JP2003100208A - 電極パターンの形成方法および該電極パターンを形成したプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 黒色系・白色系の感光性ペーストから高精細
な白黒二層構造の電極パターン、特にＰＤＰの前面基板
に形成される白黒２層構造のバス電極パターンを充分な
解像性と焼成後密着性、導電性、黒さを同時に満足しつ
つ形成する方法を提供すること。 【解決手段】 課題を解決する方法として本発明は、基
材上に、黒色系の感光性ペーストを印刷、乾燥し、次い
で白色系の感光性導電ペーストを印刷、乾燥し、その
後、露光、現像、焼成工程を経て白黒二層からなる電極
パターンを形成する方法において、前記黒色系の感光性
ペーストとして、無機バインダーを含有しない組成物を
用いることを特徴とする電極パターンの形成方法を提供
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電極パターンの形成
方法および該電極パターンを形成したプラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰと略称する）に関し、特に、
アルカリ現像型感光性ペーストを用いて、プラズマディ
スプレイパネルの前面基板上に白黒二層構造を有するバ
ス電極を形成する新規な方法、ならびに該バス電極を有
するＰＤＰについての提案である。

【０００２】

【従来の技術】ＰＤＰはプラズマ放電による発光を利用
して映像や情報の表示を行う平面ディスプレイであり、
パネル構造、駆動方法によってＤＣ型とＡＣ型に分類さ
れる。このＰＤＰによるカラー表示の原理は、リブ（隔
壁）によって離間された前面ガラス基板と背面ガラス基
板に形成された対向する両電極間のセル空間（放電空
間）内でプラズマ放電を生じさせ、各セル空間内に封入
されているＨｅ、Ｘｅ等のガスの放電により発生する紫
外線で背面ガラス基板内面に形成された蛍光体を励起
し、３原色の可視光を発生させるものである。各セル空
間は、ＤＣ型ＰＤＰにおいては格子状のリブにより区画
され、一方、ＡＣ型ＰＤＰにおいては基板面に平行に列
設されたリブにより区画されるが、いずれにおいてもセ
ル空間の区画は、リブによりなされている。以下、添付
図面を参照しながら簡単に説明する。

【０００３】図１は、フルカラー表示の３電極構造の面
放電方式ＰＤＰの構造例を部分的に示している。前面ガ
ラス基板１の下面には、放電のための透明電極３ａまた
は３ｂと該透明電極のライン抵抗を下げるためのバス電
極４ａまたは４ｂとから成る一対の表示電極２ａ、２ｂ
が所定のピッチで多数列設されている。これらの表示電
極２ａ、２ｂの上には、電荷を蓄積するための透明誘電
体層５（低融点ガラス）が印刷、焼成によって形成さ
れ、その上に保護層（ＭｇＯ）６が蒸着されている。こ
の保護層６は、表示電極の保護、放電状態の維持等の役
割を有している。一方、背面ガラス基板１１の上には、
放電空間を区画するストライプ状のリブ（隔壁）１２と
各放電空間内に配されたアドレス電極（データ電極）１
３が所定のピッチで多数列設されている。また、各放電
空間の内面には、赤（１４ａ）、青（１４ｂ）、緑（１
４ｃ）の３色の蛍光体膜が規則的に配されている。フル
カラー表示においては、前記のように赤、青、緑の３原
色の蛍光体膜１４ａ、１４ｂ、１４ｃで１つの画素が構
成される。このようなＰＤＰは、一対の表示電極２ａと
２ｂの間に交流のパルス電圧を印加し、同一基板上の電
極間で放電させるので、「面放電方式」と呼ばれてい
る。また、放電により発生した紫外線は背面基板１１の
蛍光体膜１４ａ、１４ｂ、１４ｃを励起し、発生した可
視光を前面基板１の透明電極３ａ、３ｂを透して見る構
造となっている（反射型）。

【０００４】前記バス電極４ａ、４ｂの形成は、従来、
Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒの３層を蒸着やスパッタリングにより
成膜した後、フォトリソグラフィー法でパターニングが
行われてきた。しかし、工程数が多く高コストとなるた
め、最近では、銀ペースト等の導電ペーストをスクリー
ン印刷した後、焼成する方法、あるいは線幅１５０μｍ
以下のパターンとするためには、感光性導電ペーストを
塗布し、パターンマスクを通して露光した後、現像し、
次いで焼成する方法が行われている。

