KR100605755B1 - 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 표시장치용 유전체조성물에 관한 것이다.
이러한 본 발명은 플라즈마 표시장치용 SiO2-ZnO-B2O3계 유리 조성을 갖는 유전체조성물에 있어서, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 SiO2이 15중량%이상 30중량%이하, ZnO이 20중량%이상 40중량%이하, B2O3가 10중량%이상 20중량%이하, CaO이 1중량%이상 10중량%이하, Al2O3이 1중량%이상 10중량%이하 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 본 발명의 플라즈마 표시장치용 유전체조성물은 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 향상시키게 된다.

Description

플라즈마 표시장치용 유전체 조성물{Composition of Dielectric for Plasma Display Panel}
도 1은 종래 플라즈마 표시장치의 구조를 도시한 도면.
도 2는 종래 플라즈마 표시장치의 격벽 제조방법을 설명하기위해 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 플라즈마 표시장치용 유전체조성물을 설명하기위해 도시한 도면.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
2: 어드레스 전극 4 : 투명전극
6 : 형광체 8 : 격벽
10 : 보호막 12,18 : 유전체후막
14 : 하부기판 16 : 상부기판
20 : 금형 24 : 그린시트
본 발명은 플라즈마 표시장치용 유전체조성물에 관한 것이다.
최근, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; 이하 "LCD"라 한다), 전계방출 표시장치(Field Emission Display; 이하 "FED"라 한다) 및 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel; 이하 "PDP"라 한다)등의 평면 표시장치가 활발히 개발되고 있으며, 이들중 PDP는 단순구조에 의한 제작의 용이성, 고휘도 및 고발광 효율의 우수, 메모리 기능 및 160° 이상의 광시야각을 갖는 점과 아울러 40 인치이상의 대화면을 구현할수 있는 장점을 가지고 있다.
도 1을 참조하면, 종래의 PDP는 어드레스 전극(2)을 실장한 하부기판(14)과, 하부기판(14)의 상부에 소정의 두께로 도포되어 벽전하(Wall Charge)를 충전하기 위한 하부 유전체후막(18)과, 하부 유전체후막(18)의 상부에 형성되어 각각의 방전셀을 분할하는 격벽(8)과, 플라즈마 방전시 발생된 빛에 의해 여기되어 발광하는 형광체(6)와, 상부기판(16)의 상부에 형성된 투명전극(4)과, 상기 상부기판(16) 및 투명전극(4)의 상부에 소정의 두께로 도포되어 벽전하를 충전하는 상부 유전체후막(12)과, 상기 유전체 후막(12)의 상부에 도포되어 방전에 의한 스퍼터링으로부터 상부 유전체후막(12)을 보호하는 보호막(10)을 구비한다. 어드레스 전극(2) 및 투명전극(4)에 소정의 구동전압(예를들어 200V)이 인가되면, 방전셀의 내부에는 어드레스전극(2)에서 방출된 전자에 의해 플라즈마 방전이 일어나게 된다. 이를 상세히 설명하면, 전극에서 방출된 전자가 방전셀에 봉입된 He가스와 Xe가스의 혼합가스 원자 또는 Ne가스와 Xe가스의 혼합가스 원자와 충돌하여 상기 혼 합가스의 원자들을 이온화 시킴으로써 2차전자의 방출이 일어나게 한다. 이때, 2차전자는 혼합가스의 원자들과 충돌을 반복하면서 혼합가스 원자들이 순차적으로 이온화 되게 한다. 즉, 전자와 이온이 배로 증가하는 애벌런치(Avalanche)과정에 들어간다. 상기 애벌런치 과정에서 발생된 빛이 적색(Red; 이하 "R"이라 한다), 녹색(Green; 이하 "G"라 한다), 청색(Blue;이하 "B"라 한다)의 형광체를 발광시키게된다. 이렇게 형광체에서 발광된 R,G,B의 빛은 보호막(10), 상부 유전체후막(12) 및 투명전극(4)을 경유하여 상부유리판(16)으로 진행되어 문자 또는 그래픽이 표시되게 한다.
