KR100858660B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물 및 이를포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물 및 이를포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물에 있어서, 상기 조성물은 38 내지 68 중량부의 산화 비스무스(Bi2O3), 10 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 1 내지 17 중량부의 산화 규소(SiO2) 및 1 내지 15 중량부의 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함하고, 0 초과 5 중량부 이하의 산화 칼슘(CaO)을 더 포함하며, 상기 조성물로 형성된 유전체는 432 내지 490℃의 유리전이온도(Tg)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물을 제공한다.
유전체, 플라즈마 디스플레이 패널

Description

플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널{Plasma Display Panel Dielectric Substance Composition And Plasma Display Panel Comprising The Same}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 설명하기 위한 도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 전면 패널 101 : 전면 기판
102 : 스캔 전극 103 : 서스테인 전극
110 : 후면 패널 112 : 격벽
113 : 어드레스 전극 114 : 형광체 층
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)은 전면 기판과 후면 기판에 형성된 각각의 상부 유전체 및 하부 유전체와 전면 기판과 후면 기판 사이에 형성된 격벽(Barrier Rip)이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주방전 기체와 소량의 크세논(Xe)을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 따라서, 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 박막화와 대형화가 용이할 뿐만 아니라 최근의 기술 개발에 힘입어 크게 향상된 화질을 제공하여 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.
상기 유전체는 플라즈마 방전시 방전전류를 제한하여 글로우 방전을 유지하고 벽 전하 축적을 통해 메모리 기능과 전압을 저하시키는 역할을 한다. 상기 유전체층을 형성하는 방법으로는 유리분말 등의 분말 성분과 첨가제를 혼합 반죽하여 제작한 페이스트 형태의 유전체용 형성 재료를 스크린 인쇄법으로 형성하고 소성하는 방법을 사용할 수 있다.
여기서, 상기 유전체 형성에 사용되는 유전체 물질로는 산화납(PbO)이 사용된 유리분말과 유기물의 혼합한 페이스트가 주로 사용되고 있다. 그러나, 산화납은 인체 및 환경에 유해한 물질로 알려져 있으며, 이 때문에 유리 분말 생산 및 사용에 있어 추가 환경설비를 필요로 하게 되어, 공정 효율이 떨어지며, 제조 원가가 증가하는 문제점이 있다.
현재까지 많은 유리의 전자부품의 응용에 있어서, 다량의 산화납(PbO)이 함 유된 유리조성이 오랫동안 사용되어 오고 있다. 납을 사용한 유리조성은 고 굴절율 특성과 저융점의 특성으로 인해 전자부품에 널리 사용되어 왔으나, 환경 문제를 야기하는 문제로 앞으로 시급한 해결로 대두 되고 있다.
따라서, 본 발명은 산화납을 포함하지 않는 유전체를 사용하여 친환경적인 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물에 있어서, 상기 조성물은 38 내지 68 중량부의 산화 비스무스(Bi2O3), 10 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 1 내지 17 중량부의 산화 규소(SiO2) 및 1 내지 15 중량부의 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함하고, 0 초과 5 중량부 이하의 산화 칼슘(CaO)을 더 포함하며, 상기 조성물로 형성된 유전체는 432 내지 490℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다.
또한, 본 발명은 전면 기판, 상기 전면 기판과 대향하는 후면 기판 및 상기 후면 기판 상에 형성된 유전체를 포함하며, 상기 유전체는 38 내지 68 중량부의 산화 비스무스(Bi2O3), 10 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 1 내지 17 중량부의 산화 규소(SiO2) 및 1 내지 15 중량부의 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함하고, 0 초과 5 중량부 이하의 산화 칼슘(CaO)을 더 포함하며, 상기 유전체는 432 내지 490℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 설명하기 위한 도면이다.
도 1을 살펴보면, 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 기판(101)에 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)이 형성된 전면 패널(100)과, 배면을 이루는 후면 기판(111) 상에 전술한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)과 교차 되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면 패널(110)이 일정거리를 사이에 두고 나란하게 위치한다.
상기 전면 패널(100)은 방전 공간, 즉 방전 셀(Cell)에서 방전과 방전 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 위치한다. 보다 자세하게는 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(102a)과 불투명 금속재질로 제작된 버스 전극(102b)을 포함하는 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다. 상기 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 상부 유전체 층(104)에 의해 덮혀진다. 상기 상부 유전체 층(104) 상에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호 층(105)이 위치한다.