【０００５】このようにしてバス電極４ａ、４ｂが形成
されるＰＤＰの前面基板において、近年、画面のコント
ラストを向上させるために、バス電極を形成する際に、
表示側となる下層（透明電極３ａ、３ｂと接触する層）
に感光性黒色ペーストを印刷し、その上に導電性の銀ペ
ースト（白色系）を印刷して、白黒二層構造の電極を形
成することが行われている。この場合、感光性黒色ペー
ストとしては、銅―鉄系、銅―クロム系、ルテニウム
系、コバルト系等の耐熱性黒色顔料を配合した感光性樹
脂組成物が用いられている。これらの黒色系・白色系の
ペースト組成物はそれぞれ、基材であるガラスとの密着
性を図る目的で、低融点ガラスフリットを含有すること
が一般的である。また、上層となる白色系のペースト組
成物にガラスを含有させると、パターン露光する際の光
透過性が向上し、パターン形成し易くなるといった側面
もあった。しかし一方では、形成された電極の導電性
は、低融点ガラスフリットが多いほど導電性が悪くなる
といった問題がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、この
ような従来技術が抱える問題を解決する為になされたも
のであり、その主たる目的は、黒色系・白色系の感光性
ペーストから高精細な白黒二層構造の電極パターン、特
にＰＤＰの前面基板に形成される白黒２層構造のバス電
極パターンを、充分な解像性と焼成後密着性、導電性、
黒さを同時に満足しつつ形成する方法を提供することに
ある。また、本発明の他の目的は、基材との密着性や導
電性、黒さを損なうことなく高精細な白黒二層構造の電
極パターンを形成したＰＤＰを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】発明者は、上記目的の実
現に向け鋭意研究した結果、本発明では黒色系の感光性
ペーストに低融点ガラスを含有させず、白色系の感光性
導電ペーストだけにガラス転移点Ｔｇ：３９０℃〜５１
０℃、融点Ｓｐ：４４０〜５６０℃の低融点ガラスを含
有させることにより、電極全体としての低融点ガラス量
を増量することなく白色系感光性ペースト中の低融点ガ
ラス量の増量が図れるため、露光する際の光透過性が向
上し、従来よりも高精細なパターン形成が可能となるこ
とを知見した。さらに、高精細パターン形成後の焼成時
には、上層となる白色系のペースト層から低融点ガラス
が下層となる黒色系のペースト層に浸透し、電極と基材
との密着性、ならびに電極全体の導電性を確保できるこ
とを見出し、以下に示すような発明を想到するに至っ
た。

【０００８】即ち、本発明にかかる電極パターンの形成
方法は、基材上に、黒色系の感光性ペーストを印刷、乾
燥し、次いで白色系の感光性導電ペーストを印刷、乾燥
し、その後、露光、現像、焼成工程を経て白黒二層から
なる電極パターンを形成する方法において、前記黒色の
感光性ペーストとして、無機バインダーを含有しない組
成物を用いることを特徴とする。また、本発明のプラズ
マディスプレイパネルは、白黒二層からなるバス電極が
上述した電極パターンの形成方法にて形成されてなるこ
とを特徴とする。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明にかかる電極パターンの形
成方法は、黒色系の感光性ペーストに低融点ガラスを含
有させず、白色系の感光性導電ペーストだけにガラス転
移点Ｔｇ：３９０℃〜５１０℃、融点Ｓｐ：４４０〜５
６０℃の低融点ガラスを含有させた白・黒ペーストを用
いる点に最大の特徴がある。このような本発明の電極形
成方法によれば、電極全体としての低融点ガラス量を増
量することなく白色系感光性導電ペースト中の低融点ガ
ラス量の増量が図れるため、露光する際の光透過性が向
上し、従来よりも高精細の電極パターン形成が可能であ
る。しかも、高精細パターン形成後の焼成時には、上層
となる白色系のペースト層から低融点ガラスが下層とな
る黒色系のペースト層に浸透し、電極と基材との密着性
を確保することができる。さらに、黒色系ペーストに低
融点ガラスを含有しないことより、焼成時にならびに電
極全体の導電性を確保することができる。

【００１０】以下、本発明にかかる電極パターンの形成
方法について説明する。 （１）まず、基材上に、耐熱性黒色顔料と有機ビヒクル
を含む黒色系の感光性ペーストを塗布し、乾燥する。次
いで、黒色系の感光性ペーストの乾燥塗膜上に導電性粒
子と有機ビヒクルを含む白色系の感光性導電ペーストを
塗布し、乾燥する。ここで、前記基材としては、特定の
ものに限定されるものではないが、ソーダライムガラ
ス、高歪み点ガラス、またはこれら基材の上にＩＴＯ、
ネサ等の透明電極が形成された基板を用いることができ
る。