한편, PDP를 고화질 디스플레이 장치에 적용하는 추세에 따라 격벽은 고정세화됨과 아울러, 고 종횡비(High-Ratio)을 요구하게 되었다. 이러한 요구에 부응하여 공정을 단순화함과 아울러, 고정세, 고종횡비의 격벽을 제조할수 있는 LTCCM(Low Temperature Cofired Ceramic on Metal)방식이 제안되고 있다.
도 2를 참조하면, 종래기술에 따른 격벽 제조방법의 수순이 도시되어 있다.
그린시트(Green Tape;24)를 형성한다. (제1 단계) 그린시트(24)는 슬러리(Slurry)를 제조한후, 상기 슬러리를 테이프 캐스팅장치를 이용하여 소정의 두께를 갖도록하여 형성하게 된다. 이때, 슬러리는 모상유리분말(또는 혼합분말)에 유기물을 소정의 비율로 혼합함에 의해 형성된다. 이 경우, 유기물은 유리분말의 점도를 유지하는 결합제와, 슬러리의 경화를 방지하여 소정의 유연성을 갖도록하는 가소제와, 상기 결합제와 가소제를 용해시키기 위한 용매와, 소정량의 첨가제를 의미한다. 상기 슬러리(Slurry)는 액상의 상태를 유지하며 테이프 캐스팅(Tape Casting)용으로 사용된다. 이때, 슬러리를 형성하는 유전체조성물에 대해서는 후술하기로 한다. 그린시트(24)를 기판(14)에 적층한다. (제2 단계) 상기 그린시트(24)를 테이프 캐스팅장치(도시되지 않음)로부터 분리한 후 소정의 두께를 갖는 기판(14)의 상부에 적층하여 부착시키게 된다. 상기 기판(14)의 재질로는 글래스, 글래스-세라믹, 세라믹, 금속 등을 사용하게 된다. 특히 금속재질의 경우 티타늄(Titanium; Ti)이 주로 사용된다. 이때, 기판(14)의 상부에 적층된 그린시트(24)가 도 2의 (a)에 도시되어 있다. 상기 그린시트(24)에 전극(2)을 형성한다. (제3 단계) 상기 기판(14)에 적층된 그린시트(24)를 인쇄기(도시되지 않음)에 투입하여 전극을 인쇄하여 형성하게 된다. 이때, 그린시트(24)의 상부에 형성된 전극(2)이 도 2의 (b)에 도시되어 있다. 상기 전극(2)의 상부에 유전층(18)을 형성한다. (제4 단계) 전극(2)의 상부에 벽전하를 축적하는 유전층(18)을 형성하게 된다. 이때, 전극(2)의 상부에 형성된 유전층(18)이 도 2의 (c)에 도시되어 있다. 격벽 반대형상의 홈(20a)을 갖는 금형(20)을 상기 기판(14)의 상부에 위치시킨후, 소정의 압력을 가해 격벽(8)을 형성한다. (제5 단계) 상기 기판(14)의 상부에 격벽 반대형상의 홈(20a)을 갖는 금형(20)을 위치시킨후, 소정의 압력을 가해 그린시트(24)에 격벽(8)을 성형하게 된다. 이 경우, 금형(20)과 기판(14) 사이를 프레스(Press)하거나, 롤러 등을 사용하여 소정의 압력을 인가하게 된다. 이때, 그린시트(24)는 금형(20)에 의해 격벽의 형상으로 성형된다. 이때, 격벽을 성형하는 과정이 도 2의 (d)에 도시되어 있다. 또한, 성형이 완료된 격벽(8)은 소정의 온도에서 소성하게 된다. 이 경우, 성형된 격벽(8)은 300-350℃에서 15-20분간 건조시켜 유기용제를 제거한후 750-850℃의 온도범위에서 소결함에 의해 격벽(8)을 형성하게 된다. 이때, 도 2의 (e)에 완성된 격벽(8)이 도시되어 있다. 이러한 제조방법에 의해 고정세화, 고종횡비를 갖는 격벽을 형성하게 된다.
상기와 같은 과정에 의해 형성된 격벽은 고속 어드레싱을 위해 낮은 유전율을 요구하게 된다. 그외에도 낮은 열팽창계수, 열적안정성, 낮은 소성온도 등의 물성적인 특성을 요구하게 된다. 이러한 요건을 만족시키기 위한 격벽은 표 1과 같은 조성비를 가진다. 표 1에서의 조성비는 모상유리의 무게를 100 중량%로 하여 산출된 것이다.