상기 후면 패널(110)은 복수 개의 방전 공간 즉, 방전 셀을 구획하기 위한 웰 타입(Well Type) 또는 스트라이프 타입의 오픈형의 폐쇄형 격벽(112)을 포함한 다. 또한, 데이터 펄스를 공급하기 위한 다수의 어드레스 전극(113)이 위치한다.
이러한, 격벽(112)에 의해 구획된 복수의 방전 셀 내에는 어드레스 방전 시 화상표시를 위한 가시 광을 방출하는 형광체 층(114), 바람직하게는 적색(Red : R), 녹색(Green : G), 청색(Blue : B) 형광체 층이 위치한다.
그리고, 어드레스 전극(113)과 형광체 층(114) 사이에는 하부 유전체 층(115)이 위치한다.
여기서, 상부 유전체 층(104)과 하부 유전체 층(115)이 각 전면 기판(101)과 후면 기판(111) 상에 형성되는 것은 한정되지 않으며, 이와는 반대로 전면 기판(101)과 후면 기판(110) 상에 하부 유전체 층(115)과 상부 유전체 층(104)이 형성되는 것도 가능하다.
도 1에서는 플라즈마 디스플레이 패널의 일례만을 도시하고 설명한 것으로써, 본 발명이 도 1의 구조의 플라즈마 디스플레이 패널에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 도 1의 플라즈마 디스플레이 패널(100)에는 스캔 전극(102), 서스테인 전극(103), 어드레스 전극(113)이 형성된 것을 도시하고 있지만, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에서는 스캔 전극(102), 서스테인 전극(103) 또는 어드레스 전극(113) 중 하나 이상이 생략될 수도 있다.
또한, 도 1에서는 방전 셀을 구획하기 위한 격벽(112)이 후면 기판(111) 상에 형성된 경우만을 도시하고 있지만, 이와는 다르게 격벽(112)이 전면 기판(101) 상에 형성되는 것도 가능하며, 전면 기판(101)과 후면 기판(112)에 각각 형성될 수 있다.
즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 기판(101)과 후면 기판(111)에 각각 상부 유전체층(104) 및 하부 유전체층(115)가 형성되고, 상기 하부 유전체층(115)은 산화납을 포함하지 않고 서로 다른 산화물인 다양한 유전체 물질을 사용하여 형성되는 것으로 그 외의 다른 사항은 변경 가능한 것이다.
이하, 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물에 대해 보다 상세하게 설명한다.
플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물은 글로우 방전을 유지하고 벽전하를 축적하기 위한 것으로서, 산화납을 포함하지 않고 산화 비스무스(Bi2O3), 붕소 옥사이드(B2O3), 산화 규소(SiO2) 및 산화 알루미늄(Al2O3)을 주성분으로 하는 무연 유리 조성물이다.
상기 유전체용 조성물은 산화 비스무스(Bi2O3), 붕소 옥사이드(B2O3), 산화 규소(SiO2) 및 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함하며, 산화 아연(ZnO), 산화 바륨(BaO), 산화 칼슘(CaO)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 유전체용 조성물은 첨가제로 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물은 38 중량부 이상 68 중량부 이하의 산화 비스무스(Bi2O3)를 포함할 수 있다. 상기 산화 비스무스(Bi2O3)는 조성물의 용융온도 및 유리전이온도(Tg)를 감소시키는 역할을 한다.
따라서, 상기 산화 비스무스(Bi2O3)의 함량이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 38 중량부 이상일 경우에는 저 융점의 효과를 나타낼 수 있으며, 68 중량부 이하일 경우에는 유리의 황색화가 진행되는 것을 방지할 수 있으므로, 상기 산화 비스무스(Bi2O3)는 38 중량부 이상 68 중량부 이하로 포함될 수 있다.
또한, 상기 유전체용 조성물은 10 중량부 이상 35 중량부 이하의 붕소 옥사이드(B2O3)를 포함할 수 있다. 상기 붕소 옥사이드(B2O3)는 유전체용 조성물의 망목 구조를 형성하는 역할을 한다.
따라서, 상기 붕소 옥사이드(B2O3)의 함량이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 10 중량부 이상일 경우에는 조성물의 망목 구조를 충분히 형성할 수 있으며, 35 중량부 이하일 경우에는 조성물의 전이 온도가 상승되는 것을 방지할 수 있으므로, 상기 붕소 옥사이드(B2O3)는 10 중량부 이상 35 중량부 이하로 포함될 수 있다.
