下介质层330的顶部上，通过预定的距离与寻址电极320间隔开，并在垂直方向上形成得较长。
阻挡条340是维持放电距离所需要的，并防止相邻放电单元间的电学和光学干扰。
在阻挡条340的两侧和下介质层330的上表面上形成荧光体层350。
荧光体层350由在等离子放电时产生的紫外线激发，并产生红(R)、绿(G)或蓝(B)可见光。
下面，将详细说明PDP的发光机制。
当预定的电压(在电压余量内)被施加到透明电极220和总线电极250时，如果附加的足以产生等离子的电压被施加到寻址电极320，则在相邻的总线电极250之间形成等离子。在气体中存在一定量的自由电子，并且当电场作用到该气体时自由电子受力(F＝q·E)。
如果该力所作用的电子获得足以使电子在最外轨道中迁移的能量(第一电离能量)，它们使气体电离，并因此通过电磁力使产生的离子和电子移动到两种电极。特别的，当离子与保护层250碰撞时产生二次电子，并且这些二次电子帮助产生等离子。
因此，需要高电压以开始初始放电，但是一旦放电开始，随着电子密度的增加，就需要较低的电压。
PDP的单元中的提供的气体通常是惰性气体，如Ne、Xe、He等。特别的，当具有在大约147nm和173nm之间的波长的紫外线作用到荧光体层350上时，可产生红、绿或蓝可见光。
在此时发射的可见光能根据荧光体层350的种类来确定，并因而每一放电单元成为表示每一个红、绿或蓝色的像素。
通过在每一放电单元中组合RGB来控制每一放电单元的色彩。在该示范的PDP的情况下，通过控制产生等离子的时间来控制该色彩。
如此产生的可见光通过上基片210发射到单元的外部。
下面，将说明利用本发明的黑色糊组合物的PDP的上板的制造工艺。
图3A-3F是示出形成图2的PDP的上板的步骤的剖面图。
如图3A中所示，将黑色糊组合物232施加到在已通过溅射、离子镀、化学气相淀积以及电沉积工艺形成透明电极220(如ITO)的状态下的上基片210上。然后，使该黑色糊组合物323干化已实现表面处理。在干化后，绝大多数的黑色糊组合物中的溶剂可以被蒸发。
接着，在其上施加了黑色糊组合物232的上基片210上设置具有一定开口410的第一掩模400。第一掩模400的该开口形成于与将形成第一黑色矩阵230的位置对应的位置上，如图3B所示。
然后，在第一掩模400的顶部上进行一定时间周期的曝光。
在使黑色糊组合物232曝光的情况下，相应于该光的黑色糊组合物232被固化。此时，通过设置在黑色糊组合物232上的第一掩模400仅特定部分的黑色糊组合物232被固化。也就是说，通过使黑色糊组合物232曝光，设置在开口410下的黑色糊组合物232被固化，而设置在没有形成开口410的部分下的黑色糊组合物232因为没有光通过而未被固化。
随后，在去除第一掩模400之后，将电极材料252施加到黑色糊组合物232上，如图3C中所示。
接着，将具有特定开口510的第二掩模500设置在上其上施加了电极材料252的上基片210上。然后，使该电极材料252干化以实现表面处理。
在第二掩模500中，开口510形成在与形成总线电极250和第二黑色矩阵240的位置相应的位置上，如图3D所示。
然后，可以在第二掩模500的顶部上对其进行曝光。
在曝光电极材料252和黑色糊组合物232的情况下，电极材料252和黑色糊组合物232对应于光而被固化。此时，利用电极材料252和黑色糊组合物232上的第二掩模400，仅部分的黑色糊组合物232被固化。也就是说，通过使电极材料252和黑色糊组合物232曝光，设置在开口下的电极材料252和黑色糊组合物232被固化，而设置在没有形成开口410的部分下的电极材料252和黑色糊组合物232因为没有光通过而未被固化。