【００１１】本発明にかかる電極パターンの形成方法で
用いる黒色系の感光性ペーストを構成する耐熱性黒色顔
料としては、銅―鉄系、銅―クロム系、ルテニウム系、
コバルト系等の黒色化合物を用いることができる。

【００１２】このような耐熱性黒色顔料の配合量は、黒
色系の感光性ペースト１００質量部に対して５〜５０質
量部が適当である。耐熱性黒色顔料の配合量が上記範囲
よりも少ない場合、ガラス基材側の黒さが不足しパネル
の充分なコントラストが得られず、一方、上記範囲を超
えて多量になると、基材との密着性が悪くなるので好ま
しくない。

【００１３】本発明にかかる電極パターンの形成方法で
用いる白色系の感光性導電ペーストを構成する導電性粒
子としては、ＡｇやＡｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａ
ｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｗ、
Ｍｏ、Ｒｕ等の単体とその合金の他、その酸化物、酸化
錫（ＳｎＯ₂）、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）、ＩＴＯ
（Indium Tin Oxide）などを用いることができる。導
電性粒子の形状としては、球状、フレーク状、デントラ
イト状など種々のものを用いることができ、特に光特性
や分散性を考慮すると球状のものを用いるのが好まし
い。

【００１４】このような導電性粒子の配合量は、感光性
導電ペースト１００質量部に対して５０〜９０質量部が
適当である。導電性粒子の配合量が上記範囲よりも少な
い場合、導電回路パターンの充分な導電性が得られず、
一方、上記範囲を超えて多量になると、パターン形成性
が悪くなるので好ましくない。

【００１５】本発明にかかる電極パターンの形成方法で
用いる黒色系の感光性ペーストおよび白色系の感光性導
電ペーストを構成する有機ビヒクルとしては、少なくと
も樹脂バインダー、光重合性モノマーおよび光重合開始
剤を含む組成物を用いることが好ましい。

【００１６】樹脂バインダーとしては、使用する温度域
に応じて種々のものを用いることができるが、分子量が
１０００〜１０００００、酸価が３０〜２５０ｍｇＫＯ
Ｈ／ｇのものが好ましい。このような樹脂バインダーと
しては、カルボキシル基を有する樹脂、具体的にはそれ
自体がエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル
基含有感光性樹脂およびエチレン性不飽和二重結合を有
さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能であ
る。好適に使用できる樹脂（オリゴマーおよびポリマー
のいずれでもよい）としては、以下のようなものが挙げ
られる。 （１）（ａ）不飽和カルボン酸と（ｂ）不飽和二重結合
を有する化合物を共重合させることによって得られるカ
ルボキシル基含有樹脂 （２）（ａ）不飽和カルボン酸と（ｂ）不飽和二重結合
を有する化合物の共重合体にエチレン性不飽和基をペン
ダントとして付加させることによって得られるカルボキ
シル基含有感光性樹脂 （３）（ｃ）エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合
物と（ｂ）不飽和二重結合を有する化合物の共重合体
に、（ａ）飽和または不飽和カルボン酸を反応させ、生
成した２級の水酸基に（ｄ）多塩基酸無水物を反応させ
て得られるカルボキシル基含有樹脂 （４）（ｅ）不飽和二重結合を有する酸無水物と（ｂ）
不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、（ｆ）水
酸基を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル
基含有樹脂 （５）（ｅ）不飽和二重結合を有する酸無水物と（ｂ）
不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、（ｆ）水
酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得ら
れるカルボキシル基含有感光性樹脂 （６）（ｇ）エポキシ化合物と（ｈ）不飽和モノカルボ
ン酸を反応させ、生成した２級の水酸基に（ｄ）多塩基
酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光
性樹脂 （７）（ｂ）不飽和二重結合を有する化合物とグリシジ
ル（メタ）アクリレートの共重合体のエポキシ基に、
（ｉ）１分子中に１つのカルボキシル基を有し、エチレ
ン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した
２級の水酸基に（ｄ）多塩基酸無水物を反応させて得ら
れるカルボキシル基含有樹脂 （８）（ｊ）水酸基含有ポリマーに（ｄ）多塩基酸無水
物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂 （９）（ｊ）水酸基含有ポリマーに（ｄ）多塩基酸無水
物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂に、
（ｃ）エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物をさ
らに反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂

【００１７】光重合性モノマーとしては、例えば、２−
ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ポリウレタンジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエ
チレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロー
ルプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートおよび上記アク
リレートに対応する各メタクリレート類；フタル酸、ア
ジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、コハク酸、トリメ
リット酸、テレフタル酸等の多塩基酸とヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−ま
たはそれ以上のポリエステルなどが挙げられるが、特定
のものに限定されるものではなく、またこれらを単独で
または２種以上を組み合わせて用いることができる。こ
れらの光重合性モノマーの中でも、１分子中に２個以上
のアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する多官
能モノマーが好ましい。なお、これらの光重合性モノマ
ーは、組成物の光硬化性の促進および現像性を向上させ
るために用いられる。このような光重合性モノマーの配
合量は、前記樹脂バインダー１００質量部当り２０〜１
００質量部が適当である。光重合性モノマーの配合量が
上記範囲よりも少ない場合、組成物の充分な光硬化性が
得られ難くなり、一方、上記範囲を超えて多量になる
と、皮膜の深部に比べて表面部の光硬化が早くなるため
硬化むらを生じ易くなる。

【００１８】光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾ
インアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジ
メトキシー２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエ
トキシー２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロ
ロアセトフェノン等のアセトフェノン類；２−メチル−
１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリ
ノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−
１等のアミノアセトフェノン類；２−メチルアントラキ
ノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアン
トラキノン、１−クロロアントラキノン等のアントラキ
ノン類；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジ
エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、
２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサン
トン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジ
メチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン類；またはキサントン類；（２，６−ジメ
トキシベンゾイル）−２，４，４−ペンチルホスフィン
オキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイ
ド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニ
ルフォスフィネイト等のフォスフィンオキサイド類；各
種パーオキサイド類などが挙げられ、これら公知慣用の
光重合開始剤を単独でまたは２種以上を組み合わせて用
いることができる。これらの光重合開始剤の配合割合
は、前記樹脂バインダー１００質量部当り１〜３０質量
部が適当であり、好ましくは、５〜２０重量部である。

【００１９】また、上記のような光重合開始剤は、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル
−４−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光
増感剤の１種あるいは２種以上と組み合わせて用いるこ
とができる。さらに、より深い光硬化深度を要求される
場合、必要に応じて、可視領域でラジカル重合を開始す
るチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製イルガキュ
ア７８４等のチタノセン系光重合開始剤、ロイコ染料等
を硬化助剤として組み合わせて用いることができる。

【００２０】なお、本発明にかかる電極パターンの形成
方法に用いる黒色系の感光性ペーストおよび白色系の感
光性導電ペーストは、さらに必要に応じて、シリコーン
系、アクリル系等の消泡・レベリング剤、皮膜の密着性
向上のためのシランカップリング剤、などの他の添加剤
を配合することもできる。さらにまた、必要に応じて、
導電性金属粉の酸化を防止するための公知慣用の酸化防
止剤や、保存時の熱的安定性を向上させるための熱重合
禁止剤、焼成時における基板との結合成分としての金属
酸化物、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物などの微粒子を添
加することもできる。

【００２１】このような耐熱性黒色顔料と有機ビヒク
ル、または導電性粒子と有機ビヒクル、ならびに上述し
た任意成分との混練分散は、三本ロールやブレンダー等
の機械が用いられる。こうして分散された黒色系の感光
性ペーストまたは白色系の感光性導電ペーストは、スク
リーン印刷法、バーコーター、ブレードコーターなど適
宜の塗布方法で基材、例えばプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ）の前面基板となるガラス基材上に塗布し、
次いで指触乾燥性を得るために熱風循環式乾燥炉、遠赤
外線乾燥炉等で例えば約６０〜１２０℃で５〜４０分程
度乾燥させて有機溶剤を蒸発させ、タックフリーの塗膜
を得る。なお、ペーストを予めフィルム状に成膜するこ
ともでき、この場合には基材上にフィルムをラミネート
すればよい。

【００２２】（２）次に、パターン露光して現像する。
露光工程としては、所定の露光パターンを有するネガマ
スクを用いた接触露光または非接触露光が可能である。
露光光源としては、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、レー
ザー光、メタルハライドランプ、ブラックランプ、無電
極ランプなどが使用される。露光量としては５０〜１０
００ｍＪ／ｃｍ²程度が好ましい。