또한, 상기 유전체용 조성물은 1 중량부 이상 17 중량부 이하의 산화 규소(SiO2)를 포함할 수 있다. 상기 산화 규소(SiO2)는 유리 형성 성분으로서 유리를 화학적, 광학적으로 안정화시키는 역할을 하며, 유리전이온도(Tg) 및 유리연화온도(Ts)를 크게 높이는 역할을 한다.
따라서, 상기 산화 규소(SiO2)의 함량이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 1 중량부 이상일 경우에는 유전체를 화학적 및 광학적으로 안정화시킬 수 있으며, 17 중량부 이하일 경우에는 유리전이온도(Tg)가 과도하게 상승되는 것을 방지할 수 있으므로, 상기 산화 규소(SiO2)는 1 중량부 이상 17 중량부 이하로 포함될 수 있다.
또한, 상기 유전체용 조성물은 1 중량부 이상 15 중량부 이하의 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함할 수 있다. 상기 산화 알루미늄(Al2O3)은 열팽창계수(CTE)를 감소시키고, 고온 점도를 증가시켜 조성물의 기계적 화학적, 안정성을 향상시키는 역할을 한다.
따라서, 산화 알루미늄(Al2O3)의 함량이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 1 중량부 이상일 경우에는 열팽창계수(CTE)를 감소시키고 조성물의 기계적, 화학적 안정성을 향상시킬 수 있으며, 15 중량부 이하일 경우에는 열팽창계수(CTE) 및 소성영역에서 점도 거동이 적합하므로, 상기 산화 알루미늄(Al2O3)은 1 중량부 이상 15 중량부 이하로 포함될 수 있다.
이상과 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물은 산화 비스무스(Bi2O3), 붕소 옥사이드(B2O3), 산화 규소(SiO2) 및 산화 알루미늄(Al2O3)을 주요 구성요소로 한다.
상기 유전체용 조성물은 산화 바륨(BaO)을 더 포함할 수 있다. 상기 산화 바륨(BaO)의 함량은 0 초과 18 중량부 이하일 수 있다. 상기 산화 바륨(BaO)은 유전체용 조성물의 유전율 및 열팽창계수(CTE)를 조절하는 역할을 한다.
따라서, 상기 산화 바륨(BaO)의 함량이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 0 초과일 경우에는 유전율 및 열팽창계수가 안정된 조성물을 얻을 수 있으며, 18 중량부 이하일 경우에는 열팽창계수(CTE)가 증가하여 유전체의 형태안정성을 저하되는 것을 방지할 수 있으므로, 상기 산화 바륨(BaO)은 0 초과 18 중량부 이하로 포함될 수 있다.
또한, 상기 유전체용 조성물은 산화 칼슘(CaO)을 더 포함할 수 있다. 상기 산화 칼슘(CaO)의 함량은 0 초과 5 중량부 이하일 수 있다. 상기 산화 칼슘(CaO)은 밝은색을 나타내는 유리수식제로서 조성물의 유리전이온도(Tg)를 약간 높이고, 열팽창계수(CTE)를 약간 낮추는 역할을 한다.
따라서, 상기 산화 칼슘(CaO)의 함량이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 0 초과일 경우에는 열팽창계수가 낮춰 유전체의 형태안정성을 향상시킬 수 있으며, 5 중량부 이하일 경우에는 열팽창계수(CTE)가 지나치게 낮아지는 것을 방지할 수 있으므로, 상기 산화 칼슘(CaO)은 0 초과 5 중량부 이하로 포함될 수 있다.
또한, 상기 유전체용 조성물은 산화 아연(ZnO)을 더 포함할 수 있다. 상기 산화 아연(ZnO)의 함량은 0 초과 12 중량부 이하일 수 있다. 상기 산화 아연(ZnO) 은 유전체의 유리전이온도(Tg) 및 유리연화온도(Ts)를 감소시키는 역할을 한다.
따라서, 상기 산화 아연(ZnO)의 함량이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 0 초과일 경우에는 유리전이온도(Tg) 및 유리연화온도(Ts)를 감소시키는데에 충분한 효과를 얻을 수 있으며, 12 중량부 이하일 경우에는 조성물로 인해 형성되는 유리의 결정화 발생 가능성을 방지할 수 있으므로, 상기 산화 아연(ZnO)은 0 초과 12 중량부 이하로 포함될 수 있다.