모상유리의 조성비
성 분 SiO2 ZnO B2O3 MgO
중량% 20-30 20-40 15-25 20-30
또한, 모상유리분말에 산화물 충진제분말을 소정의 비율로 혼합하여 혼합분말을 형성할수도 있다. 이때, 산화물 충진제로는 Mg2Al4Si5O18, 2MgOSiO2, Zn2SiO4, 수정(Quartz) 및 TiO2를 사용하게 된다. 한편, 모상유리와 산화물 충진제의 혼합비율이 표 2에 나타나 있다.
모상유리와 산화물 충진제의 혼합비율
모상유리 산화물 충진제
혼합비(%) 100 5 - 40
한편, 유전체조성물을 이용한 슬러리(Slurry) 형성방법에 대하여 살펴보기로 한다. 먼저, 모상유리분말(또는 혼합분말)을 10μm 이하의 입자를 갖는 미분말로 만든다. 이어서, 상기 미분말을 유기용매(Vehicle)에 혼합하여 슬러리(Slurry) (또는 페이스트(Paste))를 만든후, 테이프 캐스팅장치를 이용하여 그린시트(24)를 형성한다. 한편, 상기와 같은 과정에 의해 형성된 그린시트(24)를 이용하여 도 2에 도시된 방법으로 격벽(8)을 형성하게 된다. 한편, 도 2에 도시된 제조방법에 의해 형성된 격벽의 특성이 표 3에 나타나 있다.
격벽의 특성
소성 온도 (℃) 유전율 (@ 1㎒) 열팽창계수 (10-7/℃) 내전압 (㎸)
750 - 850 6 - 9 75 - 85 > 1.5
표 3에 나타난 바와같이 종래의 격벽은 높은 소성온도로 인해 얇은 두께를 갖는 금속기판을 변형시킴과 아울러, 소성공정의 사이클 타임이 길어지는 문제점이 도출되고 있다. 이에따라, 상기 문제점들을 해결하기 위한 새로운 PDP용 유전체조성물이 절실하게 요구되고 있는 실정이다.
따라서, 본 발명의 목적은 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 만족시키는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물을 제공 하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 유전체 또는 격벽이 형성된 플라즈마 표시장치용 SiO2-ZnO-B2O3계 유리 조성을 갖는 유전체조성물에 있어서, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 SiO2이 15중량%이상 30중량%이하, ZnO이 20중량%이상 40중량%이하, B2O3가 10중량%이상 20중량%이하, CaO이 1중량%이상 10중량%이하, Al2O3이 1중량%이상 10중량%이하 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 0중량%초과 30중량%이하의 PbO와, 0중량%초과 20중량%이하의 MgO와, 0중량%초과 10중량%이하의 K2O와, 0중량%초과 8중량%이하의 Na2O와, 0중량%초과 5중량%이하의 Li2O와, 0중량%초과 2중량%이하의 Sb2O3와, 0중량%초과 2중량%이하의 As2O3를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 상기 PbO, MgO 및 CaO 성분의 합이 40 중량% 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 상기 Li2O, K2O 및 Na2O 성분의 합이 10 중량% 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리와 산화물 충진제를 혼합하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 산화물 충진제는 Mg2Al4Si5O18, 2MgOSiO2, Zn2SiO4, PbOTiO2, 수정(Quartz), Al2O3, TiO2, ZrO2, MgOAl2O3, 3Al2O3(2SiO2)), MgTiO3, Zn2SiO4, LiAl(SiO4), MgOSiO2 및 BPO4중 적어도 어느 하나 이상인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 100 %, 상기 산화물 충진제는 5 내지 40 %가 혼합된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리와 산화물 충진제는 상기 플라즈마 표시장치의 하부 유전체 후막 또는 격벽에 적용되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 상기 플라즈마 표시장치의 하부 유전체 후막 또는 격벽에 적용되는 것을 특징으로 한다.