【００２３】現像工程としては、スプレー法や浸漬法等
が用いられる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナ
トリウムなどの金属アルカリ水溶液や、モノエタノール
アミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンな
どのアミン水溶液、特に約１．５重量％以下の濃度の希
アルカリ水溶液が好適に用いられるが、組成物中のカル
ボキシル基含有樹脂のカルボキシル基がケン化され、未
硬化部（未露光部）が除去されればよく、上記のような
現像液に限定されるものではない。また、現像後に不要
な現像液の除去のため、水洗や酸中和を行う。

【００２４】（３）そして、得られた電極パターンを焼
成し、基材上に白黒２層構造の電極パターンを形成す
る。焼成工程においては、現像後の基板を空気中または
窒素雰囲気下で約４００〜６００℃の焼成を行い、所望
の電極パターンを形成する。

【００２５】なお、ガラス基材上に前記した黒色系の感
光性ペーストを塗布し、乾燥、露光、現像工程を行って
下層（黒色）電極を形成した後、白色系の感光性導電ペ
ーストを塗布し、乾燥、露光、現像、焼成の各工程を行
って上層（白色系）電極を形成する方法を採用すること
もできる。

【００２６】以上説明したような電極パターンの形成方
法にて形成したバス電極を有する本発明のプラズマディ
スプレイパネルは、白黒２層のバス電極を焼成する際
に、白色系導電ペースト層（上層）の低融点ガラスが黒
色系ペースト層（下層）に浸透して密着性を維持するの
で、かかる下層では密着性を維持し得る浸透量を確保で
きればよい。その結果、本発明にかかる黒色系感光性ペ
ーストは、従来よりも多くの耐熱性黒色顔料を配合する
ことができ、より薄膜でも優れた黒色度を維持すること
ができる。

【００２７】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでない
ことはもとよりである。なお、以下において「部」は、
特に断りのない限りすべて質量部であるものとする。 （合成例１）温度計、攪拌機、滴下ロート、および還流
冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとメ
タクリル酸を０．８７：０．１３のモル比で仕込み、溶
媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル、
触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰
囲気下、８０℃で２〜６時間攪拌し、樹脂溶液を得た。
この樹脂バインダーＡは、重量平均分子量が約１０，０
００、酸価が７４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、得ら
れた共重合樹脂の重量平均分子量の測定は、島津製作所
製ポンプＬＣ−６ＡＤと昭和電工製カラムＳｈｏｄｅｘ
（登録商標）ＫＦ−８０４、ＫＦ−８０３、ＫＦ−８０
２を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーにより測
定した。

【００２８】このようにして得られた樹脂バインダーＡ
を用い、以下に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪
拌後、３本ロールミルにより練肉してペースト化を行な
った。なお、低融点ガラス粉末としては、Ｂｉ₂Ｏ₃ ５
０％ 、Ｂ₂０₃ １５％、ＺｎＯ１５％、ＳｉＯ₂ ６
％、ＢａＯ １７％を粉砕し、熱膨張係数α₃₀₀＝８５
×１０-7 ／℃、ガラス転移点４６０℃、平均粒径１．
６μｍとしたものを使用した。

【００２９】 上層用（白色系）感光性導電ペースト； （組成物例１） 樹脂バインダーＡ １００．０部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０．０部 ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１− （４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン ５．０部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ８０．０部 銀粉（平均粒径１．５μ、比表面積０．５ｍ²／ｇ） ４５０．０部 低融点ガラス粉末 ３６．０部 リン酸エステル １．０部

【００３０】 （組成物例２） 樹脂バインダーＡ １００．０部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０．０部 ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１− （４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン ５．０部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ８０．０部 銀粉（平均粒径１．５μ、比表面積０．５ｍ²／ｇ） ４５０．０部 低融点ガラス粉末 ２２．０部 リン酸エステル １．０部

【００３１】 下層用（黒色系）感光性黒色ペースト； （組成物例３） 樹脂バインダーＡ １００．０部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０．０部 ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１− （４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン ５．０部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ８０．０部 四三酸化コバルト（Ｃｏ_３Ｏ_４） ２０．０部 （粒径０．２０μｍ、比表面積４．９ｍ²/ｇ） 酸化ルテニウム （ＲｕＯ₂、比表面積５０．５ｍ²／ｇ） ２０．０部 次亜リン酸 １．０部