또한, 상기 유전체용 조성물은 첨가제를 더 포함할 수 있다. 첨가제로는 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2)을 들 수 있다. 상기 첨가제인 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상의 전체 합은 0 초과 5 중량부 이하로 포함할 수 있다.
상기 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2)은 모두 노란색을 나타내는 유리수식제로서 조성물의 유리전이온도(Tg)를 낮춤으로써 소성온도를 제어할 수 있고, 유전율을 높이며, 열팽창계수(CTE)를 약간 높이는 기능을 한다.
따라서, 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상의 산화물의 합이 전체 유전체용 조성물의 중량에 대하여 0 초과일 경우에는 유전율이 낮아지는 것을 방지할 수 있고, 5 중량부 이하일 경우에는 적절한 유리전이온도(Tg)를 가져 소성이 용이하게 할 수 있으므로, 상기 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상의 산화물의 합이 0 초과 5 중량부 이하로 포함될 수 있다.
따라서, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물은 산화 비스무스(Bi2O3), 붕소 옥사이드(B2O3), 산화 규소(SiO2) 및 산화 알루미늄(Al2O3)을 주요 구성요소로 포함하고, 산화 바륨(BaO), 산화 칼슘(CaO) 및 산화 아연(ZnO)을 더 포함할 수 있다. 이에 부가적으로 첨가제인 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2)을 더 포함할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 상기 조성을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물의 제조방법을 설명한다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물은 일반적인 유리분말의 제조공정에 따라 제조될 수 있다. 즉, 유전체용 조성물의 제조방법은 산화 비스무스(Bi2O3), 붕소 옥사이드(B2O3), 산화 규소(SiO2), 산화 알루미늄(Al2O3), 산화 바륨(BaO), 산화 칼슘(CaO), 산화 아연(ZnO) 및 산화 나트륨(NaO) 또는 산화 리튬(LiO2)을 상기 함량으로 선택하여 혼합하고, 상기 혼합된 원료를 용융시킨다. 이때, 용융온도는 1000 내지 1500℃인 것이 바람직하며, 용융시간은 10 내지 60분을 유지하여 상기 성분이 용융상태에서 고르게 혼합될 수 있다.
상기 용융된 혼합원료를 급냉한 후 분쇄한다. 이때, 상기 급냉과정은 건식 또는 습식으로 수행될 수 있으며, 습식 과정에서는 물을 사용할 수 있다. 상기 급 냉과정 후의 분쇄과정도 건식 또는 습식으로 수행될 수 있는데, 상기 습식 분쇄과정에는 물 또는 유기용매가 사용될 수 있으며, 상기 유기용매의 바람직한 예로는 에탄올, 메탄올, 에틸아세테이트, 톨루엔 또는 이소프로필 알코올 등이 있다. 상기 물 또는 유기용매는 단독으로 사용될 수 있으며, 둘 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 상기 유기용매의 종류에 따라서, 유전체용 분말의 겔화 정도와 소성 후의 색상을 조절할 수도 있다.
상기 분쇄된 유전체용 분말을 여과, 건조 및 해쇄하여 입경이 작은 예를 들어, 0.1 내지 10㎛인 분말상태 즉 파우더 상태로 제조한다.
이하, 상기와 같이 제조된 유전체용 분말을 사용하여 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 제조방법을 설명한다.
플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판에 10 내지 15㎛의 높이로 유전체용 페이스트(20)를 도포한다.
상기 유전체용 페이스트(20)는 유전체 분말, 바인더 및 유기용매를 혼합하여 형성한다. 상기 유전체 분말은 전술한 바와 같이, 38 내지 68 중량부의 산화 비스무스(Bi2O3), 10 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 1 내지 17 중량부의 산화 규소(SiO2) 및 1 내지 15 중량부의 산화 알루미늄(Al2O3), 0 초과 18 중량부 이하의 산화 바륨(BaO), 0 초과 5 중량부 이하의 산화 칼슘(CaO), 0 초과 12 중량부 이 하의 산화 아연(ZnO) 및 산화 나트륨(NaO)과 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상의 산화물의 전체 합이 0 초과 5 중량부 이하인 것을 포함하는 유전체용 조성물을 혼합, 용융, 급냉, 여과, 건조 및 해쇄하여 사용할 수 있다.