상기 목적외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
도 2를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명 하기로 한다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 PDP용 유전체조성물을 설명하기위한 도면이 도시되어 있다.
본 발명에 따른 격벽은 요구특성에 따라 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리(Parent Glass) 분말로 형성되거나, SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리(Parent Glass) 분말과 충진제 분말이 혼합된 유전체조성물로 형성된다. 본 발명의 유전체조성물의 형성방법에 대해서 설명하면, 격벽의 요구특성에 따른 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비로 혼합하고 용융시킨후 급속냉각함에 의해 미세한 입자를 갖는 분말(모상유리분말) 또는 상기 분말에 충진제를 소정의 비율로 혼합한 혼합분말을 형성시킨다. 상기 분말(모상유리분말) 또는 혼합분말은 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합됨으로써 슬러리(Slurry) (또는 페이스트(Paste))가 형성된다. 다음으로 도 2의 제조방법에 의해 격벽을 형성하게 된다. 이렇게 제작된 격벽은 광학적, 열적, 전기적 요구특성이 향상된다.
이하에 본 발명의 실시예들에 따른 유전체 후막의 조성비와 그 제조방법들을 설명하나, 본 발명의 범위가 이들 실시예들에 국한되는 것은 아님을 밝혀둔다.
제1 실시예
본 발명의 제1 실시예에서는 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리(Parent Glass) 분말로 형성된 PDP용 유전체조성물에 대해서 설명하기로 한다. 유전체후막의 조성물인 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 분말의 조성비가 도 3에 도시되어 있다. 이때, 도 3에서의 조성비는 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다. 본 발명의 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리는 20 내지 40 중량%의 ZnO와, 15 내지 30 중량%의 SiO2와, 10 내지 20 중량%의 B2O3와, 0 내지 30 중량%의 PbO와, 0 내지 20 중량%의 MgO와, 1 내지 10 중량%의 CaO와, 1 내지 10 중량%의 Al2O3와, 0 내지 10 중량%의 K2O와, 0 내지 8 중량%의 Na2O와, 0 내지 5 중량%의 Li2O와, 0 내지 2 중량%의 Sb2O3와, 0 내지 2 중량%의 As2O3를 함유한다. 이때, 모상유리의 조성물중에서 PbO, MgO 및 CaO 성분의 합이 40 중량% 이하로 함유되도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 조성물중에서 Li2O, K2O 및 Na2O 성분의 합이 10 중량% 이하로 함유되도록 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시장치용 유전체조성물을 이용한 슬러리 제조방법에 대하여 살펴보기로 한다. 모상유리의 분말을 형성한다.(제11 단계) 상기 모상유리의 분말형성 과정에 대해서 상세히 설명하면, 첫 번째 공정에서 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리의 원재료(Raw Material)를 도 3에 도시된 조성비와 같이 혼합한다. 이때, SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리의 조성비는 도 3에 도시되어 있으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. 상기 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리의 원재료(Raw Material)를 상기 조성비와 같이 마련하고 그 마련되어진 재료들은 소정시간(예를들면, 10시간) 구동되는 텀블링 믹서(Tumbling Mixer)에 의해 혼합되어 진다. 두 번째 공정에서 혼합된 원재료를 용융로에 투입하여 용융시킨다. 이때의 용융조건(Melting Condition)은 1200 - 1500℃에서 1-5시간 정도 유지하며, 용융도중에 원재료가 골고루 용융되도록 2-3 차례 교반(Stirring)시킴에 의해 균질화되어 용융된 유리는 치밀한 조직을 가지게 된다. 세 번째 공정에서 용융된 유리를 급속냉각 시킴에 의해 미세한 입자를 갖는 분말을 형성시킨다. 상기 용융된 유리가 쿠엔칭 롤러(Quenching Roller)를 통과한 후 급속냉각됨으로써 미세한 크랙(Crack)을 갖는 파쇄유리(Cullets)들이 생성된다. 이들 파쇄유리는 볼밀링(Ball Milling)법에 의해 소정시간(예를들어, 16 시간) 밀링되어진후 #170, #270 시버(Siver)를 순차적으로 통과함으로써 입자크기가 약 10μm 이하의 입도를 갖는 분말이 만들어진다. 이때, 파쇄유리의 생성을 위해서는 파쇄유리에 미세한 크랙을 형성하는 쿠엔칭롤러(Quenching Roller) 방식이 바람직하다. 이러한 과정에 의해 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리(Parent Glass) 분말을 형성하게 된다. 이때, SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 분말로 된 조성물은 하부 유전체 후막에 적용될수 있을 것이다.