在曝光的情况下，利用曝光设备来进行曝光。曝光通常是以利用光掩模的掩模曝光方法来进行的，如同普通的光刻中那样。所使用的掩模可以是负型的或正型的。
可以进行利用红或蓝可见激光束或氩(Ar)离子激光束的直接图案形成，以代替使用光掩模。
可以使用多种曝光设备，例如步进式曝光机或者接近式曝光机(proximity exposer)。对于大区域的曝光，胶或者电极材料可以被设置在玻璃或其他基片上，接着进行曝光同时移动基片以允许利用具有小光源的曝光机进行大区域曝光。
能够有效利用的有效(active)光源包括可见光、近紫外光、紫外光、电子束、X-射线以及激光束。当然，紫外光是优选的，并且可以使用低压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、卤灯以及杀菌灯。当然，优选地为超高压汞灯。
并且，在去除第二掩模500后进行显影处理。在图3B和图3D的工艺中，除对应于光的固化部分之外，其他部分的电极材料252和黑色糊组合物232被去除。然后，进行烧结处理以完成总线电极250以及第一和第二黑色矩阵230和240的形成，如图3E中所示。
在烧结后，有机材料，如粘合剂、光聚合单体、光聚合引发剂等可以被烧尽。但是，无机微粒，如耐热黑色颜料、玻璃粉等剩余在黑色矩阵中。
以这种方式，通过一次施加电极材料252和黑色糊组合物232的每一个，曝光以及然后一次显影/烧结，完成总线电极250、第一和第二黑色矩阵230和240。
接着，将介质材料设置到其上形成了透明电极220、总线电极250、第一和第二黑色矩阵230和240的上基片210上，以形成上介质层260，如图3F中所示。
然后，将MgO施加到上介质层260上，以形成保护层270。
下面，将说明对其上根据上述实施例形成该第一和第二黑色矩阵的PDP进行预测试的结果。
参考表1，黑色糊组合物的每一部分以及对其的预测试结果如下所示。
[表1]
  耐热黑色颜料(重量份)   玻璃粉(重量份)   厚度(μm)   电阻(Ω)   透射率(％)
 对照样本1   14(Co3O4)   14   0.8   1.5×107   0.48
 样本1   14(MnCo2O4)   14   0.76   9.7×106   0.32
 样本2   18(MnCo2O4)   10   0.85   5.1×106   0.09
 样本3   12(MnCo2O4)   16   0.81   3.4×107   0.38
在表1中，对照样本1的黑色糊组合物包含大约14重量份的耐热颜料，14重量份的玻璃粉、32重量份的粘合剂、8重量份的光聚合单体、4重量份的光聚合引发剂、以及28重量份的溶剂。
Co3O4被用作耐热黑色颜料。丙烯酸粘合剂(acrylic binder)用作该粘合剂，而n-丁基卡必醇用作溶剂。
样本1到样本3的黑色糊组合物使用MnCo2O4作为耐热黑色颜料。此外，除耐热黑色颜料和玻璃粉外的其他成分具有与对照样本1的该成分相同的种类和含量。
样本1的黑色糊组合物包括大约14重量份的耐热颜料、14重量份的玻璃粉、32重量份的粘合剂、8重量份的光聚合单体、4重量份的光聚合引发剂、以及28重量份的溶剂。
样本2的黑色糊组合物包括大约18重量份的耐热颜料、10重量份的玻璃粉、32重量份的粘合剂、8重量份的光聚合单体、4重量份的光聚合引发剂、以及28重量份的溶剂。
样本3的黑色糊组合物包括大约12重量份的耐热颜料、16重量份的玻璃粉、32重量份的粘合剂、8重量份的光聚合单体、4重量份的光聚合引发剂、以及28重量份的溶剂。
在利用该黑色糊组合物形成该第一和第二黑色矩阵后，评测PDP的特性的结果如表1中所示。
在此情况中，对照样本1利用现有技术的工艺形成黑色矩阵，而样本1至样本3通过根据本发明的工艺形成黑色矩阵。