【００３２】 （組成物例４） 樹脂バインダーＡ １００．０部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０．０部 ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１− （４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン ５．０部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ８０．０部 四三酸化コバルト（Ｃｏ_３Ｏ_４） ４０．０部 （粒径０．１２μｍ、比表面積８．２ｍ²/ｇ）

【００３３】 （比較組成物例１） 樹脂バインダーＡ １００．０部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０．０部 ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１− （４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン ５．０部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ８０．０部 四三酸化コバルト（Ｃｏ_３Ｏ_４） ２０．０部 （粒径０．２０μｍ、比表面積４．９ｍ²/ｇ） 酸化ルテニウム ２０．０部 低融点ガラス粉末 ４０．０部 次亜リン酸 １．０部

【００３４】このようにして得られた組成物例１〜４お
よび比較組成物例１の各ペーストを用い、ガラス基材上
に電極パターンを形成し、解像性と密着性、比抵抗を評
価した。まず、下層用の黒色系感光性ペーストを３００
メッシュのポリエステルスクリーンを用いて基材全面に
塗布し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて９０℃で２０分
間乾燥して指触乾燥性の良好な被膜を形成した。次に、
この被膜上に、上層用の白色系感光性導電ペーストを２
００メッシュのポリエステルスクリーンを用いて基材全
面に塗布し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて９０℃で２
０分間乾燥して指触乾燥性の良好な白黒二層の被膜を形
成した。その後、光源をメタルハライドランプとし、組
成物上の積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ²となるようにパ
ターン露光した後、液温３０℃の１ｗｔ％Ｎａ₂ＣＯ₃水
溶液を用いて現像を行い、水洗した。最後に空気雰囲気
下にて５℃／分で昇温し、５７０℃で３０分間焼成して
電極パターンを形成した基材を作製した。

【００３５】解像性：上記方法によって作成した電極パ
ターンの最小ライン幅を評価した。 比抵抗値：上記方法によって４mm×１０ｃｍのパターン
を形成し、抵抗値と膜厚を測定して比抵抗値を算出し
た。 密着性：セロテープ（登録商標）ピーリングを行い、パ
ターンの剥離がないかどうかで評価した。評価基準は以
下のとおりである。 ○：パターン剥離無し ×パターン剥離有り

【００３６】これらの評価結果を表１に示す。この表１
に示す結果から明らかなように、本発明にかかる電極パ
ターンの形成方法によれば、解像性、導電性、密着性が
共に優れる精細な電極パターンを容易に形成できること
が確認できた。

【００３７】なお、上記評価において、現像後ならびに
焼成後のライン形状、黒色度を評価したが、いずれも問
題はなかった。ここで、現像後ならびに焼成後のライン
形状は、１００μｍパターンを顕微鏡観察し、ラインに
不規則なばらつきがなく、よれ等がないかどうかで評価
した。また、黒色度の評価は、焼成被膜について色彩色
差計（ミノルタカメラ（株）製、ＣＲ−２２１）を用い
てＬ*ａ*ｂ*表色系の値をＪＩＳ−Ｚ−８７２９に従っ
て測定し、明度を表す指数であるＬ*値を黒色度の指標
として評価した。

【００３８】

【表１】

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
材との密着性や導電性、黒さを損なうことなく高精細な
白黒二層構造の電極パターンを、複雑な工程を経ること
なく容易に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】面放電方式のＡＣ型ＰＤＰの部分分解斜視図で
ある。

【符号の説明】

１ 前面ガラス基板 ２ａ，２ｂ 表示電極 ３ａ，３ｂ 透明電極 ４ａ，４ｂ バス電極 ５ 透明誘電体層 ６ 保護層 １０ ブラックマトリックス １１ 背面ガラス基板 １２ リブ １３ アドレス電極 １４ａ，１４ｂ，１４ｃ 蛍光体膜

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材上に、黒色系の感光性ペーストを印
   刷、乾燥し、次いで白色系の感光性導電ペーストを印
   刷、乾燥し、その後、露光、現像、焼成工程を経て白黒
   二層からなる電極パターンを形成する方法において、前
   記黒色系の感光性ペーストとして、無機バインダーを含
   有しない組成物を用いることを特徴とする電極パターン
   の形成方法。
2. 【請求項２】白黒二層からなるバス電極を有するプラズ
   マディスプレイパネルにおいて、前記バス電極が請求項
   １に記載の方法にて形成されてなることを特徴とするプ
   ラズマディスプレイパネル。