모상유리 분말을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합함으로써 슬러리(또는 페이스트(Paste))를 형성한다.(제12 단계) 모상유리 분말과 유기용매(Vehicle)를 소정의 비율(70 : 30)로 혼합하게 된다. 이때, 모상유리 분말과 유기용매의 혼합비율을 조절함에 의해 페이스트 또는 슬러리가 형성되어 진다. 이 경우, 페이스트(Paste)의 점도는 70,000 - 100,000 cps 정도이고 슬러리(Slurry)의 점도는 700 - 1000 cps 정도가 바람직하다. 상기 페이스트는 기판의 상부에 스크린 프린팅용으로 적용되고, 슬러리는 테이프 캐스팅(Tape Casting)용으로 적용되어 그린시트를 형성하게 된다. 또한, 유리용매(Vichile) 내에 감광성수지를 소정량 혼합할 경우 감광성 격벽재료로 사용할 수도 있을 것이다. 상기와 같이 제11 및 제12 단계에 의해 형성된 그린시트를 이용하여 격벽을 형성하게 된다. 또한, 상기 유전체조성물은 하부 유전체 후막에도 적용될수 있을 것이다. 이 경우, 제12 단계에서 형성된 페이스트를 사용하여 후술하는 제13 단계를 수행하여 하부 유전체후막을 형성할수도 있을 것이다.
페이스트(Paste)(또는 슬러리)를 기판 상부에 소정의 두께로 도포한후, 소정온도에서 소정시간 소결시킨다.(제13 단계) 스크린 프린팅(Screen Printing)법을 이용하여 페이스트를 기판의 상부에 의해 소정의 두께(예를들면, 10μm)의 두께로 도포시킨다. 이어서, 기판을 드라이오븐(Dry Oven)에서 소정시간(예를들어 20분) 건조한 다음 저항가열로에 기판을 투입한다. 이때, 드라이오븐에서는 페이스트(또는 슬러리) 내에 함유된 유기물이 소거된다. 또한, 상기 소결온도는 상기 분말에 대한 DTA(Differential Thermal Analysis; 이하 "DTA"라 함)로부터 얻어진 결정화 온도에 의해 정해지며, SiO2-ZnO-B2O3계의 경우 550 - 750℃로 설정하여 소정시간( 예를들면, 15-30분) 정도 소결하는 것이 바람직 하다. 상기와 같은 방법으로 형성된 본 발명의 일실시예에 따른 유전체조성물은 격벽 및 하부 유전체 후막 형성시 소성온도가 낮아 기판의 변형을 방지함과 아울러, 소성공정의 사이클 타임을 줄이게 된다.
제2 실시예
본 발명의 제2 실시예에서는 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리(Parent Glass) 분말에 산화물 충진제가 소정의 비율로 혼합된 혼합분말로 형성된 PDP용 유전체조성물에 대해서 설명하기로 한다. 산화물 충진제는 Mg2Al4Si5O18, 2MgOSiO2, Zn2SiO4, PbOTiO2, 수정(Quartz), Al2O3, TiO2, ZrO2, MgOAl2O3, 3Al2O3(2SiO2)), MgTiO3, Zn2SiO4, LiAl(SiO4), MgOSiO2 및 BPO4중 적어도 하나를 포함하게 되어 소성온도를 낮추게 된다. 또한, 모상유리와 산화물충진제의 혼합비율이 표 4에 나타나 있다.
모상유리와 산화물충진제의 혼합비율
모상유리 산화물 충진제
혼합비 100 0 - 50
본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 표시장치용 유전체조성물을 이용한 슬러리 제조방법에 대하여 살펴보기로 한다. 모상유리분말에 소정의 비율로 산화물 충진제를 혼합하여 혼합분말을 형성한다.(제21 단계) 상기 모상유리의 분말형성 과정은 제1 실시예에서 충분히 기술되었으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. 모상유리 분말에 산화물 충진제를 표 3에 나타난 조성비와 같이 마련하고 그 마련되어진 재료들은 텀블링 믹서(Tumbling Mixer)를 이용하여 혼합함에 의해 혼합분말을 형성한다. 이때, 혼합분말 조성물은 하부 유전체후막에 적용될수 있을 것이다.