根据测试结果，样本1至样本3中黑色矩阵的厚度类似于对照样本1的厚度。一般的，在烧结厚度大于1μm的情况下，黑色矩阵的特性不满足标准。因此，可以确知根据本发明的样本1至样本3表现出满意的特性。
在电阻方面，样本1至样本3类似于对照样本1。在电阻非常低的情况下，该黑色矩阵的特性在标准之下。因此，可以确知根据本发明的样本1至样本3表现出满意的特性。
透射率越低，黑色矩阵的特性提高的越多。与对照样本1相比，可以确知样本1至样本3具有较低的透射率。
可以确认，利用根据本发明的黑色糊组合物制造的黑色矩阵表现出类似或更加改善了的特性。
从本发明的优选实施例中，应当注意到根据上述教导本领域技术任意可以进行各种修改和变化。因此，应当理解，在由所附权利要求划定的本发明的精神和范围内本发明的具体实施例可以进行多种修改。

Claims (14)

1.一种用于黑色矩阵的黑色糊组合物，包括：
大约5到25重量份的耐热黑色颜料；
大约5到20重量份的玻璃粉；
大约25至30重量份的粘合剂；
大约5到15重量份的光聚合单体；
大约1到10重量份的光聚合引发剂；以及
大约20至35重量份的溶剂。
2.如权利要求1所述的组合物，其中该耐热黑色颜料是MnCo2O4。
3.如权利要求1的组合物，其中该玻璃粉：耐热黑色颜料的含量比在大约1∶0.5和大约1∶3之间的范围内。
4.如权利要求1所述的组合物，其中该玻璃粉是从由氧化铅、氧化铋、氧化锂或氧化锌构成的组中选择的作为主要成分的至少一种。
5.如权利要求1所述的组合物，其中该粘合剂是丙烯酸粘合剂。
6.一种等离子显示面板的上板，包括：
上基片；
设置在上基片的预定位置上的透明电极；
设置在透明电极的预定位置上的总线电极；以及
设置在透明电极和总线电极之间的黑色矩阵，
其中，该黑色矩阵包括：
耐热黑色颜料；以及
玻璃粉，
其中该玻璃粉：该耐热黑色颜料的含量比在大约1∶0.5和大约1∶3之间的范围内。
7.如权利要求6所述的上板，其中该耐热黑色颜料是MnCo2O4。
8.如权利要求6所述的上板，其中该玻璃粉是从由氧化铅、氧化铋、氧化锂或氧化锌构成的组中选择的作为主要成分的至少一种。
9.如权利要求6所述的上板，进一步包括：
设置在总线电极上的上介质层；以及
设置在该上介质层上以保护上介质层的保护层。
10.一种制造等离子显示面板的上板的方法，包括：
将黑色糊组合物施加在其上形成了透明电极的基片上；
将该黑色糊组合物的特定区域曝光以形成第一黑色矩阵；
将电极材料施加于该黑色糊组合物上；
干化该电极材料；
使该黑色糊组合物和电极材料的特定区域曝光，以形成第二黑色矩阵和总线电极；
显影该黑色糊组合物和电极材料；以及
通过烧结该黑色糊组合物和电极材料形成总线电极以及第一和第二黑色矩阵，
其中，该黑色糊组合物包括：
大约5到25重量份的耐热黑色颜料；
大约5到20重量份的玻璃粉；
大约25到30重量份的粘合剂；
大约5到15重量份的光聚合单体；
大约1到10重量份的光聚合引发剂；以及
大约20至35重量份的溶剂。
11.如权利要求10所述的方法，其中该耐热黑色颜料是MnCo2O4。
12.如权利要求10所述的方法，其中该玻璃粉∶耐热黑色颜料的含量比在大约1∶0.5和大约1∶3之间的范围内。
13.如权利要求10所述的方法，其中该玻璃粉是从由氧化铅、氧化铋、氧化锂或氧化锌构成的组中选择的作为主要成分的至少一种。
14.如权利要求10所述的方法，进一步包括：
通过将用于上介质层的材料施加到其上形成了总线电极、第一和第二黑色矩阵的基片上来形成上介质层；以及
通过将MgO施加到该上介质层上来形成保护层。
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