상기 바인더는 유전체 제조에 사용되는 통상적인 바인더를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 아크릴계 수지, 에폭시계 수지 또는 에틸셀룰로오스계 수지 중에서 선택된 어느 하나 이상의 고분자 수지를 사용할 수 있다.
상기 유기용매는 유전체 제조에 사용되는 통상적인 용매를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 부틸 셀로솔브(BC : butyl cellosolve), 부틸 카르비톨 아세테이트(BCA : butyl carbitol acetate), 테르피네올(TP : terpineol) 또는 텍사놀(texanol) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 유기용매를 사용할 수 있다.
또한, 부가적으로 필러를 더 혼합할 수 있으며, 예를 들어 산화 크롬(CrO), 산화 망간(CuO), 산화 마그네슘(MgO), 산화 알루미늄(Al2O3), 산화 아연(ZnO), 산화 티타늄(TiO2), 뮬라이트(3Al2O3SiO2) 등을 사용할 수 있다.
이하, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 제조방법에 따른 실시예를 개시한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐, 본 발명이 하기의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
산화 비스무스(Bi2O3) 68g, 붕소 옥사이드(B2O3) 10g, 산화 규소(SiO2) 7g, 산화 알루미늄(Al2O3) 15g을 혼합하고, 상기 혼합물을 용광로에서 1200℃의 온도로 용융시켰다. 상기 용융된 혼합물을 건식 급냉 시킨 후, 분쇄하여 유전체 분말을 형성하였다.
상기 제조된 유전체 분말 94g와, 에틸셀룰로오스 3g, 부틸카비톨 아세테이트(BCA) 3g을 혼합하여 유전체용 페이스트를 제조하였다.
어드레스 전극이 형성된 후면 기판에 상기 유전체 페이스트를 10 내지 15㎛의 두께로 코팅한 후 건조하였다.
상기 건조된 유전체 페이스트를 500℃의 온도에서 소성하여 유전체층을 형성하였다.
<실시예 2>
상기 실시예 1과 동일한 조건하에, 산화 비스무스(Bi2O3) 59.4g, 붕소 옥사이드(B2O3) 17.3g, 산화 규소(SiO2) 8.6g, 산화 알루미늄(Al2O3) 1.62g, 산화 바륨(BaO) 3.2g, 산화 칼슘(CaO) 2.2g, 산화 아연(ZnO) 7.6g의 조성만 달리하여 제조하였다.
<실시예 3>
상기 실시예 1과 동일한 조건하에, 산화 비스무스(Bi2O3) 53g, 붕소 옥사이드(B2O3) 16g, 산화 규소(SiO2) 7.5g, 산화 알루미늄(Al2O3) 6.5g, 산화 바륨(BaO) 2g, 산화 아연(ZnO) 2.5g의 조성만 달리하여 제조하였다.
<실시예 4>
상기 실시예 1과 동일한 조건하에, 산화 비스무스(Bi2O3) 53g, 붕소 옥사이드(B2O3) 7g, 산화 규소(SiO2) 4g, 산화 알루미늄(Al2O3) 17g, 산화 바륨(BaO) 3.5g, 산화 칼슘(CaO) 1.5g, 산화 아연(ZnO) 14g의 조성만 달리하여 제조하였다.
<실시예 5>
상기 실시예 1과 동일한 조건하에, 산화 비스무스(Bi2O3) 51g, 붕소 옥사이드(B2O3) 9g, 산화 규소(SiO2) 3g, 산화 알루미늄(Al2O3) 16g, 산화 바륨(BaO) 3g, 산화 칼슘(CaO) 4g, 산화 아연(ZnO) 14g의 조성만 달리하여 제조하였다.
<실시예 6>
상기 실시예 1과 동일한 조건하에, 산화 비스무스(Bi2O3) 50.6g, 붕소 옥사이드(B2O3) 25g, 산화 규소(SiO2) 10g, 산화 알루미늄(Al2O3) 8.9g, 산화 바륨(BaO) 1g, 산화 칼슘(CaO) 2.5g의 조성만 달리하여 제조하였다.
<실시예 7>
상기 실시예 1과 동일한 조건하에, 산화 비스무스(Bi2O3) 48.73g, 붕소 옥사이드(B2O3) 28.94g, 산화 규소(SiO2) 13.15g, 산화 알루미늄(Al2O3) 9.19g의 조성만 달리하여 제조하였다.