혼합분말을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합함으로써 분말 페이스트(Paste) 또는 슬러리(Slurry)를 형성한다.(제22 단계) 이때, 혼합분말은 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리 분말에 충진제 분말이 혼합한 분말을 의미한다. 페이스트 또는 슬러리 형성과정에 대해서는 제1 실시예에서 충분히 기술 되었으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. 상기와 같이 제21 및 제22 단계에 의해 형성된 그린시트를 이용하여 격벽을 형성하게 된다. 또한, 상기 유전체조성물은 하부 유전체 후막에도 적용될 수 있을 것이다. 이 경우, 제22 단계에서 형성된 페이스트를 사용하여 후술하는 제23 단계를 수행하여 하부 유전체후막을 형성할 수도 있을 것이다.
페이스트 (또는 슬러리)를 기판 상부에 소정의 두께로 도포한후, 소정온도에서 소정시간 소결시킨다.(제23 단계) 상부 유전체후막의 도포단계와 소결단계는 제1 실시예에서 충분히 기술되었으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.
한편, 상기와 같은 제조방법에 의해 SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리에 산화물 충진제가 혼합되어 형성된 유전체후막의 특성이 표 5에 나타나 있다.
SiO2-ZnO-B2O3계 모상유리에 산화물 충진제가 혼합된 유전체후막의 특성
소성 온도 (℃) 유전율 (@ 1㎒) 열팽창계수 (10-7/℃) 내전압 (㎸)
550 - 750 6 - 9 75 - 85 > 1.5
표 5에 나타난 바와 같이 본 발명의 다른 실시예에 따른 유전체조성물은 격벽 및 하부 유전체 후막 형성시 소성온도가 낮아 기판의 변형을 방지함과 아울러, 소성공정의 사이클 타임을 줄이게 된다.
상술한 바와같이, 본 발명의 플라즈마 표시장치용 유전체조성물은 기판의 변형을 방지함과 아울러, 소성공정의 사이클 타임을 줄일 수 있는 장점이 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims (9)

  1. 유전체 또는 격벽이 형성된 플라즈마 표시장치용 SiO2-ZnO-B2O3계 유리 조성을 갖는 유전체조성물에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 SiO2이 15중량%이상 30중량%이하, ZnO이 20중량%이상 40중량%이하, B2O3가 10중량%이상 20중량%이하, CaO이 1중량%이상 10중량%이하, Al2O3이 1중량%이상 10중량%이하 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 0중량%초과 30중량%이하의 PbO와, 0중량%초과 20중량%이하의 MgO와, 0중량%초과 10중량%이하의 K2O와, 0중량%초과 8중량%이하의 Na2O와, 0중량%초과 5중량%이하의 Li2O와, 0중량%초과 2중량%이하의 Sb2O3와, 0중량%초과 2중량%이하의 As2O3를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 상기 PbO, MgO 및 CaO 성분의 합이 40 중량% 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 상기 Li2O, K2O 및 Na2O 성분의 합이 10 중량% 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리와 산화물 충진제를 혼합하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 산화물 충진제는 Mg2Al4Si5O18, 2MgOSiO2, Zn2SiO4, PbOTiO2, 수정(Quartz), Al2O3, TiO2, ZrO2, MgOAl2O3, 3Al2O3(2SiO2)), MgTiO3, Zn2SiO4, LiAl(SiO4), MgOSiO2 및 BPO4중 적어도 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 100 %, 상기 산화물 충진제는 5 내지 40 %가 혼합된 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리와 산화물 충진제는 상기 플라즈마 표시장치의 하부 유전체 후막 또는 격벽에 적용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 SiO2-ZnO-B2O3계 유리는 상기 플라즈마 표시장치의 하부 유전체 후막 또는 격벽에 적용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 유전체조성물.
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