<실시예 8>
상기 실시예 1과 동일한 조건하에, 산화 비스무스(Bi2O3) 48.73g, 붕소 옥사이드(B2O3) 18.94g, 산화 규소(SiO2) 9.19g, 산화 알루미늄(Al2O3) 13.15g, 산화 아연(ZnO) 10g의 조성비만 달리하여 제조하였다.
<비교예>
산화납(PbO)을 포함하는 시판 모유리 재료를 사용하여, 상기 실시예 1과 동일한 조건하에 제조하였다.
상기 실시예 1 내지 8에 따라 제조된 유전체와 비교예의 유전체의 유리전이온도(Tg), 유리연화온도(Ts) 및 에칭율을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
유리전이온도(℃) 유리연화온도(℃) 에칭율(㎛/min)
실시예 1 432 468 0.2
실시예 2 490 516 0.5
실시예 3 441 489 1.6
실시예 4 445 493 1
실시예 5 467 499 1.3
실시예 6 474 502 1.2
실시예 7 469 510 1.4
실시예 8 448 495 1.5
비교예 445 480 1
상기 표 1에서 나타나는 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체는 432 내지 490℃의 유리전이온도(Tg)와 468 내지 516℃의 유리연화온도(Ts) 및 0.2 내지 1.6㎛/min의 에칭율을 나타내는 것을 알 수 있다.
따라서, 산화납을 포함하는 유전체인 비교예와 유사한 열적 특성 즉, 유리전이온도(Tg) 및 유리연화온도(Ts)를 나타내며, 에칭특성도 유사하게 나타나는 것을 알 수 있다.
그러므로, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 환경에 유해한 산화납을 포함하지 않으므로 환경친화적이며, 산화납을 포함하는 유전체의 특성과 유사한 특성을 나타낼 수 있는 이점이 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 환경에 유해한 납을 포함하지 않는 유전체를 형성함으로써, 환경친화적인 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있는 이점이 있다.

Claims (16)

  1. 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물에 있어서,
    상기 조성물은 38 내지 68 중량부의 산화 비스무스(Bi2O3), 10 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 1 내지 17 중량부의 산화 규소(SiO2) 및 1 내지 15 중량부의 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함하고, 0 초과 5 중량부 이하의 산화 칼슘(CaO)을 더 포함하며,
    상기 조성물로 형성된 유전체는 432 내지 490℃의 유리전이온도(Tg)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 조성물은 산화 바륨(BaO) 또는 산화 아연(ZnO) 중 어느 하나 이상을 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 산화 바륨(BaO)은 0 초과 18 중량부 이하이고, 상기 산화 아연(ZnO)은 0 초과 12 중량부 이하로 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 조성물은 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상을 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상의 전체 합이 0 초과 5 중량부 이하인 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 조성물로 형성된 유전체는 468 내지 516℃의 유리연화온도(Ts)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 조성물로 형성된 유전체는 1.6㎛/min 이하의 에칭율을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 유전체용 조성물.
  8. 삭제
  9. 전면 기판;
    상기 전면 기판과 대향하는 후면 기판; 및
    상기 후면 기판 상에 형성된 유전체를 포함하며,
    상기 유전체는 38 내지 68 중량부의 산화 비스무스(Bi2O3), 10 내지 35 중량부의 붕소 옥사이드(B2O3), 1 내지 17 중량부의 산화 규소(SiO2) 및 1 내지 15 중량부의 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함하고, 0 초과 5 중량부 이하의 산화 칼슘(CaO)을 더 포함하며,
    상기 유전체는 432 내지 490℃의 유리전이온도(Tg)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 유전체는 산화 바륨(BaO) 또는 산화 아연(ZnO) 중 어느 하나 이상을 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 산화 바륨(BaO)은 0 초과 18 중량부 이하이고, 산화 아연(ZnO)은 0 초과 12 중량부 이하로 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  12. 제 9항 또는 제 10항에 있어서,
    상기 유전체는 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상을 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 산화 나트륨(NaO) 및 산화 리튬(LiO2) 중 어느 하나 이상의 전체 합이 0 초과 5 중량부 이하인 플라즈마 디스플레이 패널.
  14. 제 9항에 있어서,
    상기 유전체는 468 내지 516℃의 유리연화온도(Ts)를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널.
  15. 제 9항에 있어서,
    상기 유전체는 1.6㎛/min 이하의 에칭율을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널.
  16. 삭제
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